JPH06310953A - Matching circuit - Google Patents

Matching circuit

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JPH06310953A
JPH06310953A JP9303993A JP9303993A JPH06310953A JP H06310953 A JPH06310953 A JP H06310953A JP 9303993 A JP9303993 A JP 9303993A JP 9303993 A JP9303993 A JP 9303993A JP H06310953 A JPH06310953 A JP H06310953A
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JP
Japan
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electrode
matching circuit
output
capacitor
inductor
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Application number
JP9303993A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeyuki Murai
成行 村井
Tsutomu Yamaguchi
勤 山口
Masaaki Nakatani
政明 中谷
Yasoo Harada
八十雄 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent the distortion in an output waveform and the reduction in a linear output even when a voltage applied to a drain electrode of a field effect transistor(TR) is changed. CONSTITUTION:The circuit is made up of an inductor L2 and capacitors C1, C2 giving a load impedance to a FET. In this matching circuit, a cathode electrode of the capacitor C1 is made up of a varactor diode whose cathode electrode connects to other terminal of the inductor whose one terminal connects to a drain electrode of the FET and whose anode electrode connects to ground.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は携帯電話機等の電力増幅
器に用いられる出力側の整合回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an output side matching circuit used in a power amplifier of a mobile phone or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯電話機の小型,軽量化のため電池自
体も小型化され、低電圧化されるに伴い、使用する各種
電子部品についても低電圧で正常に動作することが要求
されている。図4は従来の携帯電話機における電力増幅
器に用いられる電界効果トランジスタ出力整合回路を含
むモノリシック集積回路の回路図であり、図4において
RFINは高周波の入力端子,RFOUTは同じく高周
波の出力端子を示している。前記入力端子RFINは抵
抗Rの一端に接続されると共に、電界効果トランジスタ
(以下FETと称す)のゲートに接続されている。
2. Description of the Related Art In order to reduce the size and weight of a mobile phone, the battery itself has been downsized and the voltage has been lowered, so that various electronic parts to be used are required to operate normally at a low voltage. FIG. 4 is a circuit diagram of a monolithic integrated circuit including a field effect transistor output matching circuit used for a power amplifier in a conventional mobile phone. In FIG. 4, RFIN indicates a high frequency input terminal and RFOUT indicates a high frequency output terminal. There is. The input terminal RFIN is connected to one end of the resistor R and is also connected to the gate of a field effect transistor (hereinafter referred to as FET).

【0003】抵抗Rの他端にはゲートバイアス電圧VG
が印加されている。FETはそのソース電極が接地さ
れ、ドレイン電極はインダクタL1 を介在させて電源電
圧VDDに接続されると共に、負荷インピーダンスを与え
る出力整合回路に接続されている。出力整合回路は一端
がドレイン電極に接続されたインダクタL2 及び各一方
の電極をインダクタL2 に接続したキャパシタC3 ,C
2 を備えており、キャパシタC3 の他方の電極は接地さ
れ、またキャパシタC2 の他方の電極は高周波の出力端
子RFOUTに接続されている。
The gate bias voltage V G is applied to the other end of the resistor R.
Is being applied. The source electrode of the FET is grounded, and the drain electrode is connected to the power supply voltage V DD through the inductor L 1 and is also connected to the output matching circuit that provides the load impedance. Capacitor C 3 output matching circuit connected to the inductor L 2 and the one electrode of which one end is connected to the drain electrode to the inductor L 2, C
2 , the other electrode of the capacitor C 3 is grounded, and the other electrode of the capacitor C 2 is connected to the high frequency output terminal RFOUT.

【0004】図5は図4に示した出力整合回路を構成す
る各部品のレイアウトを示す断面構造図であり、図中21
は半絶縁性GaAs基板を示している。半絶縁性GaAs基板21
の表面には出力整合回路を構成するインダクタL2 及び
キャパシタC3 ,C2 が形成されている。キャパシタC
3 ,C2 夫々の各一方の電極22,23 は半絶縁性GaAs基板
21の表面に僅かな間隙を隔てて並列形成され、これら両
電極22,23 にわたしてこれらの一部に重なるよう絶縁膜
24を積層し、更にこの絶縁膜24上に夫々前記電極22,23
と重ねて電極25,26 を積層してキャパシタC3 ,C2
形成してある。
FIG. 5 is a cross-sectional structural view showing the layout of each part constituting the output matching circuit shown in FIG.
Indicates a semi-insulating GaAs substrate. Semi-insulating GaAs substrate 21
An inductor L 2 and capacitors C 3 and C 2 forming an output matching circuit are formed on the surface of the. Capacitor C
Electrodes 22 and 23 of each one of 3 and C 2 are semi-insulating GaAs substrate
Insulating films are formed in parallel on the surface of 21 with a slight gap between them so as to overlap these electrodes 22 and 23 and a part of them.
24 is laminated, and the electrodes 22 and 23 are respectively formed on the insulating film 24.
Electrodes 25 and 26 are stacked on top of each other to form capacitors C 3 and C 2 .

【0005】キャパシタC3 の電極25の一部は半絶縁性
GaAs基板21の表面上を延在させ、この延在させた部分の
電極25上にポリイミド樹脂27を隔ててインダクタL2
構成する金属製の線状部28が螺旋状に形成されている。
このような電力増幅回路にあっては、入力端子RFIN
から入力された信号はFETで増幅され、出力整合回路
を経て出力端子RFOUTから出力される。ところで出
力端子RFOUTからの出力信号波形は出力整合回路に
よって決まる負荷インピーダンスとFETの静特性とに
より規制される。
A part of the electrode 25 of the capacitor C 3 is semi-insulating.
On the surface of the GaAs substrate 21, a linear portion 28 made of metal that forms the inductor L 2 is spirally formed on the extended portion of the electrode 25 with a polyimide resin 27 therebetween.
In such a power amplifier circuit, the input terminal RFIN
The signal input from is amplified by the FET, passes through the output matching circuit, and is output from the output terminal RFOUT. By the way, the output signal waveform from the output terminal RFOUT is regulated by the load impedance determined by the output matching circuit and the static characteristics of the FET.

【0006】図6は図4に示したFETの静特性、即ち
異なる電源電圧VDDでのVDS−IDS特性図であり、横軸
にドレイン電圧VDS,縦軸にドレイン電流IDSをとって
示している。グラフ中一点鎖線A−A′,B−B′は負
荷線を示している。図6から明らかなように、電源電圧
がVDD1 の場合には負荷線A−A′で決まる出力電圧及
び出力電流波形が得られ、またこれよりも低い電源電圧
DD2 の場合には負荷線B−B′で決まる出力電圧及び
出力電流波形が得られることとなる。
FIG. 6 is a static characteristic of the FET shown in FIG. 4, that is, a V DS -I DS characteristic diagram at different power supply voltages V DD , where the horizontal axis represents the drain voltage V DS and the vertical axis represents the drain current I DS . Is shown. In the graph, the alternate long and short dash lines AA 'and BB' indicate load lines. As is apparent from FIG. 6, when the power supply voltage is V DD1 , the output voltage and output current waveforms determined by the load line AA ′ are obtained, and when the power supply voltage V DD2 is lower than this, the load line is obtained. The output voltage and output current waveforms determined by BB 'are obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで上述した如き
従来の電力増幅回路においては、電源電圧がVDD1 から
DD2 に変化した場合、図6に示す如く出力整合回路自
体は変化しないから負荷線の勾配は変わらず、電源電圧
の下降分だけ負荷線がA−A′からB−B′に変わるこ
ととなる。従って電源電圧がVDD1 、即ち負荷線がA−
A′の場合には出力電圧,出力電流波形はA,A′で示
す如く不都合を生じない場合においても、負荷線がB−
B′になるとB′側で波形がクリップされて出力電圧,
出力電流波形がB,B′に示す如くに歪むこととなり、
得られる線型出力電力も低下するという問題があった。
また図5から明らかな如くキャパシタC3 ,C2 を個別
に並列形成しているため工程は簡略化され、短縮される
反面、チップ面積が大きくなるという問題もあった。
In the conventional power amplifier circuit as described above, when the power supply voltage changes from V DD1 to V DD2 , the output matching circuit itself does not change as shown in FIG. The slope does not change, and the load line changes from A-A 'to BB' by the amount of decrease in the power supply voltage. Therefore, the power supply voltage is V DD1 , that is, the load line is A-
In the case of A ', the output voltage and output current waveforms are B-
When it reaches B ', the waveform is clipped on the B'side and the output voltage,
The output current waveform is distorted as shown by B and B ',
There is a problem that the obtained linear output power also decreases.
Further, as is clear from FIG. 5, since the capacitors C 3 and C 2 are separately formed in parallel, the process is simplified and shortened, but there is a problem that the chip area is increased.

【0008】本発明はかかる事情に鑑みなされたもので
あって、その目的とするところは電源電圧が変化しても
出力信号波形に歪みが生じず、線型出力電力の低下を防
止出来、しかもチップ表面積の縮小が図れるようにした
整合回路を提供するにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to prevent distortion of the output signal waveform even when the power supply voltage changes, to prevent a decrease in linear output power, and to further reduce the chip. An object of the present invention is to provide a matching circuit capable of reducing the surface area.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る整合回路は
ドレイン電極に所定電圧を印加するようにしたソース接
地型の電界効果トランジスタにおける前記ドレイン電極
に接続されたインダクタ及び第1,第2のキャパシタを
備え、前記電界効果トランジスタに負荷インピーダンス
を与えるようにした整合回路において、前記第1のキャ
パシタは、カソード電極を一端が前記ドレイン電極に接
続されたインダクタの他端に接続し、アノード電極を接
地したバラクタダイオードにて構成したことを特徴とす
る。
A matching circuit according to the present invention includes an inductor connected to the drain electrode and a first and second inductor in a source-grounded field effect transistor in which a predetermined voltage is applied to the drain electrode. In a matching circuit that includes a capacitor and applies a load impedance to the field effect transistor, the first capacitor has a cathode electrode connected to the other end of an inductor whose one end is connected to the drain electrode and an anode electrode connected to the other end of the inductor. It is characterized by being composed of a grounded varactor diode.

【0010】[0010]

【作用】本発明にあっては電界効果トランジスタのドレ
イン電極に印加される電圧の変化に対応してバラクタダ
イオードの容量が変化し、電界効果トランジスタの負荷
インピーダンスも電源電圧に応じて変化することで、出
力信号の歪み、線型出力電力の低下が防止できる。
According to the present invention, the capacitance of the varactor diode changes according to the change of the voltage applied to the drain electrode of the field effect transistor, and the load impedance of the field effect transistor also changes according to the power supply voltage. It is possible to prevent distortion of the output signal and reduction of the linear output power.

【0011】[0011]

【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面に基づき
具体的に説明する。図1は本発明に係る整合回路,電界
効果トランジスタを含むモノリシック集積回路の回路図
であり、図1においてRFINは高周波の入力端子,R
FOUTは同じく高周波の出力端子を示している。前記
入力端子RFINは抵抗Rの一端に接続されると共に、
FETのゲートに接続されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to the drawings showing the embodiments. FIG. 1 is a circuit diagram of a matching circuit and a monolithic integrated circuit including field effect transistors according to the present invention. In FIG. 1, RFIN is a high frequency input terminal, R
Similarly, FOUT indicates a high frequency output terminal. The input terminal RFIN is connected to one end of the resistor R, and
It is connected to the gate of the FET.

【0012】抵抗Rの他端にはゲートバイアス電圧VG
が印加されている。FETはそのソース電極が接地さ
れ、ドレイン電極はインダクタL1 を介在させて電源電
圧VDDを印加されると共に、負荷インピーダンスを与え
る出力整合回路に接続されている。出力整合回路は一端
がドレイン電極に接続されたインダクタL2 及びキャパ
シタC1 ,C2 を備えている。キャパシタC1 はカソー
ド電極を前記インダクタL2 に接続され、アノード電極
を接地されたバラクタダイオードとして構成され、また
キャパシタC2 はその一方の電極をインダクタL2 に、
また他方の電極を高周波の出力端子RFOUTに接続さ
れている。
The gate bias voltage V G is applied to the other end of the resistor R.
Is being applied. The source electrode of the FET is grounded, and the drain electrode is applied with the power supply voltage V DD through the inductor L 1 and is connected to the output matching circuit which provides the load impedance. The output matching circuit includes an inductor L 2 having one end connected to the drain electrode and capacitors C 1 and C 2 . The capacitor C 1 is configured as a varactor diode whose cathode electrode is connected to the inductor L 2 and whose anode electrode is grounded, and the capacitor C 2 has one electrode thereof connected to the inductor L 2 ,
The other electrode is connected to the high frequency output terminal RFOUT.

【0013】図2は本発明の実施例における出力整合回
路を構成する各部品のレイアウトを示す断面構造図であ
り、図中1は半絶縁性GaAs基板を示している。半絶縁性
GaAs基板1にはその内部に容量可変のキャパシタC
1 が、また表面にキャパシタC2及びインダクタL2
形成されている。半絶縁性GaAs基板1の内部には導電型
がn+ 型のイオン注入層11,このイオン注入層11に接し
て導電型がn型のイオン注入層12が形成されると共に、
このn型のイオン注入層12の一部にpn接合させた状態
で導電型がP+ 型のイオン注入層13がn+ 型のイオン注
入層11との間に前記イオン注入層12を隔てた状態で形成
してある。
FIG. 2 is a cross-sectional structural view showing the layout of each component constituting the output matching circuit in the embodiment of the present invention, in which 1 denotes a semi-insulating GaAs substrate. Semi-insulating
The GaAs substrate 1 has a variable capacitor C inside.
1 , and a capacitor C 2 and an inductor L 2 are formed on the surface. Inside the semi-insulating GaAs substrate 1, an ion implantation layer 11 having a conductivity type of n + , and an ion implantation layer 12 having a conductivity type of n type are formed in contact with the ion implantation layer 11.
The ion implantation layer 12 is separated between the ion implantation layer 13 having a conductivity type of P + type and the ion implantation layer 11 of the n + type in a state of being pn-junctioned with a part of the n type ion implantation layer 12. It is formed in the state.

【0014】そして前記n+ 型のイオン注入層11の表面
に接する態様で半絶縁性GaAs基板1の表面にキャパシタ
1 ,C2 に共用される共用電極14を設け、また前記p
+ 型のイオン注入層13に接して、半絶縁性GaAs基板1の
表面にキャパシタC1 の電極15を形成してある。前記し
たイオン注入層11,12,13は前記電極14,15 の形成前に活
性化アニール処理を施されている。これによって半絶縁
性GaAs基板1内にn型イオン注入層12とp+ 型イオン注
入層13の界面で生じるpn接合容量で形成されたキャパ
シタC1 が形成されている。
A common electrode 14 shared by the capacitors C 1 and C 2 is provided on the surface of the semi-insulating GaAs substrate 1 so as to be in contact with the surface of the n + type ion implantation layer 11, and the p
The electrode 15 of the capacitor C 1 is formed on the surface of the semi-insulating GaAs substrate 1 in contact with the + type ion implantation layer 13. The ion-implanted layers 11, 12 and 13 are subjected to activation annealing treatment before the formation of the electrodes 14 and 15. As a result, the capacitor C 1 formed by the pn junction capacitance generated at the interface between the n-type ion implantation layer 12 and the p + -type ion implantation layer 13 is formed in the semi-insulating GaAs substrate 1.

【0015】前記共用電極14の表面にはSiN製の絶縁膜
16を介在させて共用電極14上に重ねて電極17を形成して
MIM(メタル・インシュレータ・メタル)構造の第2
のキャパシタC2 が形成されている。また前記共用電極
14はその一部を半絶縁性GaAs基板1の表面で延在させ、
従来と同様にポリイミド樹脂18を介在させて、インダク
タL2 を構成する金属製の線状部19が螺旋形に形成さ
れ、螺旋形の中心付近でインダクタL2 の一端と接続さ
れている。
An insulating film made of SiN is formed on the surface of the common electrode 14.
The second electrode of the MIM (metal insulator metal) structure is formed by forming the electrode 17 on the common electrode 14 with 16 interposed therebetween.
Capacitor C 2 is formed. Also, the common electrode
14 extends a part of it on the surface of the semi-insulating GaAs substrate 1,
Conventional with intervening polyimide resin 18 as well, a metal line portion 19 constituting the inductor L 2 is formed in a spiral shape, it is connected to one end of the inductor L 2 near the center of the spiral.

【0016】図3は図1に示したFETの静特性、即ち
異なる電源電圧VDDでのVDS−IDS特性図であり、横軸
にドレイン電圧VDS,縦軸にドレイン電流IDSをとって
示している。グラフ中一点鎖線A−A′,B−B′は負
荷線を示している。図3から明らかな如く、電源電圧が
DD1 (例えば4V)の場合には負荷線A−A′で決ま
るA,Aに示す如き出力電圧,出力電流波形が得られ、
またこれよりも低い電源電圧VDD2 (例えば2V)の場
合には負荷線B−B′で決まるB,Bに示す如き出力電
圧及び出力電流波形が得られることとなる。
FIG. 3 is a static characteristic of the FET shown in FIG. 1, that is, a V DS -I DS characteristic diagram when the power supply voltage V DD is different. The horizontal axis represents the drain voltage V DS and the vertical axis represents the drain current I DS . Is shown. In the graph, the alternate long and short dash lines AA 'and BB' indicate load lines. As is apparent from FIG. 3, when the power supply voltage is V DD1 (for example, 4 V), the output voltage and output current waveforms A and A determined by the load line AA ′ are obtained,
When the power supply voltage V DD2 (for example, 2 V) is lower than this, the output voltage and output current waveforms shown by B and B determined by the load line BB ′ are obtained.

【0017】例えば電源電圧がVDD1 (4V)から電源
電圧VDD2 (2V)に変化した場合、負荷線はA−A′
からB−B′に変化するが、図6と対比すれば明らかな
如く負荷線B−B′は負荷線A−A′に対し出力電圧波
形は小さくなるが、出力電流波形が大きくなる関係にあ
り、出力電力は変わらず出力波形の歪みも生じないこと
となる。
For example, when the power supply voltage changes from V DD1 (4 V) to the power supply voltage V DD2 (2 V), the load line is AA '.
The load line BB 'has a smaller output voltage waveform than the load line A-A', but a larger output current waveform than the load line A-A '. Therefore, the output power does not change and the output waveform is not distorted.

【0018】次に実施例に示す整合回路についての数値
例を示す。いま例えば下記に示す如き特性のFETを用
い、また電源電圧が2V〜4Vで線型出力電力22dBm
を得る場合、キャパシタC1 ,C2 としては表1に示す
特性が要求される。 ピンチオフ電圧VGS(OFF)=−2V ドレイン飽和電流IDSS =350mA ニー電圧VK =0.5V
Next, numerical examples of the matching circuit shown in the embodiment will be shown. For example, a FET having the characteristics shown below is used, and the linear output power is 22 dBm when the power supply voltage is 2V to 4V.
In order to obtain, the characteristics shown in Table 1 are required for the capacitors C 1 and C 2 . Pinch off voltage V GS (OFF) =-2V Drain saturation current I DSS = 350mA Knee voltage V K = 0.5V

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】表1に示す要求を満足させるに必要な容量
可変のキャパシタC1 をイオン注入法により作製する場
合の条件は表2に示す如くである。
Table 2 shows the conditions when the variable capacitance capacitor C 1 required to satisfy the requirements shown in Table 1 is produced by the ion implantation method.

【0021】[0021]

【表2】 [Table 2]

【0022】表2に示す条件で作製したキャパシタC1
のアノード電極をアースに接続し、カソード電極に各電
源電圧4V,3V,2Vを印加すると、容量は夫々 1.4
pF,1.8 pF,3.2 pFが得られ、表1の条件を略満
足し得ることが確認された。またキャパシタC2 は、図
2に示す如くその一方の電極はキャパシタC1 のカソー
ド電極と共用し、この共用電極14上にSiN製の厚さ1600
Åの絶縁膜16を介在させて他方の電極17を配置したMI
M(メタル・インシュレータ・メタル)構造を有して形
成しており、このキャパシタC2 の面積を 15000μm2
とすると必要な容量6pFが得られることが確認され
た。
A capacitor C 1 manufactured under the conditions shown in Table 2
When the anode electrode of is connected to the ground and the power supply voltage of 4V, 3V, 2V is applied to the cathode electrode, the capacitance becomes 1.4
pF, 1.8 pF and 3.2 pF were obtained, and it was confirmed that the conditions in Table 1 could be substantially satisfied. Further, as shown in FIG. 2, one electrode of the capacitor C 2 is shared with the cathode electrode of the capacitor C 1 , and a SiN-made 1600-thickness electrode is provided on the shared electrode 14.
MI in which the other electrode 17 is arranged with the insulating film 16 of Å interposed
It has an M (metal insulator metal) structure, and the area of this capacitor C 2 is 15000 μm 2
Then, it was confirmed that the required capacitance of 6 pF was obtained.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上の如く本発明に係る整合回路にあっ
ては電界効果トランジスタのドレイン電極に印加する電
圧が変化しても、バラクタダイオードの容量がこれに追
従して変化し、電界効果トランジスタの負荷インピーダ
ンスを変化させることで出力波形が歪むことがなく、所
望の線型出力が得られ、携帯用電話機等の小型化,軽量
化に伴う電源の小容量化に適用可能となる等、本発明は
優れた効果を奏する。
As described above, in the matching circuit according to the present invention, even if the voltage applied to the drain electrode of the field effect transistor changes, the capacitance of the varactor diode changes in accordance with this, and the field effect transistor According to the present invention, the output waveform is not distorted by changing the load impedance of the device, a desired linear output can be obtained, and the device can be applied to a small capacity of a power supply accompanying the downsizing and weight saving of a mobile phone or the like. Has an excellent effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る整合回路の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a matching circuit according to the present invention.

【図2】図1に示す整合回路における各部品のレイアウ
トを示す断面構造図である。
FIG. 2 is a sectional structural view showing a layout of each component in the matching circuit shown in FIG.

【図3】図1に用いる電界効果トランジスタのVDS−I
DS特性図である。
FIG. 3 shows V DS -I of the field effect transistor used in FIG.
It is a DS characteristic diagram.

【図4】従来の出力整合回路の回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram of a conventional output matching circuit.

【図5】図4に示す出力整合回路における各部品の断面
構造図である。
5 is a sectional structural view of each component in the output matching circuit shown in FIG.

【図6】図4に用いる電界効果トランジスタのVDS−I
DS特性図である。
6 is a V DS -I of the field effect transistor used in FIG.
It is a DS characteristic diagram.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半絶縁性GaAs基板 11 n+ 型のイオン拡散層 12 n型のイオン拡散層 13 p+ 型のイオン拡散層 14 共用電極 15 電極 16 絶縁膜 17 電極 18 ポリイミド樹脂 RFIN 入力端子 R 抵抗 L1 ,L2 インダクタ FET 電界効果トランジスタ C1 容量可変のキャパシタ(バラクタダイオード) C2 キャパシタ RFOUT 出力端子 VDD 電源電圧1 semi-insulating GaAs substrate 11 n + type ion diffusion layer 12 n type ion diffusion layer 13 p + type ion diffusion layer 14 shared electrode 15 electrode 16 insulating film 17 electrode 18 polyimide resin RFIN input terminal R resistance L 1 , L 2 inductor FET field effect transistor C 1 variable capacitance capacitor (varactor diode) C 2 capacitor RFOUT output terminal V DD power supply voltage

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原田 八十雄 大阪府守口市京阪本通2丁目18番地 三洋 電機株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor, Yatsuo Harada, 2-18, Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Prefecture Sanyo Electric Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ドレイン電極に所定電圧を印加するよう
にしたソース接地型の電界効果トランジスタにおける前
記ドレイン電極に接続されたインダクタ及び第1,第2
のキャパシタを備え、前記電界効果トランジスタに負荷
インピーダンスを与えるようにした整合回路において、 前記第1のキャパシタは、カソード電極を一端が前記ド
レイン電極に接続されたインダクタの他端に接続し、ア
ノード電極を接地したバラクタダイオードにて構成した
ことを特徴とする整合回路。
1. An inductor connected to the drain electrode of a source-grounded field effect transistor adapted to apply a predetermined voltage to the drain electrode, and first and second inductors.
In a matching circuit configured to provide a load impedance to the field effect transistor, the first capacitor has a cathode electrode connected to the other end of an inductor whose one end is connected to the drain electrode, and an anode electrode. A matching circuit characterized by comprising a varactor diode grounded.
【請求項2】 前記バラクタダイオードの動作層は半導
体基板内に形成され、また第2のキャパシタは前記半導
体基板面上に形成されたバラクタダイオードのカソード
電極上にMIM構造に形成されている請求項1記載の整
合回路。
2. The operating layer of the varactor diode is formed in a semiconductor substrate, and the second capacitor is formed in a MIM structure on the cathode electrode of the varactor diode formed on the surface of the semiconductor substrate. 1. The matching circuit according to 1.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2000039921A1 (en) * 1998-12-25 2000-07-06 Hitachi, Ltd. Mobile communication unit
JP2002540597A (en) * 1999-03-19 2002-11-26 テレフオンアクチーボラゲット エル エム エリクソン(パブル) Improved integrated oscillator and tunable circuit
US7816990B2 (en) 2003-03-17 2010-10-19 Panasonic Corporation Variable gain amplification circuit

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