JPH06306433A - 循環流動層反応装置の操業方法 - Google Patents
循環流動層反応装置の操業方法Info
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- JPH06306433A JPH06306433A JP9980893A JP9980893A JPH06306433A JP H06306433 A JPH06306433 A JP H06306433A JP 9980893 A JP9980893 A JP 9980893A JP 9980893 A JP9980893 A JP 9980893A JP H06306433 A JPH06306433 A JP H06306433A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 流動層反応装置の外部の粒子循環系のダウン
カマにおける充填粒子の移動層の粒子レベルを的確に測
定し管理できる手段の提供。 【構成】 底部から還元ガスを導入して粒状原鉱石の流
動層を形成するライザーと、同ライザーの外側において
ライザー頂部から排出される粒鉱石を捕集してダウンカ
マを介してライザーに循環する粒体循環系とからなる循
環流動層反応装置の操業方法において、循環している粒
子と温度の異なるトレーサ粒子をパルス的に供給し、ダ
ウンカマの粒子移動層の温度変化を検出し、ダウンカマ
の移動層における粒子レベルを検知し制御する。また、
この粒子レベルの検知は、粒子循環量に対応したダウン
カマの粒子移動層の温度変化を検出することによってそ
の検知精度を上げることができる。
カマにおける充填粒子の移動層の粒子レベルを的確に測
定し管理できる手段の提供。 【構成】 底部から還元ガスを導入して粒状原鉱石の流
動層を形成するライザーと、同ライザーの外側において
ライザー頂部から排出される粒鉱石を捕集してダウンカ
マを介してライザーに循環する粒体循環系とからなる循
環流動層反応装置の操業方法において、循環している粒
子と温度の異なるトレーサ粒子をパルス的に供給し、ダ
ウンカマの粒子移動層の温度変化を検出し、ダウンカマ
の移動層における粒子レベルを検知し制御する。また、
この粒子レベルの検知は、粒子循環量に対応したダウン
カマの粒子移動層の温度変化を検出することによってそ
の検知精度を上げることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、溶融還元法による銑鉄
の製造のための原料粉鉱石の予備還元に使用される循環
流動層反応装置の操業方法に関する。
の製造のための原料粉鉱石の予備還元に使用される循環
流動層反応装置の操業方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】かかる循環流動層反応装置は、例えば特
開平１−１１１８０７号公報に開示されているように、
底部付近に流動層を形成するためのガスとしての還元ガ
ス導入部を設けた流動層形成部（ライザー）と、その外
側にサイクロンとサイクロンによって捕集された粒鉱石
をライザーに循環するための粒子下降管（ダウンカマ）
を有する粒体循環系とからなる。
開平１−１１１８０７号公報に開示されているように、
底部付近に流動層を形成するためのガスとしての還元ガ
ス導入部を設けた流動層形成部（ライザー）と、その外
側にサイクロンとサイクロンによって捕集された粒鉱石
をライザーに循環するための粒子下降管（ダウンカマ）
を有する粒体循環系とからなる。
【０００３】この粒子循環系のダウンカマでは、サイク
ロンにおいて回収された粒体が充填し移動する粒子移動
層を形成し、粒子移動層の厚みによってライザー底部の
圧力をシールして、ライザーに供給される還元ガスの粒
体循環部の流動ガスのダウンカマへの吹抜けトラブルを
防止し、ダウンカマ粒子レベルの増加による粒子棚吊り
およびサイクロン閉塞トラブルを回避する機能を果たし
ている。
ロンにおいて回収された粒体が充填し移動する粒子移動
層を形成し、粒子移動層の厚みによってライザー底部の
圧力をシールして、ライザーに供給される還元ガスの粒
体循環部の流動ガスのダウンカマへの吹抜けトラブルを
防止し、ダウンカマ粒子レベルの増加による粒子棚吊り
およびサイクロン閉塞トラブルを回避する機能を果たし
ている。
【０００４】この粒子循環系を有する流動層反応装置に
おいては、鉱石粒子の流動と還元反応を安定かつ効率的
に行うためには、ダウンカマにおける粒子移動層による
シールの確保は必須であり、ダウンカマ粒子レベルを一
定に保持してライザーにおける反応粒子濃度の変動を回
避することが必須である。
おいては、鉱石粒子の流動と還元反応を安定かつ効率的
に行うためには、ダウンカマにおける粒子移動層による
シールの確保は必須であり、ダウンカマ粒子レベルを一
定に保持してライザーにおける反応粒子濃度の変動を回
避することが必須である。
【０００５】一般に、粒体物の反応装置において粒子の
レベルを測定するには、機械式のサウンジングによる方
法、超音波や電気信号による方法がある。
レベルを測定するには、機械式のサウンジングによる方
法、超音波や電気信号による方法がある。
【０００６】ところが、循環流動層反応装置、とくに外
部に粒子循環系を有する流動層反応装置においては、そ
の構造上から、また、温度条件、圧力条件、ガス条件等
から、ダウンカマの充填粒子レベルを正確に測定するこ
とは不可能となり、ダウンカマ粒子レベルの測定・管理
方法としては未だ確立された技術はない。
部に粒子循環系を有する流動層反応装置においては、そ
の構造上から、また、温度条件、圧力条件、ガス条件等
から、ダウンカマの充填粒子レベルを正確に測定するこ
とは不可能となり、ダウンカマ粒子レベルの測定・管理
方法としては未だ確立された技術はない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、流動
層反応装置の外部に粒子循環系のダウンカマにおける充
填粒子の移動層の粒子レベルを的確に測定し管理できる
手段を提供することにある。
層反応装置の外部に粒子循環系のダウンカマにおける充
填粒子の移動層の粒子レベルを的確に測定し管理できる
手段を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、底部から還元
ガスを導入して粒状原鉱石の流動層を形成する流動層形
成部（ライザー）と、同ライザーの外側においてライザ
ーから頂部から排出される粒鉱石を捕集して粒子下降管
（ダウンカマ）を介してライザーに循環する粒体循環系
とからなる循環流動層反応装置の操業方法において、ダ
ウンカマの粒子移動層の温度変化を検出し、ダウンカマ
の移動層における粒子レベルを検知し制御することを特
徴とする。
ガスを導入して粒状原鉱石の流動層を形成する流動層形
成部（ライザー）と、同ライザーの外側においてライザ
ーから頂部から排出される粒鉱石を捕集して粒子下降管
（ダウンカマ）を介してライザーに循環する粒体循環系
とからなる循環流動層反応装置の操業方法において、ダ
ウンカマの粒子移動層の温度変化を検出し、ダウンカマ
の移動層における粒子レベルを検知し制御することを特
徴とする。
【０００９】また、この粒子レベルの検知は、粒子循環
量に対応したダウンカマの粒子移動層の温度変化を検出
することによってその検知精度を上げることができる。
量に対応したダウンカマの粒子移動層の温度変化を検出
することによってその検知精度を上げることができる。
【００１０】この移動層の温度変化は、循環している粒
子と温度の異なる粒子（トレーサ）をパルス的に供給
し、ダウンカマの複数箇所に温度検出端を設け、この温
度検出端を移動する温度パルスの位置変化によって熱応
答の時間変化を知り、これによってダウンカマ粒子レベ
ルを把握する。
子と温度の異なる粒子（トレーサ）をパルス的に供給
し、ダウンカマの複数箇所に温度検出端を設け、この温
度検出端を移動する温度パルスの位置変化によって熱応
答の時間変化を知り、これによってダウンカマ粒子レベ
ルを把握する。
【００１１】この供給トレーサとしては、ダウンカマの
上部から装入原料粉鉱石と同一原料を供給することがで
きる。
上部から装入原料粉鉱石と同一原料を供給することがで
きる。
【００１２】
【作用】ダウンカマのある特定位置における充填移動層
における温度は、ダウンカマの粒子頂部からの距離によ
って、特定の式に基づいて変化する。したがって、特定
箇所における温度変化を測定することによって粒子頂部
レベルを知ることができる。
における温度は、ダウンカマの粒子頂部からの距離によ
って、特定の式に基づいて変化する。したがって、特定
箇所における温度変化を測定することによって粒子頂部
レベルを知ることができる。
【００１３】また、粒子循環量と温度変化と粒子頂部レ
ベルとの間にも一定関係があり、粒子循環量を測定し、
これとダウンカマの特定箇所における粒子移動層の温度
変化とによって粒子頂部レベルを知ることができる。
ベルとの間にも一定関係があり、粒子循環量を測定し、
これとダウンカマの特定箇所における粒子移動層の温度
変化とによって粒子頂部レベルを知ることができる。
【００１４】
【実施例】図１は、本発明を適用した循環流動層反応装
置の概要を示す。
置の概要を示す。
【００１５】同図に示すように、ライザー１の底部ノズ
ル２から還元ガスを導入し、鉱石装入口３から装入され
た粉鉱石の流動層４を形成し、流動層還元を行う。ライ
ザー１の頂部から排ガスと共に流動鉱石が粒体循環系５
に導入される。この粒体循環系５には固気分離を行うサ
イクロン６を有し、流動鉱石はサイクロン６によって分
離回収されて、サイクロン６の下方に位置するダウンカ
マ７に充填して、シール層を兼ねた移動層８を形成し、
分離されたガスは排出管９から導出される。ライザー１
によって還元され、ダウンカマ７に充填された還元成品
は成品取出口１０から取り出される。さらに、ダウンカ
マ７の下方には、充填移動層８の脈動と棚吊りを防止す
るとともに、充填移動層８を形成した粒状物をライザー
１の底部に循環供給するためにガス導入口１１を有する
傾斜したニューマチックフィーダ１２が形成されてい
る。
ル２から還元ガスを導入し、鉱石装入口３から装入され
た粉鉱石の流動層４を形成し、流動層還元を行う。ライ
ザー１の頂部から排ガスと共に流動鉱石が粒体循環系５
に導入される。この粒体循環系５には固気分離を行うサ
イクロン６を有し、流動鉱石はサイクロン６によって分
離回収されて、サイクロン６の下方に位置するダウンカ
マ７に充填して、シール層を兼ねた移動層８を形成し、
分離されたガスは排出管９から導出される。ライザー１
によって還元され、ダウンカマ７に充填された還元成品
は成品取出口１０から取り出される。さらに、ダウンカ
マ７の下方には、充填移動層８の脈動と棚吊りを防止す
るとともに、充填移動層８を形成した粒状物をライザー
１の底部に循環供給するためにガス導入口１１を有する
傾斜したニューマチックフィーダ１２が形成されてい
る。
【００１６】かかる循環流動層反応装置において、本発
明を実施するためのトレーサー供給管１３が、ダウンカ
マ７の上方位置に配置されており、一定間隔でトレーサ
ーとして装入鉱石粉粒と同一物が装入される。ａとｂ
は、ダウンカマ７のニューマチックフィーダ１２近くの
直上部の上下位置に設けた温度検出端を示す。
明を実施するためのトレーサー供給管１３が、ダウンカ
マ７の上方位置に配置されており、一定間隔でトレーサ
ーとして装入鉱石粉粒と同一物が装入される。ａとｂ
は、ダウンカマ７のニューマチックフィーダ１２近くの
直上部の上下位置に設けた温度検出端を示す。
【００１７】このダウンカマ７にトレーサー粒子供給管
１３と温度検出器１４，１５を配置した循環流動層反応
装置によって、本発明を実施した。
１３と温度検出器１４，１５を配置した循環流動層反応
装置によって、本発明を実施した。
【００１８】実施例１ ダウンカマ７の頂部における循環粒の温度が９００℃で
あるのに対して、常温の原料粒子をパルス状態で、循環
粒子に対して略１％の割合で添加した。
あるのに対して、常温の原料粒子をパルス状態で、循環
粒子に対して略１％の割合で添加した。
【００１９】同図において、Ｄｈをダウンカマの粒子レ
ベル（ｍ）とし、Δｌを温度検出端ａとｂの距離
（ｍ）、Ｄｈ1 をダウンカマの直上部の粒子レベル、Ｄ
ｈ2 をニューマチックフィーダ１２部分の粒子レベル、
Δｌを温度検出端ａとｂの距離（ｍ）、τを温度検出端
ａの検出ずれ時間（ｓｅｃ）、τr をライザー１内粒子
通過時間（ｓｅｃ）、τc をサイクロン６内粒子通過時
間（ｓｅｃ）、さらに、Δτを温度検出端ａとｂの検出
ずれ時間（ｓｅｃ）とすると、Ｄｈは、 Ｄｈ＝〔（τ−τr −τc ）／Δτ〕＊Δ１・・・（１） として表わすことができる。そして、τc ＜τr ＜τで
あるので、τr とτc は削除可として、 Ｄｈ＝τ／Δτ＊Δ１ ・・・・・・・・・・・（２） として単純に表わすことができ、Ｄｈ＝Ｄｈ1 ＋Ｄｈ2
であり、上記得られたＤｈから、ニューマチックフィー
ダ１２部分の機械的に知られる粒子レベルＤｈ2を除く
ことによってダウンカマの粒子レベルを知ることがで
き、これが低下したとき原料粒子装入管からの装入量を
増大することによって、シール状態を維持すると共に、
ライザー１における操業の安定性を維持することができ
る。
ベル（ｍ）とし、Δｌを温度検出端ａとｂの距離
（ｍ）、Ｄｈ1 をダウンカマの直上部の粒子レベル、Ｄ
ｈ2 をニューマチックフィーダ１２部分の粒子レベル、
Δｌを温度検出端ａとｂの距離（ｍ）、τを温度検出端
ａの検出ずれ時間（ｓｅｃ）、τr をライザー１内粒子
通過時間（ｓｅｃ）、τc をサイクロン６内粒子通過時
間（ｓｅｃ）、さらに、Δτを温度検出端ａとｂの検出
ずれ時間（ｓｅｃ）とすると、Ｄｈは、 Ｄｈ＝〔（τ−τr −τc ）／Δτ〕＊Δ１・・・（１） として表わすことができる。そして、τc ＜τr ＜τで
あるので、τr とτc は削除可として、 Ｄｈ＝τ／Δτ＊Δ１ ・・・・・・・・・・・（２） として単純に表わすことができ、Ｄｈ＝Ｄｈ1 ＋Ｄｈ2
であり、上記得られたＤｈから、ニューマチックフィー
ダ１２部分の機械的に知られる粒子レベルＤｈ2を除く
ことによってダウンカマの粒子レベルを知ることがで
き、これが低下したとき原料粒子装入管からの装入量を
増大することによって、シール状態を維持すると共に、
ライザー１における操業の安定性を維持することができ
る。
【００２０】図２は、上記式（２）におけるτ、Δτの
実測データの態様を示す。
実測データの態様を示す。
【００２１】同図（ａ）に示すように、ａの測定点にお
ける移動粒子の温度は略一定であるのに対して、トレー
サー粒子供給管１３からのトレーサー供給によって、ａ
点において第１の逆ピーク（温度低下パルス）Ｘが検知
され、これがτ秒後、Ｙとして示す第２の逆ピークＹが
検知された。また、同図（ｂ）に示すように、図１のｂ
測定点における第１の逆ピークＸ’点はΔτ／Δ１ずれ
て形成され、上記（２）式によってＤｈ1 を正確に測定
することができた。
ける移動粒子の温度は略一定であるのに対して、トレー
サー粒子供給管１３からのトレーサー供給によって、ａ
点において第１の逆ピーク（温度低下パルス）Ｘが検知
され、これがτ秒後、Ｙとして示す第２の逆ピークＹが
検知された。また、同図（ｂ）に示すように、図１のｂ
測定点における第１の逆ピークＸ’点はΔτ／Δ１ずれ
て形成され、上記（２）式によってＤｈ1 を正確に測定
することができた。
【００２２】実施例２ 上記の図１に示す装置において、実施例１と同様に、循
環している粒子と上記トレーサー粒子供給管１３から、
トレーサー粒子をパルス的に供給し、ダウンカマ７に設
けた２個の温度検出端ａ，ｂの中の１個を使用し、熱応
答の時間変化と粒子の循環量を検知することによって、
下記の式によってダウンカマの粒子レベルを把握でき
る。粒子の循環量の検知は、サイクロンへの導入管部に
おけるガス流速値と圧力損失値とから検知する方法（特
願平４−３２７０６２号）等によって行うことができ
る。ダウンカマの粒子レベルＤｈは、Ｗｓを粒子循環量
（ｋｇ／ｓ）、Ｄｓをダウンカマ横断面積（ｍ2 ）、γ
ｓを粒子かさ比重（ｋｇ／ｍ3 ）とすると、 Ｄｈ＝Ｗｓ＊（τ−τr −τc ）／（Ｄｓ＊γｓ）・・・（３） によって表わすことができ、この式に基づいてダウンカ
マの粒子レベルを検知できる。
環している粒子と上記トレーサー粒子供給管１３から、
トレーサー粒子をパルス的に供給し、ダウンカマ７に設
けた２個の温度検出端ａ，ｂの中の１個を使用し、熱応
答の時間変化と粒子の循環量を検知することによって、
下記の式によってダウンカマの粒子レベルを把握でき
る。粒子の循環量の検知は、サイクロンへの導入管部に
おけるガス流速値と圧力損失値とから検知する方法（特
願平４−３２７０６２号）等によって行うことができ
る。ダウンカマの粒子レベルＤｈは、Ｗｓを粒子循環量
（ｋｇ／ｓ）、Ｄｓをダウンカマ横断面積（ｍ2 ）、γ
ｓを粒子かさ比重（ｋｇ／ｍ3 ）とすると、 Ｄｈ＝Ｗｓ＊（τ−τr −τc ）／（Ｄｓ＊γｓ）・・・（３） によって表わすことができ、この式に基づいてダウンカ
マの粒子レベルを検知できる。
【００２３】
【発明の効果】本発明によって以下の効果を奏すること
ができる。
ができる。
【００２４】（１）ダウンカマの粒子レベルを的確に管
理することができるため、ダウンカマでの流動ガス吹抜
けおよび棚吊りトラブル、サイクロンの閉塞トラブルが
回避でき、操業の安定化が達成できる。
理することができるため、ダウンカマでの流動ガス吹抜
けおよび棚吊りトラブル、サイクロンの閉塞トラブルが
回避でき、操業の安定化が達成できる。
【００２５】（２）ダウンカマ底部のエアレーションに
よる循環量制御を行う循環流動層反応装置では、ダウン
カマの粒子レベルを安定化することができるため、ライ
ザー粒子濃度を安定化でき、制御性向上効果がある。
よる循環量制御を行う循環流動層反応装置では、ダウン
カマの粒子レベルを安定化することができるため、ライ
ザー粒子濃度を安定化でき、制御性向上効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明を適用した循環流動層反応装置の概要
を示す。
を示す。
【図２】 本発明の実施例における温度変化の態様を示
す。
す。
１ ライザー ２ 底部ノズル ３ 鉱石装入口 ４ 鉱石流動層 ５ 粒体循環系 ６ サイクロン ７ ダウンカマ ８ 移動層 ９ ガス排出管 １０ 成品取出口 １１ ガス導入口 １２ ニューマチックフィーダ １３ トレーサー粒子供給管 １４，１５ 温度検出器 ａ，ｂ 温度検出端
Claims (2)
- 【請求項１】 底部から還元ガスを導入して粒状原鉱石
の流動層を形成する流動層形成部と、同流動層形成部の
外側において流動層形成部の頂部から排出される粒鉱石
を捕集して粒子下降管を介して流動層形成部に循環供給
する粒体循環系とからなる循環流動層反応装置の操業方
法において、粒子下降管に充填された粒子の移動層の温
度変化を検出し、同移動層における粒子レベルを検知し
制御する循環流動層反応装置の操業方法。 - 【請求項２】 底部から還元ガスを導入して粒状原鉱石
の流動層を形成する流動層形成部と、同流動層形成部の
外側において流動層形成部の頂部から排出される粒鉱石
を捕集して粒子下降管を介して流動層形成部に循環供給
する粒体循環系とからなる循環流動層反応装置の操業方
法において、粒子循環量と粒子下降管に充填された粒子
の移動層の温度変化を検出し、同移動層における粒子レ
ベルを検知し制御する循環流動層反応装置の操業方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9980893A JPH06306433A (ja) | 1993-04-26 | 1993-04-26 | 循環流動層反応装置の操業方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9980893A JPH06306433A (ja) | 1993-04-26 | 1993-04-26 | 循環流動層反応装置の操業方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06306433A true JPH06306433A (ja) | 1994-11-01 |
Family
ID=14257166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9980893A Withdrawn JPH06306433A (ja) | 1993-04-26 | 1993-04-26 | 循環流動層反応装置の操業方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06306433A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6950550B1 (en) | 2000-07-07 | 2005-09-27 | Koji Kajimura | Tracing technique and recording media of object motion |
| CN114410872A (zh) * | 2022-01-24 | 2022-04-29 | 安徽工业大学 | 一种抑制铁矿粉流态化还原过程中黏结流失的方法 |
-
1993
- 1993-04-26 JP JP9980893A patent/JPH06306433A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6950550B1 (en) | 2000-07-07 | 2005-09-27 | Koji Kajimura | Tracing technique and recording media of object motion |
| CN114410872A (zh) * | 2022-01-24 | 2022-04-29 | 安徽工业大学 | 一种抑制铁矿粉流态化还原过程中黏结流失的方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000704 |