JPH06317673A - 放射線検出器 - Google Patents
放射線検出器Info
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- JPH06317673A JPH06317673A JP5108422A JP10842293A JPH06317673A JP H06317673 A JPH06317673 A JP H06317673A JP 5108422 A JP5108422 A JP 5108422A JP 10842293 A JP10842293 A JP 10842293A JP H06317673 A JPH06317673 A JP H06317673A
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- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
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- 238000004980 dosimetry Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 11
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Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は散乱X線の発生を抑えて散乱X線が再
検出されることによる出力信号への影響を軽減すること
のできる放射線検出器を提供することを目的とする。 【構成】本発明による放射線検出器は、X線入射窓2を
一部に形成された密封容器1と、この密封容器1内に収
容され、X線入射窓2から入射したX線を電気信号に変
換する変換部材と、X線入射窓2から変換部材を介して
この変換部材の後方に配置された鉛板7とを具備する。
検出されることによる出力信号への影響を軽減すること
のできる放射線検出器を提供することを目的とする。 【構成】本発明による放射線検出器は、X線入射窓2を
一部に形成された密封容器1と、この密封容器1内に収
容され、X線入射窓2から入射したX線を電気信号に変
換する変換部材と、X線入射窓2から変換部材を介して
この変換部材の後方に配置された鉛板7とを具備する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、X線コンピュータトモ
グラフィ装置などに用いられる放射線検出器に関する。
グラフィ装置などに用いられる放射線検出器に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の放射線検出器には、Xe
ガス検出器や半導体検出器がある。Xeガス検出器は、
X線による電離作用を利用して線量測定を行う装置であ
り一般には電離箱が用いられる。電離箱はX線入射窓以
外が、後述する高圧ガスを封入する関係上構造的強度を
維持するためステンレス等の比較的剛性の強い材料作ら
れた密封容器である。密封容器は外部にX線を放出しな
いように上記ステンレスを十分な厚さで形成されてい
る。この中に信号電極板とバイアス電極板とが絶縁体サ
ポートで電離空間を隔てて平行に配置されて収容されて
いる。また、Xeが10〜20気圧の比較的高いガス圧
で封入されていて、電離空間に到達したX線の大半が吸
収されるようになっている。X線が入射窓を通過して電
離空間に到達すると、そこで電離作用が生じ、この電離
作用によって信号電極から取り出される電流が変化す
る。入射X線の線量は、この電流変化によって出力され
るようになっている。
ガス検出器や半導体検出器がある。Xeガス検出器は、
X線による電離作用を利用して線量測定を行う装置であ
り一般には電離箱が用いられる。電離箱はX線入射窓以
外が、後述する高圧ガスを封入する関係上構造的強度を
維持するためステンレス等の比較的剛性の強い材料作ら
れた密封容器である。密封容器は外部にX線を放出しな
いように上記ステンレスを十分な厚さで形成されてい
る。この中に信号電極板とバイアス電極板とが絶縁体サ
ポートで電離空間を隔てて平行に配置されて収容されて
いる。また、Xeが10〜20気圧の比較的高いガス圧
で封入されていて、電離空間に到達したX線の大半が吸
収されるようになっている。X線が入射窓を通過して電
離空間に到達すると、そこで電離作用が生じ、この電離
作用によって信号電極から取り出される電流が変化す
る。入射X線の線量は、この電流変化によって出力され
るようになっている。
【0003】また、半導体検出器は様々な種類のものが
あるが、その中でもシンチレータとフォトダイオードを
組み合わせたものが代表的である。これは、一般的には
上記密封容器が流用される。この容器内に、基板上に形
成されたフォトダイオードとこの上に積層されたシンチ
レータとを収容してなり、X線の入射によりシンチレー
タ内で生じた蛍光をフォトダイオードで電気信号として
取り出すものである。
あるが、その中でもシンチレータとフォトダイオードを
組み合わせたものが代表的である。これは、一般的には
上記密封容器が流用される。この容器内に、基板上に形
成されたフォトダイオードとこの上に積層されたシンチ
レータとを収容してなり、X線の入射によりシンチレー
タ内で生じた蛍光をフォトダイオードで電気信号として
取り出すものである。
【0004】しかし、このような放射線検出器は次のよ
うな問題を抱えている。すなわち、Xeガス検出器では
上述したようにガス圧を高めてX線の大半を吸収するよ
うにしているが、すべてが吸収される訳ではなく一部が
電離空間を通過する。また、半導体検出器でもシンチレ
ータでX線のすべてが吸収される訳ではなく一部がシン
チレータからフォトダイオードを経て後方に通過する。
この通過したX線は、容器材料がステンレス等の原子番
号が小さい材料からなるので、吸収成分が少なく、その
多くが散乱X線として発生する。この散乱X線が再度検
出されると、当然その検出値に基づいて生成される画像
に悪影響を及ぼす。例えば、X線コンピュータトモグラ
フィ装置であれば、この悪影響は、再構成して得られる
断層像にボケやアーチファクトとしてを生じさせてしま
う。
うな問題を抱えている。すなわち、Xeガス検出器では
上述したようにガス圧を高めてX線の大半を吸収するよ
うにしているが、すべてが吸収される訳ではなく一部が
電離空間を通過する。また、半導体検出器でもシンチレ
ータでX線のすべてが吸収される訳ではなく一部がシン
チレータからフォトダイオードを経て後方に通過する。
この通過したX線は、容器材料がステンレス等の原子番
号が小さい材料からなるので、吸収成分が少なく、その
多くが散乱X線として発生する。この散乱X線が再度検
出されると、当然その検出値に基づいて生成される画像
に悪影響を及ぼす。例えば、X線コンピュータトモグラ
フィ装置であれば、この悪影響は、再構成して得られる
断層像にボケやアーチファクトとしてを生じさせてしま
う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に対処すべくなされたもので、その目的は、散乱X線
の発生を抑えて散乱X線が再検出されることによる出力
信号への影響を軽減することのできる放射線検出器を提
供することである。
情に対処すべくなされたもので、その目的は、散乱X線
の発生を抑えて散乱X線が再検出されることによる出力
信号への影響を軽減することのできる放射線検出器を提
供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による放射線検出
器は、放射線入射窓を一部に形成された容器と、前記容
器内に収容され、前記放射線入射窓から入射した放射線
を電気信号に変換する変換部材と、前記放射線入射窓か
ら前記変換部材を介して前記変換部材の後方に配置され
た重金属部材とを具備する。
器は、放射線入射窓を一部に形成された容器と、前記容
器内に収容され、前記放射線入射窓から入射した放射線
を電気信号に変換する変換部材と、前記放射線入射窓か
ら前記変換部材を介して前記変換部材の後方に配置され
た重金属部材とを具備する。
【0007】
【作用】本発明によれば、放射線入射窓から入射した放
射線のうち変換部材を通過する成分は重金属部材に吸収
される。したがって、散乱放射線の発生が抑えられ、散
乱放射線が再検出されることによる電気信号への影響が
軽減される。
射線のうち変換部材を通過する成分は重金属部材に吸収
される。したがって、散乱放射線の発生が抑えられ、散
乱放射線が再検出されることによる電気信号への影響が
軽減される。
【0008】
【実施例】以下、図面を参照して本発明による放射線検
出器の一実施例を説明する。本実施例に係る放射線検出
器は、X線コンピュータトモグラフィ装置に適用される
Xeガス検出器である。
出器の一実施例を説明する。本実施例に係る放射線検出
器は、X線コンピュータトモグラフィ装置に適用される
Xeガス検出器である。
【0009】図1は本実施例によるXeガス検出器の外
観図であり、図2は図1のXeガス検出器の容器一部を
切り開いて内部構造が見えるようにした斜視図であり、
図3は図1のXeガス検出器の断面図である。
観図であり、図2は図1のXeガス検出器の容器一部を
切り開いて内部構造が見えるようにした斜視図であり、
図3は図1のXeガス検出器の断面図である。
【0010】図1において参照符号1は、後述する高圧
ガスを封入する関係上構造的強度を維持するためステン
レス等の比較的剛性の強い材料で作られ、且つ密封シー
ルで内部を密封状態にシールされた密封容器である。こ
の密封容器1は図示しないX線管を中心として円弧状に
形成される。また、密封容器1のX線管側の一側面に
は、ステンレス等の容器材料が取り除かれて他のX線吸
収係数の低い材料が置換され、又は容器材料の肉厚がX
線を透過する程度まで薄く形成されたX線入射窓2であ
る。X線管から被検体を透過したX線(一点鎖線)は、
このX線入射窓2を介して細束として密封容器1の内部
に入射するようになっている。さらに、参照符号3は後
述する内部電気素子を外部電気装置(データ収集装置)
と電気的に連結するための入出力端子である。
ガスを封入する関係上構造的強度を維持するためステン
レス等の比較的剛性の強い材料で作られ、且つ密封シー
ルで内部を密封状態にシールされた密封容器である。こ
の密封容器1は図示しないX線管を中心として円弧状に
形成される。また、密封容器1のX線管側の一側面に
は、ステンレス等の容器材料が取り除かれて他のX線吸
収係数の低い材料が置換され、又は容器材料の肉厚がX
線を透過する程度まで薄く形成されたX線入射窓2であ
る。X線管から被検体を透過したX線(一点鎖線)は、
このX線入射窓2を介して細束として密封容器1の内部
に入射するようになっている。さらに、参照符号3は後
述する内部電気素子を外部電気装置(データ収集装置)
と電気的に連結するための入出力端子である。
【0011】密封容器1の内部には、図2に示すよう
に、複数の信号電極板4とバイアス電極板5とが交互に
一定の空間(これを以下「電離空間」という)を隔てて
X線入射窓2に沿って並列されている。この信号電極板
4とバイアス電極板5は、密封容器1の内壁に電気的に
接触しないように絶縁体サポート6で支持されている。
複数のバイアス電極板5は内部で結線されて同じ端子3
に接続され、信号電極板4は各別に異なった端子3に接
続される。なお、隣り合う信号電極板4とバイアス電極
板5のペアで通常、一チャンネルが構成される。
に、複数の信号電極板4とバイアス電極板5とが交互に
一定の空間(これを以下「電離空間」という)を隔てて
X線入射窓2に沿って並列されている。この信号電極板
4とバイアス電極板5は、密封容器1の内壁に電気的に
接触しないように絶縁体サポート6で支持されている。
複数のバイアス電極板5は内部で結線されて同じ端子3
に接続され、信号電極板4は各別に異なった端子3に接
続される。なお、隣り合う信号電極板4とバイアス電極
板5のペアで通常、一チャンネルが構成される。
【0012】また、密封容器1には、Xeが10〜20
気圧の比較的高いガス圧で封入されていて、入射X線の
吸収を高めるている。さらに、密封容器1の内部であっ
て、X線入射窓2から信号電極板4とバイアス電極板5
を介してそれらの背後には、重金属、例えば鉛板7が配
置される。
気圧の比較的高いガス圧で封入されていて、入射X線の
吸収を高めるている。さらに、密封容器1の内部であっ
て、X線入射窓2から信号電極板4とバイアス電極板5
を介してそれらの背後には、重金属、例えば鉛板7が配
置される。
【0013】このような構造のXeガス検出器におい
て、X線管から被検体を透過したX線がX線入射窓2を
通過して電離空間に到達すると、そこで電離作用が生
じ、この電離作用によって信号電極板2から取り出され
る電流が変化し、この電流変化によって線量測定がなさ
れる。
て、X線管から被検体を透過したX線がX線入射窓2を
通過して電離空間に到達すると、そこで電離作用が生
じ、この電離作用によって信号電極板2から取り出され
る電流が変化し、この電流変化によって線量測定がなさ
れる。
【0014】ここで、電離空間で吸収されずに背後に通
過したX線は、鉛板7でその大半が吸収され、散乱X線
の発生が抑えられる。したがって、従来のように容器材
料で発生した散乱X線が再検出されて、出力電流に悪影
響を及ぼすことが抑制され、その結果、再構成して得ら
れる断層像に発生するボケやアーチファクトが十分軽減
される。
過したX線は、鉛板7でその大半が吸収され、散乱X線
の発生が抑えられる。したがって、従来のように容器材
料で発生した散乱X線が再検出されて、出力電流に悪影
響を及ぼすことが抑制され、その結果、再構成して得ら
れる断層像に発生するボケやアーチファクトが十分軽減
される。
【0015】なお本実施例は、鉛板7を密封容器1の内
部に配置したが、図4に示すように、X線入射窓2から
信号電極板4とバイアス電極板5を介してそれらの背後
であって、密封容器1の外部側面に装着してもよい。
部に配置したが、図4に示すように、X線入射窓2から
信号電極板4とバイアス電極板5を介してそれらの背後
であって、密封容器1の外部側面に装着してもよい。
【0016】次の他の実施例について説明する。本実施
例に係る放射線検出器は、X線コンピュータトモグラフ
ィ装置に適用される半導体検出器である。
例に係る放射線検出器は、X線コンピュータトモグラフ
ィ装置に適用される半導体検出器である。
【0017】図5は本実施例による半導体検出器の断面
図である。なお本図において図1と同じ部分は同符号を
付するものとする。図5において参照符号1は容器であ
る。この容器1は上述の実施例の密封容器のように高圧
ガスを封入する必要がないので密封する必要はないが、
製造コスト低減のため上述の実施例の密封容器がそのま
ま流用されることが多い。
図である。なお本図において図1と同じ部分は同符号を
付するものとする。図5において参照符号1は容器であ
る。この容器1は上述の実施例の密封容器のように高圧
ガスを封入する必要がないので密封する必要はないが、
製造コスト低減のため上述の実施例の密封容器がそのま
ま流用されることが多い。
【0018】この容器1の内部には、半導体素子が収容
される。この半導体素子は、基板8上に複数の光を電気
信号に変換する光/電気信号変換部材、一般的にはフォ
トダイオード9が集積形成されてなる。基板8はフォト
ダイオード9の受光面がX線入射窓2に対峙するように
容器1の内壁に固定される。各フォトダイオード9上に
は、X線を光に変換するX線/光変換部材、一般的には
シンチレータ片10が装着される。また、シンチレータ
片10のX線入射窓2側には、コリメータ板12が配置
される。このコリメータ板12は、サポート11を介し
て基板8に保持される。
される。この半導体素子は、基板8上に複数の光を電気
信号に変換する光/電気信号変換部材、一般的にはフォ
トダイオード9が集積形成されてなる。基板8はフォト
ダイオード9の受光面がX線入射窓2に対峙するように
容器1の内壁に固定される。各フォトダイオード9上に
は、X線を光に変換するX線/光変換部材、一般的には
シンチレータ片10が装着される。また、シンチレータ
片10のX線入射窓2側には、コリメータ板12が配置
される。このコリメータ板12は、サポート11を介し
て基板8に保持される。
【0019】また、容器1の内部であって、基板8の背
面には、重金属、例えば鉛板13が装着される。このよ
うな構造の半導体検出器において、X線管から被検体を
透過したX線がX線入射窓2及びコリメータ板12を順
に通過してシンチレータ片10に到達すると、そこで光
に変換される。この光は後方のフォトダイオード9で電
気信号に変換されて、図示しない出力端子を介して外部
のデータ収集装置に出力される。
面には、重金属、例えば鉛板13が装着される。このよ
うな構造の半導体検出器において、X線管から被検体を
透過したX線がX線入射窓2及びコリメータ板12を順
に通過してシンチレータ片10に到達すると、そこで光
に変換される。この光は後方のフォトダイオード9で電
気信号に変換されて、図示しない出力端子を介して外部
のデータ収集装置に出力される。
【0020】ここで、シンチレータ片10やフォトダイ
オード9で吸収されずに基板8の後方まで通過したX線
は、鉛板13でその大半が吸収され、散乱X線の発生が
抑えられる。したがって、従来のように容器材料で発生
した散乱X線が再検出されて、出力電流に悪影響を及ぼ
すことが抑制され、その結果、再構成して得られる断層
像に発生するボケやアーチファクトが十分軽減される。
オード9で吸収されずに基板8の後方まで通過したX線
は、鉛板13でその大半が吸収され、散乱X線の発生が
抑えられる。したがって、従来のように容器材料で発生
した散乱X線が再検出されて、出力電流に悪影響を及ぼ
すことが抑制され、その結果、再構成して得られる断層
像に発生するボケやアーチファクトが十分軽減される。
【0021】なお本実施例は、図6に示すように、基板
8の背後であって、容器内壁に鉛板13を装着してもよ
いし、また図7に示すように、基板8の背後であって、
容器外壁に鉛板13を装着してもよい。
8の背後であって、容器内壁に鉛板13を装着してもよ
いし、また図7に示すように、基板8の背後であって、
容器外壁に鉛板13を装着してもよい。
【0022】本発明は上述した実施例に限定されること
なく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施可
能である。例えば、上述の実施例では、X線コンピュー
タトモグラフィ装置に適用する放射線検出器として説明
したが、放射線計数器等の他の放射線機器に適用しても
かまわない。
なく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施可
能である。例えば、上述の実施例では、X線コンピュー
タトモグラフィ装置に適用する放射線検出器として説明
したが、放射線計数器等の他の放射線機器に適用しても
かまわない。
【0023】
【発明の効果】本発明は、放射線入射窓を一部に形成さ
れた容器と、前記容器内に収容され、前記放射線入射窓
から入射した放射線を電気信号に変換する変換部材と、
前記放射線入射窓から前記部材を介して前記部材の後方
に配置された重金属部材とを具備して、放射線入射窓か
ら入射した放射線のうち変換部材を通過する成分を重金
属部材に吸収するので、散乱放射線の発生を抑え散乱放
射線が再検出されることによる電気信号への影響を軽減
できる放射線検出器を提供できる。
れた容器と、前記容器内に収容され、前記放射線入射窓
から入射した放射線を電気信号に変換する変換部材と、
前記放射線入射窓から前記部材を介して前記部材の後方
に配置された重金属部材とを具備して、放射線入射窓か
ら入射した放射線のうち変換部材を通過する成分を重金
属部材に吸収するので、散乱放射線の発生を抑え散乱放
射線が再検出されることによる電気信号への影響を軽減
できる放射線検出器を提供できる。
【図1】本発明の一実施例に係るXeガス検出器の外観
図。
図。
【図2】図1の密封容器の一部を切り開いて内部構造が
見えるようにした斜視図。
見えるようにした斜視図。
【図3】図1のXeガス検出器の断面図。
【図4】図3とは鉛板の配置位置が異なるXeガス検出
器の断面図。
器の断面図。
【図5】他の実施例に係る半導体検出器の断面図。
【図6】図5とは鉛板の装着位置が異なる半導体検出器
の断面図。
の断面図。
【図7】図4とは鉛板の装着位置が異なる半導体検出器
の断面図。
の断面図。
1…密封容器、 2…X線入射窓、 3…入出力端子、 4…信号電極板、 5…バイアス電極板、 6…絶縁体サポート、 7…鉛板
Claims (1)
- 【請求項1】 放射線入射窓を一部に形成された容器
と、 前記容器内に収容され、前記放射線入射窓から入射した
放射線を電気信号に変換する変換部材と、 前記放射線入射窓から前記変換部材を介して前記変換部
材の後方に配置された重金属部材とを具備することを特
徴とする放射線検出器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5108422A JPH06317673A (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 放射線検出器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5108422A JPH06317673A (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 放射線検出器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06317673A true JPH06317673A (ja) | 1994-11-15 |
Family
ID=14484371
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5108422A Pending JPH06317673A (ja) | 1993-05-10 | 1993-05-10 | 放射線検出器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06317673A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013181849A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線ビームモニタ装置 |
CN104688255A (zh) * | 2013-12-09 | 2015-06-10 | 通用电气公司 | 光探测器、x射线检测装置和计算机化断层扫描设备 |
CN110621229A (zh) * | 2017-06-29 | 2019-12-27 | 株式会社岛津制作所 | 放射线测量器以及放射线摄影装置 |
-
1993
- 1993-05-10 JP JP5108422A patent/JPH06317673A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013181849A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Mitsubishi Electric Corp | 放射線ビームモニタ装置 |
CN104688255A (zh) * | 2013-12-09 | 2015-06-10 | 通用电气公司 | 光探测器、x射线检测装置和计算机化断层扫描设备 |
CN110621229A (zh) * | 2017-06-29 | 2019-12-27 | 株式会社岛津制作所 | 放射线测量器以及放射线摄影装置 |
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