JPH06308419A - ポリゴンミラー面倒れ補正光学装置 - Google Patents

ポリゴンミラー面倒れ補正光学装置

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JPH06308419A
JPH06308419A JP11756393A JP11756393A JPH06308419A JP H06308419 A JPH06308419 A JP H06308419A JP 11756393 A JP11756393 A JP 11756393A JP 11756393 A JP11756393 A JP 11756393A JP H06308419 A JPH06308419 A JP H06308419A
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polygon mirror
light
incident
lens
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JP11756393A
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Hitoshi Hasegawa
仁 長谷川
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 被検査物の欠陥検査等を行う場合に問題とな
るポリゴンミラーの面倒れによるレーザ光のずれを、シ
リンドリカルレンズを用いることにより光学的に補正
し、前記面倒れの悪影響を除去する。 【構成】 レーザ光源からのレーザ入射光を、複数の反
射面を有するポリゴンミラー3で走査し、fθレンズで
収束して被検査物1に照射する場合に、ポリゴンミラー
3のレーザ光入射側に、前記レーザ入射光を収束させる
入射光用シリンドリカルレンズ8を配設し、ポリゴンミ
ラー3のレーザ光反射側に、ポリゴンミラー3の反射面
で反射されたレーザ反射光をfθレンズに平行光線とし
て入射させる補正用シリンドリカルレンズ9を配設して
ポリゴンミラー3の面倒れを補正する構成である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ入射光を複数の
反射面を有するポリゴンミラーで走査する光学装置であ
って、とくにCD(コンパクトディスク)やFD(フロッ
ピーディスク)等の表面の傷や凹凸をレーザ光を用いて
検査するレーザ欠陥検査装置において、ポリゴンミラー
の面倒れを補正して高精度でレーザ光を被検査物に照射
する構造のポリゴンミラー面倒れ補正光学装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、CD(コンパクトディスク)や
FD(フロッピーディスク)等の製造時に、製品の表面の
傷や凹凸を検査する装置の一つとして、レーザ光を被検
査物に照射して被検査物からの反射光を調べることで、
その欠陥を検出するレーザ欠陥検査装置が知られてい
る。従来、そのレーザ欠陥検査装置において、レーザ光
を被検査物に照射するときに、多角柱に複数の反射鏡を
配列してなるポリゴンミラーを用いて走査する構造のも
のが知られている。
【0003】図3は従来のポリゴンミラーを用いてレー
ザ光を走査して被検査物に照射するポリゴンミラー光学
装置を示す。この図において、1はCDやFD等の被検
査物であり、3はポリゴンミラーであり、4はfθレン
ズであり、31乃至34はHe−Neレーザヘッドより出
射されたレーザ光の光路をそれぞれ示している。ポリゴ
ンミラー3は、光学的に平坦に磨かれた反射面6を複数
面持つ、金属またはガラス製の多面反射鏡であって、こ
こでは12面の反射面6を有する正12角柱状に形成さ
れている。このポリゴンミラー3の中心には、回転軸7
が設けられており、外部の駆動装置により矢印方向に回
転駆動されるようになっている。回転軸7は各反射面6
に対し平行であり、He−Neレーザヘッドからのレーザ
入射光31は回転軸7及び各反射面6に垂直な面内を通
るように設定されている。そして、ポリゴンミラー3を
回転させることで、He−Neレーザヘッドからのレーザ
入射光31に対する反射面6の角度が変化する。fθレ
ンズ4は、反射面6で反射されたレーザ反射光32を、
被検査物1に対するレーザ光の走査方向(X方向)に所
定の幅を持つように収束する凸レンズであり、レーザ光
が通過する部分以外の不要な部分を除いた形状になって
いる(但し、X方向に垂直なY方向には極めて幅が狭く
なるように収束する。)。このfθレンズ4は、ポリゴ
ンミラー3より反射されたレーザ反射光32が被検査物
1に到達する途中に配置されており、fθレンズ4を通
過したレーザ照射光33の焦点34が被検査物1の表面
2に位置するように配置されている。
【0004】ここで、図3のポリゴンミラー光学装置に
おけるレーザ光の光路について説明する。He−Neレー
ザヘッドからのレーザ入射光31は、まずポリゴンミラ
ー3の反射面6に入射し、反射面6で反射されたレーザ
反射光32はその進行途中に配置されたfθレンズ4を
通過することによりレーザ照射光33として収束され、
そのレーザ照射光33の収束された焦点34が被検査物
1の検査対象である表面2に到達する。この被検査物1
の表面2に到達したレーザ照射光33は、前記ポリゴン
ミラー3が回転することで前記反射面6のレーザ入射光
31に対する角度が変化することによりX方向に走査さ
れているので、焦点34の軌跡が図3に示した走査線ビ
ーム35(2点鎖線)の如くX方向に移動する。このよう
な走査は各反射面について繰り返し行われる。
【0005】なお、上記ポリゴンミラー光学装置によっ
て被検査物1の表面2に照射されたレーザ光は、表面2
の傷あるいは凹凸の有無により反射の仕方が異なるの
で、その反射光を検出する検出装置で解析することによ
り、被検査物1の欠陥検査を行うことができる。また、
図3では、レーザ光の光路を主としたポリゴンミラー光
学装置について示し、被検査物1に照射されたレーザ光
の軌跡が1本(走査線ビーム35)だけ示されているが、
実際は被検査物1の表面2全域に満遍無くレーザ光を照
射して検査を行う必要があり、このためには、被検査物
1と、ポリゴンミラー光学装置のどちらか一方あるいは
両方をX方向に垂直なY方向に相対的に移動させること
で行う。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のポリ
ゴンミラー光学装置では、ポリゴンミラー3の反射面6
でレーザ光を走査するのであり、各反射面6はポリゴン
ミラー3の回転軸7に垂直でかつレーザ入射光が通過す
る平面に対し正確な垂直面を成すことが要求される。し
かしながら、そのポリゴンミラー3の反射面6のレーザ
光入射平面に対する垂直度について微少な角度誤差が生
じる面倒れがあることは避けられず、それに伴い以下に
述べる問題点が生じていた。
【0007】図4は前記従来のポリゴンミラー光学装置
におけるレーザ光の光路の説明図を示し、同図におい
て、従来のポリゴンミラー光学装置の問題点について述
べる。前記ポリゴンミラーの反射面の面倒れによる角度
誤差をΔθとする。面倒れがなく完全に垂直な反射面A
の場合、He−Neレーザヘッドからのレーザ入射光31
は、ポリゴンミラーの反射面Aでレーザ反射光32とし
てfθレンズ4の光軸上を平行に反射され、該レーザ反
射光32は、fθレンズ4でレーザ照射光33として収
束され、被検査物1の表面2の点A’で焦点を結んでい
る。なお、図中のfはfθレンズ4の焦点距離を示して
いる。
【0008】前記ポリゴンミラーにΔθの面倒れがある
反射面B(点線)の場合、He−Neレーザヘッドからのレ
ーザ入射光31は、ポリゴンミラーの反射面Bでレーザ
反射光32Aとして角度Δθ上方に傾いて反射され、該
レーザ反射光32Aは、fθレンズ4でレーザ照射光3
3Aとして傾いた方向に収束され、被検査物1の表面2
の点B’で焦点を結んでいる。ここで、前記点B’と前
記点A'との走査ピッチずれをLとする。この走査ピッ
チずれLは、面倒れにより生じた角度誤差Δθ、fθレ
ンズの焦点距離をfとしたとき、L=f・Δθとなり、
この走査ピッチずれLだけ被検査物1の表面2上の走査
線ビーム35がY方向にずれてしまうことを意味する。
【0009】以上のように面倒れのある反射面により走
査ピッチずれLが生じると、その反射面によって走査さ
れたレーザ照射光33Aの被検査物表面での軌跡が正し
い走査線ビーム位置からずれるので、そのずれた部分に
はレーザ照射光が照射されないことになり、その部分が
検査から漏れる恐れがある。とくに、被検査物が微小サ
イズの場合、走査ピッチずれLとの相対関係によっては
検出の繰り返し精度悪化を招き、場合によっては検出自
体が不可能となる事態も発生する。
【0010】上記のようなポリゴンミラーの各反射面の
面倒れを全てなくすことは限界があり、従来のポリゴン
ミラー光学装置では、反射面の面倒れの影響による被検
査物表面の検査漏れを防止するために、図5(B)に示す
ように、ポリゴンミラー光学装置と被検査物1とのY方
向の相対移動量を調整することで、例えば前回の走査線
ビーム35A、今回の走査線ビーム35B、次回の走査
線ビーム35Cの隣合う上下部分に比較的大きなオーバ
ーラップ量36を設定している。
【0011】しかし、上記のように、隣合う走査線ビー
ム35A,35B,35Cに所定のオーバーラップ量36
を設けることで検査漏れを防ぐことができても、オーバ
ーラップ量36の幅分、被検査物1の表面2でのレーザ
光の走査の回数が増加するため、結果的に被検査物一個
あたりの検査所要時間が約20〜30%程度増加してし
まい、検査作業に時間を要してしまう問題点がある。
【0012】本発明は、上記の点に鑑み、被検査物の欠
陥検査等を行う場合に問題となるポリゴンミラーの面倒
れによるレーザ光のずれを、シリンドリカルレンズを用
いることにより光学的に補正し、前記面倒れの悪影響を
除去したポリゴンミラー面倒れ補正光学装置を提供する
ことを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のポリゴンミラー面倒れ補正光学装置では、
レーザ光源からのレーザ入射光を、複数の反射面を有す
るポリゴンミラーで走査し、収束用レンズで収束して被
検査物に照射する場合において、前記ポリゴンミラーの
レーザ光入射側に、前記レーザ入射光を収束させる入射
光用シリンドリカルレンズを配設し、前記ポリゴンミラ
ーのレーザ光反射側に、前記ポリゴンミラーの反射面で
反射されたレーザ反射光を前記収束用レンズに平行光線
として入射させる補正用シリンドリカルレンズを配設し
た構成としている。
【0014】また、前記入射光用シリンドリカルレンズ
が、前記レーザ入射光を前記ポリゴンミラーの反射面に
おいて焦点を結ぶごとく収束させるものであってもよ
い。
【0015】
【作用】本発明のポリゴンミラー面倒れ補正光学装置で
は、ポリゴンミラーのレーザ光入射側に、レーザ入射光
を収束させる入射光用シリンドリカルレンズを配設し、
前記ポリゴンミラーのレーザ光反射側に、レーザ反射光
を収束用レンズに平行光線として入射させる補正用シリ
ンドリカルレンズを配設する構成としているため、ポリ
ゴンミラーの反射面の面倒れに伴い発生する、被検査物
表面におけるレーザ光の走査ピッチずれを無くすことが
できる。すなわち、入射光用シリンドリカルレンズ及び
補正用シリンドリカルレンズの作用により、ポリゴンミ
ラーの面倒れの有無にかかわらず収束用レンズには平行
光線が入射することになり、その収束用レンズの焦点位
置におかれた被検査物表面上の一定高さ位置を走査線ビ
ームが通過することになる。また、被検査物表面におけ
るレーザ光の走査線ビームをずれることなく走査できる
ため、従来構造のポリゴンミラー光学装置で行なわれて
いた大きなオーバーラップ量を設ける必要がなくなり、
被検査領域に対して実質的に一度の走査ですみ、従来の
ポリゴンミラー光学装置と比較して被検査物表面でのレ
ーザ光の走査の必要回数が減少し照射も確実にできるた
め、被検査物一個あたりの検査所要時間が大幅に短縮可
能になるとともに検査も確実に行うことができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明に係るポリゴンミラー面倒れ補
正光学装置の実施例を図面に従って説明する。
【0017】図1は本発明の実施例を示し、これは、C
D(コンパクトディスク)やFD(フロッピーディスク)等
の製造時に、製品の表面の傷や凹凸を検査する装置の一
つとしてのレーザ光を被検査物に照射してその欠陥を検
査するレーザ欠陥検査装置に用いられる、ポリゴンミラ
ー面倒れ補正光学装置である。同図において、1はCD
やFD等の被検査物であり、3はポリゴンミラーであ
り、4は収束用レンズとしてのfθレンズであり、これ
らはそれぞれ前記従来のポリゴンミラー光学装置で述べ
たものと同様である。8は入射光用シリンドリカルレン
ズであり、9は補正用シリンドリカルレンズであり、1
1,12,14乃至17はレーザ光源としてのHe−Ne
レーザヘッドより出射されたレーザ光の光路をそれぞれ
示している。
【0018】前記入射光用シリンドリカルレンズ8は、
一方が円周面21で他方が平面22である円筒状のレン
ズを縦方向に切断したような形状であり、通過光に対し
て横方向(レーザ入射光11が通過する回転軸7に垂直
な平面に平行な方向)には収束せず、縦方向(回転軸7
に平行な方向)には収束して絞りこむようになってい
る。該入射光用シリンドリカルレンズ8は、He−Neレ
ーザヘッドより出たレーザ入射光11(断面円形状ビー
ム)がポリゴンミラー3に到達するまでの光路に配置さ
れており、入射光用シリンドリカルレンズ8はレーザ入
射光11を縦方向に絞りこんだミラー入射レーザ光12
として出射し、そのミラー入射レーザ光12はポリゴン
ミラー3の反射面6上で焦点を結ぶようになっている。
【0019】前記補正用シリンドリカルレンズ9は、前
記入射光用シリンドリカルレンズ8と同様に一方が平面
23で他方が円周面24を有する形状であり、通過光に
対して横方向(レーザ入射光11が通過する回転軸7に
垂直な平面に平行な方向)には収束(屈折)させず、縦
方向(回転軸7に平行な方向)には収束(屈折)させる
ようになっている。該補正用シリンドリカルレンズ9
は、ポリゴンミラー3の反射面6で反射されたレーザ反
射光14がfθレンズ4に到達するまでの光路に配置さ
れており、入射したレーザ反射光14を断面円形状のビ
ームを持つ平行光線15として出射する。fθレンズ4
は、入射した平行光線15を収束し、出射したレーザ照
射光16が被検査物1の表面2上で焦点17を結ぶよう
に配置されている。なお、シリンドリカルレンズ8,9
を用いるのは、レーザ光の走査方向には影響を与えない
ようにするためである。
【0020】ここで、図2において、このポリゴンミラ
ー面倒れ補正光学装置におけるレーザ光の光路について
説明する。図2中、fはfθレンズ4の焦点距離、f1
は入射光用シリンドリカルレンズ8の焦点距離、f2
補正用シリンドリカルレンズ9の焦点距離である。この
図において、He−Neレーザヘッドより出されたレーザ
入射光11は、まず入射光用シリンドリカルレンズ8に
入射して縦方向に収束されてミラー入射光12として出
射される。このミラー入射光12は、その進行方向がポ
リゴンミラー3の回転軸7に垂直な平面と平行であり、
ポリゴンミラー3の反射面6に入射する。面倒れがなく
レーザ入射光11及びミラー入射光12が通る平面に完
全に垂直(回転軸7に完全に平行)な反射面6の場合、
He−Neレーザヘッドから出されたレーザ入射光11
は、入射光用シリンドリカルレンズ8で縦方向に絞りこ
まれてミラー入射レーザ光12として出射し、そのミラ
ー入射レーザ光12はポリゴンミラー3の反射面A上で
焦点を結び、この反射面Aで反射されて補正用シリンド
リカルレンズ9に入射する。この補正用シリンドリカル
レンズ9は、ポリゴンミラー3の反射面Aで反射された
レーザ反射光14を断面円形状のビームを持つ平行光線
15として出射し、この平行光線15はfθレンズ4で
収束され、レーザ照射光16となって被検査物1の表面
2上の点A'で焦点17を結んでいる。
【0021】一方、前記ポリゴンミラー3の角度誤差Δ
θの面倒れがある反射面B(点線)の場合、He−Neレ
ーザヘッドから出射され入射光用シリンドリカルレンズ
8を経て進行するミラー入射光12は、ポリゴンミラー
3の反射面B上の点で焦点を結び、レーザ反射光14A
として角度Δθ上方に傾いて反射され、該レーザ反射光
14Aは進行縦方向に広がりながら補正用シリンドリカ
ルレンズ9に入射する。この補正用シリンドリカルレン
ズ9と反射面B間の距離は当該補正用シリンドリカルレ
ンズ9の焦点距離f2に一致しているため、レーザ反射
光14Aが補正用シリンドリカルレンズ9の光軸に平行
か否かに関係無く反射面B上の点で焦点を結んだ光線に
対して平行光線として出射するため、反射面Bに面倒れ
があってもレーザ反射光14Aは平行光線15Aとして
出射される。そして、該平行光線15Aは、fθレンズ
4でレーザ照射光16Aとして収束され、被検査物1の
表面2の点A’で焦点を結んでいる(面倒れの無い場合
と同じ)。これは、fθレンズ4が単焦点の凸レンズで
あるため、平行光線に対しては入射側のどの位置から入
射しても同一の焦点に出射光を収束させるためである。
このように、ポリゴンミラー3の反射面6に面倒れがあ
って、そのレーザ反射光14Aが、本来のレーザ反射光
14の進行方向よりずれたとしても、補正用シリンドリ
カルレンズ9により平行光線15として補正されること
で、fθレンズ4を通過して一つの焦点に収束される。
【0022】このことは、レーザ照射光16,16Aの
被検査物表面での軌跡が常に正しいX方向の走査線ビー
ム18となり、レーザ照射光の走査ピッチずれに起因す
る検査漏れがなくなることを意味する。従って、従来の
光学装置で行っていた隣合う上下の走査線ビームを充分
にオーバーラップさせて走査するといったことが不要に
なる。つまり、ポリゴンミラー面倒れ補正光学装置と被
検査物1との相対移動量は、例えば図5(A)に示すよう
に、被検査物1の表面2に照射される照射レーザ光14
の焦点が走査した前回の走査線ビーム18A、今回の走
査線ビーム18B、次回の走査線ビーム18Cの隣合う
上下部分のオーバーラップ量19を極めて少なく(実質
的に零)に設定できる。
【0023】従って、上記実施例の構成によれば、ポリ
ゴンミラー3の反射面6の面倒れでレーザ光がずれて
も、途中で光学的に補正するので最終的に到達する被検
査物表面においてずれることなく焦点を結び、被検査物
表面における走査線ビームがずれることなく走査できる
ため、前記オーバーラップ量を実質的に設ける必要がな
くなり、被検査領域に対して一度の走査ですみ、従来の
光学装置と比較して被検査物表面でのレーザ光の走査の
必要回数が減少し、照射も確実にできるため、被検査物
一個あたりの検査所要時間が大幅に短縮可能になるとと
もに検査も確実に行うことができる。
【0024】以上に述べた構成のポリゴンミラー面倒れ
補正光学装置を用い、被検査物からの反射光あるいは透
過光を受光して解析する検出解析装置や、被検査物を固
定保持したり、ポリゴンミラー面倒れ補正光学装置とと
もに被検査物を移動させる駆動装置等を組み合わせて構
成することで、ポリゴンミラー面倒れ補正能力を有し、
被検査物の表面検査所要時間の大幅な短縮化を実現する
とともに表面検査を確実に実行できるレーザ欠陥検査装
置が得られる。
【0025】以上の実施例では、反射面6を12面有す
るポリゴンミラー3を用いていたが、他の面数の反射面
6を有するポリゴンミラーに適宜変更可能であり、fθ
レンズ4、入射光用シリンドリカルレンズ8及び補正用
シリンドリカルレンズ9といった光学レンズについて
は、レーザ光の各光路11,12,14乃至17の距
離、各レンズの配置位置の相対角度、出射光源及び所望
照射光線の状態といった条件に応じて、レンズの形状、
屈折率及び屈折方向等をそれぞれ適宜変更可能である。
さらに、レーザ光源としてHe−Neガスを用いて発振す
るHe−Neレーザヘッドを用いているが、他の方式のレ
ーザ光源を用いてもよい。
【0026】以上本発明の実施例について説明してきた
が、本発明はこれに限定されることなく請求項の記載の
範囲内において各種の変形、変更が可能なことは当業者
には自明であろう。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のポリゴン
ミラー面倒れ補正光学装置によれば、被検査物に対して
光線を誘導し照射を行う上で問題となるポリゴンミラー
の面倒れによるレーザ光のずれが生じる対策として、ポ
リゴンミラーの反射面に対するレーザ光の入射側に入射
光用シリンドリカルレンズを、反射側に補正用シリンド
リカルレンズを配置して光学的に補正する構成とするこ
とで、被検査物に照射する前記光線の走査ピッチずれを
無くすことが可能になり、高精度の被検査物の表面検査
が可能になる。また、被検査領域に対して走査線ビーム
を実質的に一度走査すればすむため、従来のポリゴンミ
ラーを用いた光学装置と比較して、レーザ光の走査の必
要回数が減少し照射も確実に行えることから被検査物一
個あたりの検査所要時間が大幅に短縮可能になるととも
に検査も確実に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るポリゴンミラー面倒れ補正光学装
置の実施例を示す斜視図である。
【図2】同実施例におけるレーザ光の光路を示す説明図
である。
【図3】従来例としてのポリゴンミラー光学装置を示す
斜視図である。
【図4】同従来例におけるレーザ光の光路を示す説明図
である。
【図5】本発明の実施例におけるレーザ光の走査線ビー
ムの軌跡、及び従来のポリゴンミラーを用いた光学装置
におけるレーザ光の走査線ビームの軌跡を示す説明図で
ある。
【符号の説明】
1 被検査物 2 表面 3 ポリゴンミラー 4 fθレンズ 6 反射面 7 回転軸 8 入射光用シリンドリカルレンズ 9 補正用シリンドリカルレンズ 11 レーザ入射光 12 ミラー入射光 14 レーザ反射光 15 平行光線 16 レーザ照射光 18,18A,18B,18C 走査線ビーム

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光源からのレーザ入射光を、複数
    の反射面を有するポリゴンミラーで走査し、収束用レン
    ズで収束して被検査物に照射する光学装置において、前
    記ポリゴンミラーのレーザ光入射側に、前記レーザ入射
    光を収束させる入射光用シリンドリカルレンズを配設
    し、前記ポリゴンミラーのレーザ光反射側に、前記ポリ
    ゴンミラーの反射面で反射されたレーザ反射光を前記収
    束用レンズに平行光線として入射させる補正用シリンド
    リカルレンズを配設したことを特徴とするポリゴンミラ
    ー面倒れ補正光学装置。
  2. 【請求項2】 前記入射光用シリンドリカルレンズが、
    前記レーザ入射光を、前記ポリゴンミラーの反射面上で
    焦点を結ぶごとく収束させるものである請求項1記載の
    ポリゴンミラー面倒れ補正光学装置。
JP11756393A 1993-04-22 1993-04-22 ポリゴンミラー面倒れ補正光学装置 Pending JPH06308419A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013116488A (ja) * 2011-12-04 2013-06-13 Kiyoyuki Kondo ビーム加工装置及びそれを用いた基板の加工方法

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JP2013116488A (ja) * 2011-12-04 2013-06-13 Kiyoyuki Kondo ビーム加工装置及びそれを用いた基板の加工方法

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