JPH06312973A - 新規なフェニルスルファミド誘導体 - Google Patents
新規なフェニルスルファミド誘導体Info
- Publication number
- JPH06312973A JPH06312973A JP12789793A JP12789793A JPH06312973A JP H06312973 A JPH06312973 A JP H06312973A JP 12789793 A JP12789793 A JP 12789793A JP 12789793 A JP12789793 A JP 12789793A JP H06312973 A JPH06312973 A JP H06312973A
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- acid
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式（Ｉ）で示される新規なフェニル
スルファミド誘導体又はその塩 【化１】 ［式中の各記号は，夫々下記の意味を有する。 【化２】 Ｘ：酸素原子，エチレン基（−ＣＨ2 ＣＨ2 −）又はビ
ニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−） Ａ1 ：低級アルコキシ基，ヒドロキシ基又はハロゲン原
子から選択される基で置換されていてもよい炭素数２乃
至５個の直鎖又は分枝のアルキレン基 Ａ2 ：単結合又はビニレン基 Ｒ1 ，Ｒ2 ：同一又は異って，水素原子，低級アルキル
基，低級アルケニル基，低級アルキニル基，ハロゲン原
子，低級アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，アミノ
基，モノ−又はジ−低級アルキルアミノ基，水酸基，低
級アルキルチオ基，トリハロゲノメチル基又はカルバモ
イル基から選択される１乃至３個の置換基。］ 【効果】 ＴＸＡ2 拮抗作用を有し，血栓症，狭心症，
気管支喘息等に有用である。
スルファミド誘導体又はその塩 【化１】 ［式中の各記号は，夫々下記の意味を有する。 【化２】 Ｘ：酸素原子，エチレン基（−ＣＨ2 ＣＨ2 −）又はビ
ニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−） Ａ1 ：低級アルコキシ基，ヒドロキシ基又はハロゲン原
子から選択される基で置換されていてもよい炭素数２乃
至５個の直鎖又は分枝のアルキレン基 Ａ2 ：単結合又はビニレン基 Ｒ1 ，Ｒ2 ：同一又は異って，水素原子，低級アルキル
基，低級アルケニル基，低級アルキニル基，ハロゲン原
子，低級アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，アミノ
基，モノ−又はジ−低級アルキルアミノ基，水酸基，低
級アルキルチオ基，トリハロゲノメチル基又はカルバモ
イル基から選択される１乃至３個の置換基。］ 【効果】 ＴＸＡ2 拮抗作用を有し，血栓症，狭心症，
気管支喘息等に有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，医薬，特にトロンボキ
サンＡ2 （ＴＸＡ2 ）拮抗作用を有し，ＴＸＡ2 が関与
する疾患の予防又は治療剤として有用な新規なフェニル
スルファミド誘導体又はその塩に関する。
サンＡ2 （ＴＸＡ2 ）拮抗作用を有し，ＴＸＡ2 が関与
する疾患の予防又は治療剤として有用な新規なフェニル
スルファミド誘導体又はその塩に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＴＸＡ2 は，アラキドン酸カスケードの
代謝過程でＴＸＡ2 合成酵素によりプロスタグランジン
Ｈ2 から生合成される下記の不飽和脂肪酸である。
代謝過程でＴＸＡ2 合成酵素によりプロスタグランジン
Ｈ2 から生合成される下記の不飽和脂肪酸である。
【０００３】
【化３】
【０００４】ＴＸＡ2 は，血小板凝集，動脈収縮，気管
支収縮等の薬理活性を有し，血栓症，狭心症，気管支喘
息などに関与する因子の一つと考えられている。従っ
て，従来ＴＸＡ2 拮抗作用を有し，ＴＸＡ2 の薬理活性
に起因する上記の如き種々の疾病に対する予防・治療効
果を有する物質の研究が進められてきた（例えば，特開
昭６４−４７７５８号公報に記載の化合物）が，本発明
の化合物は，従来の物質とは異なる新規な構造を有する
フェニルスルファミド誘導体である。
支収縮等の薬理活性を有し，血栓症，狭心症，気管支喘
息などに関与する因子の一つと考えられている。従っ
て，従来ＴＸＡ2 拮抗作用を有し，ＴＸＡ2 の薬理活性
に起因する上記の如き種々の疾病に対する予防・治療効
果を有する物質の研究が進められてきた（例えば，特開
昭６４−４７７５８号公報に記載の化合物）が，本発明
の化合物は，従来の物質とは異なる新規な構造を有する
フェニルスルファミド誘導体である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来，上記の如く種々
の研究がなされてきたが，現在においてもなお優れた新
規ＴＸＡ2 拮抗剤の創製は，医療上の重要な課題であ
る。本発明者等は，ＴＸＡ2 拮抗作用を有する新規化合
物について鋭意研究した結果，本発明を完成した。な
お，本発明の如きフェニルスルファミド誘導体を含有す
る化合物として，下式に示す特公昭６３−５２６２５号
公報に記載の化合物が既に公知であるが，本発明化合物
は，前記式（Ｉ）中−Ｘ−Ａ1で示される部分により，
この公報記載の化合物とは構造上明らかに異なる。また
同公報には，公報に記載の前記化合物がＴＸＡ2拮抗作
用を有することは全く開示されていない。
の研究がなされてきたが，現在においてもなお優れた新
規ＴＸＡ2 拮抗剤の創製は，医療上の重要な課題であ
る。本発明者等は，ＴＸＡ2 拮抗作用を有する新規化合
物について鋭意研究した結果，本発明を完成した。な
お，本発明の如きフェニルスルファミド誘導体を含有す
る化合物として，下式に示す特公昭６３−５２６２５号
公報に記載の化合物が既に公知であるが，本発明化合物
は，前記式（Ｉ）中−Ｘ−Ａ1で示される部分により，
この公報記載の化合物とは構造上明らかに異なる。また
同公報には，公報に記載の前記化合物がＴＸＡ2拮抗作
用を有することは全く開示されていない。
【０００６】
【化４】
【０００７】（式中の各記号は，夫々下記の意味を有す
る。 Ｒ：水素原子又はメチル基 Ｒ1 ：アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニ
ル基，ナフチル基，フェネチル基若しくはスチリル基 Ｗ：単結合又は二重結合一つを有していてもよい炭素数
１乃至４のアルキレン基）
る。 Ｒ：水素原子又はメチル基 Ｒ1 ：アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニ
ル基，ナフチル基，フェネチル基若しくはスチリル基 Ｗ：単結合又は二重結合一つを有していてもよい炭素数
１乃至４のアルキレン基）
【０００８】
【発明を解決するための手段】すなわち，本発明は，下
記一般式（Ｉ）で示される新規なフェニルスルファミド
誘導体に関する。
記一般式（Ｉ）で示される新規なフェニルスルファミド
誘導体に関する。
【０００９】
【化５】
【００１０】［式中の各記号は，夫々下記の意味を有す
る。
る。
【００１１】
【化６】
【００１２】Ｘ：酸素原子，エチレン基（−ＣＨ2 ＣＨ
2 −）又はビニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−） Ａ1 ：低級アルコキシ基，ヒドロキシ基又はハロゲン原
子から選択される基で置換されていてもよい炭素数２乃
至５個の直鎖又は分枝のアルキレン基 Ａ2 ：単結合又はビニレン基 Ｒ1 ，Ｒ2 ：同一又は異って，水素原子，低級アルキル
基，低級アルケニル基，低級アルキニル基，ハロゲン原
子，低級アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，アミノ
基，モノ−又はジ−低級アルキルアミノ基，水酸基，低
級アルキルチオ基，トリハロゲノメチル基又はカルバモ
イル基から選択される１乃至３個の置換基。］
2 −）又はビニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−） Ａ1 ：低級アルコキシ基，ヒドロキシ基又はハロゲン原
子から選択される基で置換されていてもよい炭素数２乃
至５個の直鎖又は分枝のアルキレン基 Ａ2 ：単結合又はビニレン基 Ｒ1 ，Ｒ2 ：同一又は異って，水素原子，低級アルキル
基，低級アルケニル基，低級アルキニル基，ハロゲン原
子，低級アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，アミノ
基，モノ−又はジ−低級アルキルアミノ基，水酸基，低
級アルキルチオ基，トリハロゲノメチル基又はカルバモ
イル基から選択される１乃至３個の置換基。］
【００１３】以下，本発明化合物（Ｉ）につき詳述す
る。本明細書中の一般式の定義において「低級」なる用
語は，特に断わらない限り，炭素数が１乃至６個の直鎖
又は分枝上の炭素鎖を意味する。従って，「低級アルキ
ル基」としては，具体的には例えばメチル基，エチル
基，プロピル基，イソプロピル基，ブチル基，イソブチ
ル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル基，ペンチ
ル基，イソペンチル基，ネオペンチル基，ｔｅｒｔ−ペ
ンチル基，１−メチルブチル基，２−メチルブチル基，
１，２−ジメチルプロピル基，ヘキシル基，イソヘキシ
ル基，１−メチルペンチル基，２−メチルペンチル基，
３−メチルペンチル基，１，１−ジメチルブチル基，
１，２−ジメチルブチル基，２，２−ジメチルブチル
基，１，３−ジメチルブチル基，２，３−ジメチルブチ
ル基，３，３−ジメチルブチル基，１−エチルブチル
基，２−エチルブチル基，１，１，２−トリメチルプロ
ピル基，１，２，２−トリメチルプロピル基，１−エチ
ル−１−メチルプロピル基，１−エチル−２−メチルプ
ロピル基等が挙げられる。「低級アルケニル基」は炭素
数が２乃至６個の直鎖又は分岐状のアルケニル基であ
り，具体的にはビニル基，アリル基，１−プロペニル
基，イソプロペニル基，１−ブテニル基，２−ブテニル
基，３−ブテニル基，２−メチル−１−プロペニル基，
２−メチルアリル基，１−メチル−１−プロペニル基，
１−メチルアリル基，１，１−ジメチルビニル基，１−
ペンテニル基，２−ペンテニル基，３−ペンテニル基，
４−ペンテニル基，３−メチル−１−ブテニル基，３−
メチル−２−ブテニル基，２−メチル−１−ブテニル
基，２−メチル−２−ブテニル基，２−メチル−３−ブ
テニル基，１−メチル−１−ブテニル基，１−メチル−
２−ブテニル基，１−メチル−３−ブテニル基，１，１
−ジメチルアリル基，１，２−ジメチル−１−プロペニ
ル基，１，２−ジメチル−２−プロペニル基，１−エチ
ル−１−プロペニル基，１−エチル−２−プロペニル
基，１−ヘキセニル基，２−ヘキセニル基，３−ヘキセ
ニル基，４−ヘキセニル基，５−ヘキセニル基，１，１
−ジメチル−１−ブテニル基，１，１−ジメチル−２−
ブテニル基，１，１−ジメチル−３−ブテニル基，３，
３−ジメチル−１−ブテニル基，１−メチル−１−ペン
テニル基，１−メチル−２−ペンテニル基，１−メチル
−３−ペンテニル基，１−メチル−４−ペンテニル基，
４−メチル−１−ペンテニル基，４−メチル−２−ペン
テニル基，４−メチル−３−ペンテニル基等が挙げられ
る。「低級アルキニル基」は，炭素数が２乃至６個の直
鎖又は分岐上のアルキニル基であって，エチニル基，１
−プロピニル基，２−プロピニル基，１−プチニル基，
２−プチニル基，３−プチニル基，１−メチル−２−プ
ロピニル基，１−ペンチニル基，２−ペンチニル基，３
−ペンチニル基，４−ペンチニル基，３−メチル−１−
ブチニル基，２−メチル−３−ブチニル基，１−メチル
−２−ブチニル基，１−メチル−３−ブチニル基，１，
１−ジメチル−２−プロピニル基，１−ヘキシニル基，
２−ヘキシニル基，３−ヘキシニル基，４−ヘキシニル
基，５−ヘキシニル基等が例示される。「低級アルコキ
シ基，ヒドロキシ基又はハロゲン原子から選択される基
で置換されていてもよい炭素数２乃至５個の直鎖又は分
枝のアルキレン基」を構成する「炭素数２乃至５個の直
鎖又は分枝のアルキレン基」としては，具体的には，エ
チレン基，メチルメチレン基，トリメチレン基，プロピ
レン基，２−プロピレン基，ジメチルメチレン基，ブチ
レン基，テトラメチレン基，１−メチルトリメチレン
基，２−メチルトリメチレン基，３−メチルトリメチレ
ン基，１−エチルエチレン基，２−エチルエチレン基，
２，２−ジメチルエチレン基，１，１−ジメチルエチレ
ン基，エチルメチルメチレン基，ペンタメチレン基，１
−メチルテトラメチレン基，２−メチルテトラメチレン
基，３−メチルテトラメチレン基，４−メチルテトラメ
チレン基，１，１−ジメチルトリメチレン基，２，２−
ジメチルトリメチレン基，３，３−ジメチルトリメチレ
ン基，１，３−ジメチルトリメチレン基，２，３−ジメ
チルトリメチレン基，１，２−ジメチルトリメチレン
基，１，１，２−トリメチルエチレン基，ジエチルメチ
レン基等が挙げられ，これらのうち特に好ましいものは
エチレン基，プロピレン基，ブチレン基等直鎖のアルキ
レン基である。また，「低級アルコキシ基」としては，
メトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，イソプロポキ
シ基，ブトキシ基，イソブトキシ基，ｓｅｃ−ブトキシ
基，ｔｅｒｔ−ブトキシ基，ペンチルオキシ（アミルオ
キシ）基，イソペンチルオキシ基，ｔｅｒｔ−ペンチル
オキシ基，ネオペンンチルオキシ基，２−メチルブトキ
シ基，１，２−ジメチルプロポキシ基，１−エチルプロ
ポキシ基，ヘキシルオキシ基等が挙げられ，特にメトキ
シ基が好ましい。「ハロゲン原子」としては，フッ素原
子，塩素原子，臭素原子などが挙げられ，「トリハロゲ
ノメチル基」としてはメチル基の水素原子が前記「ハロ
ゲン原子」で３個置換された基を意味し，具体的にはト
リクロロメチル基，ジクロロフルオロメチル基，ジクロ
ロブロモメチル基，トリフルオロメチル基，ジフルオロ
クロロメチル基，ブロモジフルオロメチル基，トリブロ
モメチル基，ジブロモクロロメチル基，ジブロモフルオ
ロメチル基などが挙げられる。「低級アルキルチオ基」
としては，上記「低級アルコキシ基」の酸素原子が，硫
黄原子となったもので，具体的にはメチルチオ基，エチ
ルチオ基，プロピルチオ基，イソプロピルチオ基，ブチ
ルチオ基，ｓｅｃ−ブチルチオ基，ｔｅｒｔ−ブチルチ
オ基，ペンチルチオ基，ネオペンチルチオ基，２−メチ
ルブチルチオ基，１，２−ジメチルプロピルチオ基，１
−エチルプロピルチオ基，ヘキシルチオ基等が挙げられ
る。「モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基」は，アミ
ノ基の一つ又は二つの水素原子が前記「低級アルキル
基」で置換された基を意味する。具体的にはメチルアミ
ノ基，エチルアミノ基，プロピルアミノ基，イソプロピ
ルアミノ基，ブチルアミノ基，イソブチルアミノ基，ペ
ンチルアミノ基，ヘキシルアミノ基，イソヘキシルアミ
ノ基等炭素数が１乃至６個の直鎖又は分岐状のアルキル
基で置換されたモノアルキルアミノ基，ジメチルアミノ
基，ジエチルアミノ基，ジプロピルアミノ基，ジイソプ
ロピルアミノ基，ジブチルアミノ基，ジペンチルアミノ
基，ジヘキシルアミノ基等炭素数が１乃至６個の直鎖又
は分岐状のアルキル基でジ置換された対称型のジアルキ
ルアミノ基，エチルメチルアミノ基，メチルプロピルア
ミノ基，エチルプロピルアミノ基，ブチルメチルアミノ
基，ブチルエチルアミノ基，ブチルプロピルアミノ基等
炭素数が１乃至６個の直鎖又は分岐状のアルキル基のう
ち相違なるアルキル基でジ置換された非対称型のジアル
キルアミノ基等が挙げられるが，特にジメチルアミノ基
が好ましい。また，本明細書の一般式の定義において，
「アリール基」は，特に断わらない限り，炭素環アリー
ル基またはヘテロ環アリール基の双方を意味するが，本
発明では炭素環アリール基が特に好ましい。これらの
「アリール基」は，さらに置換基として，ハロゲン原
子，低級アルコキシ基，アラルキルオキシ基，アリール
オキシ基，低級アルカノイル基，アラルキルカルボニル
基，アリールカルボニル基，シアノ基，ニトロ基，アミ
ノ基，又はモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基から選
ばれた同一又は異なる基で１乃至３個置換されていても
よい。炭素環アリール基としては具体的にはフェニル
基，ナフチル基，アントリル基，フェナントリル基等が
挙げられるが，特に好ましいのはフェニル基，ナフチル
基である。また，ヘテロ環アリール基としては，ピロリ
ル基，フリル基，チエニル基，ピリジル基，ピリミジル
基，キノリル基，イソキノリル基，キナゾリニル基等が
挙げられる。
る。本明細書中の一般式の定義において「低級」なる用
語は，特に断わらない限り，炭素数が１乃至６個の直鎖
又は分枝上の炭素鎖を意味する。従って，「低級アルキ
ル基」としては，具体的には例えばメチル基，エチル
基，プロピル基，イソプロピル基，ブチル基，イソブチ
ル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル基，ペンチ
ル基，イソペンチル基，ネオペンチル基，ｔｅｒｔ−ペ
ンチル基，１−メチルブチル基，２−メチルブチル基，
１，２−ジメチルプロピル基，ヘキシル基，イソヘキシ
ル基，１−メチルペンチル基，２−メチルペンチル基，
３−メチルペンチル基，１，１−ジメチルブチル基，
１，２−ジメチルブチル基，２，２−ジメチルブチル
基，１，３−ジメチルブチル基，２，３−ジメチルブチ
ル基，３，３−ジメチルブチル基，１−エチルブチル
基，２−エチルブチル基，１，１，２−トリメチルプロ
ピル基，１，２，２−トリメチルプロピル基，１−エチ
ル−１−メチルプロピル基，１−エチル−２−メチルプ
ロピル基等が挙げられる。「低級アルケニル基」は炭素
数が２乃至６個の直鎖又は分岐状のアルケニル基であ
り，具体的にはビニル基，アリル基，１−プロペニル
基，イソプロペニル基，１−ブテニル基，２−ブテニル
基，３−ブテニル基，２−メチル−１−プロペニル基，
２−メチルアリル基，１−メチル−１−プロペニル基，
１−メチルアリル基，１，１−ジメチルビニル基，１−
ペンテニル基，２−ペンテニル基，３−ペンテニル基，
４−ペンテニル基，３−メチル−１−ブテニル基，３−
メチル−２−ブテニル基，２−メチル−１−ブテニル
基，２−メチル−２−ブテニル基，２−メチル−３−ブ
テニル基，１−メチル−１−ブテニル基，１−メチル−
２−ブテニル基，１−メチル−３−ブテニル基，１，１
−ジメチルアリル基，１，２−ジメチル−１−プロペニ
ル基，１，２−ジメチル−２−プロペニル基，１−エチ
ル−１−プロペニル基，１−エチル−２−プロペニル
基，１−ヘキセニル基，２−ヘキセニル基，３−ヘキセ
ニル基，４−ヘキセニル基，５−ヘキセニル基，１，１
−ジメチル−１−ブテニル基，１，１−ジメチル−２−
ブテニル基，１，１−ジメチル−３−ブテニル基，３，
３−ジメチル−１−ブテニル基，１−メチル−１−ペン
テニル基，１−メチル−２−ペンテニル基，１−メチル
−３−ペンテニル基，１−メチル−４−ペンテニル基，
４−メチル−１−ペンテニル基，４−メチル−２−ペン
テニル基，４−メチル−３−ペンテニル基等が挙げられ
る。「低級アルキニル基」は，炭素数が２乃至６個の直
鎖又は分岐上のアルキニル基であって，エチニル基，１
−プロピニル基，２−プロピニル基，１−プチニル基，
２−プチニル基，３−プチニル基，１−メチル−２−プ
ロピニル基，１−ペンチニル基，２−ペンチニル基，３
−ペンチニル基，４−ペンチニル基，３−メチル−１−
ブチニル基，２−メチル−３−ブチニル基，１−メチル
−２−ブチニル基，１−メチル−３−ブチニル基，１，
１−ジメチル−２−プロピニル基，１−ヘキシニル基，
２−ヘキシニル基，３−ヘキシニル基，４−ヘキシニル
基，５−ヘキシニル基等が例示される。「低級アルコキ
シ基，ヒドロキシ基又はハロゲン原子から選択される基
で置換されていてもよい炭素数２乃至５個の直鎖又は分
枝のアルキレン基」を構成する「炭素数２乃至５個の直
鎖又は分枝のアルキレン基」としては，具体的には，エ
チレン基，メチルメチレン基，トリメチレン基，プロピ
レン基，２−プロピレン基，ジメチルメチレン基，ブチ
レン基，テトラメチレン基，１−メチルトリメチレン
基，２−メチルトリメチレン基，３−メチルトリメチレ
ン基，１−エチルエチレン基，２−エチルエチレン基，
２，２−ジメチルエチレン基，１，１−ジメチルエチレ
ン基，エチルメチルメチレン基，ペンタメチレン基，１
−メチルテトラメチレン基，２−メチルテトラメチレン
基，３−メチルテトラメチレン基，４−メチルテトラメ
チレン基，１，１−ジメチルトリメチレン基，２，２−
ジメチルトリメチレン基，３，３−ジメチルトリメチレ
ン基，１，３−ジメチルトリメチレン基，２，３−ジメ
チルトリメチレン基，１，２−ジメチルトリメチレン
基，１，１，２−トリメチルエチレン基，ジエチルメチ
レン基等が挙げられ，これらのうち特に好ましいものは
エチレン基，プロピレン基，ブチレン基等直鎖のアルキ
レン基である。また，「低級アルコキシ基」としては，
メトキシ基，エトキシ基，プロポキシ基，イソプロポキ
シ基，ブトキシ基，イソブトキシ基，ｓｅｃ−ブトキシ
基，ｔｅｒｔ−ブトキシ基，ペンチルオキシ（アミルオ
キシ）基，イソペンチルオキシ基，ｔｅｒｔ−ペンチル
オキシ基，ネオペンンチルオキシ基，２−メチルブトキ
シ基，１，２−ジメチルプロポキシ基，１−エチルプロ
ポキシ基，ヘキシルオキシ基等が挙げられ，特にメトキ
シ基が好ましい。「ハロゲン原子」としては，フッ素原
子，塩素原子，臭素原子などが挙げられ，「トリハロゲ
ノメチル基」としてはメチル基の水素原子が前記「ハロ
ゲン原子」で３個置換された基を意味し，具体的にはト
リクロロメチル基，ジクロロフルオロメチル基，ジクロ
ロブロモメチル基，トリフルオロメチル基，ジフルオロ
クロロメチル基，ブロモジフルオロメチル基，トリブロ
モメチル基，ジブロモクロロメチル基，ジブロモフルオ
ロメチル基などが挙げられる。「低級アルキルチオ基」
としては，上記「低級アルコキシ基」の酸素原子が，硫
黄原子となったもので，具体的にはメチルチオ基，エチ
ルチオ基，プロピルチオ基，イソプロピルチオ基，ブチ
ルチオ基，ｓｅｃ−ブチルチオ基，ｔｅｒｔ−ブチルチ
オ基，ペンチルチオ基，ネオペンチルチオ基，２−メチ
ルブチルチオ基，１，２−ジメチルプロピルチオ基，１
−エチルプロピルチオ基，ヘキシルチオ基等が挙げられ
る。「モノ若しくはジ低級アルキルアミノ基」は，アミ
ノ基の一つ又は二つの水素原子が前記「低級アルキル
基」で置換された基を意味する。具体的にはメチルアミ
ノ基，エチルアミノ基，プロピルアミノ基，イソプロピ
ルアミノ基，ブチルアミノ基，イソブチルアミノ基，ペ
ンチルアミノ基，ヘキシルアミノ基，イソヘキシルアミ
ノ基等炭素数が１乃至６個の直鎖又は分岐状のアルキル
基で置換されたモノアルキルアミノ基，ジメチルアミノ
基，ジエチルアミノ基，ジプロピルアミノ基，ジイソプ
ロピルアミノ基，ジブチルアミノ基，ジペンチルアミノ
基，ジヘキシルアミノ基等炭素数が１乃至６個の直鎖又
は分岐状のアルキル基でジ置換された対称型のジアルキ
ルアミノ基，エチルメチルアミノ基，メチルプロピルア
ミノ基，エチルプロピルアミノ基，ブチルメチルアミノ
基，ブチルエチルアミノ基，ブチルプロピルアミノ基等
炭素数が１乃至６個の直鎖又は分岐状のアルキル基のう
ち相違なるアルキル基でジ置換された非対称型のジアル
キルアミノ基等が挙げられるが，特にジメチルアミノ基
が好ましい。また，本明細書の一般式の定義において，
「アリール基」は，特に断わらない限り，炭素環アリー
ル基またはヘテロ環アリール基の双方を意味するが，本
発明では炭素環アリール基が特に好ましい。これらの
「アリール基」は，さらに置換基として，ハロゲン原
子，低級アルコキシ基，アラルキルオキシ基，アリール
オキシ基，低級アルカノイル基，アラルキルカルボニル
基，アリールカルボニル基，シアノ基，ニトロ基，アミ
ノ基，又はモノ若しくはジ低級アルキルアミノ基から選
ばれた同一又は異なる基で１乃至３個置換されていても
よい。炭素環アリール基としては具体的にはフェニル
基，ナフチル基，アントリル基，フェナントリル基等が
挙げられるが，特に好ましいのはフェニル基，ナフチル
基である。また，ヘテロ環アリール基としては，ピロリ
ル基，フリル基，チエニル基，ピリジル基，ピリミジル
基，キノリル基，イソキノリル基，キナゾリニル基等が
挙げられる。
【００１４】本発明化合物（Ｉ）は，二重結合や不斉炭
素原子を有する場合があり，また，カルボニル基が存在
するので，それらの存在に基づく幾何異性体，光学異性
体などの立体異性体や互変異性体が存在する。本発明に
は，これら異性体の単離されたもの，あるいは混合物の
全てが含まれる。また，一般式（Ｉ）で示される本発明
化合物は塩を形成する。本発明には化合物（Ｉ）の塩が
含まれ，そのような塩としては，具体的には塩酸，臭化
水素酸，ヨウ化水素酸，硫酸，硝酸，リン酸等の鉱酸，
ギ酸，酢酸，プロピオン酸，シュウ酸，マロン酸，コハ
ク酸，フマール酸，マレイン酸，乳酸，リンゴ酸，酒石
酸，クエン酸，メタンスルホン酸，エタンスルホン酸や
アスパラギン酸，グルタミン酸等の酸性アミノ酸等の有
機酸との酸付加塩や，ナトリウム，カリウム，カルシウ
ム，マグネシウム，アルミニウムなどの金属との塩，メ
チルアミン，エチルアミン，ジメチルアミン，ジエチル
アミン，トリメチルアミン，トリエチルアミン，モノエ
タノールアミン，ジエタノールアミン，トリエタノール
アミン，シクロヘキシルアミンやリジン，オルニチンな
どのアミノ酸等の有機塩基との塩などが挙げられる。ま
た，本発明には，本発明化合物（Ｉ）の水和物，製薬学
的に許容される各種溶媒和物や結晶多形のもの等も含ま
れる。
素原子を有する場合があり，また，カルボニル基が存在
するので，それらの存在に基づく幾何異性体，光学異性
体などの立体異性体や互変異性体が存在する。本発明に
は，これら異性体の単離されたもの，あるいは混合物の
全てが含まれる。また，一般式（Ｉ）で示される本発明
化合物は塩を形成する。本発明には化合物（Ｉ）の塩が
含まれ，そのような塩としては，具体的には塩酸，臭化
水素酸，ヨウ化水素酸，硫酸，硝酸，リン酸等の鉱酸，
ギ酸，酢酸，プロピオン酸，シュウ酸，マロン酸，コハ
ク酸，フマール酸，マレイン酸，乳酸，リンゴ酸，酒石
酸，クエン酸，メタンスルホン酸，エタンスルホン酸や
アスパラギン酸，グルタミン酸等の酸性アミノ酸等の有
機酸との酸付加塩や，ナトリウム，カリウム，カルシウ
ム，マグネシウム，アルミニウムなどの金属との塩，メ
チルアミン，エチルアミン，ジメチルアミン，ジエチル
アミン，トリメチルアミン，トリエチルアミン，モノエ
タノールアミン，ジエタノールアミン，トリエタノール
アミン，シクロヘキシルアミンやリジン，オルニチンな
どのアミノ酸等の有機塩基との塩などが挙げられる。ま
た，本発明には，本発明化合物（Ｉ）の水和物，製薬学
的に許容される各種溶媒和物や結晶多形のもの等も含ま
れる。
【００１５】本発明化合物（Ｉ）のうち，特に好ましい
化合物を例示すれば，以下の通りである。 （１）４−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］安息香酸 （２）４−［４−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）ブトキシ］安息香酸 （３）４−［２−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）エトキシ］安息香酸 （４）３−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］安息香酸 （５）３−［４−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）ブトキシ］安息香酸 （６）２−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］安息香酸 （７）２−［４−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）ブトキシ］安息香酸 （８）６−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］−２−ナフトエ酸 （９）４−［２−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］桂皮酸 （１０）４−［３−（４−クロロフェニルスルホニルア
ミノ）プロポキシ］−３−メトキシ安息香酸 （１１）４−［３−（４−クロロフェニルスルホニルア
ミノ）−２−メトキシプロポキシ］安息香酸 （１２）４−［４−（４−クロロフェニルスルホニルア
ミノ）−１−ブテニル］安息香酸 （１３）４−［４−（４−クロロフェニルスルホニルア
ミノ）ブチル］安息香酸 （１４）４−［４−（４−ジメチルアミノフェニルスル
ホニルアミノ）ブチル］安息香酸 但し，当然のことながら，本発明は，上記（１）〜（１
４）の化合物に限定されるものではなく，一般式（Ｉ）
で示される化合物及び製薬学的に許容される塩の全てを
包含するものである。 （製造法）本発明化合物（Ｉ）は，基本骨格及び種々の
置換基の特徴を利用して種々の合成法を適用することに
よって製造することができる。以下に，その代表的製造
法を例示する。 第一製法（本発明化合物の原料化合物であるエステル体
の製造法） （ａ）
化合物を例示すれば，以下の通りである。 （１）４−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］安息香酸 （２）４−［４−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）ブトキシ］安息香酸 （３）４−［２−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）エトキシ］安息香酸 （４）３−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］安息香酸 （５）３−［４−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）ブトキシ］安息香酸 （６）２−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］安息香酸 （７）２−［４−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）ブトキシ］安息香酸 （８）６−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］−２−ナフトエ酸 （９）４−［２−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］桂皮酸 （１０）４−［３−（４−クロロフェニルスルホニルア
ミノ）プロポキシ］−３−メトキシ安息香酸 （１１）４−［３−（４−クロロフェニルスルホニルア
ミノ）−２−メトキシプロポキシ］安息香酸 （１２）４−［４−（４−クロロフェニルスルホニルア
ミノ）−１−ブテニル］安息香酸 （１３）４−［４−（４−クロロフェニルスルホニルア
ミノ）ブチル］安息香酸 （１４）４−［４−（４−ジメチルアミノフェニルスル
ホニルアミノ）ブチル］安息香酸 但し，当然のことながら，本発明は，上記（１）〜（１
４）の化合物に限定されるものではなく，一般式（Ｉ）
で示される化合物及び製薬学的に許容される塩の全てを
包含するものである。 （製造法）本発明化合物（Ｉ）は，基本骨格及び種々の
置換基の特徴を利用して種々の合成法を適用することに
よって製造することができる。以下に，その代表的製造
法を例示する。 第一製法（本発明化合物の原料化合物であるエステル体
の製造法） （ａ）
【化７】
【００１６】（上式中の各記号は，夫々下記の意味を有
する。 Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ａ1 ，Ａ2 及びＸ：前記と同様 Ｒ′：エステル残基 Ｈａｌ：ハロゲン原子，メチルスルホニルオキシ基，ト
リフルオロメチルスルホニルオキシ基，ｐ−トルエンス
ルホニルオキシ基等の反応性基） 本発明化合物（Ｉ）の原料化合物である，上式中（IV
a）で示されるエステル体は，式（IIa）で示される水酸
基を有する化合物と，式（IIIa）で示される反応性基を
有する化合物とを反応させることにより得ることができ
る。本反応は，アセトン，２−ブタノン，テトラヒドロ
フラン，ジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキシ
ド，１，４−ジオキサン等の溶媒中，必要により炭酸カ
リウム，水素化ナトリウム，炭酸ナトリウム，ｎ−ブチ
ルリチウム，炭酸セシウム等の塩基の存在下，室温乃至
加熱還流下で行なわれることが望ましい。 （ｂ）
する。 Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ａ1 ，Ａ2 及びＸ：前記と同様 Ｒ′：エステル残基 Ｈａｌ：ハロゲン原子，メチルスルホニルオキシ基，ト
リフルオロメチルスルホニルオキシ基，ｐ−トルエンス
ルホニルオキシ基等の反応性基） 本発明化合物（Ｉ）の原料化合物である，上式中（IV
a）で示されるエステル体は，式（IIa）で示される水酸
基を有する化合物と，式（IIIa）で示される反応性基を
有する化合物とを反応させることにより得ることができ
る。本反応は，アセトン，２−ブタノン，テトラヒドロ
フラン，ジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキシ
ド，１，４−ジオキサン等の溶媒中，必要により炭酸カ
リウム，水素化ナトリウム，炭酸ナトリウム，ｎ−ブチ
ルリチウム，炭酸セシウム等の塩基の存在下，室温乃至
加熱還流下で行なわれることが望ましい。 （ｂ）
【００１７】
【化８】
【００１８】（上式中の各記号は，前記と同様の意味を
有する。）また，式（IV）で示される化合物は，式（II
b）で示されるアミンと，式（IIIb）で示される水酸基
を有する化合物もしくはその反応性誘導体とを反応させ
ることにより製造することも可能である。本反応は，
水，ジクロロメタン，トリクロロメタン，酢酸エチル，
アセトン，２−ブタノン，ベンゼン，トルエン，テトラ
ヒドロフラン，１，４−ジオキサン等の溶媒中，必要に
より水酸化ナトリウム，炭酸カリウム，炭酸ナトリウ
ム，炭酸水素ナトリウム，炭酸水素カリウム，水酸化カ
リウム，トリエチルアミン，ピリジン等の塩基の存在
下，０℃乃至加熱還流下，通常０℃乃至室温下で行なわ
れることが望ましい。 （ｃ）
有する。）また，式（IV）で示される化合物は，式（II
b）で示されるアミンと，式（IIIb）で示される水酸基
を有する化合物もしくはその反応性誘導体とを反応させ
ることにより製造することも可能である。本反応は，
水，ジクロロメタン，トリクロロメタン，酢酸エチル，
アセトン，２−ブタノン，ベンゼン，トルエン，テトラ
ヒドロフラン，１，４−ジオキサン等の溶媒中，必要に
より水酸化ナトリウム，炭酸カリウム，炭酸ナトリウ
ム，炭酸水素ナトリウム，炭酸水素カリウム，水酸化カ
リウム，トリエチルアミン，ピリジン等の塩基の存在
下，０℃乃至加熱還流下，通常０℃乃至室温下で行なわ
れることが望ましい。 （ｃ）
【００１９】
【化９】
【００２０】（上式中の各記号は，前記と同様の意味を
有する。）更に式（IV）で示される化合物は，式（II
c）で示される反応性基を有する化合物と，式（IIIc）
で示されるアミンとを反応させることにより製造するこ
とも可能である。本反応は，前記（ａ）とほぼ同様な条
件で行なわれることが望ましい。以上，（ａ）〜（ｃ）
に，本発明化合物（Ｉ）の原料化合物であるエステル体
（IVa）又は (IV) の製造法について説明したが，式 (I
Va) 又は (IV) で示される化合物は，これらの方法に加
え，その他の製造法として，置換基の修飾や炭素鎖の酸
化還元等の常法又はその変法を適用して製造することも
可能である。
有する。）更に式（IV）で示される化合物は，式（II
c）で示される反応性基を有する化合物と，式（IIIc）
で示されるアミンとを反応させることにより製造するこ
とも可能である。本反応は，前記（ａ）とほぼ同様な条
件で行なわれることが望ましい。以上，（ａ）〜（ｃ）
に，本発明化合物（Ｉ）の原料化合物であるエステル体
（IVa）又は (IV) の製造法について説明したが，式 (I
Va) 又は (IV) で示される化合物は，これらの方法に加
え，その他の製造法として，置換基の修飾や炭素鎖の酸
化還元等の常法又はその変法を適用して製造することも
可能である。
【００２１】第二製法（エステル加水分解反応）
【００２２】
【化１０】
【００２３】（上式中の各記号は，夫々前記と同様の意
味を有する。）一般式（Ｉ）で示される，遊離カルボン
酸である本発明化合物は，対応する前記第一製法で得ら
れるエステル化合物（IV）の加水分解によって容易に製
造することができる。この反応においては，炭酸ナトリ
ウム，水酸化ナトリウム等の塩基又はトリフルオロ酢
酸，塩酸等の酸の存在下に加水分解する常法が適用でき
る。このようにして製造された本発明化合物（Ｉ）は，
抽出，再結晶，カラムクロマトグラフィー等のこの分野
において通常用いられる化学操作を適用して単離・精製
される。また，本発明化合物の塩は，通常の造塩反応に
付すことにより容易に得ることが可能である。
味を有する。）一般式（Ｉ）で示される，遊離カルボン
酸である本発明化合物は，対応する前記第一製法で得ら
れるエステル化合物（IV）の加水分解によって容易に製
造することができる。この反応においては，炭酸ナトリ
ウム，水酸化ナトリウム等の塩基又はトリフルオロ酢
酸，塩酸等の酸の存在下に加水分解する常法が適用でき
る。このようにして製造された本発明化合物（Ｉ）は，
抽出，再結晶，カラムクロマトグラフィー等のこの分野
において通常用いられる化学操作を適用して単離・精製
される。また，本発明化合物の塩は，通常の造塩反応に
付すことにより容易に得ることが可能である。
【００２４】
【発明の効果】本発明化合物（Ｉ）又はその塩は，ＴＸ
Ａ2 拮抗作用をもつものであり，ＴＸＡ2 に起因する疾
患，特にＴＸＡ2 が関与する疾患の予防，治療剤として
有用である。従って，本発明化合物（Ｉ）は抗喘息剤，
腎炎の治療剤，虚血性心・脳疾患，血栓症，ショック症
状の緩和剤等として臨床上有用な薬剤となりうる。
Ａ2 拮抗作用をもつものであり，ＴＸＡ2 に起因する疾
患，特にＴＸＡ2 が関与する疾患の予防，治療剤として
有用である。従って，本発明化合物（Ｉ）は抗喘息剤，
腎炎の治療剤，虚血性心・脳疾患，血栓症，ショック症
状の緩和剤等として臨床上有用な薬剤となりうる。
【００２５】本発明の化合物のＴＸＡ2 拮抗作用はつぎ
の方法によって確認されたものである。Ｕ−４６６１９に起因する血小板凝集に対する抑制試験 試験方法：体重約８００ｇの雄性ハートレイ系モルモッ
トの腹部大静脈より３．８％クエン酸ナトリウム水溶液
を１容入れたプラスチックシリンジに血液を９容採取し
た。血液を２７０×ｇで１０分間遠心することにより富
血小板血漿（ＰＲＰ：platelet rich plasma）とし，残
りの血液をさらに１１００×ｇで１５分間遠心して乏血
小板血漿（ＰＰＰ：platelet poor plasma）を得た。Ｐ
ＲＰをＰＰＰで希釈して血小板数を５０万個／μｌに調
製した後，ＴＸＡ2 の安定なアナログであるＵ−４６６
１９（化学名：９，１１−ジデオキシ−９α，１１α−
メタノエポキシ−プロスタグランディン Ｆ2α）によ
る血小板凝集をボーンとクロス「ジャーナル オブ フ
ィジオロジー，第１６８巻，第１７８〜１９５頁（１９
６３年）」の方法により測定した。すなわち，ＮＢＳヘ
マトレーサー（二光バイオサイエンス）を用い，Ｕ−４
６６１９（１０-6 ｏｒ ５×１０-7Ｍ）によるＰＲＰの
光透過度の変化を測定した。なお，化合物はＵ−４６６
１９添加の２分前に加え，対照におけるＵ−４６６１９
による最大光透過度に対する抑制率からＩＣ50値（５０
％抑制濃度）を求めた。
の方法によって確認されたものである。Ｕ−４６６１９に起因する血小板凝集に対する抑制試験 試験方法：体重約８００ｇの雄性ハートレイ系モルモッ
トの腹部大静脈より３．８％クエン酸ナトリウム水溶液
を１容入れたプラスチックシリンジに血液を９容採取し
た。血液を２７０×ｇで１０分間遠心することにより富
血小板血漿（ＰＲＰ：platelet rich plasma）とし，残
りの血液をさらに１１００×ｇで１５分間遠心して乏血
小板血漿（ＰＰＰ：platelet poor plasma）を得た。Ｐ
ＲＰをＰＰＰで希釈して血小板数を５０万個／μｌに調
製した後，ＴＸＡ2 の安定なアナログであるＵ−４６６
１９（化学名：９，１１−ジデオキシ−９α，１１α−
メタノエポキシ−プロスタグランディン Ｆ2α）によ
る血小板凝集をボーンとクロス「ジャーナル オブ フ
ィジオロジー，第１６８巻，第１７８〜１９５頁（１９
６３年）」の方法により測定した。すなわち，ＮＢＳヘ
マトレーサー（二光バイオサイエンス）を用い，Ｕ−４
６６１９（１０-6 ｏｒ ５×１０-7Ｍ）によるＰＲＰの
光透過度の変化を測定した。なお，化合物はＵ−４６６
１９添加の２分前に加え，対照におけるＵ−４６６１９
による最大光透過度に対する抑制率からＩＣ50値（５０
％抑制濃度）を求めた。
【００２６】
【実施例】以下実施例により，本発明化合物の製造法に
ついて更に詳細に説明する。なお，本発明化合物の原料
化合物の製造法についても，参考例として説明する。
ついて更に詳細に説明する。なお，本発明化合物の原料
化合物の製造法についても，参考例として説明する。
【００２７】参考例１ ３−ブロモプロピルアミン臭化水素塩（３．２８ｇ，１
５．０ｍｍｏｌ），４−クロロベンゼンスルホニルクロ
リド（３．１７ｇ，１５．０ｍｍｏｌ），酢酸エチル
（８０ｍｌ）の混合物に，氷冷下，炭酸水素ナトリウム
（２．６９ｇ，３２．０ｍｍｏｌ），と水（２５ｍｌ）
を加え，室温下３時間撹拌した。反応生成物を酢酸エチ
ルで抽出し，抽出液を塩化アンモニウム飽和水溶液，飽
和食塩水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後，
減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製して，Ｎ−（３−ブロモプロピル）−４−ク
ロロベンゼンスルホンアミド（４．５８ｇ，１４．７ｍ
ｍｏｌ）を得た。
５．０ｍｍｏｌ），４−クロロベンゼンスルホニルクロ
リド（３．１７ｇ，１５．０ｍｍｏｌ），酢酸エチル
（８０ｍｌ）の混合物に，氷冷下，炭酸水素ナトリウム
（２．６９ｇ，３２．０ｍｍｏｌ），と水（２５ｍｌ）
を加え，室温下３時間撹拌した。反応生成物を酢酸エチ
ルで抽出し，抽出液を塩化アンモニウム飽和水溶液，飽
和食塩水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後，
減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製して，Ｎ−（３−ブロモプロピル）−４−ク
ロロベンゼンスルホンアミド（４．５８ｇ，１４．７ｍ
ｍｏｌ）を得た。
【００２８】参考例２ ６０％油性水素化ナトリウム（５９０ｍｇ，１４．８ｍ
ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）
の混合物に氷冷下４−ヒドロキシ安息香酸メチル（４．
５０ｇ，２９．６ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（３０ｍｌ）の混合物を滴下した。室温で３０分
撹拌後，反応液にＮ−（２，３−エポキシプロピル）フ
タルイミド（３．００ｇ，１４．８ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）の混合物を滴下
し，１００℃で２０時間撹拌した。放冷後反応液を氷水
中に注ぎ，反応生成物を酢酸エチルで抽出した。抽出液
を１−規定水酸化ナトリウム水溶液，水，飽和食塩水で
順次洗浄し，無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下濃縮
した。得られた残渣をエタノールから再結晶して４−
（２−ヒドロキシ−３−フタルイミドプロポキシ）安息
香酸メチル（２．０５ｇ，５．７７ｍｍｏｌ）を得た。
ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）
の混合物に氷冷下４−ヒドロキシ安息香酸メチル（４．
５０ｇ，２９．６ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（３０ｍｌ）の混合物を滴下した。室温で３０分
撹拌後，反応液にＮ−（２，３−エポキシプロピル）フ
タルイミド（３．００ｇ，１４．８ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）の混合物を滴下
し，１００℃で２０時間撹拌した。放冷後反応液を氷水
中に注ぎ，反応生成物を酢酸エチルで抽出した。抽出液
を１−規定水酸化ナトリウム水溶液，水，飽和食塩水で
順次洗浄し，無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下濃縮
した。得られた残渣をエタノールから再結晶して４−
（２−ヒドロキシ−３−フタルイミドプロポキシ）安息
香酸メチル（２．０５ｇ，５．７７ｍｍｏｌ）を得た。
【００２９】参考例３ ６０％油性水素化ナトリウム（１６０ｍｇ，４．００ｍ
ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）
の混合物に氷冷下４−（２−ヒドロキシ−３−フタルイ
ミドプロポキシ）安息香酸メチル（１．２０ｇ，３．３
８ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍ
ｌ）の混合物を滴下し，得られた混合物を室温で１時間
撹拌した。再び氷冷した後，よう化メチル（６２０μ
ｌ，１０．５ｍｍｏｌ）を加え，室温で３時間撹拌し
た。反応液に水を加え，反応生成物を酢酸エチルで抽出
し，抽出液を水，飽和食塩水で順次洗浄後無水硫酸ナト
リウムで乾燥し，減圧下濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサン：
酢酸エチル＝３：１）で精製して，４−（２−メトキシ
−３−フタルイミドプロポキシ）安息香酸メチル（６７
３ｍｇ，１．８２ｍｍｏｌ）を得た。
ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）
の混合物に氷冷下４−（２−ヒドロキシ−３−フタルイ
ミドプロポキシ）安息香酸メチル（１．２０ｇ，３．３
８ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍ
ｌ）の混合物を滴下し，得られた混合物を室温で１時間
撹拌した。再び氷冷した後，よう化メチル（６２０μ
ｌ，１０．５ｍｍｏｌ）を加え，室温で３時間撹拌し
た。反応液に水を加え，反応生成物を酢酸エチルで抽出
し，抽出液を水，飽和食塩水で順次洗浄後無水硫酸ナト
リウムで乾燥し，減圧下濃縮した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液；ヘキサン：
酢酸エチル＝３：１）で精製して，４−（２−メトキシ
−３−フタルイミドプロポキシ）安息香酸メチル（６７
３ｍｇ，１．８２ｍｍｏｌ）を得た。
【００３０】参考例４ アルゴン雰囲気下，（３−フタルイミドプロピル）トリ
フェニルホスホニウム＝ブロミド（３．００ｇ，５．６
６ｍｍｏｌ），テレフタルアルデヒド酸メチル（８５０
ｍｇ，５．１８ｍｍｏｌ），メタノール（１０ｍｌ）の
混合物に撹拌下室温で２８％ナトリウムメトキシドメタ
ノール溶液（３．５０ｍｌ，１８．１ｍｍｏｌ）を一挙
に加えた。反応混合物を加熱還流下３時間撹拌した後，
放冷し，減圧下濃縮した。得られた残渣に水を加え，反
応生成物を酢酸エチルで抽出し，抽出液を水，飽和食塩
水で順次洗浄した後，無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減
圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製して，４−（４−フタルイミド−１−ブテニ
ル）安息香酸メチル（１．０２ｇ，３．０４ｍｍｏｌ）
を得た。
フェニルホスホニウム＝ブロミド（３．００ｇ，５．６
６ｍｍｏｌ），テレフタルアルデヒド酸メチル（８５０
ｍｇ，５．１８ｍｍｏｌ），メタノール（１０ｍｌ）の
混合物に撹拌下室温で２８％ナトリウムメトキシドメタ
ノール溶液（３．５０ｍｌ，１８．１ｍｍｏｌ）を一挙
に加えた。反応混合物を加熱還流下３時間撹拌した後，
放冷し，減圧下濃縮した。得られた残渣に水を加え，反
応生成物を酢酸エチルで抽出し，抽出液を水，飽和食塩
水で順次洗浄した後，無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減
圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製して，４−（４−フタルイミド−１−ブテニ
ル）安息香酸メチル（１．０２ｇ，３．０４ｍｍｏｌ）
を得た。
【００３１】参考例５ ４−（４−フタルイミド−１−ブテニル）安息香酸メチ
ル（１．２０ｇ，３．５８ｍｍｏｌ）をメタノール（２
０ｍｌ）と酢酸エチル（６０ｍｌ）の混液に溶かした溶
液に１０％パラジウム−炭素（１０ｍｇ）を加え得られ
た混合物を水素雰囲気下室温，常圧で１６０分撹拌し
た。不溶物を濾去し，減圧下濾液を濃縮して，４−（４
−フタルイミドブチル）安息香酸メチル（１．２２ｇ，
３．５８ｍｍｏｌ）を得た。
ル（１．２０ｇ，３．５８ｍｍｏｌ）をメタノール（２
０ｍｌ）と酢酸エチル（６０ｍｌ）の混液に溶かした溶
液に１０％パラジウム−炭素（１０ｍｇ）を加え得られ
た混合物を水素雰囲気下室温，常圧で１６０分撹拌し
た。不溶物を濾去し，減圧下濾液を濃縮して，４−（４
−フタルイミドブチル）安息香酸メチル（１．２２ｇ，
３．５８ｍｍｏｌ）を得た。
【００３２】参考例６ ４−（４−フタルイミド−１−ブテニル）安息香酸メチ
ル（３５５ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）をエタノール（５
ｍｌ）に溶解した溶液に，ヒドラジン１水和物（１５３
μｌ，３．００ｍｍｏｌ）を加え，加熱還流下１．５時
間撹拌した。反応液を放冷後減圧下濃縮し，得られた残
渣に２−規定塩酸１０ｍｌを加えて６０℃で１．５時間
撹拌し，放冷後不溶物を濾別し，濾液を減圧下濃縮して
４−（４−アミノブチル）安息香酸メチル・塩酸塩（２
４１ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）を得た。４−（４−アミ
ノブチル）安息香酸メチル・塩酸塩（２４１ｍｇ，１．
００ｍｍｏｌ），炭酸水素ナトリウム（２１０ｍｇ，
２．５０ｍｍｏｌ），テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ブロミド（５ｍｇ），ジクロロメタン（５ｍｌ），水
（５ｍｌ）の混合物に，氷冷下，４−ニトロベンゼンス
ルホニルクロリド（１９９ｍｇ，０．９００ｍｍｏｌ）
を加えた。得られた混合物を室温下３時間撹拌後，反応
生成物をジクロロメタンで抽出し，抽出液を１−規定塩
酸にて洗浄した後無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下
濃縮して，４−［４−（４−ニトロフェニルスルホニル
アミノ）−１−ブテニル］安息香酸メチル（３５２ｍ
ｇ，０．９００ｍｍｏｌ）を得た。
ル（３５５ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）をエタノール（５
ｍｌ）に溶解した溶液に，ヒドラジン１水和物（１５３
μｌ，３．００ｍｍｏｌ）を加え，加熱還流下１．５時
間撹拌した。反応液を放冷後減圧下濃縮し，得られた残
渣に２−規定塩酸１０ｍｌを加えて６０℃で１．５時間
撹拌し，放冷後不溶物を濾別し，濾液を減圧下濃縮して
４−（４−アミノブチル）安息香酸メチル・塩酸塩（２
４１ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）を得た。４−（４−アミ
ノブチル）安息香酸メチル・塩酸塩（２４１ｍｇ，１．
００ｍｍｏｌ），炭酸水素ナトリウム（２１０ｍｇ，
２．５０ｍｍｏｌ），テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ブロミド（５ｍｇ），ジクロロメタン（５ｍｌ），水
（５ｍｌ）の混合物に，氷冷下，４−ニトロベンゼンス
ルホニルクロリド（１９９ｍｇ，０．９００ｍｍｏｌ）
を加えた。得られた混合物を室温下３時間撹拌後，反応
生成物をジクロロメタンで抽出し，抽出液を１−規定塩
酸にて洗浄した後無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下
濃縮して，４−［４−（４−ニトロフェニルスルホニル
アミノ）−１−ブテニル］安息香酸メチル（３５２ｍ
ｇ，０．９００ｍｍｏｌ）を得た。
【００３３】参考例７ ４−［４−（４−ニトロフェニルスルホニルアミノ）−
１−ブテニル］安息香酸メチル（３２９ｍｇ，０．８４
０ｍｍｏｌ），メタノール（１０ｍｌ），酢酸エチル
（２０ｍｌ）の混合物に１０％パラジウム−炭素（１０
ｍｇ）を加え得られた混合物を水素雰囲気下室温，常圧
で１６時間撹拌した。不溶物を濾去し，減圧下濾液を濃
縮して，４−［４−（４−アミノフェニルスルホニルア
ミノ）ブチル］安息香酸メチル（２９２ｍｇ，０．８１
０ｍｍｏｌ）を得た。
１−ブテニル］安息香酸メチル（３２９ｍｇ，０．８４
０ｍｍｏｌ），メタノール（１０ｍｌ），酢酸エチル
（２０ｍｌ）の混合物に１０％パラジウム−炭素（１０
ｍｇ）を加え得られた混合物を水素雰囲気下室温，常圧
で１６時間撹拌した。不溶物を濾去し，減圧下濾液を濃
縮して，４−［４−（４−アミノフェニルスルホニルア
ミノ）ブチル］安息香酸メチル（２９２ｍｇ，０．８１
０ｍｍｏｌ）を得た。
【００３４】参考例８ 無水酢酸（２ｍｌ）と蟻酸（２ｍｌ）の混液を６０℃で
１時間撹拌した。得られた溶液を放冷後，４−［４−
（４−アミノフェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息
香酸メチル（２８２ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）に加え，
６０℃で２時間撹拌した。反応液を放冷後減圧下濃縮
し，ｎ−ヘキサン（１０ｍｌ）を加え１８時間放置後，
結晶を濾取し，４−［４−（４−ホルムアミドフェニル
スルホニルアミノ）ブチル］安息香酸メチル（２９８ｍ
ｇ，０．７６ｍｍｏｌ）を得た。４−［４−（４−ホル
ムアミドフェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息香酸
メチル（２９０ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ）をテトラヒド
ロフラン（５ｍｌ）に溶解した溶液を氷冷し，ボラン・
ジメチルスルフィド錯体（１７６μｌ，１．８６ｍｍｏ
ｌ）を滴下した後，室温で２時間撹拌した。反応液にメ
タノール（５ｍｌ）を加えた後減圧下濃縮し，１−規定
水酸化ナトリウム水溶液を加え，反応生成物をクロロホ
ルムで抽出し，抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し，減圧下濃縮して，４−［４−（４−メチルアミノフ
ェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息香酸メチル（１
６８ｍｇ，０．４５０ｍｍｏｌ）を得た。
１時間撹拌した。得られた溶液を放冷後，４−［４−
（４−アミノフェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息
香酸メチル（２８２ｍｇ，０．７８ｍｍｏｌ）に加え，
６０℃で２時間撹拌した。反応液を放冷後減圧下濃縮
し，ｎ−ヘキサン（１０ｍｌ）を加え１８時間放置後，
結晶を濾取し，４−［４−（４−ホルムアミドフェニル
スルホニルアミノ）ブチル］安息香酸メチル（２９８ｍ
ｇ，０．７６ｍｍｏｌ）を得た。４−［４−（４−ホル
ムアミドフェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息香酸
メチル（２９０ｍｇ，０．７４ｍｍｏｌ）をテトラヒド
ロフラン（５ｍｌ）に溶解した溶液を氷冷し，ボラン・
ジメチルスルフィド錯体（１７６μｌ，１．８６ｍｍｏ
ｌ）を滴下した後，室温で２時間撹拌した。反応液にメ
タノール（５ｍｌ）を加えた後減圧下濃縮し，１−規定
水酸化ナトリウム水溶液を加え，反応生成物をクロロホ
ルムで抽出し，抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し，減圧下濃縮して，４−［４−（４−メチルアミノフ
ェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息香酸メチル（１
６８ｍｇ，０．４５０ｍｍｏｌ）を得た。
【００３５】参考例９ 無水酢酸（２ｍｌ）と蟻酸（２ｍｌ）の混液を６０℃で
１時間撹拌した。得られた溶液を放冷後，４−［４−
（４−メチルアミノフェニルスルホニルアミノ）ブチ
ル］安息香酸メチル（１６８ｍｇ，０．４５０ｍｍｏ
ｌ）に加え，６０℃で２時間撹拌した。反応液を放冷後
減圧下濃縮し，ｎ−ヘキサン（１０ｍｌ）を加え１８時
間放置後，結晶を濾取し，４−［４−（４−（Ｎ−メチ
ルホルムアミド）フェニルスルホニルアミノ）ブチル］
安息香酸メチル（１８２ｍｇ，０．４５０ｍｍｏｌ）を
得た。４−［４−（４−（Ｎ−メチルホルムアミド）フ
ェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息香酸メチル（１
８２ｍｇ，０．４５０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン
（５ｍｌ）に溶解した溶液を氷冷し，ボラン・ジメチル
スルフィド錯体（１１０μｌ，１．１２ｍｍｏｌ）を滴
下した後，室温で２時間撹拌した。反応液にメタノール
（５ｍｌ）を加えた後減圧下濃縮し，１−規定水酸化ナ
トリウム水溶液を加え，反応生成物をクロロホルムで抽
出し，抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し，減圧下
濃縮して，４−［４−（４−ジメチルアミノフェニルス
ルホニルアミノ）ブチル］安息香酸メチル（１７５ｍ
ｇ，０．４５０ｍｍｏｌ）を得た。
１時間撹拌した。得られた溶液を放冷後，４−［４−
（４−メチルアミノフェニルスルホニルアミノ）ブチ
ル］安息香酸メチル（１６８ｍｇ，０．４５０ｍｍｏ
ｌ）に加え，６０℃で２時間撹拌した。反応液を放冷後
減圧下濃縮し，ｎ−ヘキサン（１０ｍｌ）を加え１８時
間放置後，結晶を濾取し，４−［４−（４−（Ｎ−メチ
ルホルムアミド）フェニルスルホニルアミノ）ブチル］
安息香酸メチル（１８２ｍｇ，０．４５０ｍｍｏｌ）を
得た。４−［４−（４−（Ｎ−メチルホルムアミド）フ
ェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息香酸メチル（１
８２ｍｇ，０．４５０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン
（５ｍｌ）に溶解した溶液を氷冷し，ボラン・ジメチル
スルフィド錯体（１１０μｌ，１．１２ｍｍｏｌ）を滴
下した後，室温で２時間撹拌した。反応液にメタノール
（５ｍｌ）を加えた後減圧下濃縮し，１−規定水酸化ナ
トリウム水溶液を加え，反応生成物をクロロホルムで抽
出し，抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥し，減圧下
濃縮して，４−［４−（４−ジメチルアミノフェニルス
ルホニルアミノ）ブチル］安息香酸メチル（１７５ｍ
ｇ，０．４５０ｍｍｏｌ）を得た。
【００３６】実施例１ Ｎ−（３−ブロモプロピル）−４−クロロベンゼンスル
ホンアミド（５０５ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ），４−ヒ
ドロキシ安息香酸メチル（２６０ｍｇ，１．７１ｍｍｏ
ｌ），炭酸カリウム（２７０ｍｇ，１．９５ｍｍｏ
ｌ），テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド（１ｍ
ｇ），２−ブタノン（８ｍｌ）の混合物を加熱還流下１
２時間撹拌した。放冷後反応液に水を加え，反応生成物
を酢酸エチルで抽出し，抽出液を水，飽和食塩水で順次
洗浄した後，無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下濃縮
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製
して，４−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］安息香酸メチル（４８６ｍｇ，１．２
７ｍｍｏｌ）を得た。この化合物をメタノール（８ｍ
ｌ），１０％水酸化ナトリウム水溶液（８ｍｌ）の混液
に溶解し，６０℃で４．５時間撹拌後放冷し，減圧下濃
縮した。得られた残渣を水（５ｍｌ）に溶解し，得られ
た溶液に濃塩酸を加えて液のｐＨを１以下にした。生成
した白沈を濾取，減圧下乾燥して，４−［３−（４−ク
ロロフェニルスルホニルアミノ）プロポキシ］安息香酸
（４７１ｍｇ，１．２２ｍｍｏｌ）を得た。
ホンアミド（５０５ｍｇ，１．６２ｍｍｏｌ），４−ヒ
ドロキシ安息香酸メチル（２６０ｍｇ，１．７１ｍｍｏ
ｌ），炭酸カリウム（２７０ｍｇ，１．９５ｍｍｏ
ｌ），テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド（１ｍ
ｇ），２−ブタノン（８ｍｌ）の混合物を加熱還流下１
２時間撹拌した。放冷後反応液に水を加え，反応生成物
を酢酸エチルで抽出し，抽出液を水，飽和食塩水で順次
洗浄した後，無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下濃縮
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製
して，４−［３−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）プロポキシ］安息香酸メチル（４８６ｍｇ，１．２
７ｍｍｏｌ）を得た。この化合物をメタノール（８ｍ
ｌ），１０％水酸化ナトリウム水溶液（８ｍｌ）の混液
に溶解し，６０℃で４．５時間撹拌後放冷し，減圧下濃
縮した。得られた残渣を水（５ｍｌ）に溶解し，得られ
た溶液に濃塩酸を加えて液のｐＨを１以下にした。生成
した白沈を濾取，減圧下乾燥して，４−［３−（４−ク
ロロフェニルスルホニルアミノ）プロポキシ］安息香酸
（４７１ｍｇ，１．２２ｍｍｏｌ）を得た。
【００３７】実施例２ ４−ヒドロキシ安息香酸メチル（５．００ｇ，３２．９
ｍｍｏｌ），炭酸カリウム（５．４５ｇ，３９．４ｍｍ
ｏｌ），Ｎ−（４−ブロモメチル）フタルイミド（８．
３４ｇ，２９．６ｍｍｏｌ），テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウムブロミド（１０ｍｇ），２−ブタノン（７０ｍ
ｌ）の混合物を加熱還流下１２時間撹拌した。放冷後反
応液に水を加え，反応生成物を酢酸エチルで抽出し，抽
出液を１０％炭酸カリウム水溶液，水，飽和食塩水で順
次洗浄した後，無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下濃
縮した。得られた残渣を２−プロパノールから再結晶し
て４−（４−フタルイミドブトキシ）安息香酸メチル
（７．８４ｇ，２２．２ｍｍｏｌ）を得た。４−（４−
フタルイミドブトキシ）安息香酸メチル（１．１０ｇ，
３．１１ｍｍｏｌ）をエタノール（８ｍｌ）に溶解した
溶液に，ヒドラジン１水和物（１６５μｌ，３．４０ｍ
ｍｏｌ）を加え，加熱還流下２時間撹拌した。反応液を
放冷後減圧下濃縮し，得られた残渣に２−規定塩酸１０
ｍｌを加えて６０℃で２０分撹拌し，放冷後不溶物を濾
別し，濾液を減圧下濃縮して４−（４−アミノブトキ
シ）安息香酸メチル・塩酸塩（７９６ｍｇ，３．０６ｍ
ｍｏｌ）を得た。４−（４−アミノブトキシ）安息香酸
メチル・塩酸塩（７６０ｍｇ，２．９３ｍｍｏｌ），水
酸化ナトリウム（２６０ｍｇ，６．５０ｍｍｏｌ），テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド（１０ｍｇ），
ジクロロメタン（６ｍｌ），水（４ｍｌ）の混合物に，
氷冷下，４−クロロベンゼンスルホニルクロリド（５８
０ｍｇ，２．７５ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物
を室温下１時間撹拌後，濃塩酸を加えて，液のｐＨを１
以下として反応生成物をジクロロメタンで抽出し，抽出
液を１−規定塩酸，水，飽和食塩水で順次洗浄した後無
水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下濃縮して，４−［４
−（４−クロロフェニルスルホニルアミノ）ブトキシ］
安息香酸メチル（１．０４ｇ，２．６１ｍｍｏｌ）を得
た。４−［４−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）ブトキシ］安息香酸メチル（５１９ｍｇ，１．３０
ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ），１０％水酸化ナ
トリウム水溶液（１０ｍｌ）の混液に溶解し，得られた
溶液を６０℃で５時間撹拌した後放冷し，減圧下濃縮し
た。得られた残渣を水（５ｍｌ）に溶解し，この溶液に
濃塩酸を加えて液のｐＨを１以下として，生成した白沈
を濾取，減圧下乾燥して，４−［４−（４−クロロフェ
ニルスルホニルアミノ）ブトキシ］安息香酸（４４０ｍ
ｇ，１．１５ｍｍｏｌ）を得た。以下，同様にして，実
施例３〜１０の化合物を合成した（各化合物の化学名
は，下記表４〜７に，化学構造式と併記する）。
ｍｍｏｌ），炭酸カリウム（５．４５ｇ，３９．４ｍｍ
ｏｌ），Ｎ−（４−ブロモメチル）フタルイミド（８．
３４ｇ，２９．６ｍｍｏｌ），テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウムブロミド（１０ｍｇ），２−ブタノン（７０ｍ
ｌ）の混合物を加熱還流下１２時間撹拌した。放冷後反
応液に水を加え，反応生成物を酢酸エチルで抽出し，抽
出液を１０％炭酸カリウム水溶液，水，飽和食塩水で順
次洗浄した後，無水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下濃
縮した。得られた残渣を２−プロパノールから再結晶し
て４−（４−フタルイミドブトキシ）安息香酸メチル
（７．８４ｇ，２２．２ｍｍｏｌ）を得た。４−（４−
フタルイミドブトキシ）安息香酸メチル（１．１０ｇ，
３．１１ｍｍｏｌ）をエタノール（８ｍｌ）に溶解した
溶液に，ヒドラジン１水和物（１６５μｌ，３．４０ｍ
ｍｏｌ）を加え，加熱還流下２時間撹拌した。反応液を
放冷後減圧下濃縮し，得られた残渣に２−規定塩酸１０
ｍｌを加えて６０℃で２０分撹拌し，放冷後不溶物を濾
別し，濾液を減圧下濃縮して４−（４−アミノブトキ
シ）安息香酸メチル・塩酸塩（７９６ｍｇ，３．０６ｍ
ｍｏｌ）を得た。４−（４−アミノブトキシ）安息香酸
メチル・塩酸塩（７６０ｍｇ，２．９３ｍｍｏｌ），水
酸化ナトリウム（２６０ｍｇ，６．５０ｍｍｏｌ），テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド（１０ｍｇ），
ジクロロメタン（６ｍｌ），水（４ｍｌ）の混合物に，
氷冷下，４−クロロベンゼンスルホニルクロリド（５８
０ｍｇ，２．７５ｍｍｏｌ）を加えた。得られた混合物
を室温下１時間撹拌後，濃塩酸を加えて，液のｐＨを１
以下として反応生成物をジクロロメタンで抽出し，抽出
液を１−規定塩酸，水，飽和食塩水で順次洗浄した後無
水硫酸ナトリウムで乾燥し，減圧下濃縮して，４−［４
−（４−クロロフェニルスルホニルアミノ）ブトキシ］
安息香酸メチル（１．０４ｇ，２．６１ｍｍｏｌ）を得
た。４−［４−（４−クロロフェニルスルホニルアミ
ノ）ブトキシ］安息香酸メチル（５１９ｍｇ，１．３０
ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ），１０％水酸化ナ
トリウム水溶液（１０ｍｌ）の混液に溶解し，得られた
溶液を６０℃で５時間撹拌した後放冷し，減圧下濃縮し
た。得られた残渣を水（５ｍｌ）に溶解し，この溶液に
濃塩酸を加えて液のｐＨを１以下として，生成した白沈
を濾取，減圧下乾燥して，４−［４−（４−クロロフェ
ニルスルホニルアミノ）ブトキシ］安息香酸（４４０ｍ
ｇ，１．１５ｍｍｏｌ）を得た。以下，同様にして，実
施例３〜１０の化合物を合成した（各化合物の化学名
は，下記表４〜７に，化学構造式と併記する）。
【００３８】実施例１１ ４−（２−メトキシ−３−フタルイミドプロポキシ）安
息香酸メチル（６６６ｍｇ，１．８０ｍｍｏｌ）をエタ
ノール（８ｍｌ）に溶解した溶液に，ヒドラジン１水和
物（９６μｌ，１．９８ｍｍｏｌ）を加え，加熱還流下
３時間撹拌した。反応液を放冷後減圧下濃縮し，得られ
た残渣に２−規定塩酸１０ｍｌを加えて６０℃で３０分
撹拌し，放冷後不溶物を濾別し，濾液を減圧下濃縮して
４−（３−アミノ−２−メトキシプロポキシ）安息香酸
メチル・塩酸塩（５０７ｍｇ）を得た。４−（３−アミ
ノ−２−メトキシプロキシ）安息香酸メチル・塩酸塩
（５０４ｍｇ），炭酸水素ナトリウム（３９０ｍｇ，
４．６４ｍｍｏｌ），ジクロロメタン（１５ｍｌ），水
（１５ｍｌ）の混合物に，氷冷下，４−クロロベンゼン
スルホニルクロリド（３５０ｍｇ，１．６６ｍｍｏｌ）
を加えた。得られた混合物を室温下３時間撹拌後，反応
生成物をジクロロメタンで抽出し，抽出液を１−規定塩
酸，水，飽和食塩水で順次洗浄した後無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し，減圧下濃縮して，４−［３−（４−クロロ
フェニルスルホニルアミノ）−２−メトキシブトキシ］
安息香酸メチルを得た。この化合物をメタノール（１５
ｍｌ），１０％水酸化ナトリウム水溶液（１５ｍｌ）の
混液に溶解し，得られた溶液を６０℃で１２時間撹拌し
た後放冷し，減圧下濃縮した。得られた残渣を水（５ｍ
ｌ）に溶解し，この溶液に濃塩酸を加えて液のｐＨを１
以下として，生成した白沈を濾取，減圧下乾燥し，エタ
ノールから再結晶して，４−［３−（４−クロロフェニ
ルスルホニルアミノ）−２−メトキシプロポキシ］安息
香酸（４５１ｍｇ１．１３ｍｍｏｌ）を得た。以下，同
様にして，実施例１２及び１３の化合物を合成した（各
化合物の化学名は下記表７及び８に化学構造式と併記す
る）。
息香酸メチル（６６６ｍｇ，１．８０ｍｍｏｌ）をエタ
ノール（８ｍｌ）に溶解した溶液に，ヒドラジン１水和
物（９６μｌ，１．９８ｍｍｏｌ）を加え，加熱還流下
３時間撹拌した。反応液を放冷後減圧下濃縮し，得られ
た残渣に２−規定塩酸１０ｍｌを加えて６０℃で３０分
撹拌し，放冷後不溶物を濾別し，濾液を減圧下濃縮して
４−（３−アミノ−２−メトキシプロポキシ）安息香酸
メチル・塩酸塩（５０７ｍｇ）を得た。４−（３−アミ
ノ−２−メトキシプロキシ）安息香酸メチル・塩酸塩
（５０４ｍｇ），炭酸水素ナトリウム（３９０ｍｇ，
４．６４ｍｍｏｌ），ジクロロメタン（１５ｍｌ），水
（１５ｍｌ）の混合物に，氷冷下，４−クロロベンゼン
スルホニルクロリド（３５０ｍｇ，１．６６ｍｍｏｌ）
を加えた。得られた混合物を室温下３時間撹拌後，反応
生成物をジクロロメタンで抽出し，抽出液を１−規定塩
酸，水，飽和食塩水で順次洗浄した後無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し，減圧下濃縮して，４−［３−（４−クロロ
フェニルスルホニルアミノ）−２−メトキシブトキシ］
安息香酸メチルを得た。この化合物をメタノール（１５
ｍｌ），１０％水酸化ナトリウム水溶液（１５ｍｌ）の
混液に溶解し，得られた溶液を６０℃で１２時間撹拌し
た後放冷し，減圧下濃縮した。得られた残渣を水（５ｍ
ｌ）に溶解し，この溶液に濃塩酸を加えて液のｐＨを１
以下として，生成した白沈を濾取，減圧下乾燥し，エタ
ノールから再結晶して，４−［３−（４−クロロフェニ
ルスルホニルアミノ）−２−メトキシプロポキシ］安息
香酸（４５１ｍｇ１．１３ｍｍｏｌ）を得た。以下，同
様にして，実施例１２及び１３の化合物を合成した（各
化合物の化学名は下記表７及び８に化学構造式と併記す
る）。
【００３９】実施例１４ ４−［４−（４−ジメチルアミノフェニルスルホニルア
ミノ）ブチル］安息香酸メチル（１７５ｍｇ，０．４５
０ｍｍｏｌ）に水酸化カリウム（１５０ｍｇ，２．６７
ｍｍｏｌ），水（５ｍｌ），メタノール（５ｍｌ）の溶
液を加え，５０℃で３時間撹拌した。反応液を放冷後，
減圧下メタノールを留去し，１−規定塩酸を加えて液の
ｐＨを２とした。反応生成物をクロロホルム：イソプロ
パノール＝３：１の混合溶媒で抽出し，抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥して，溶媒を減圧下留去し，得ら
れた残渣にｎ−ヘキサン（１０ｍｌ）を加え１８時間放
置後，結晶を濾取して４−［４−（４−ジメチルアミノ
フェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息香酸（１５３
ｍｇ，０．４１０ｍｍｏｌ）を得た。以下，表１〜８
に，上記参考例及び実施例により得られた化合物の化学
構造式，化学名及び理化学的性状を掲記する。なお，表
９には本発明の別の化合物（実施例Ａ−１〜４）の化学
構造式を掲記する。これらの各化合物は夫々前記参考例
２，６，７及び８で得られた化合物を原料とし，前記実
施例に記載の方法と同様にして極めて容易に合成し得る
ものであり，格別の実験を必要としないものである。
ミノ）ブチル］安息香酸メチル（１７５ｍｇ，０．４５
０ｍｍｏｌ）に水酸化カリウム（１５０ｍｇ，２．６７
ｍｍｏｌ），水（５ｍｌ），メタノール（５ｍｌ）の溶
液を加え，５０℃で３時間撹拌した。反応液を放冷後，
減圧下メタノールを留去し，１−規定塩酸を加えて液の
ｐＨを２とした。反応生成物をクロロホルム：イソプロ
パノール＝３：１の混合溶媒で抽出し，抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥して，溶媒を減圧下留去し，得ら
れた残渣にｎ−ヘキサン（１０ｍｌ）を加え１８時間放
置後，結晶を濾取して４−［４−（４−ジメチルアミノ
フェニルスルホニルアミノ）ブチル］安息香酸（１５３
ｍｇ，０．４１０ｍｍｏｌ）を得た。以下，表１〜８
に，上記参考例及び実施例により得られた化合物の化学
構造式，化学名及び理化学的性状を掲記する。なお，表
９には本発明の別の化合物（実施例Ａ−１〜４）の化学
構造式を掲記する。これらの各化合物は夫々前記参考例
２，６，７及び８で得られた化合物を原料とし，前記実
施例に記載の方法と同様にして極めて容易に合成し得る
ものであり，格別の実験を必要としないものである。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【００４２】
【表３】
【００４３】
【表４】
【００４４】
【表５】
【００４５】
【表６】
【００４６】
【表７】
【００４７】
【表８】
【００４８】
【表９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/395 ＡＢＳ 7431−4Ｃ 31/415 7431−4Ｃ
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で示される新規なフェ
ニルスルファミド誘導体又はその塩 【化１】 ［式中の各記号は，夫々下記の意味を有する。 【化２】 Ｘ：酸素原子，エチレン基（−ＣＨ2 ＣＨ2 −）又はビ
ニレン基（−ＣＨ＝ＣＨ−） Ａ1 ：低級アルコキシ基，ヒドロキシ基又はハロゲン原
子から選択される基で置換されていてもよい炭素数２乃
至５個の直鎖又は分枝のアルキレン基 Ａ2 ：単結合又はビニレン基 Ｒ1 ，Ｒ2 ：同一又は異って，水素原子，低級アルキル
基，低級アルケニル基，低級アルキニル基，ハロゲン原
子，低級アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，アミノ
基，モノ−又はジ−低級アルキルアミノ基，水酸基，低
級アルキルチオ基，トリハロゲノメチル基又はカルバモ
イル基から選択される１乃至３個の置換基。］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12789793A JPH06312973A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 新規なフェニルスルファミド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12789793A JPH06312973A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 新規なフェニルスルファミド誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06312973A true JPH06312973A (ja) | 1994-11-08 |
Family
ID=14971371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12789793A Pending JPH06312973A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 新規なフェニルスルファミド誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06312973A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997019919A1 (fr) * | 1995-11-30 | 1997-06-05 | C & C Research Laboratories | Derives de sulfamides |
-
1993
- 1993-04-30 JP JP12789793A patent/JPH06312973A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997019919A1 (fr) * | 1995-11-30 | 1997-06-05 | C & C Research Laboratories | Derives de sulfamides |
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