JPH06313055A - Production of surface-roughened polyimide film - Google Patents

Production of surface-roughened polyimide film

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JPH06313055A
JPH06313055A JP13378693A JP13378693A JPH06313055A JP H06313055 A JPH06313055 A JP H06313055A JP 13378693 A JP13378693 A JP 13378693A JP 13378693 A JP13378693 A JP 13378693A JP H06313055 A JPH06313055 A JP H06313055A
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aromatic
polyimide film
polyamic acid
solution
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浩 井上
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誠一郎 高林
Tetsuharu Hirano
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    • H05K3/381Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate

Abstract

PURPOSE:To prepare a polyimide film subjected to surface roughening treatment while keeping the excellent physical properties, heat resistance, etc., essential to an aromatic polyimide film to a high level, excellent in slippage and adhesion and, therefore, applicable, e.g. to a film for FPC or a base film for a double layer film. CONSTITUTION:This method is to produce a surface-roughened polyimide film by mixing the first aromatic polyamic acid solution prepared from a two benzene ring-containing aromatic tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine component with the second aromatic polyamic acid solution prepared from a one benzene ring-containing aromatic tetracarboxylic acid component and an aromatic diamine component so that the weight ratio of the aromatic polyamic acids may be 9:1 to 6:4, casting the resultant mixture for formation of film, imidating it and treating the imidated film with an alkaline solution.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は異なる二種類の芳香族
ポリアミック酸が有機極性溶媒に溶解した溶液を使用
し、比較的低温で製膜し、高温度で加熱処理してポリイ
ミドフィルムとし、その後アルカリ性溶液でエッチング
処理することで表面に微細な凹状構造を有する粗面化ポ
リイミドフィルムの製造法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention uses a solution in which two different kinds of aromatic polyamic acids are dissolved in an organic polar solvent, forms a film at a relatively low temperature, and heat-treats at a high temperature to form a polyimide film. The present invention relates to a method for producing a roughened polyimide film having a fine concave structure on the surface by etching with an alkaline solution.

【0002】また、この発明の粗面化ポリイミドフィル
ムは、優れた易滑性や接着性を有しているので、FPC
(フレキシブル印刷配線板)用フィルム、二層用ベース
フィルムなどの用途に使用することができる。
Further, since the roughened polyimide film of the present invention has excellent slipperiness and adhesiveness,
It can be used for applications such as films for (flexible printed wiring boards) and base films for two layers.

【0003】[0003]

【従来の技術】芳香族ポリイミドフィルムは、通常、ポ
リアミック酸(ポリイミド前駆体)の溶液、又はポリイ
ミド溶液を支持体に流延して薄膜を形成し、その薄膜を
乾燥し、支持体から剥離した後、さらに高温で加熱処理
することによって製造することができる。
2. Description of the Related Art An aromatic polyimide film is usually formed by casting a solution of polyamic acid (polyimide precursor) or a polyimide solution on a support to form a thin film, drying the thin film, and peeling it from the support. After that, it can be produced by further heating at a high temperature.

【0004】しかし、このような方法で製造されたポリ
イミドフィルムは、表面が非常に平滑であり、滑り性が
悪いため、テープ状物として種々の用途に使用されにく
いという欠点があった。そのため、今までに様々な、フ
ィルム粗面化技術が提案されている。
However, the polyimide film produced by such a method has a drawback that it is difficult to be used as a tape-like material for various purposes because the surface is very smooth and the slipperiness is poor. Therefore, various film roughening techniques have been proposed so far.

【0005】従来ポリイミドフィルムの粗面化技術とし
ては、特開昭60−127523号公報、特開昭61−
246919号公報、特開昭63−108038号公報
などに見られる様にフィルム中に微粒子を添加する方法
が提案されているが、微粒子が凝集を起こし、異常な突
起を発生させ、フィルム表面の均一な粗面化が困難であ
った。
As a conventional technique for roughening the surface of a polyimide film, JP-A-60-127523 and JP-A-61-161 are available.
Although a method of adding fine particles to a film has been proposed as seen in JP-A-246919 and JP-A-63-108038, the fine particles cause agglomeration and generate abnormal protrusions, resulting in uniform film surface. It was difficult to roughen the surface.

【0006】特開昭63−297038号公報にはポリ
イミドフィルムの少なくとも片面に微粒子を含有する芳
香族ポリアミック酸溶液からなるコーティング組成物を
塗布する方法が示されている。しかしこの方法も微粒子
が凝集を起こしやすく、製造工程の管理が難しいという
問題点がある。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 63-297038 discloses a method of applying a coating composition comprising an aromatic polyamic acid solution containing fine particles to at least one surface of a polyimide film. However, this method also has a problem that the fine particles are likely to agglomerate and the manufacturing process is difficult to control.

【0007】特開昭62−263230号公報では、加
熱、乾燥工程において、ポリイミドフィルムをガラス転
移温度以上に加熱してフィルム表面に突起を形成させる
方法が示されている。しかしこの方法ではフィルム内部
で発泡する危険性、及びフィルム自体の劣化の可能性を
含んでいる。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-263230 discloses a method in which a polyimide film is heated to a glass transition temperature or higher in the heating and drying steps to form protrusions on the film surface. However, this method involves the risk of foaming inside the film and the possibility of deterioration of the film itself.

【0008】特開平1−110535号公報にはポリイ
ミドフィルムを延伸し、フィルム表面に木皮状構造を形
成させ、粗面化させる方法が示されている。しかしこの
方法では延伸工程を従来のフィルム延伸工程に組み込む
必要があり、この工程は精度の要求が厳しく、装置類も
高価であり、フィルム製造の運転管理も難しくなる場合
が多い。
JP-A-1-110535 discloses a method of stretching a polyimide film to form a bark-like structure on the film surface and roughening the surface. However, in this method, it is necessary to incorporate the stretching step into the conventional film stretching step, and this step requires strict accuracy, the equipment is expensive, and the operation control of the film production is often difficult.

【0009】上記の方法以外にもフィルムの粗面化方法
として、特開昭60−154017号公報では、溶液に
溶かしたフィルム原材料を粗面支持体上に流延又は塗布
し、溶剤を除去した後、形成されたフィルムを支持体か
ら剥離し、フィルム片面を粗面化させる方法が提案され
ている。しかしこの方法では、フィルムを粗面支持体か
ら剥離する離型工程が難しく、また粗面化フィルム製造
の連続化が難しい場合が多い。
In addition to the above methods, as a method for roughening a film, in JP-A-60-154017, film raw materials dissolved in a solution are cast or coated on a rough surface support to remove the solvent. After that, a method of peeling the formed film from the support to roughen one surface of the film is proposed. However, in this method, the release step of peeling the film from the rough surface support is difficult, and continuous production of the roughened film is often difficult.

【0010】特開昭62−171187号公報では、フ
ィルムをウエット・プラスティングにより粗面化する方
法が開示されている。しかしこの方法もブラスティング
工程を従来のフィルム製造工程に組み込む必要があり、
製造コストが高くなることが考えられる。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 62-171187 discloses a method of roughening a film by wet plasting. However, this method also needs to incorporate the blasting process into the conventional film manufacturing process,
It is possible that the manufacturing cost will increase.

【0011】エッチングによるフィルムの粗面化技術も
提案され、特開平3−60094号公報には、アルカリ
性処理液を用いてポリイミドフィルムを粗面化する方法
が開示されている。しかし、ポリイミドフィルムのエッ
チングに関する技術を考えると、いくつかの問題点があ
げられている。
A film surface roughening technique by etching has also been proposed, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-60094 discloses a method for surface roughening a polyimide film using an alkaline treatment liquid. However, some problems have been raised in consideration of the technique related to etching of a polyimide film.

【0012】従来、ポリイミドフィルムをエッチングす
る方法として高濃度アルカリ水溶液、ヒドラジン溶液を
用いる方法があるが、一般にポリイミドフィルムは耐ア
ルカリ性に富むため、高濃度アルカリ水溶液でも、通常
の条件では充分なエッチングができない場合が多い。従
って十分な粗面化を行うためには長時間を必要とする
が、アルカリ水溶液がポリイミドフィルム内に浸透し、
ポリイミドフィルムが膨潤を起こしてしまう場合があ
る。
Conventionally, as a method of etching a polyimide film, there is a method of using a high-concentration alkaline aqueous solution or a hydrazine solution. However, since a polyimide film is generally rich in alkali resistance, even a high-concentration alkaline aqueous solution can sufficiently etch under normal conditions. Often not. Therefore, it takes a long time to perform sufficient surface roughening, but the alkaline aqueous solution penetrates into the polyimide film,
The polyimide film may swell.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、芳
香族ポリイミドが本来有している優れた物性、耐熱性な
どを高いレベルに保持したまま、表面が粗面化された芳
香族ポリイミドフィルムの製造法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an aromatic polyimide film having a roughened surface while maintaining the excellent physical properties and heat resistance originally possessed by the aromatic polyimide. To provide a manufacturing method of.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに鋭意検討した結果、本発明に到った。この発明は、
ベンゼン環を二つ有する芳香族テトラカルボン酸成分と
芳香族ジアミン成分とから得られた第1の芳香族ポリア
ミック酸溶液と、ベンゼン環を一つ有する芳香族テトラ
カルボン酸成分と芳香族ジアミン成分とから得られた第
2の芳香族ポリアミック酸溶液を、芳香族ポリアミック
酸の重量比が9:1〜6:4になる割合で混合し、流延
・薄膜状にしてイミド化したフイルムをアルカリ性溶液
で処理することを特徴とする粗面化ポリイミドフイルム
の製造法に関する。第1の芳香族ポリイミドと第2の芳
香族ポリイミドではアルカリ性溶液に対する溶解度が異
なっており、アルカリ性溶液で処理することで第2の芳
香族ポリイミドが選択的に溶解し、表面に微細な凹状構
造を形成することを特徴とする粗面化ポリイミドフィル
ムの製造法に関するものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present invention has been completed. This invention
A first aromatic polyamic acid solution obtained from an aromatic tetracarboxylic acid component having two benzene rings and an aromatic diamine component, an aromatic tetracarboxylic acid component having one benzene ring and an aromatic diamine component The second aromatic polyamic acid solution obtained from the above was mixed at a ratio of the aromatic polyamic acid in a weight ratio of 9: 1 to 6: 4, and the film imidized in a cast / thin film form was mixed with an alkaline solution. And a method for producing a roughened polyimide film. The first aromatic polyimide and the second aromatic polyimide have different solubilities in an alkaline solution, and the treatment with the alkaline solution selectively dissolves the second aromatic polyimide to form a fine concave structure on the surface. The present invention relates to a method for producing a roughened polyimide film, which is characterized by being formed.

【0015】この発明における前述の第1の芳香族ポリ
イミドまたは芳香族ポリアミック酸は、二つのベッゼン
環を有する芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミ
ン成分から得られるものであり、二つのベンゼン環を有
する芳香族テトラカルボン酸成分としては、3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,
3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、またはそれ
らの酸二無水物、あるいはそれらの酸の低級アルコール
エステル化物など、3,3’,4,4’−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸またはその酸二無水物、ビス(3,
4−ジカルボキシフェニル)メタンまたはその酸二無水
物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プ
ロパンまたはその酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニルチオエーテルまたはその酸二無水物、ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホンまたはその
酸二無水物、あるいは、それらの混合物が挙げられる。
The above-mentioned first aromatic polyimide or aromatic polyamic acid in the present invention is obtained from an aromatic tetracarboxylic acid component having two Bessen rings and an aromatic diamine component, and has two benzene rings. The aromatic tetracarboxylic acid component has 3,3 ′,
4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3
3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid, their acid dianhydrides, lower alcohol esterification products of these acids, such as 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid or its acid dianhydride , Screw (3,
4-dicarboxyphenyl) methane or its acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane or its acid dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenylthioether or its acid dianhydride An anhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone or an acid dianhydride thereof, or a mixture thereof can be used.

【0016】芳香族ジアミン成分としては、m−フェニ
レンジアミン、p−フェニレンジアミンなどのフェニレ
ン系ジアミン化合物、ベンジジン、3,3’−ジメチル
ベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジンなどのベ
ンジジン系化合物、4,4’−ジアミノベンゾフェノ
ン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジ
アミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系ジアミン
化合物、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,
3’−ジアミノジフェニルエーテルなどのジフェニルエ
ーテル系ジアミン化合物、4,4’−ジアミノジフェニ
ルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、2,
2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、3,3’−
ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス(3−アミノ
フェニル)プロパンなどのジフェニルアルカン系ジアミ
ン化合物、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン
などのビス(フェノキシ)ベンゼン系ジアミン化合物、
2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフル
オロプロパンなどのビス(フェノキシフェニル)プロパ
ン系ジアミン化合物、4,4’−ジアミノジフェニルス
ルフォン、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォンな
どのジフェニルスルホン系ジアミン化合物、3,7−ジ
アミノジフェニレンスルフォン、2,8−ジメチル−
3,7−ジアミノジフェニレンスルフォンなどのジフェ
ニレンスルホン系ジアミン化合物、ビス〔4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3
−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホンなどのビス
(フェノキシフェニル)スルホン系ジアミン化合物など
を主として(90モル%以上)含有する芳香族ジアミン
成分が挙げられる。
As the aromatic diamine component, phenylene-based diamine compounds such as m-phenylenediamine and p-phenylenediamine, benzidine-based compounds such as benzidine, 3,3'-dimethylbenzidine and 3,3'-dimethoxybenzidine, and 4 , 4'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminobenzophenone and other benzophenone-based diamine compounds, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,
Diphenyl ether type diamine compounds such as 3′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 2,
2-bis (3-aminophenyl) propane, 3,3'-
Diphenyldiamine compounds such as diaminodiphenylmethane and 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, and 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene. Bis (phenoxy) benzene-based diamine compound,
2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-
Aminophenoxy) phenyl] propane, bis (phenoxyphenyl) propane-based diamine compounds such as 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3 Diphenyl sulfone-based diamine compounds such as'-diaminodiphenyl sulfone, 3,7-diaminodiphenylene sulfone, 2,8-dimethyl-
Diphenylene sulfone-based diamine compounds such as 3,7-diaminodiphenylene sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3
Examples thereof include aromatic diamine components containing mainly (90 mol% or more) bis (phenoxyphenyl) sulfone-based diamine compounds such as -aminophenoxy) phenyl] sulfone.

【0017】この発明における二つのベンゼン環を有す
る芳香族テトラカルボン酸成分としては、3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、2,3,
3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、又はれらの
酸二無水物やエステルが好ましく、また芳香族ジアミン
成分としては、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェ
ニルエーテルが得られる芳香族ポリイミドが耐アルカリ
性の観点から好ましい。
As the aromatic tetracarboxylic acid component having two benzene rings in the present invention, 3,3 ',
4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,3
3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid, or an acid dianhydride or ester thereof is preferable, and as the aromatic diamine component, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'- Aromatic polyimides from which diaminodiphenyl ether can be obtained are preferred from the viewpoint of alkali resistance.

【0018】また、この発明における第2の芳香族ポリ
イミド又は芳香族ポリアミック酸は、芳香族テトラカル
ボン酸成分としてピロメリット酸又はそれらの酸無水
物、芳香族ジアミン成分としては前述と同様な芳香族ジ
アミン化合物からなる。
The second aromatic polyimide or aromatic polyamic acid in the present invention is pyromellitic acid or an acid anhydride thereof as the aromatic tetracarboxylic acid component, and the aromatic aromatic diamine component as described above. It consists of a diamine compound.

【0019】この発明の製造法において製膜用の溶液な
どに使用される有機極性溶媒は、前記の第1及び第2の
芳香族ポリアミック酸を均一に溶解しうるものであれば
良く、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N
−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジエチルホルムアミドなどの、N,N−ジ
低級アルキルカルボキシルアミド類、N−メチル−2−
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキ
シド、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ヘキサメ
チルスルホアミドなどを挙げることができる。
The organic polar solvent used in the film forming solution and the like in the production method of the present invention may be any one as long as it can uniformly dissolve the first and second aromatic polyamic acids. N, N-dimethylacetamide, N, N
-Diethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide and the like, N, N-di-lower alkylcarboxylamides, N-methyl-2-
Pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, diethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, diethyl sulfone, hexamethyl sulfamide and the like can be mentioned.

【0020】この発明の製造法において使用される各芳
香族ポリアミック酸の製造法は、前記の芳香族テトラカ
ルボン酸成分と芳香族ジアミン成分とをほぼ等モル使用
して、前述の有機極性溶媒中で、約100℃以下、特に
60℃以下の温度で重合して芳香族ポリアミック酸を生
成する方法を挙げることができる。前記の両成分の使用
量比は、かならずしも全く等モルである必要はなく、い
ずれか一方の成分が、他の成分に対して10モル%以
内、特に5モル%以内であれば、過剰に使用されていて
もよい。
In the method for producing each aromatic polyamic acid used in the production method of the present invention, the above-mentioned aromatic tetracarboxylic acid component and aromatic diamine component are used in substantially equimolar amounts in the above-mentioned organic polar solvent. Then, a method of polymerizing at a temperature of about 100 ° C. or lower, particularly 60 ° C. or lower to produce an aromatic polyamic acid can be mentioned. The ratio of the two components used does not necessarily have to be completely equimolar, and if one of the components is within 10 mol% with respect to the other components, particularly within 5 mol%, it is used in excess. It may have been done.

【0021】この発明において使用されるの製膜用芳香
族ポリアミック酸溶液の調整は、例えば、最初に、別々
に第1の芳香族ポリアミック酸の有機極性溶媒溶液及び
第2の芳香族ポリアミック酸の有機極性溶媒溶液を調整
して用意しておき、そして、その各芳香族ポリアミック
酸溶液を、0〜100℃、特に0〜80℃程度、さらに
好ましくは0〜70℃の温度で、約0.2〜50時間混
合するのが好ましい。
The preparation of the film-forming aromatic polyamic acid solution used in the present invention is carried out, for example, by first separately preparing a solution of the first aromatic polyamic acid in an organic polar solvent and a solution of the second aromatic polyamic acid. An organic polar solvent solution is prepared and prepared, and each of the aromatic polyamic acid solutions is prepared at a temperature of 0 to 100 ° C., particularly 0 to 80 ° C., and more preferably 0 to 70 ° C. It is preferable to mix for 2 to 50 hours.

【0022】この発明の製膜用の溶液の調整において、
100℃以下、好ましくは70℃以下の温度条件で各芳
香族ポリアミック酸溶液の混合を行ってやらなければ、
混合溶液中で各芳香族ポリアミック酸の分子鎖の解離、
及び再重合が同時に活発に起こり易く、その結果、前記
各芳香族ポリアミック酸から解離した全モノマーからな
るポリアミック酸共重合物が生成してしまい、その様な
共重合体を含有する溶液を製膜に使用すると、アルカリ
性溶液で処理しても表面に微細な凹状形状を形成しない
ので好ましくない。
In preparing the solution for film formation of the present invention,
Unless each aromatic polyamic acid solution is mixed under a temperature condition of 100 ° C. or lower, preferably 70 ° C. or lower,
Dissociation of the molecular chains of each aromatic polyamic acid in the mixed solution,
And repolymerization is likely to occur actively at the same time, as a result, a polyamic acid copolymer composed of all monomers dissociated from each aromatic polyamic acid is generated, and a solution containing such a copolymer is formed into a film. It is not preferable to use it because it does not form a fine concave shape on the surface even when treated with an alkaline solution.

【0023】この発明の第1の芳香族ポリアミック酸溶
液の有機極性溶媒と、第2の芳香族ポリアミック酸溶液
の有機極性溶媒とは、全く同じ溶媒又は実質的に同じ性
状の溶媒であることが、前述の各溶液の混合の容易さ、
溶媒回収の容易さなどの点から好ましい。
The organic polar solvent of the first aromatic polyamic acid solution of the present invention and the organic polar solvent of the second aromatic polyamic acid solution may be the same solvent or substantially the same solvent. , The ease of mixing the above solutions,
It is preferable from the viewpoint of ease of solvent recovery.

【0024】この発明において、製膜用の芳香族ポリア
ミック酸溶液を調整後、次にその製膜用の溶液を支持体
上で薄膜に形成し、130℃以下、好ましくは、10〜
100℃の温度で乾燥して、自己支持性フイルムを形成
する。乾燥において130℃より高い温度で乾燥を行う
と、薄膜が自己支持性フィルムとなる際に、製膜用溶液
の調整と同様に共重合体の生成が起こるので適当ではな
い。
In the present invention, after preparing an aromatic polyamic acid solution for film formation, the solution for film formation is then formed into a thin film on a support, and the temperature is 130 ° C. or lower, preferably 10 to
Dry at a temperature of 100 ° C. to form a self-supporting film. When the drying is performed at a temperature higher than 130 ° C., when the thin film becomes a self-supporting film, a copolymer is produced similarly to the preparation of the film-forming solution, which is not suitable.

【0025】この発明における自己支持性フィルムの形
成は、例えば、製膜用の芳香族ポリアミック酸溶液をス
リットダイを通して薄膜状に連続的に押し出して、その
薄膜を回動しているベルト、ドラムの表面上に載置させ
流延させて均一な厚さの薄膜を形成し、その薄膜を12
0℃以下の温度で乾燥して、フイルム状自己支持体を連
続的に形成する方法で行うことができる。
The formation of the self-supporting film in the present invention is performed, for example, by continuously extruding an aromatic polyamic acid solution for film formation through a slit die into a thin film, and rotating the thin film on a belt or a drum. Place the film on the surface and cast it to form a thin film of uniform thickness.
It can be carried out by a method of continuously forming a film-shaped self-support by drying at a temperature of 0 ° C. or lower.

【0026】得られたフィルム状自己支持体を300℃
以上の温度に加熱し、イミド化し、ポリイミドフフィル
ムとする。こうして得られたポリイミドフィルムをアル
カリ性溶液で処理することにより、フィルムの表面に微
細な凹状構造を形成させる。
The obtained film-like self-supporting body was heated at 300 ° C.
The film is heated to the above temperature and imidized to obtain a polyimide film. The polyimide film thus obtained is treated with an alkaline solution to form a fine concave structure on the surface of the film.

【0027】アルカリ性溶液としては、水酸化ナトリウ
ムや水酸化カリウムなどの無機塩基、プロピルアミン、
エチレンジアミン、ヒドラジンなどの有機塩基を単独あ
るいは混合物の状態で水やメタノール、エタノールなど
のアルコール系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミドなどのアミド系溶媒を用いたアルカリ性溶液を
好適に挙げることができる。
As the alkaline solution, an inorganic base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, propylamine,
Organic bases such as ethylenediamine and hydrazine, alone or in a mixture, with water, alcohol solvents such as methanol and ethanol, N, N-dimethylacetamide,
An alkaline solution using an amide solvent such as N, N-diethylacetamide or N, N-dimethylformamide can be preferably mentioned.

【0028】この発明の芳香族ポリイミドフィルムは、
第1の芳香族ポリイミドフィルム中に、第2の芳香族ポ
リイミドが微細に分散した状態になっている。アルカリ
性溶液による溶解性が第1の芳香族ポリイミドと第2の
芳香族ポリイミドでは異なり、第2の芳香族ポリイミド
の方がアルカリ性溶液に対する溶解性が良いため、アル
カリ性溶液で処理することにより、フィルム表面に存在
する第2の芳香族ポリイミドが選択的に溶解され、フィ
ルム表面にクレーター状の凹状構造が形成される。アル
カリ性溶液で処理する温度は10〜100℃、好ましく
は20〜100℃である。処理する時間は10秒〜5時
間である。
The aromatic polyimide film of the present invention comprises
The second aromatic polyimide is finely dispersed in the first aromatic polyimide film. Solubility by the alkaline solution is different between the first aromatic polyimide and the second aromatic polyimide, and the second aromatic polyimide has better solubility in the alkaline solution. The second aromatic polyimide present in the film is selectively dissolved to form a crater-like concave structure on the film surface. The temperature of the treatment with the alkaline solution is 10 to 100 ° C, preferably 20 to 100 ° C. The processing time is 10 seconds to 5 hours.

【0029】[0029]

【実施例】以下に実施例及び比較例を示す。 実施例1 A)3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物29.42gと、p−フェニレンジアミン1
0.81gとを、362.1gのN,N−ジメチルアセ
トアミド溶媒中で、25℃で4時間重合して得られた第
1の芳香族ポリアミック酸の反応溶液〔ポリマー濃度;
10重量%、25℃の溶液粘度;500ポイズ(回転粘
度計によって測定した溶液粘度)〕80gを採取した。 B)ピロメリット酸二無水物21.81gと、4,4’
−ジアミノジフェニルエーテル20.02gとを、37
6.5gのN,N−ジメチルアセトアミド溶媒中で、2
5℃で4時間重合して得られた、第2の芳香族ポリアミ
ック酸の反応溶液〔ポリマー濃度;10重量%、25℃
の溶液濃度;300ポイズ(前述と同じ)〕20gを採
取した。 AとBを25℃で混合し、さらに室温で8時間攪拌して
混合溶液を調整した後、その製膜用溶液をガラス板上に
均一に流延し、60℃の熱風の通風下で20分間加温す
ることによって、長尺の自己支持性フィルム(溶媒含有
率;48重量%)を形成した。
EXAMPLES Examples and comparative examples will be shown below. Example 1 A) 29.42 g of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and p-phenylenediamine 1
0.81 g was polymerized with 362.1 g of N, N-dimethylacetamide solvent at 25 ° C. for 4 hours to obtain a reaction solution of a first aromatic polyamic acid [polymer concentration;
10% by weight, solution viscosity at 25 ° C .; 500 poise (solution viscosity measured by a rotary viscometer)] 80 g was collected. B) 21.81 g of pyromellitic dianhydride and 4,4 '
-Diaminodiphenyl ether 20.02 g and 37
2 in 6.5 g of N, N-dimethylacetamide solvent
Second aromatic polyamic acid reaction solution obtained by polymerization at 5 ° C. for 4 hours [polymer concentration: 10% by weight, 25 ° C.
Solution concentration: 300 poise (same as above)] 20 g. After mixing A and B at 25 ° C. and further stirring at room temperature for 8 hours to prepare a mixed solution, the solution for film formation was cast evenly on a glass plate, and the solution was blown with hot air at 60 ° C. for 20 hours. By heating for a minute, a long self-supporting film (solvent content: 48% by weight) was formed.

【0030】その自己支持性フィルムを200℃で10
分間、次いで400℃で5分間、加熱処理して芳香族ポ
リイミドフィルムを製造した。得られたポリイミドフィ
ルムを80%ヒドラジン−水和物中に浸漬し、25℃で
1時間処理した。芳香族ポリイミドフィルム表面の走査
型電子顕微鏡写真を図1に示す。図1に示す様にフィル
ム表面には微細な凹状構造が多数形成されている。
The self-supporting film was heated at 200 ° C. for 10 minutes.
After that, heat treatment was performed for 5 minutes at 400 ° C. for 5 minutes to produce an aromatic polyimide film. The obtained polyimide film was immersed in 80% hydrazine hydrate and treated at 25 ° C for 1 hour. A scanning electron micrograph of the surface of the aromatic polyimide film is shown in FIG. As shown in FIG. 1, many fine concave structures are formed on the film surface.

【0031】比較例1 実施例1のAと同様に、3,3’,4,4’−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物とP−フェニレンジアミン
とから得られた芳香族ポリアミド酸溶液(溶媒;N,N
−ジメチルアセトアミド、粘度 500ポイズ)をガラ
ス板状に流延し、芳香族ポリイミドフィルムを製造し
た。得られたポリイミドフィルムを80%ヒドラジン−
水和物中に浸漬し、25℃で1時間処理した。このポリ
イミドフィルム表面の走査型電子顕微鏡写真を図2に示
す。このフィルム表面には微細な凹状構造が形成されて
いなかった。
Comparative Example 1 Similar to A of Example 1, an aromatic polyamic acid solution obtained from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and P-phenylenediamine (solvent; N, N
-Dimethylacetamide, viscosity: 500 poise) was cast into a glass plate to produce an aromatic polyimide film. The obtained polyimide film is 80% hydrazine-
It was immersed in a hydrate and treated at 25 ° C. for 1 hour. A scanning electron micrograph of the surface of this polyimide film is shown in FIG. No fine concave structure was formed on the surface of this film.

【0032】[0032]

【発明の効果】この発明は、ベンゼン環を二つ有する芳
香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分とから
得られた第1の芳香族ポリイミドと、ベンゼン環を一つ
有する芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成
分とから得られた第2の芳香族ポリイミドの均一な混合
フィルムであり、第1の芳香族ポリイミドと第2の芳香
族ポリイミドではアルカリ性溶液に対する溶解度が異な
っており、アルカリ性溶液で処理することで第2の芳香
族ポリイミドが選択的に溶解し、表面に微細な凹状構造
を形成することを特徴とする粗面化ポリイミドフィルム
の製造法に関するものである。この発明の製造法を用い
ることにより、芳香族ポリイミドフィルムが本来有して
いる優れた物性、耐熱性などを高いレベルに保持したま
ま、粗面化されたポリイミドフィルムを提供することが
できる。また、この発明の粗面化ポリイミドフィルムは
優れた易滑性、接着性を有しているので、FPC用のフ
ィルムや二層用のベースフィルムなどに使用することが
できる。
The present invention provides a first aromatic polyimide obtained from an aromatic tetracarboxylic acid component having two benzene rings and an aromatic diamine component, and an aromatic tetracarboxylic acid having one benzene ring. A homogeneous mixed film of a second aromatic polyimide obtained from a component and an aromatic diamine component, wherein the first aromatic polyimide and the second aromatic polyimide have different solubilities in an alkaline solution. The present invention relates to a method for producing a roughened polyimide film, characterized in that the second aromatic polyimide is selectively dissolved by the treatment with to form a fine concave structure on the surface. By using the production method of the present invention, it is possible to provide a roughened polyimide film while maintaining the excellent physical properties and heat resistance originally possessed by the aromatic polyimide film at a high level. Further, since the roughened polyimide film of the present invention has excellent slipperiness and adhesiveness, it can be used as a film for FPC or a base film for two layers.

【0033】[0033]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明による実施例1で得られた粗面化され
た表面に微細な凹状構造を有する芳香族ポリイミドフィ
ルムの走査型電子顕微鏡写真である。
FIG. 1 is a scanning electron micrograph of an aromatic polyimide film obtained in Example 1 according to the present invention and having a roughened surface and a fine concave structure.

【図2】この発明による比較例1で得られた粗面化され
ていない芳香族ポリイミドフィルムの走査型電子顕微鏡
写真である。
FIG. 2 is a scanning electron micrograph of a non-roughened aromatic polyimide film obtained in Comparative Example 1 according to the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/306 9272−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 21/306 9272-4M

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ベンゼン環を二つ有する芳香族テトラカル
ボン酸成分と芳香族ジアミン成分とから得られた第1の
芳香族ポリアミック酸溶液と、ベンゼン環を一つ有する
芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分とか
ら得られた第2の芳香族ポリアミック酸溶液を、芳香族
ポリアミック酸の重量比が9:1〜6:4になる割合で
混合し、流延・薄膜状にしてイミド化したフィルムをア
ルカリ性溶液で処理することを特徴とする粗面化ポリイ
ミドフィルムの製造法。
1. A first aromatic polyamic acid solution obtained from an aromatic tetracarboxylic acid component having two benzene rings and an aromatic diamine component, and an aromatic tetracarboxylic acid component having one benzene ring. The second aromatic polyamic acid solution obtained from the aromatic diamine component is mixed at a weight ratio of the aromatic polyamic acid of 9: 1 to 6: 4, and is cast into a thin film to be imidized. A method for producing a roughened polyimide film, which comprises treating the formed film with an alkaline solution.
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