JPH06306358A - 輝尽性蛍光体の製造方法 - Google Patents
輝尽性蛍光体の製造方法Info
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- JPH06306358A JPH06306358A JP9732693A JP9732693A JPH06306358A JP H06306358 A JPH06306358 A JP H06306358A JP 9732693 A JP9732693 A JP 9732693A JP 9732693 A JP9732693 A JP 9732693A JP H06306358 A JPH06306358 A JP H06306358A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】感度の高い輝尽性蛍光体の製造方法を提供す
る。 【構成】BaBr2 粉末と0.1モル%のEuBr3 粉
末を水溶液中で混合し、その後、約300℃に加熱して
乾燥させ粉末原料にする。次に、この粉末原料を流動層
炉に入れ焼成する。焼成は、830℃、中性雰囲気で6
0分間行い、焼成後、炉冷する。このようにして得られ
た輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中心粒径10μmの輝
尽性蛍光体を製造する。
る。 【構成】BaBr2 粉末と0.1モル%のEuBr3 粉
末を水溶液中で混合し、その後、約300℃に加熱して
乾燥させ粉末原料にする。次に、この粉末原料を流動層
炉に入れ焼成する。焼成は、830℃、中性雰囲気で6
0分間行い、焼成後、炉冷する。このようにして得られ
た輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中心粒径10μmの輝
尽性蛍光体を製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、輝尽性蛍光体の製造方
法に関する。
法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、医療機器では種々の医療用情報が
デジタル処理されるため、病気診断用のX線画像などの
医療用画像をデジタル処理できるシステムが要求されて
いる。この要求を満たすためにコンピューテッド・ラジ
オグラフィー・システムが提案されている。このシステ
ムは、例えば粉末状輝尽性蛍光体BaFX;Eu2+(X
は、Cl,Br,Iのいずれかを表す。)をプラスチッ
クに塗布して製造された放射線画像変換シートに被写体
を透過したX線を照射してX線画像を蓄積記録し、その
後この板にHe−Neレーザ光を走査し、蓄積記録され
た画像情報を輝尽発光として光検知器で検知して再生画
像を得るシステムである(特開昭55−12429号公
報参照)。輝尽発光のラティチュードは105 以上と広
く、また画像情報は、光検知器から時系列電気信号とし
て得られるという利点がある。しかし、被写体が人体で
あるため放射線の被曝線量をできるだけ軽減させること
が必要であり、輝尽の発光輝度が高い輝尽性蛍光体が必
要とされている。
デジタル処理されるため、病気診断用のX線画像などの
医療用画像をデジタル処理できるシステムが要求されて
いる。この要求を満たすためにコンピューテッド・ラジ
オグラフィー・システムが提案されている。このシステ
ムは、例えば粉末状輝尽性蛍光体BaFX;Eu2+(X
は、Cl,Br,Iのいずれかを表す。)をプラスチッ
クに塗布して製造された放射線画像変換シートに被写体
を透過したX線を照射してX線画像を蓄積記録し、その
後この板にHe−Neレーザ光を走査し、蓄積記録され
た画像情報を輝尽発光として光検知器で検知して再生画
像を得るシステムである(特開昭55−12429号公
報参照)。輝尽発光のラティチュードは105 以上と広
く、また画像情報は、光検知器から時系列電気信号とし
て得られるという利点がある。しかし、被写体が人体で
あるため放射線の被曝線量をできるだけ軽減させること
が必要であり、輝尽の発光輝度が高い輝尽性蛍光体が必
要とされている。
【0003】この輝尽性蛍光体を製造する従来の方法で
は、賦活剤が混合された蛍光体母体粒子を焼結防止剤と
共にチューブ炉で焼成した後、これを粉砕・分級して製
造している。また、従来は、多結晶体からなる蛍光体母
体粒子を使用して輝尽性蛍光体を製造している。
は、賦活剤が混合された蛍光体母体粒子を焼結防止剤と
共にチューブ炉で焼成した後、これを粉砕・分級して製
造している。また、従来は、多結晶体からなる蛍光体母
体粒子を使用して輝尽性蛍光体を製造している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】チューブ炉を使用して
焼成する方法では、炉内の温度分布が均一でないこと等
のため、蛍光体母体粒子に賦活剤が均一に拡散され難
く、この結果、輝尽性蛍光体の各粒子それぞれの感度に
ムラが生じ、このような輝尽性蛍光体を用いて得られた
画像にはムラが生じるという問題がある。また、輝尽性
蛍光体には焼結防止剤が多く含まれているため、輝尽性
蛍光体の純度が低く感度が低下するという問題がある。
さらに、輝尽性蛍光体を使用した放射線画像変換シート
の画像のムラを少なくするために輝尽性蛍光体の各粒子
は焼成後に粉砕・分級されて各粒子の粒度は一定範囲に
入っているが、粉砕により粒子の内部や破断面には大き
な歪みが生じ、この歪みにより粒子の結晶場が乱れ、感
度が著しく低下するという問題がある。
焼成する方法では、炉内の温度分布が均一でないこと等
のため、蛍光体母体粒子に賦活剤が均一に拡散され難
く、この結果、輝尽性蛍光体の各粒子それぞれの感度に
ムラが生じ、このような輝尽性蛍光体を用いて得られた
画像にはムラが生じるという問題がある。また、輝尽性
蛍光体には焼結防止剤が多く含まれているため、輝尽性
蛍光体の純度が低く感度が低下するという問題がある。
さらに、輝尽性蛍光体を使用した放射線画像変換シート
の画像のムラを少なくするために輝尽性蛍光体の各粒子
は焼成後に粉砕・分級されて各粒子の粒度は一定範囲に
入っているが、粉砕により粒子の内部や破断面には大き
な歪みが生じ、この歪みにより粒子の結晶場が乱れ、感
度が著しく低下するという問題がある。
【0005】また、多結晶体からなる蛍光体母体粒子を
用いて輝尽性蛍光体を製造する方法では、多結晶の輝尽
性蛍光体の結晶粒界近傍では結晶場が乱れており、この
ため結晶粒界近傍の感度は著しく低くなっている。この
結果、多結晶体からなる蛍光体母体粒子を用いて製造さ
れた輝尽性蛍光体では、感度が著しく低下するという問
題がある。
用いて輝尽性蛍光体を製造する方法では、多結晶の輝尽
性蛍光体の結晶粒界近傍では結晶場が乱れており、この
ため結晶粒界近傍の感度は著しく低くなっている。この
結果、多結晶体からなる蛍光体母体粒子を用いて製造さ
れた輝尽性蛍光体では、感度が著しく低下するという問
題がある。
【0006】本発明は、上記事情に鑑み、感度の高い輝
尽性蛍光体を製造する輝尽性蛍光体の製造方法を提供す
ることを目的とする。
尽性蛍光体を製造する輝尽性蛍光体の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
の本発明の第1の輝尽性蛍光体の製造方法は、輝尽性蛍
光体の製造方法において、蛍光体母体粒子を製造する工
程と、該蛍光体母体粒子を流動層炉内で焼成する工程を
含むことを特徴とするものである。ここで、蛍光体母体
粒子を焼成すると共にこの蛍光体母体粒子に賦活剤を拡
散させることが好ましい。また、上記方法で製造された
輝尽性蛍光体を流動層炉内でアニールすることが好まし
い。
の本発明の第1の輝尽性蛍光体の製造方法は、輝尽性蛍
光体の製造方法において、蛍光体母体粒子を製造する工
程と、該蛍光体母体粒子を流動層炉内で焼成する工程を
含むことを特徴とするものである。ここで、蛍光体母体
粒子を焼成すると共にこの蛍光体母体粒子に賦活剤を拡
散させることが好ましい。また、上記方法で製造された
輝尽性蛍光体を流動層炉内でアニールすることが好まし
い。
【0008】また、本発明の第2の輝尽性蛍光体の製造
方法は、輝尽性蛍光体の製造方法において、単結晶の蛍
光体母体粒子を製造する工程と、該蛍光体母体粒子に賦
活剤を拡散させる工程を含むことを特徴とするものであ
る。ここで、上記した第1及び第2の製造方法で製造さ
れる輝尽性蛍光体には、例えば組成式BaBr2 :Eu
2+で表されるものがある。
方法は、輝尽性蛍光体の製造方法において、単結晶の蛍
光体母体粒子を製造する工程と、該蛍光体母体粒子に賦
活剤を拡散させる工程を含むことを特徴とするものであ
る。ここで、上記した第1及び第2の製造方法で製造さ
れる輝尽性蛍光体には、例えば組成式BaBr2 :Eu
2+で表されるものがある。
【0009】
【作用】本発明の第1の輝尽性蛍光体の製造方法によれ
ば、流動層炉内で蛍光体母体粒子が焼成されるため、蛍
光体母体粒子どうしが接触して結合することがほとんど
無く、このため従来に比べ焼結防止剤の使用量が少なく
て済む。この結果、輝尽性蛍光体に含まれる焼結防止剤
の量が少なくなり、輝尽性蛍光体の純度が高くなって感
度が向上する。また、焼成工程で焼結される割合も低下
するため、焼結された輝尽性蛍光体を粉砕する割合も低
下し粉砕によりに生じる歪みは少なくなる。この結果、
歪みによる粒子の結晶場の乱れが少なくなり、感度が向
上する。また、流動層炉内では温度分布の均一性が良い
ため、それぞれの蛍光体母体粒子に賦活剤が均一に拡散
され、この結果、輝尽性蛍光体の各粒子それぞれの感度
にムラが少なく、この輝尽性蛍光体を使用した放射線画
像変換シートでは画像のムラが抑えられる。ここで、輝
尽性蛍光体を流動層炉内でアニールすると、各輝尽性蛍
光体の歪みが除去されるため、感度が一層向上する。
ば、流動層炉内で蛍光体母体粒子が焼成されるため、蛍
光体母体粒子どうしが接触して結合することがほとんど
無く、このため従来に比べ焼結防止剤の使用量が少なく
て済む。この結果、輝尽性蛍光体に含まれる焼結防止剤
の量が少なくなり、輝尽性蛍光体の純度が高くなって感
度が向上する。また、焼成工程で焼結される割合も低下
するため、焼結された輝尽性蛍光体を粉砕する割合も低
下し粉砕によりに生じる歪みは少なくなる。この結果、
歪みによる粒子の結晶場の乱れが少なくなり、感度が向
上する。また、流動層炉内では温度分布の均一性が良い
ため、それぞれの蛍光体母体粒子に賦活剤が均一に拡散
され、この結果、輝尽性蛍光体の各粒子それぞれの感度
にムラが少なく、この輝尽性蛍光体を使用した放射線画
像変換シートでは画像のムラが抑えられる。ここで、輝
尽性蛍光体を流動層炉内でアニールすると、各輝尽性蛍
光体の歪みが除去されるため、感度が一層向上する。
【0010】また、本発明の第2の輝尽性蛍光体の製造
方法によれば、賦活剤が拡散する蛍光体母体粒子が単結
晶であるため、製造された輝尽性蛍光体の粒子には結晶
粒界がほとんど無い。この結果、従来の輝尽性蛍光体の
粒子に比べると、粒子中の輝尽発光に寄与する部分の割
合が大きいため高感度の輝尽性蛍光体になり、この輝尽
性蛍光体を放射線画像変換シートに用いることにより、
被爆線量の低減、分解能の向上が達成できる。
方法によれば、賦活剤が拡散する蛍光体母体粒子が単結
晶であるため、製造された輝尽性蛍光体の粒子には結晶
粒界がほとんど無い。この結果、従来の輝尽性蛍光体の
粒子に比べると、粒子中の輝尽発光に寄与する部分の割
合が大きいため高感度の輝尽性蛍光体になり、この輝尽
性蛍光体を放射線画像変換シートに用いることにより、
被爆線量の低減、分解能の向上が達成できる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を比較例とともに説明
する。先ず、流動層炉内で焼成を行う実施例を比較例と
ともに説明する。 [比較例1]BaBr2 粉末と0.1モル%のEuBr
3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約300℃に加熱
して乾燥させ粉末原料にする。次に、この粉末原料を石
英容器に入れ焼成する。焼成は、800℃、中性雰囲気
で60分間行い、焼成後、炉冷する。このようにして得
られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中心粒径10μm
の輝尽性蛍光体を製造する。表1に、製造された輝尽性
蛍光体の感度を100にして示す。
する。先ず、流動層炉内で焼成を行う実施例を比較例と
ともに説明する。 [比較例1]BaBr2 粉末と0.1モル%のEuBr
3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約300℃に加熱
して乾燥させ粉末原料にする。次に、この粉末原料を石
英容器に入れ焼成する。焼成は、800℃、中性雰囲気
で60分間行い、焼成後、炉冷する。このようにして得
られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中心粒径10μm
の輝尽性蛍光体を製造する。表1に、製造された輝尽性
蛍光体の感度を100にして示す。
【0012】[比較例2]BaFBr粉末と0.1モル
%のEu2 O3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を石英容器に入れ焼成する。焼成は、850
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表2に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を100にして示す。
%のEu2 O3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を石英容器に入れ焼成する。焼成は、850
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表2に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を100にして示す。
【0013】[比較例3]BaCl2 粉末と0.1モル
%のEuCl3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を石英容器に入れ焼成する。焼成は、800
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表3に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を100にして示す。
%のEuCl3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を石英容器に入れ焼成する。焼成は、800
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表3に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を100にして示す。
【0014】[実施例1]BaBr2 粉末と0.1モル
%のEuBr3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を流動層炉に入れ焼成する。焼成は、830
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表1に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を、比較例1の輝尽性蛍光
体の感度と比べて示す。
%のEuBr3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を流動層炉に入れ焼成する。焼成は、830
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表1に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を、比較例1の輝尽性蛍光
体の感度と比べて示す。
【0015】[実施例2]BaFBr粉末と0.1モル
%のEu2 O3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を流動層炉に入れ焼成する。焼成は、850
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表2に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を、比較例2の輝尽性蛍光
体の感度と比べて示す。
%のEu2 O3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を流動層炉に入れ焼成する。焼成は、850
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表2に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を、比較例2の輝尽性蛍光
体の感度と比べて示す。
【0016】[実施例3]BaCl2 粉末と0.1モル
%のEuCl3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を流動層炉に入れ焼成する。焼成は、830
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表3に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を、比較例3の輝尽性蛍光
体の感度と比べて示す。
%のEuCl3 粉末を水溶液中で混合し、その後、約3
00℃に加熱して乾燥させ粉末原料にする。次に、この
粉末原料を流動層炉に入れ焼成する。焼成は、830
℃、中性雰囲気で60分間行い、焼成後、炉冷する。こ
のようにして得られた輝尽性蛍光体を粉砕・分級し、中
心粒径10μmの輝尽性蛍光体を製造する。表3に、製
造された輝尽性蛍光体の感度を、比較例3の輝尽性蛍光
体の感度と比べて示す。
【0017】[実施例4]上記した[実施例1]の方法
で製造された輝尽性蛍光体(中心粒径10μm)を、更
に流動層炉でアニールする。アニールは、750℃、中
性雰囲気で60分間行い、その後炉冷する。アニールし
て得られた輝尽性蛍光体の粒径は、アニール前の輝尽性
蛍光体の粒径にほぼ等しい。表1に、アニールして得ら
れた輝尽性蛍光体の感度を、比較例1及び実施例1の輝
尽性蛍光体の感度と比べて示す。
で製造された輝尽性蛍光体(中心粒径10μm)を、更
に流動層炉でアニールする。アニールは、750℃、中
性雰囲気で60分間行い、その後炉冷する。アニールし
て得られた輝尽性蛍光体の粒径は、アニール前の輝尽性
蛍光体の粒径にほぼ等しい。表1に、アニールして得ら
れた輝尽性蛍光体の感度を、比較例1及び実施例1の輝
尽性蛍光体の感度と比べて示す。
【0018】[実施例5]上記した[実施例2]の方法
で製造された輝尽性蛍光体(中心粒径10μm)を、更
に流動層炉でアニールする。アニールは、830℃、中
性雰囲気で60分間行い、その後炉冷する。アニールし
て得られた輝尽性蛍光体の粒径は、アニール前の輝尽性
蛍光体の粒径にほぼ等しい。表2に、アニールして得ら
れた輝尽性蛍光体の感度を、比較例2及び実施例2の輝
尽性蛍光体の感度と比べて示す。
で製造された輝尽性蛍光体(中心粒径10μm)を、更
に流動層炉でアニールする。アニールは、830℃、中
性雰囲気で60分間行い、その後炉冷する。アニールし
て得られた輝尽性蛍光体の粒径は、アニール前の輝尽性
蛍光体の粒径にほぼ等しい。表2に、アニールして得ら
れた輝尽性蛍光体の感度を、比較例2及び実施例2の輝
尽性蛍光体の感度と比べて示す。
【0019】[実施例6]上記した[実施例3]の方法
で製造された輝尽性蛍光体(中心粒径10μm)を、更
に流動層炉でアニールする。アニールは、800℃、中
性雰囲気で60分間行い、その後炉冷する。アニールし
て得られた輝尽性蛍光体の粒径は、アニール前の輝尽性
蛍光体の粒径にほぼ等しい。表3に、アニールして得ら
れた輝尽性蛍光体の感度を、比較例3及び実施例3の輝
尽性蛍光体の感度と比べて示す。
で製造された輝尽性蛍光体(中心粒径10μm)を、更
に流動層炉でアニールする。アニールは、800℃、中
性雰囲気で60分間行い、その後炉冷する。アニールし
て得られた輝尽性蛍光体の粒径は、アニール前の輝尽性
蛍光体の粒径にほぼ等しい。表3に、アニールして得ら
れた輝尽性蛍光体の感度を、比較例3及び実施例3の輝
尽性蛍光体の感度と比べて示す。
【0020】
【表1】 ─────────────────── 比較例1 100 実施例1 120 実施例4 150 ───────────────────
【0021】
【表2】 ─────────────────── 比較例2 100 実施例2 115 実施例5 140 ───────────────────
【0022】
【表3】 ─────────────────── 比較例3 100 実施例3 120 実施例6 140 ─────────────────── 以上説明した実施例1〜6以外に、酸化物、硫化物系の
蛍光体についても同様の実験を行ったが、実施例同様、
良好な結果を得た。また、流動層炉は、固体−気体間の
反応を行わせる炉としても優れており、実施例のような
ハロゲン系の蛍光体の焼成を行う場合、ハロゲン元素を
補うためなどに使用されるフラックス(例えば、HBr
・NH4 Br・NH4 Clなど)の添加にも効果を発揮
する。次に、単結晶の蛍光体母体粒子を用いた実施例を
説明する。
蛍光体についても同様の実験を行ったが、実施例同様、
良好な結果を得た。また、流動層炉は、固体−気体間の
反応を行わせる炉としても優れており、実施例のような
ハロゲン系の蛍光体の焼成を行う場合、ハロゲン元素を
補うためなどに使用されるフラックス(例えば、HBr
・NH4 Br・NH4 Clなど)の添加にも効果を発揮
する。次に、単結晶の蛍光体母体粒子を用いた実施例を
説明する。
【0023】[実施例7]BaBr2 単結晶粉末と0.
1モル%のEuBr3 粉末を、周知のV型ブレンダで混
合して原料にする。この原料を石英容器に入れ焼成す
る。焼成は、750℃、中性雰囲気で5分間行い、その
後放冷する。表4に、製造された輝尽性蛍光体の感度を
示す。ただし、この感度は、従来法(多結晶母体)で製
造された蛍光体の感度を100とした相対値で示されて
いる。
1モル%のEuBr3 粉末を、周知のV型ブレンダで混
合して原料にする。この原料を石英容器に入れ焼成す
る。焼成は、750℃、中性雰囲気で5分間行い、その
後放冷する。表4に、製造された輝尽性蛍光体の感度を
示す。ただし、この感度は、従来法(多結晶母体)で製
造された蛍光体の感度を100とした相対値で示されて
いる。
【0024】[実施例8]BaFBr単結晶粉末と0.
1モル%のEuBr3 粉末を、周知のV型ブレンダで混
合して原料にする。この原料を石英容器に入れ焼成す
る。焼成は、850℃、中性雰囲気で5分間行い、その
後放冷する。表4に、製造された輝尽性蛍光体の感度を
示す。ただし、この感度は、従来法(多結晶母体)で製
造された蛍光体の感度を100とした相対値で示されて
いる。
1モル%のEuBr3 粉末を、周知のV型ブレンダで混
合して原料にする。この原料を石英容器に入れ焼成す
る。焼成は、850℃、中性雰囲気で5分間行い、その
後放冷する。表4に、製造された輝尽性蛍光体の感度を
示す。ただし、この感度は、従来法(多結晶母体)で製
造された蛍光体の感度を100とした相対値で示されて
いる。
【0025】[実施例9]BaCl2 単結晶粉末と0.
1モル%のEuCl3 粉末を、周知のV型ブレンダで混
合して原料にする。この原料を石英容器に入れ焼成す
る。焼成は、800℃、中性雰囲気で5分間行い、その
後放冷する。表4に、製造された輝尽性蛍光体の感度を
示す。ただし、この感度は、従来法(多結晶母体)で製
造された蛍光体の感度を100とした相対値で示されて
いる。
1モル%のEuCl3 粉末を、周知のV型ブレンダで混
合して原料にする。この原料を石英容器に入れ焼成す
る。焼成は、800℃、中性雰囲気で5分間行い、その
後放冷する。表4に、製造された輝尽性蛍光体の感度を
示す。ただし、この感度は、従来法(多結晶母体)で製
造された蛍光体の感度を100とした相対値で示されて
いる。
【0026】
【表4】 ────────────────── 実施例1 150 実施例2 140 実施例3 140 ────────────────── 次に、比較例1〜3、実施例1〜9の輝尽性蛍光体を、
有機バインダ、有機溶剤と混合し、ガラス上に300μ
mの厚さ塗布して輝尽性蛍光体膜を形成し、さらにこの
輝尽性蛍光体膜の上にガラスを接着してX線画像変換シ
ートを製造した。このX線画像変換シートは、表1、
2、3、及び4に示された輝尽性蛍光体の感度に対応し
た感度になった。また、輝尽性蛍光体の中心粒径を小さ
くし、比較例と同じ感度にすると、分解能が向上した。
有機バインダ、有機溶剤と混合し、ガラス上に300μ
mの厚さ塗布して輝尽性蛍光体膜を形成し、さらにこの
輝尽性蛍光体膜の上にガラスを接着してX線画像変換シ
ートを製造した。このX線画像変換シートは、表1、
2、3、及び4に示された輝尽性蛍光体の感度に対応し
た感度になった。また、輝尽性蛍光体の中心粒径を小さ
くし、比較例と同じ感度にすると、分解能が向上した。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の第1の輝
尽性蛍光体の製造方法によれば、流動層炉内で蛍光体母
体粒子が焼成されるため、従来に比べ焼結防止剤の使用
量が少なくて済み、焼成工程で焼結される割合も低下す
る。この結果、感度が向上する。しかも、流動層炉内で
は温度分布が良好であるため、それぞれの蛍光体母体粒
子には賦活剤が均一に拡散され、この結果、輝尽性蛍光
体の各粒子それぞれの感度にムラが少なく、この輝尽性
蛍光体を使用した放射線画像変換シートでは画像のムラ
が抑えられる。
尽性蛍光体の製造方法によれば、流動層炉内で蛍光体母
体粒子が焼成されるため、従来に比べ焼結防止剤の使用
量が少なくて済み、焼成工程で焼結される割合も低下す
る。この結果、感度が向上する。しかも、流動層炉内で
は温度分布が良好であるため、それぞれの蛍光体母体粒
子には賦活剤が均一に拡散され、この結果、輝尽性蛍光
体の各粒子それぞれの感度にムラが少なく、この輝尽性
蛍光体を使用した放射線画像変換シートでは画像のムラ
が抑えられる。
【0028】また、本発明の第2の輝尽性蛍光体の製造
方法によれば、賦活剤が拡散する蛍光体母体粒子が単結
晶であるため、従来の輝尽性蛍光体の粒子と比べると、
粒子中の輝尽発光に寄与する部分の割合が大きい。この
ため、高感度の輝尽性蛍光体になり、この輝尽性蛍光体
を放射線画像変換シートに用いることにより、被爆線量
の低減、分解能の向上が達成できる。
方法によれば、賦活剤が拡散する蛍光体母体粒子が単結
晶であるため、従来の輝尽性蛍光体の粒子と比べると、
粒子中の輝尽発光に寄与する部分の割合が大きい。この
ため、高感度の輝尽性蛍光体になり、この輝尽性蛍光体
を放射線画像変換シートに用いることにより、被爆線量
の低減、分解能の向上が達成できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武田 志郎 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (5)
- 【請求項1】 輝尽性蛍光体の製造方法において、蛍光
体母体粒子を製造する工程と、該蛍光体母体粒子を流動
層炉内で焼成する工程を含むことを特徴とする輝尽性蛍
光体の製造方法。 - 【請求項2】 前記蛍光体母体粒子を流動層炉内で焼成
する工程が、該蛍光体母体粒子を焼成すると共に該蛍光
体母体粒子に賦活剤を拡散させる工程であることを特徴
とする請求項1記載の輝尽性蛍光体の製造方法。 - 【請求項3】 前記輝尽性蛍光体を流動層炉内でアニー
ルする工程を含むこと特徴とする請求項1記載の輝尽性
蛍光体の製造方法。 - 【請求項4】 輝尽性蛍光体の製造方法において、単結
晶の蛍光体母体粒子を製造する工程と、該蛍光体母体粒
子に賦活剤を拡散させる工程を含むことを特徴とする輝
尽性蛍光体の製造方法。 - 【請求項5】 前記輝尽性蛍光体が、BaBr2 :Eu
2+であることを特徴とする請求項1又は4記載の輝尽性
蛍光体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9732693A JPH06306358A (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 輝尽性蛍光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9732693A JPH06306358A (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 輝尽性蛍光体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06306358A true JPH06306358A (ja) | 1994-11-01 |
Family
ID=14189369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9732693A Withdrawn JPH06306358A (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 輝尽性蛍光体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06306358A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0859372A1 (en) * | 1997-02-12 | 1998-08-19 | Konica Corporation | Radiation image conversion panel |
WO2002101413A1 (fr) * | 2001-06-12 | 2002-12-19 | Institute Of Whole Body Metabolism | Capteur quantitatif de faisceau de particules |
JP2015018812A (ja) * | 1998-08-27 | 2015-01-29 | キャボット コーポレイションCabot Corporation | 光ルミネセンス蛍リン光体粒子を含む安全管理用製品 |
-
1993
- 1993-04-23 JP JP9732693A patent/JPH06306358A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0859372A1 (en) * | 1997-02-12 | 1998-08-19 | Konica Corporation | Radiation image conversion panel |
JP2015018812A (ja) * | 1998-08-27 | 2015-01-29 | キャボット コーポレイションCabot Corporation | 光ルミネセンス蛍リン光体粒子を含む安全管理用製品 |
WO2002101413A1 (fr) * | 2001-06-12 | 2002-12-19 | Institute Of Whole Body Metabolism | Capteur quantitatif de faisceau de particules |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000704 |