JPH06321579A - 紫外線シャープカットフィルター - Google Patents
紫外線シャープカットフィルターInfo
- Publication number
- JPH06321579A JPH06321579A JP13657993A JP13657993A JPH06321579A JP H06321579 A JPH06321579 A JP H06321579A JP 13657993 A JP13657993 A JP 13657993A JP 13657993 A JP13657993 A JP 13657993A JP H06321579 A JPH06321579 A JP H06321579A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- thin film
- target
- cubr
- ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】紫外線を吸収するガラス薄膜層を透明基体の少
なくとも片面に有する紫外線シャープカットフィルター
であって、紫外線を吸収するガラス薄膜層は、ＣｕＣ
ｌ、ＣｕＢｒ又はそれらの混晶から選ばれた少なくとも
１種の微粒子を０．０５〜８０重量％含有する紫外線シ
ャープカットフィルター。 【効果】紫外線の遮蔽性に極めて優れた紫外線シャープ
カットフィルターを提供できる。
なくとも片面に有する紫外線シャープカットフィルター
であって、紫外線を吸収するガラス薄膜層は、ＣｕＣ
ｌ、ＣｕＢｒ又はそれらの混晶から選ばれた少なくとも
１種の微粒子を０．０５〜８０重量％含有する紫外線シ
ャープカットフィルター。 【効果】紫外線の遮蔽性に極めて優れた紫外線シャープ
カットフィルターを提供できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線シャープカット
フィルターに関するものである。
フィルターに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、紫外線をカットするフィルターと
しては、いわゆる紫外線シャープカットガラスフィルタ
ーとして市販されているものや、人工衛星の太陽電池を
紫外線から保護する目的のカバーガラス、紫外線カット
多層干渉膜などが知られている。
しては、いわゆる紫外線シャープカットガラスフィルタ
ーとして市販されているものや、人工衛星の太陽電池を
紫外線から保護する目的のカバーガラス、紫外線カット
多層干渉膜などが知られている。
【０００３】紫外線シャープカットガラスフィルターや
太陽電池用カバーガラスは、種々のイオンをドープした
ガラスの紫外域の吸収を利用することによって紫外線の
遮蔽を行なっている。また、イオンによって紫外線を遮
蔽するのではなく、紫外線を吸収するＣｕＣｌやＣｕＢ
ｒの微粒子をガラス中に分散させることにより波長傾斜
幅の小さい紫外線シャープカットガラス（特公昭４６−
３４６４）を作製している。
太陽電池用カバーガラスは、種々のイオンをドープした
ガラスの紫外域の吸収を利用することによって紫外線の
遮蔽を行なっている。また、イオンによって紫外線を遮
蔽するのではなく、紫外線を吸収するＣｕＣｌやＣｕＢ
ｒの微粒子をガラス中に分散させることにより波長傾斜
幅の小さい紫外線シャープカットガラス（特公昭４６−
３４６４）を作製している。
【０００４】紫外線カット多層干渉膜は、透明基体上
に、高い屈折率を持つ誘電体薄膜と低い屈折率を持つ誘
電体薄膜を交互に積層した構造が基本となっており、例
えば、高い屈折率を持つ誘電体薄膜としてはＴｉＯ2
膜、Ａｌ2 Ｏ3 膜など、低い屈折率を持つ膜としてはＳ
ｉＯ2 などがある。
に、高い屈折率を持つ誘電体薄膜と低い屈折率を持つ誘
電体薄膜を交互に積層した構造が基本となっており、例
えば、高い屈折率を持つ誘電体薄膜としてはＴｉＯ2
膜、Ａｌ2 Ｏ3 膜など、低い屈折率を持つ膜としてはＳ
ｉＯ2 などがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、イオン
をドープしたガラスフィルターは、紫外側の吸収端付近
での波長に対する透過率の変化の割合が比較的緩やかで
あるため、近紫外域をカットするためには可視域での吸
収が避けられず、ガラスが黄色く着色してしまうという
課題があった。逆に、可視域で吸収のない無色のガラス
では近紫外域をカットできないという課題があった。
をドープしたガラスフィルターは、紫外側の吸収端付近
での波長に対する透過率の変化の割合が比較的緩やかで
あるため、近紫外域をカットするためには可視域での吸
収が避けられず、ガラスが黄色く着色してしまうという
課題があった。逆に、可視域で吸収のない無色のガラス
では近紫外域をカットできないという課題があった。
【０００６】一方、波長傾斜幅の小さい紫外線シャープ
カットフィルターは、ガラス中にＣｕＣｌやＣｕＢｒを
析出させているが、ＣｕＣｌやＣｕＢｒをガラス中に分
散させるためには、母ガラスの組成が制限されるという
課題があった。さらに、紫外線カット多層干渉膜は、多
層膜の膜厚・膜質の制御が難しく、また、膜剥離などを
起こしやすい。さらに、基体表面に凹凸があると多層干
渉膜を形成しづらいという課題があった。本発明は、紫
外線カットフィルターにおける従来の課題を解消し、紫
外線シャープカットフィルターを新規に提供することを
目的とする。
カットフィルターは、ガラス中にＣｕＣｌやＣｕＢｒを
析出させているが、ＣｕＣｌやＣｕＢｒをガラス中に分
散させるためには、母ガラスの組成が制限されるという
課題があった。さらに、紫外線カット多層干渉膜は、多
層膜の膜厚・膜質の制御が難しく、また、膜剥離などを
起こしやすい。さらに、基体表面に凹凸があると多層干
渉膜を形成しづらいという課題があった。本発明は、紫
外線カットフィルターにおける従来の課題を解消し、紫
外線シャープカットフィルターを新規に提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題を
解決すべくなされたものであり、紫外線を吸収するガラ
ス薄膜層を透明基体の少なくとも片面に有する紫外線シ
ャープカットフィルターであって、紫外線を吸収するガ
ラス薄膜層は、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ又はそれらの混晶か
ら選ばれた少なくとも１種の微粒子を０．０５〜８０重
量％含有する紫外線シャープカットフィルターである。
解決すべくなされたものであり、紫外線を吸収するガラ
ス薄膜層を透明基体の少なくとも片面に有する紫外線シ
ャープカットフィルターであって、紫外線を吸収するガ
ラス薄膜層は、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ又はそれらの混晶か
ら選ばれた少なくとも１種の微粒子を０．０５〜８０重
量％含有する紫外線シャープカットフィルターである。
【０００８】ガラス薄膜中のＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ又はそ
れらの混晶から選ばれた少なくとも１種の微粒子の含有
量は、０．０５〜８０重量％である。この微粒子の含有
量が０．０５重量％未満であると紫外線の吸収性能が低
下し、紫外線の遮蔽性が不十分になってしまう。一方、
微粒子の含有量が８０重量％を超えると、ガラス薄膜の
化学的耐久性が悪くなる。そして、これらの範囲のうち
１〜１０重量％が好ましい。
れらの混晶から選ばれた少なくとも１種の微粒子の含有
量は、０．０５〜８０重量％である。この微粒子の含有
量が０．０５重量％未満であると紫外線の吸収性能が低
下し、紫外線の遮蔽性が不十分になってしまう。一方、
微粒子の含有量が８０重量％を超えると、ガラス薄膜の
化学的耐久性が悪くなる。そして、これらの範囲のうち
１〜１０重量％が好ましい。
【０００９】また、ＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣ
ｕＢｒの混晶の微粒子を含有させるマトリックスガラス
としては、ＳｉＯ2 ガラス、建築用ガラス、自動車用ガ
ラス、液晶基板用ガラス、紫外線を遮蔽しなければなら
ない箇所に用いられるガラスなど、ガラスであれば何で
もよい。
ｕＢｒの混晶の微粒子を含有させるマトリックスガラス
としては、ＳｉＯ2 ガラス、建築用ガラス、自動車用ガ
ラス、液晶基板用ガラス、紫外線を遮蔽しなければなら
ない箇所に用いられるガラスなど、ガラスであれば何で
もよい。
【００１０】ガラス薄膜は、紫外線の吸収性能を損なわ
ないような範囲であれば透明基体の表面、裏面のどちら
か一方に設けてもよいし、両面に設けてもよい。このと
き薄膜を設ける透明基体としては、建築用ガラス、自動
車用ガラス、液晶基板用ガラス、紫外線を遮蔽しなけれ
ばならない箇所に用いられる透明基体など、透明な基体
であれば何でもよい。
ないような範囲であれば透明基体の表面、裏面のどちら
か一方に設けてもよいし、両面に設けてもよい。このと
き薄膜を設ける透明基体としては、建築用ガラス、自動
車用ガラス、液晶基板用ガラス、紫外線を遮蔽しなけれ
ばならない箇所に用いられる透明基体など、透明な基体
であれば何でもよい。
【００１１】およそ３７０ｎｍより長い波長の光を透過
させ、それより短い波長の光を実質的に透過させないた
めには、ＣｕＣｌ微粒子を含有したガラスを作製するこ
とが好ましい。その場合、ＣｕＣｌ微粒子の粒径（直
径）を調節することにより、透過させる光と、実質的に
透過させない光の境界波長を３７０〜３９５ｎｍまで変
化させることができる。
させ、それより短い波長の光を実質的に透過させないた
めには、ＣｕＣｌ微粒子を含有したガラスを作製するこ
とが好ましい。その場合、ＣｕＣｌ微粒子の粒径（直
径）を調節することにより、透過させる光と、実質的に
透過させない光の境界波長を３７０〜３９５ｎｍまで変
化させることができる。
【００１２】およそ４２０ｎｍより長い波長の光を透過
させ、それより短い波長の光を実質的に透過させないた
めには、ＣｕＢｒ微粒子が分散したガラスを作製するこ
とが好ましい。その場合、ＣｕＢｒ微粒子の粒径（直
径）を調節することにより、透過させる光と実質的に透
過させない光の境界波長を４０５〜４２５ｎｍまで変化
させることができる。また、透過させる光と、実質的に
透過させない光の境界波長はＣｕＣｌとＣｕＢｒの混
晶、すなわち化学式で表すとＣｕＣｌx Ｂｒ1-x のｘの
値を変化させることによっても３９０〜４１０ｎｍまで
調整できる。
させ、それより短い波長の光を実質的に透過させないた
めには、ＣｕＢｒ微粒子が分散したガラスを作製するこ
とが好ましい。その場合、ＣｕＢｒ微粒子の粒径（直
径）を調節することにより、透過させる光と実質的に透
過させない光の境界波長を４０５〜４２５ｎｍまで変化
させることができる。また、透過させる光と、実質的に
透過させない光の境界波長はＣｕＣｌとＣｕＢｒの混
晶、すなわち化学式で表すとＣｕＣｌx Ｂｒ1-x のｘの
値を変化させることによっても３９０〜４１０ｎｍまで
調整できる。
【００１３】ガラス薄膜層の膜厚としては、０．０５〜
１００μｍが好ましい。膜厚が０．０５μｍ未満である
と、紫外線を吸収する微粒子の量が少なくなってしま
い、紫外線を十分にカットすることができず好ましくな
い。一方、膜厚が１００μｍを超えると、膜の耐久性が
乏しく、容易に剥がれてしまうため好ましくない。Ｃｕ
Ｃｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣｕＢｒの混晶の微粒子の
粒径（直径）は１０〜１０００Åが好ましい。紫外線吸
収微粒子の粒径が１０Å未満であると微粒子が紫外線を
完全に吸収できず紫外線の遮蔽が不十分であり、また、
粒径が１０００Åを超えると作製されたガラス薄膜中の
微粒子による光の散乱によりガラス薄膜が白濁してしま
うので、いずれも好ましくない。そして、この範囲のう
ち２０〜５００Åが特に好ましい。
１００μｍが好ましい。膜厚が０．０５μｍ未満である
と、紫外線を吸収する微粒子の量が少なくなってしま
い、紫外線を十分にカットすることができず好ましくな
い。一方、膜厚が１００μｍを超えると、膜の耐久性が
乏しく、容易に剥がれてしまうため好ましくない。Ｃｕ
Ｃｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣｕＢｒの混晶の微粒子の
粒径（直径）は１０〜１０００Åが好ましい。紫外線吸
収微粒子の粒径が１０Å未満であると微粒子が紫外線を
完全に吸収できず紫外線の遮蔽が不十分であり、また、
粒径が１０００Åを超えると作製されたガラス薄膜中の
微粒子による光の散乱によりガラス薄膜が白濁してしま
うので、いずれも好ましくない。そして、この範囲のう
ち２０〜５００Åが特に好ましい。
【００１４】紫外線を吸収するガラス薄膜層の上には耐
候性、耐久性、耐擦傷性のために透明保護膜を設けるこ
とが好ましい。この透明保護膜は、セラミックスなど透
明で耐候性、耐久性、耐擦傷性などに優れた材料であれ
ば何でもよく、例えば、ＳｉＯ2 ガラスを用いられる。
候性、耐久性、耐擦傷性のために透明保護膜を設けるこ
とが好ましい。この透明保護膜は、セラミックスなど透
明で耐候性、耐久性、耐擦傷性などに優れた材料であれ
ば何でもよく、例えば、ＳｉＯ2 ガラスを用いられる。
【００１５】薄膜を作製する手段としては、スパッタリ
ング法、ゾルゲル法、イオンプレーティング法などがあ
る。例えば、スパッタリング法を用いて紫外線シャープ
カットフィルターを、以下のようにして作製できる。Ｃ
ｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣｕＢｒの混晶のうち、
単独又は複数をスパッタリングするためのターゲットと
しては、Ｃｕ源として金属銅、各種の銅の化合物が使用
される。Ｃｌ源としては、各種塩素化合物が使用され
る。Ｂｒ源としては、各種臭素化合物が使用される。
ング法、ゾルゲル法、イオンプレーティング法などがあ
る。例えば、スパッタリング法を用いて紫外線シャープ
カットフィルターを、以下のようにして作製できる。Ｃ
ｕＣｌ、ＣｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣｕＢｒの混晶のうち、
単独又は複数をスパッタリングするためのターゲットと
しては、Ｃｕ源として金属銅、各種の銅の化合物が使用
される。Ｃｌ源としては、各種塩素化合物が使用され
る。Ｂｒ源としては、各種臭素化合物が使用される。
【００１６】例えば、ＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを共に
含有する化合物をターゲットにする場合、ＣｕＣｌ、Ｃ
ｕＣｌ2 、ＣｕＢｒ、ＣｕＢｒ2 などのＣｕとＣｌ又は
／及びＢｒを含有するもの、ＣｕＣｌ、ＣｕＣｌ2 、Ｃ
ｕＢｒ、ＣｕＢｒ2 などを混合したもの、ＣｕＣｌとＣ
ｕＢｒの混晶などが挙げられる。
含有する化合物をターゲットにする場合、ＣｕＣｌ、Ｃ
ｕＣｌ2 、ＣｕＢｒ、ＣｕＢｒ2 などのＣｕとＣｌ又は
／及びＢｒを含有するもの、ＣｕＣｌ、ＣｕＣｌ2 、Ｃ
ｕＢｒ、ＣｕＢｒ2 などを混合したもの、ＣｕＣｌとＣ
ｕＢｒの混晶などが挙げられる。
【００１７】また、ＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを別々に
ターゲットとしてもよく、Ｃｕ源として金属銅、各種の
銅の化合物、Ｃｌ源としてＮａＣｌなどの各種塩素化合
物、Ｂｒ源としてＮａＢｒなどの各種臭素の化合物を使
用してもよい。また、ＣｕＣｌ、ＣｕＣｌ2 、ＣｕＢ
ｒ、ＣｕＢｒ2 などを他の化合物、例えば、ＮａＣｌ、
ＮａＢｒなどと混合したものをターゲットとしてもよ
い。さらに、ターゲット以外からＣｌ又は／及びＢｒを
供給するために、スパッタリング雰囲気にＣｌ2 ガス又
は／及びＢｒ2 ガスを導入し、スパッタリングを行なっ
てもよい。
ターゲットとしてもよく、Ｃｕ源として金属銅、各種の
銅の化合物、Ｃｌ源としてＮａＣｌなどの各種塩素化合
物、Ｂｒ源としてＮａＢｒなどの各種臭素の化合物を使
用してもよい。また、ＣｕＣｌ、ＣｕＣｌ2 、ＣｕＢ
ｒ、ＣｕＢｒ2 などを他の化合物、例えば、ＮａＣｌ、
ＮａＢｒなどと混合したものをターゲットとしてもよ
い。さらに、ターゲット以外からＣｌ又は／及びＢｒを
供給するために、スパッタリング雰囲気にＣｌ2 ガス又
は／及びＢｒ2 ガスを導入し、スパッタリングを行なっ
てもよい。
【００１８】一方、マトリックスガラスをスパッタリン
グするためのターゲットとしては、ガラスであれば何で
もよいが、例えば、ＳｉＯ2 ガラスを用いる。一方、基
板となる透明基体としては、セラミックス、具体的には
ＳｉＯ2 ガラスなどが使用されるが、建築用ガラス、自
動車用ガラス、液晶基板用ガラス、紫外線を遮蔽しなけ
ればならない箇所に用いられる透明基体など、透明な基
体であれば何でもよい。
グするためのターゲットとしては、ガラスであれば何で
もよいが、例えば、ＳｉＯ2 ガラスを用いる。一方、基
板となる透明基体としては、セラミックス、具体的には
ＳｉＯ2 ガラスなどが使用されるが、建築用ガラス、自
動車用ガラス、液晶基板用ガラス、紫外線を遮蔽しなけ
ればならない箇所に用いられる透明基体など、透明な基
体であれば何でもよい。
【００１９】スパッタリングは、１箇所のターゲットと
基板との間で放電を行なう単元スパッタリングでも、２
箇所以上のターゲットと基板との間で放電を行なう多元
スパッタリングのどちらでもよい。単元でスパッタリン
グを行なう場合は、前記ＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを含
有する化合物のペレットをマトリックスガラス用ターゲ
ットの上に置き、これをターゲットとするいわゆる複合
ターゲットを用いてスパッタリングして、ＣｕＣｌ、Ｃ
ｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣｕＢｒの混晶の微粒子を含有した
ガラス薄膜を作製する。
基板との間で放電を行なう単元スパッタリングでも、２
箇所以上のターゲットと基板との間で放電を行なう多元
スパッタリングのどちらでもよい。単元でスパッタリン
グを行なう場合は、前記ＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを含
有する化合物のペレットをマトリックスガラス用ターゲ
ットの上に置き、これをターゲットとするいわゆる複合
ターゲットを用いてスパッタリングして、ＣｕＣｌ、Ｃ
ｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣｕＢｒの混晶の微粒子を含有した
ガラス薄膜を作製する。
【００２０】一方、多元でスパッタリングを行なう場合
のターゲットの構成としては、１つのターゲットをＣｕ
とＣｌ又は／及びＢｒを含有する化合物からなるターゲ
ット、もう１つのターゲットをマトリックスガラス用タ
ーゲットとする、ターゲットの組み合わせや、１つのタ
ーゲットを、ＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを含有する化合
物からなるペレットをマトリックスガラス用ターゲット
上に置いた複合ターゲット、もう１つのターゲットをマ
トリックスガラス用ターゲットとするターゲットの組み
合わせや、１つのターゲットをＣｕ源である銅の化合物
からなるターゲット、もう１つのターゲットをＣｌ又は
／及びＢｒ源である塩素又は／及び臭素の化合物からな
るペレットをマトリックスガラス用ターゲット上に置い
た複合ターゲットとする組み合わせなどが可能である。
のターゲットの構成としては、１つのターゲットをＣｕ
とＣｌ又は／及びＢｒを含有する化合物からなるターゲ
ット、もう１つのターゲットをマトリックスガラス用タ
ーゲットとする、ターゲットの組み合わせや、１つのタ
ーゲットを、ＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを含有する化合
物からなるペレットをマトリックスガラス用ターゲット
上に置いた複合ターゲット、もう１つのターゲットをマ
トリックスガラス用ターゲットとするターゲットの組み
合わせや、１つのターゲットをＣｕ源である銅の化合物
からなるターゲット、もう１つのターゲットをＣｌ又は
／及びＢｒ源である塩素又は／及び臭素の化合物からな
るペレットをマトリックスガラス用ターゲット上に置い
た複合ターゲットとする組み合わせなどが可能である。
【００２１】この場合、２つのターゲットを同時にスパ
ッタリングさせながら、基板を回転させたり、２つのタ
ーゲットを基板方向に傾けたりすることによって２つの
ターゲットから１つの基板上にＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、Ｃ
ｕＣｌとＣｕＢｒの混晶成分及びマトリックスガラス成
分を着膜させることが可能である。また、一方のターゲ
ット上で基板を静止させた後に、他方のターゲット上で
基板を静止させるという操作を繰り返すことによって、
積層した膜の形成も可能である。
ッタリングさせながら、基板を回転させたり、２つのタ
ーゲットを基板方向に傾けたりすることによって２つの
ターゲットから１つの基板上にＣｕＣｌ、ＣｕＢｒ、Ｃ
ｕＣｌとＣｕＢｒの混晶成分及びマトリックスガラス成
分を着膜させることが可能である。また、一方のターゲ
ット上で基板を静止させた後に、他方のターゲット上で
基板を静止させるという操作を繰り返すことによって、
積層した膜の形成も可能である。
【００２２】ガラス薄膜中に含有させる微粒子の粒径を
制御する方法として、スパッタリングのターゲット上に
置くＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを含有するペレットのタ
ーゲットに対する面積比、基板温度、スパッタリングす
るチャンバー内の圧力などのスパッタリングの諸条件を
制御することにより微粒子の粒径を制御する。スパッタ
リングのターゲット上に置くＣｕとＣｌ又は／及びＢｒ
を含有するペレットのターゲットに対する面積比、基板
温度、スパッタリングするチャンバー内の圧力などのス
パッタリングの諸条件のうちどれか一つの条件を制御し
ても微粒子の粒径は制御できるし、複数条件を制御して
も微粒子の粒径を制御できる。
制御する方法として、スパッタリングのターゲット上に
置くＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを含有するペレットのタ
ーゲットに対する面積比、基板温度、スパッタリングす
るチャンバー内の圧力などのスパッタリングの諸条件を
制御することにより微粒子の粒径を制御する。スパッタ
リングのターゲット上に置くＣｕとＣｌ又は／及びＢｒ
を含有するペレットのターゲットに対する面積比、基板
温度、スパッタリングするチャンバー内の圧力などのス
パッタリングの諸条件のうちどれか一つの条件を制御し
ても微粒子の粒径は制御できるし、複数条件を制御して
も微粒子の粒径を制御できる。
【００２３】微粒子の粒径を大きくするためには、スパ
ッタリングのターゲット上に置くＣｕとＣｌ又は／及び
Ｂｒを含有するペレットのターゲットに対する面積比を
大きくし、粒径を小さくするためには、スパッタリング
のターゲット上に置くＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを含有
するペレットのターゲットに対する面積比を小さくすれ
ばよい。
ッタリングのターゲット上に置くＣｕとＣｌ又は／及び
Ｂｒを含有するペレットのターゲットに対する面積比を
大きくし、粒径を小さくするためには、スパッタリング
のターゲット上に置くＣｕとＣｌ又は／及びＢｒを含有
するペレットのターゲットに対する面積比を小さくすれ
ばよい。
【００２４】基板温度は、微粒子の粒径を大きくするた
めには、基板温度を高くすればよく、粒径を小さくする
ためには、基板温度を低くすればよい。チャンバー内圧
力は、微粒子の粒径を大きくするためには、圧力を高く
し、粒径を小さくするためには、圧力を低くすればよ
い。ガラス薄膜中に含有させる微粒子の粒径を制御する
方法として、前記の他にスパッタリングして作製したガ
ラス薄膜の熱処理がある。熱処理をする温度を高温にす
れば粒径の大きい微粒子が得られ、低温にすれば粒径の
小さい微粒子が得られる。
めには、基板温度を高くすればよく、粒径を小さくする
ためには、基板温度を低くすればよい。チャンバー内圧
力は、微粒子の粒径を大きくするためには、圧力を高く
し、粒径を小さくするためには、圧力を低くすればよ
い。ガラス薄膜中に含有させる微粒子の粒径を制御する
方法として、前記の他にスパッタリングして作製したガ
ラス薄膜の熱処理がある。熱処理をする温度を高温にす
れば粒径の大きい微粒子が得られ、低温にすれば粒径の
小さい微粒子が得られる。
【００２５】
実施例１〜１１ 表１に示すペレットを、同表に示すマトリックスガラス
上に置いた。これをターゲットとして同表に示す透明基
体上にスパッタリングし、透明基体上に、ＣｕＣｌ、Ｃ
ｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣｕＢｒの混晶の微粒子を含有した
ガラス薄膜を形成した。これらガラス薄膜の形成された
透明基体を同表に記載の熱処理温度、熱処理時間で処理
した。かくして得られた透明基体の分光透過率を測定
し、５０％透過率を示す波長及び８０％から１０％に透
過率が変化する波長傾斜幅を求めた。その結果を同表に
示した。
上に置いた。これをターゲットとして同表に示す透明基
体上にスパッタリングし、透明基体上に、ＣｕＣｌ、Ｃ
ｕＢｒ、ＣｕＣｌとＣｕＢｒの混晶の微粒子を含有した
ガラス薄膜を形成した。これらガラス薄膜の形成された
透明基体を同表に記載の熱処理温度、熱処理時間で処理
した。かくして得られた透明基体の分光透過率を測定
し、５０％透過率を示す波長及び８０％から１０％に透
過率が変化する波長傾斜幅を求めた。その結果を同表に
示した。
【００２６】また、これらガラス薄膜について、微粒子
粒径、Ｃｕ濃度、Ｃｌ濃度、Ｂｒ濃度、膜厚を測定し、
その結果も同表に示した。なお、ガラス薄膜中の微粒子
の粒径は透過型電子顕微鏡により測定した。ガラス薄膜
中に含有されるＣｕ濃度、Ｃｌ濃度、Ｂｒ濃度は、蛍光
Ｘ線分析により求めた。
粒径、Ｃｕ濃度、Ｃｌ濃度、Ｂｒ濃度、膜厚を測定し、
その結果も同表に示した。なお、ガラス薄膜中の微粒子
の粒径は透過型電子顕微鏡により測定した。ガラス薄膜
中に含有されるＣｕ濃度、Ｃｌ濃度、Ｂｒ濃度は、蛍光
Ｘ線分析により求めた。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、紫外線を吸収する微粒
子を含有したガラス薄膜をあらゆる種類の透明基体面上
に成長させることにより、紫外線の遮蔽性に極めて優れ
た紫外線シャープカットフィルターを提供できる。
子を含有したガラス薄膜をあらゆる種類の透明基体面上
に成長させることにより、紫外線の遮蔽性に極めて優れ
た紫外線シャープカットフィルターを提供できる。
Claims (4)
- 【請求項１】紫外線を吸収するガラス薄膜層を透明基体
の少なくとも片面に有する紫外線シャープカットフィル
ターであって、紫外線を吸収するガラス薄膜層は、Ｃｕ
Ｃｌ、ＣｕＢｒ又はそれらの混晶から選ばれた少なくと
も１種の微粒子を０．０５〜８０重量％含有する紫外線
シャープカットフィルター。 - 【請求項２】紫外線を吸収するガラス薄膜層の膜厚は、
０．０５〜１００μｍである請求項１記載の紫外線シャ
ープカットフィルター。 - 【請求項３】ガラス薄膜層中の微粒子の粒径（直径）が
１０〜１０００Åである請求項１記載の紫外線シャープ
カットフィルター。 - 【請求項４】紫外線を吸収するガラス薄膜層上に耐候
性、耐久性、耐擦傷性のために保護膜を有する請求項１
記載の紫外線シャープカットフィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13657993A JPH06321579A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 紫外線シャープカットフィルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13657993A JPH06321579A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 紫外線シャープカットフィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06321579A true JPH06321579A (ja) | 1994-11-22 |
Family
ID=15178581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13657993A Pending JPH06321579A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 紫外線シャープカットフィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06321579A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000191346A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Central Glass Co Ltd | 防眩性複層ガラス |
| WO2004047153A2 (en) * | 2002-11-20 | 2004-06-03 | Berkshire Laboratories, Inc. | High efficiency solar cells |
| JP2009054451A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 光フィルタ及びそれを用いた照明器具 |
| CN102503159A (zh) * | 2011-09-29 | 2012-06-20 | 南京工业大学 | 一种无机纳米透明隔热玻璃薄膜及其制备方法 |
-
1993
- 1993-05-14 JP JP13657993A patent/JPH06321579A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000191346A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Central Glass Co Ltd | 防眩性複層ガラス |
| WO2004047153A2 (en) * | 2002-11-20 | 2004-06-03 | Berkshire Laboratories, Inc. | High efficiency solar cells |
| WO2004047153A3 (en) * | 2002-11-20 | 2004-08-12 | Berkshire Lab Inc | High efficiency solar cells |
| JP2009054451A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 光フィルタ及びそれを用いた照明器具 |
| CN102503159A (zh) * | 2011-09-29 | 2012-06-20 | 南京工业大学 | 一种无机纳米透明隔热玻璃薄膜及其制备方法 |
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