JPH0630267Y2 - 炉内設置型吸熱型ガス発生装置 - Google Patents
炉内設置型吸熱型ガス発生装置Info
- Publication number
- JPH0630267Y2 JPH0630267Y2 JP1988003500U JP350088U JPH0630267Y2 JP H0630267 Y2 JPH0630267 Y2 JP H0630267Y2 JP 1988003500 U JP1988003500 U JP 1988003500U JP 350088 U JP350088 U JP 350088U JP H0630267 Y2 JPH0630267 Y2 JP H0630267Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- retort
- heat
- furnace
- gas
- modified
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 本考案は、炉内設置型吸熱型ガス発生装置に関するもの
である。
である。
従来、吸熱型ガスを炉内雰囲気ガスとして使用する場合
には、別途設けられる変成炉内にニッケル系等の触媒を
充填したガス変成レトルトを配置し、メタン、ブタン、
プロパンなどの炭化水素ガスと所定比率の空気との原料
ガスを前記レトルト内に供給し、所定温度に保持された
触媒に前記原料ガスを接触させることにより、変成ガス
とし、これを冷却装置で冷却したうえで熱処理炉に供給
している。
には、別途設けられる変成炉内にニッケル系等の触媒を
充填したガス変成レトルトを配置し、メタン、ブタン、
プロパンなどの炭化水素ガスと所定比率の空気との原料
ガスを前記レトルト内に供給し、所定温度に保持された
触媒に前記原料ガスを接触させることにより、変成ガス
とし、これを冷却装置で冷却したうえで熱処理炉に供給
している。
このように、吸熱型ガスを変成して、炉内雰囲気として
使用するには、変成炉のみならず冷却装置を必要として
高価になるばかりか冷却した変成ガスを熱処理炉に供給
するため熱効率が悪いという欠点を有していた。
使用するには、変成炉のみならず冷却装置を必要として
高価になるばかりか冷却した変成ガスを熱処理炉に供給
するため熱効率が悪いという欠点を有していた。
本考案は、吸熱型ガスを熱処理炉で使用するにあたって
は前記冷却装置が不要であること、および炉内の高温雰
囲気をガス変成レトルトの熱源として使用することがで
きないかを種々検討の結果なされたもので、吸熱型ガス
発生装置を、粒状耐火物層間に触媒が充填され、一端に
原料ガス供給口、他端に変成ガス出口を有する変成レト
ルトと、このレトルトを保熱部材で包囲し、変成レトル
トと保熱部材との間に、電気発熱体を該変成レトルトを
包囲するように近接配置するとともに、前記変成レトル
トの近傍に熱電対を設け、この熱電対からの信号にもと
づき前記電気発熱体の発熱量を制御して変成レトルト内
の触媒温度を所定温度に維持する一方、前記変成レトル
トを縦置きとしたものである。すなわち、炉内雰囲気温
度を利用するとともに、電気発熱体の発熱量を熱電対か
らの信号により発熱量を制御して、触媒を常に所定温度
に保持して、原料ガスを一定組成の変成ガスとし、この
変成ガスを直接炉内に噴出するようにして、従来のもの
に比べて省エネルギーを図るとともに、冷却装置を不要
とした炉内設置型吸熱型ガス発生装置を提供しようとす
るものである。
は前記冷却装置が不要であること、および炉内の高温雰
囲気をガス変成レトルトの熱源として使用することがで
きないかを種々検討の結果なされたもので、吸熱型ガス
発生装置を、粒状耐火物層間に触媒が充填され、一端に
原料ガス供給口、他端に変成ガス出口を有する変成レト
ルトと、このレトルトを保熱部材で包囲し、変成レトル
トと保熱部材との間に、電気発熱体を該変成レトルトを
包囲するように近接配置するとともに、前記変成レトル
トの近傍に熱電対を設け、この熱電対からの信号にもと
づき前記電気発熱体の発熱量を制御して変成レトルト内
の触媒温度を所定温度に維持する一方、前記変成レトル
トを縦置きとしたものである。すなわち、炉内雰囲気温
度を利用するとともに、電気発熱体の発熱量を熱電対か
らの信号により発熱量を制御して、触媒を常に所定温度
に保持して、原料ガスを一定組成の変成ガスとし、この
変成ガスを直接炉内に噴出するようにして、従来のもの
に比べて省エネルギーを図るとともに、冷却装置を不要
とした炉内設置型吸熱型ガス発生装置を提供しようとす
るものである。
つぎに、本考案を一実施例である添付図面にしたがって
説明する。
説明する。
第１図は、本考案にかかる吸熱型ガス発生装置を備えた
熱処理炉Ｔの断面図であって、炉内にはラジアントチュ
ーブ１が、天井壁２には雰囲気循環ファン３と、吸熱型
ガス発生装置（以下、ガス発生装置という）５が縦置き
に設けられ、炉内に装入された支持構造４上の処理材Ｗ
は、吸熱型ガスを含む雰囲気中で加熱されて浸炭、焼鈍
等の熱処理が施されるものである。
熱処理炉Ｔの断面図であって、炉内にはラジアントチュ
ーブ１が、天井壁２には雰囲気循環ファン３と、吸熱型
ガス発生装置（以下、ガス発生装置という）５が縦置き
に設けられ、炉内に装入された支持構造４上の処理材Ｗ
は、吸熱型ガスを含む雰囲気中で加熱されて浸炭、焼鈍
等の熱処理が施されるものである。
前記ガス発生装置５は、第２図，第３図に示すように、
断熱材７を内張した耐熱合金または耐熱セラミック製の
保熱部材６と、この保熱部材６に所定間隙を介して貫通
して設けられた耐熱合金製または耐熱セラミック製の変
成レトルト８とからなる。そして、前記変成レトルト８
の一端には変成ガス吐出口９を、他端には原料ガス供給
口１１を有する耐火材１０が設けてあり、内部には粒状
のニッケル系、白金系、ルテニウム系、ロジユウム系等
の触媒層１２が設けてある。なお、１３は触媒支持用粒
状耐火物、１４はサポート、１５は原料ガス予熱用粒状
耐火材である。
断熱材７を内張した耐熱合金または耐熱セラミック製の
保熱部材６と、この保熱部材６に所定間隙を介して貫通
して設けられた耐熱合金製または耐熱セラミック製の変
成レトルト８とからなる。そして、前記変成レトルト８
の一端には変成ガス吐出口９を、他端には原料ガス供給
口１１を有する耐火材１０が設けてあり、内部には粒状
のニッケル系、白金系、ルテニウム系、ロジユウム系等
の触媒層１２が設けてある。なお、１３は触媒支持用粒
状耐火物、１４はサポート、１５は原料ガス予熱用粒状
耐火材である。
また、前記保熱部材６と変成レトルト８との間隙には電
気発熱体１６と熱電対１７とが設置されている。なお、
電気発熱体１６は変成レトルト８を包囲するように近接
配置されている。
気発熱体１６と熱電対１７とが設置されている。なお、
電気発熱体１６は変成レトルト８を包囲するように近接
配置されている。
そして、前記ガス発生装置５は天井壁２に取付けられ、
変成レトルト８の炉外部分に位置する原料ガス供給口１
１から炭化水素ガス（プロパン、メタン、ブタン等）と
空気とを所定割合となるように混合器１８で混合された
原料ガスが供給され、触媒層１２で吸熱型ガスに変成さ
れて吐出口９から炉内噴出し、炉内雰囲気ガスとなる。
１９，２０は流量計、２１は炭化水素ガス圧力調整器で
ある。
変成レトルト８の炉外部分に位置する原料ガス供給口１
１から炭化水素ガス（プロパン、メタン、ブタン等）と
空気とを所定割合となるように混合器１８で混合された
原料ガスが供給され、触媒層１２で吸熱型ガスに変成さ
れて吐出口９から炉内噴出し、炉内雰囲気ガスとなる。
１９，２０は流量計、２１は炭化水素ガス圧力調整器で
ある。
前記触媒層１２で原料ガスを吸熱型ガスに変成するのに
必要な熱量は、主として電気発熱体１６によるが、炉内
温度が高温であれば保熱部材６を介して利用する。ま
た、レトルト８内の温度は、前記熱電対１７からの信号
を温度調節計２２によって設定値と比較して開閉器２３
を開閉して電気発熱体１６の発熱量を制御して、前記触
媒層１２の温度を原料ガスの反応を十分に行わせるに足
る８００〜１０５０℃に維持されるようになっている。
必要な熱量は、主として電気発熱体１６によるが、炉内
温度が高温であれば保熱部材６を介して利用する。ま
た、レトルト８内の温度は、前記熱電対１７からの信号
を温度調節計２２によって設定値と比較して開閉器２３
を開閉して電気発熱体１６の発熱量を制御して、前記触
媒層１２の温度を原料ガスの反応を十分に行わせるに足
る８００〜１０５０℃に維持されるようになっている。
以上の説明で明らかなように、本考案にかかる吸熱型ガ
ス発生装置は炉に設置して使用するものであるから、従
来においては、冷却装置で一旦冷却した吸熱型ガスを昇
温していた昇温工程が不要である。したがって、従来、
変成炉加熱に約８００Ｋcal／m3，再加熱に約２５０Ｋc
al／m3必要であったものが、約２３０Ｋcal／m3でよ
く、大巾な省エネルギーを図ることができる。
ス発生装置は炉に設置して使用するものであるから、従
来においては、冷却装置で一旦冷却した吸熱型ガスを昇
温していた昇温工程が不要である。したがって、従来、
変成炉加熱に約８００Ｋcal／m3，再加熱に約２５０Ｋc
al／m3必要であったものが、約２３０Ｋcal／m3でよ
く、大巾な省エネルギーを図ることができる。
また、従来においては、熱処理炉の他に変成炉を設置し
なければならなかったが、本考案にかかる吸熱型ガス発
生装置は直接炉に取り付けるものであるから変成炉の設
置スペースが不要となり、スペースの有効利用をも可能
とする。
なければならなかったが、本考案にかかる吸熱型ガス発
生装置は直接炉に取り付けるものであるから変成炉の設
置スペースが不要となり、スペースの有効利用をも可能
とする。
さらに、触媒を粒状耐火物層間に位置させているので、
原料ガスは予熱される一方、触媒層の局部的（特に、下
部）な過熱あるいは温度低下がなく、また変成レトルト
本体を保熱部材で包囲しているとともに、電気発熱体を
変成レトルトを包囲するように近接配置し、かつ、変成
レトルトの近傍に設けた熱電対からの信号にもとづいて
前記電気発熱体の発熱量を制御しているので、炉温が一
時的に降下（バッチ式炉の材料装入時）しても、触媒層
の温度が一定に保持でき、さらに縦置きとするので、原
料ガスが触媒層内を完全に、かつ、均一に貫流すること
になり、成分の安定した吸熱型ガスを炉内に直接供給で
きる。
原料ガスは予熱される一方、触媒層の局部的（特に、下
部）な過熱あるいは温度低下がなく、また変成レトルト
本体を保熱部材で包囲しているとともに、電気発熱体を
変成レトルトを包囲するように近接配置し、かつ、変成
レトルトの近傍に設けた熱電対からの信号にもとづいて
前記電気発熱体の発熱量を制御しているので、炉温が一
時的に降下（バッチ式炉の材料装入時）しても、触媒層
の温度が一定に保持でき、さらに縦置きとするので、原
料ガスが触媒層内を完全に、かつ、均一に貫流すること
になり、成分の安定した吸熱型ガスを炉内に直接供給で
きる。
第１図は本考案にかかる吸熱型ガス発生装置を設けた熱
処理炉の断面図、第２図は吸熱型ガス発生装置の断面図
で、第３図は第２図のIII−III線断面図である。 Ｔ…熱処理炉、２…天井壁、５…吸熱型ガス発生装置、
６…保熱部材、７…断熱材、８…変成レトルト、９…変
成ガス吐出口、１１…原料ガス供給口、１２…触媒層、
１６…電気発熱体、１７…熱電対。
処理炉の断面図、第２図は吸熱型ガス発生装置の断面図
で、第３図は第２図のIII−III線断面図である。 Ｔ…熱処理炉、２…天井壁、５…吸熱型ガス発生装置、
６…保熱部材、７…断熱材、８…変成レトルト、９…変
成ガス吐出口、１１…原料ガス供給口、１２…触媒層、
１６…電気発熱体、１７…熱電対。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 昭53−115149（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭55−40645（ＪＰ，Ｂ２) 日本熱処理技術協会編「熱処理技術シリ ーズ３表面処理」第40頁（昭和45年４月30 日、日刊工業新聞社発行) 「ＨＥＡＴ ＴＲＥＡＴＭＥＮＴ ＯＦ ＭＥＴＡＬＳ」Ｐ．55〜64（特にＰ．58 〜59）1978年３月号
Claims (1)
- 【請求項１】熱処理炉外側に原料ガス供給口、炉内側に
変成ガス吐出口を有し触媒を粒状耐火物層間に充填した
変成レトルトを、断熱材を内張した保熱部材で包囲し、
前記変成レトルトと保熱部材との間に電気発熱体を該変
成レトルトを包囲するように近接配置するとともに、前
記変成レトルトの近傍に熱電対を設け、この熱電対から
の信号にもとづき前記電気発熱体の発熱量を制御して変
成レトルト内の触媒温度を所定温度に維持する一方、前
記変成レトルトを縦置きとすることを特徴とする炉内設
置型吸熱型ガス発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988003500U JPH0630267Y2 (ja) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | 炉内設置型吸熱型ガス発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988003500U JPH0630267Y2 (ja) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | 炉内設置型吸熱型ガス発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63149229U JPS63149229U (ja) | 1988-09-30 |
| JPH0630267Y2 true JPH0630267Y2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=30783313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988003500U Expired - Lifetime JPH0630267Y2 (ja) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | 炉内設置型吸熱型ガス発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630267Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4488782B2 (ja) * | 2004-04-02 | 2010-06-23 | 中外炉工業株式会社 | 浸炭用ガス製造装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53115149U (ja) * | 1977-02-21 | 1978-09-13 | ||
| JPS5540645U (ja) * | 1978-09-08 | 1980-03-15 |
-
1988
- 1988-01-13 JP JP1988003500U patent/JPH0630267Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 「ＨＥＡＴＴＲＥＡＴＭＥＮＴＯＦＭＥＴＡＬＳ」Ｐ．５５〜６４（特にＰ．５８〜５９）１９７８年３月号 |
| 日本熱処理技術協会編「熱処理技術シリーズ３表面処理」第４０頁（昭和４５年４月３０日、日刊工業新聞社発行） |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63149229U (ja) | 1988-09-30 |
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