JPH06299391A - Resin product subjected to partial plating - Google Patents

Resin product subjected to partial plating

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JPH06299391A
JPH06299391A JP8360493A JP8360493A JPH06299391A JP H06299391 A JPH06299391 A JP H06299391A JP 8360493 A JP8360493 A JP 8360493A JP 8360493 A JP8360493 A JP 8360493A JP H06299391 A JPH06299391 A JP H06299391A
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JP
Japan
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plating
parts
mark plate
boundary
electroplating
Prior art date
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Pending
Application number
JP8360493A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Ogisu
康彦 荻巣
Mamoru Kato
守 加藤
Nariyuki Takahashi
成幸 高橋
Riichi Funahashi
利一 舟橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyoda Gosei Co Ltd
Original Assignee
Toyoda Gosei Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyoda Gosei Co Ltd filed Critical Toyoda Gosei Co Ltd
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Publication of JPH06299391A publication Critical patent/JPH06299391A/en
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1646Characteristics of the product obtained
    • C23C18/165Multilayered product
    • C23C18/1653Two or more layers with at least one layer obtained by electroless plating and one layer obtained by electroplating

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Abstract

PURPOSE:To prevent 'blossoming' in the corner parts of boundary parts between the parts on the surface of a base material where plating is required and the parts where plating is not required by forming these boundary parts to an arc shape having a specific radius of curvature at the time of forming line grooves having an approximately V shape in section in the boundary parts. CONSTITUTION:The line grooves 5 having the approximately V shape in section are formed to a T shape in the boundary line parts between the parts of an approximately disk-shaped mark plate body 3 made of a resin where the plating is applied and the parts where the plating is not applied. Electroless plating layers 6 are formed exclusive of the bottoms 5a of the line grooves 5 when this mark plate body 3 is subjected to electroless plating. The electroless plating layers 6 of the parts where the plating is not required dissolve and the plating layers 4 consisting of the electroless plating layers 6 and electroplating layers 6 are formed only in the parts where the plating is required when only the parts where the plating is required is subjected to electroplating. The sectional shape of the boundary parts of the line grooves 5 and the surface of the mark plate body 3 are formed to the arc shape of >=0.2mm radius of curvature at this time. As a result, the generation of the 'blossoming' in the electroplating layers 7 is prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、樹脂製の基材の表面の
うち、めっきを必要とする部分にのみ部分的にめっきが
施された樹脂製品に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin product in which a portion of the surface of a resin base material that requires plating is partially plated.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の技術として、例えば特開
昭55−152195号公報及び特開昭52−5093
7号公報において提案されたものが知られている。これ
らの技術では、図11に示すように、樹脂製の基材21
の表面のうち、めっきを必要とする部分(図の左側)
と、めっきを必要としない部分(図の右側)との境界線
部分に、断面略V字状の条溝22が形成される。そし
て、前記基材21には、まず無電解めっきが施される。
このとき、条溝22の底部22aにおいては、隙間の間
隔が狭いため、めっき溶液が到達しない。従って、この
底部22aにはめっきが施されない。換言すれば、底部
22aを除くすべての部分には、無電解めっき層23が
形成される。
2. Description of the Related Art Conventionally, as this type of technique, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 55-152195 and 52-5093.
The one proposed in Japanese Patent Publication No. 7 is known. In these techniques, as shown in FIG.
Part of the surface that requires plating (left side of the figure)
And a groove 22 having a substantially V-shaped cross section is formed at a boundary line between the groove and a portion not requiring plating (right side in the drawing). Then, the base material 21 is first subjected to electroless plating.
At this time, the plating solution does not reach the bottom portion 22a of the groove 22 because the gap is narrow. Therefore, the bottom 22a is not plated. In other words, the electroless plating layer 23 is formed on all parts except the bottom part 22a.

【0003】次に、図12に示すように、無電解めっき
層23の形成された基材21を電気めっきに供する。す
なわち、同基材21を、所定の電気めっき液に浸漬し、
めっきを必要とする部分を電気的に導通させる。する
と、めっきを必要としない部分に形成された無電解めっ
き層23は、電気めっき液によって溶解される。また、
めっきを必要とする部分においては、無電解めっき層2
3の表面に、電気めっき層24が形成される。このよう
にして、基材21上には、めっきを必要とする部分にお
いてのみ、無電解めっき層23及び電気めっき層24が
形成される。つまり、上記工程を経ることにより、いわ
ゆる部分めっきの施された樹脂製品25が得られるので
ある。
Next, as shown in FIG. 12, the base material 21 on which the electroless plating layer 23 is formed is subjected to electroplating. That is, the base material 21 is immersed in a predetermined electroplating solution,
The portion requiring plating is electrically connected. Then, the electroless plating layer 23 formed in the portion that does not require plating is dissolved by the electroplating solution. Also,
The electroless plating layer 2 is used in the portion requiring plating.
An electroplating layer 24 is formed on the surface of No. 3. In this way, the electroless plating layer 23 and the electroplating layer 24 are formed on the base material 21 only in the portions that require plating. In other words, the so-called partially plated resin product 25 is obtained through the above steps.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術においては、基材21の表面に、単に断面略V字
状の条溝22が形成されているだけであった。このた
め、前記条溝22と、基材21のめっきを必要とする部
分との境界部分は、先端部の尖った角部26を有するこ
ととなっていた。従って、実際に無電解めっき及び電気
めっきを施した場合には、図13に示すように、該角部
26において特に電気めっき層24が堆積されやすくな
ってしまっていた。その結果、角部26において、電気
めっき層24が拡散形成されてしまう、いわゆる「花咲
き現象」の発生するおそれがあった。この場合には、め
っき部分の見切り線が不明瞭なものとなってしまい、外
観品質が低下してしまうおそれがあった。また、電気め
っき層24がめっきを必要としない部分にまで橋渡し的
に到達した場合には、該部分にまで電気めっき層24が
形成されてしまうおそれがあった。
However, in the above-mentioned prior art, only the groove 22 having a substantially V-shaped cross section is formed on the surface of the base material 21. For this reason, the boundary portion between the groove 22 and the portion of the base material 21 that requires plating has a sharp corner 26 at the tip. Therefore, when electroless plating and electroplating were actually performed, as shown in FIG. 13, the electroplating layer 24 was particularly likely to be deposited on the corner portion 26. As a result, there is a possibility that a so-called “flower bloom phenomenon” may occur in which the electroplating layer 24 is diffused and formed in the corner portion 26. In this case, the parting line of the plated portion becomes unclear, and the appearance quality may be deteriorated. Further, when the electroplating layer 24 reaches a portion that does not require plating in a bridging manner, the electroplating layer 24 may be formed even in that portion.

【0005】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、不必要な部分にはめっ
きが施されていないとともに、外観品質の向上を図るこ
とが可能な部分めっきの施された樹脂製品を提供するこ
とにある。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to coat unnecessary portions and to improve the appearance quality. To provide plated resin products.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、樹脂製の基材の表面のうち、めっきを
必要とする部分とめっきを必要としない部分との境界線
部分に、断面略V字状の条溝を環状に形成し、前記基材
に無電解めっきを施した後、めっきを必要とする部分に
電気めっきを施して、前記基材の表面のうち、めっきを
必要とする部分にのみ部分めっきの施された樹脂製品で
あって、前記条溝と前記基材の表面のめっきを必要とす
る部分との境界部分の断面形状を、曲率半径0.2mm
以上の円弧状に形成したことをその要旨としている。
In order to achieve the above object, in the present invention, in the surface of a resin base material, a boundary line between a portion requiring plating and a portion not requiring plating is provided. A groove having a V-shaped cross section is formed in an annular shape, electroless plating is performed on the base material, and then electroplating is performed on a portion requiring plating, and plating is required on the surface of the base material. A resin product in which only the portion to be subjected to partial plating is applied, and the cross-sectional shape of the boundary portion between the groove and the portion of the surface of the base material requiring plating has a curvature radius of 0.2 mm.
The gist of the above is to form the arc shape.

【0007】前記曲率半径が0.2mm未満の場合に
は、本発明の目的が達成されない場合がある。
If the radius of curvature is less than 0.2 mm, the object of the present invention may not be achieved.

【0008】[0008]

【作用】上記の構成によれば、樹脂製の基材の表面のう
ち、めっきを必要とする部分とめっきを必要としない部
分との境界線部分に、断面略V字状の条溝を形成され
る。そして、基材上に無電解めっきが施される。このと
き、条溝の底部にはめっき溶液が到達しないので、この
底部を除く部分において無電解めっきが施される。その
後、めっきを必要とする部分に電気めっきが施される。
このとき、めっき溶液により、めっきを必要としない部
分における無電解めっきが溶解される。そして、めっき
を必要とする部分にのみ、無電解めっきの施された上か
ら電気めっきが施される。
According to the above structure, a groove having a substantially V-shaped cross section is formed in the boundary line between the portion requiring plating and the portion not requiring plating on the surface of the resin base material. To be done. Then, electroless plating is performed on the base material. At this time, since the plating solution does not reach the bottom of the groove, electroless plating is performed on the portion other than the bottom. After that, electroplating is applied to a portion requiring plating.
At this time, the electroless plating in the portion which does not require plating is dissolved by the plating solution. Then, the electroless plating is applied only to the portion requiring the plating, and then the electroplating is applied.

【0009】このとき、条溝と、基材の表面のめっきを
必要とする部分との境界部分の断面形状が、その曲率半
径0.2mm以上の円弧状に形成されている。このた
め、この境界部分には、電気めっきが集中して堆積する
ことはなく、この部分においてめっき層が拡散形成され
ることがない。従って、確実にめっきを必要とする部分
にのみ、部分めっきが施される。また、めっき層の見切
り部分が外観上鮮明に形成される。
At this time, the cross-sectional shape of the boundary portion between the groove and the portion of the surface of the base material which requires plating is formed in an arc shape having a radius of curvature of 0.2 mm or more. Therefore, the electroplating is not concentrated and deposited on this boundary portion, and the plating layer is not diffused and formed in this portion. Therefore, the partial plating is performed only on the portion that definitely needs the plating. In addition, the parting portion of the plating layer is clearly formed in appearance.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図1〜
5に基づいて説明する。図2,3に示すように、自動車
の所定箇所には、樹脂製品としてのマークプレート2が
装着されるようになっている。マークプレート2の表面
には、「T」の文字をかたどったマーク1が形成されて
いる。マークプレート2は、略円盤形状をなしており、
ABS樹脂製の基材としてのマークプレート本体3と、
部分的に形成されためっき層4(図2の網目模様以外の
部分)とから構成されている。すなわち、図1〜3に示
すように、前記マーク1の表面には、「T」の文字を形
成すべく、環状で、断面略V字状の条溝5が3か所に形
成されている。これら条溝5により囲まれた部分(図2
の網目模様の部分)以外の部分に前記めっき層4が形成
されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment embodying the present invention will now be described with reference to FIGS.
It will be described based on 5. As shown in FIGS. 2 and 3, a mark plate 2 as a resin product is attached to a predetermined portion of an automobile. On the surface of the mark plate 2, a mark 1 in the shape of the letter "T" is formed. The mark plate 2 has a substantially disc shape,
A mark plate body 3 as a base material made of ABS resin,
It is composed of a partially formed plating layer 4 (a portion other than the mesh pattern in FIG. 2). That is, as shown in FIGS. 1 to 3, on the surface of the mark 1, three annular grooves 5 having a substantially V-shaped cross section are formed in order to form a letter “T”. . The part surrounded by these groove 5 (Fig. 2
The plating layer 4 is formed in a portion other than the (mesh pattern portion).

【0011】前記めっき層4は無電解めっき層6と、電
気めっき層7とからなっている。本実施例において、無
電解めっき層6はニッケルにより、厚さ「0.3〜0.
4μm」程度に形成されている。また、電気めっき層7
は、銅、ニッケル及びクロムの3種類の金属により厚さ
「20〜50μm」程度に形成され、多層構造をなして
いる。
The plating layer 4 comprises an electroless plating layer 6 and an electroplating layer 7. In the present embodiment, the electroless plating layer 6 is made of nickel and has a thickness of "0.3-0.
The thickness is about 4 μm ”. Also, the electroplating layer 7
Is formed of three kinds of metals such as copper, nickel and chromium to a thickness of about 20 to 50 μm, and has a multilayer structure.

【0012】また、前記条溝5は、幅Wが「0.5m
m」、深さDが「0.5mm」に形成されている。但
し、幅Wは、特に限定されるものではないが、加工上の
制限から「0.2mm」以上が好ましく、意匠性の向上
を図る意味で「1.0mm」以下が好ましい。また、深
さDについても、特に限定されるものではないが、同じ
く加工上の制限から「0.2mm」以上が好ましく、マ
ークプレート本体3の強度上の制約から「0.6mm」
以下が好ましい。また、幅Wに対する深さDの比(D/
W)は「1.0」以上が好ましい。
The width W of the groove 5 is "0.5 m".
m ”and the depth D are formed to be“ 0.5 mm ”. However, the width W is not particularly limited, but is preferably "0.2 mm" or more due to processing restrictions, and is preferably "1.0 mm" or less in order to improve the designability. The depth D is also not particularly limited, but is preferably "0.2 mm" or more due to the processing limitation, and "0.6 mm" due to the strength limitation of the mark plate body 3.
The following are preferred. Further, the ratio of the depth D to the width W (D /
W) is preferably "1.0" or more.

【0013】さらに、本実施例において、条溝5と、マ
ークプレート本体3表面との境界部分の断面形状は、湾
曲状に形成されている。より詳細に説明すると、境界部
分の断面形状は、曲率半径「0.2mm以上」(本実施
例では「0.3mm」)の円弧状に形成されている。な
お、前記条溝5は、マークプレート本体3を金型により
成形する際に、同時に形成されているものである。
Further, in this embodiment, the cross-sectional shape of the boundary portion between the groove 5 and the surface of the mark plate body 3 is formed in a curved shape. More specifically, the cross-sectional shape of the boundary portion is formed in an arc shape having a curvature radius of “0.2 mm or more” (“0.3 mm” in this embodiment). The groove 5 is formed at the same time when the mark plate body 3 is molded by a mold.

【0014】次に、上記のマークプレート2を製造する
際、すなわち、部分めっきを施す際の作用及びその効果
について説明する。まず、図4に示すように、公知の金
型成形法により、前述したような条溝5を有するマーク
プレート本体3を形成する。そして、図5に示すよう
に、このマークプレート本体3を無電解めっき溶液中に
浸漬し、無電解めっきを施す。このとき、条溝5の底部
5aにおいては、隙間の間隔が狭いため、めっき溶液が
到達しない。従って、この底部5aにはめっきが施され
ない。換言すれば、マークプレート本体3表面の底部5
aを除くすべての部分には、無電解めっき層6が形成さ
れる。
Next, the operation and effect of manufacturing the mark plate 2 described above, that is, when performing partial plating will be described. First, as shown in FIG. 4, the mark plate body 3 having the groove 5 as described above is formed by a known mold forming method. Then, as shown in FIG. 5, the mark plate body 3 is immersed in an electroless plating solution to perform electroless plating. At this time, the plating solution does not reach the bottom 5a of the groove 5 because the gap is narrow. Therefore, the bottom portion 5a is not plated. In other words, the bottom portion 5 of the surface of the mark plate body 3
The electroless plating layer 6 is formed on all parts except a.

【0015】次に、図1に示すように、無電解めっき層
6の形成されたマークプレート本体3を電気めっきに供
する。すなわち、同本体3を、所定の電気めっき溶液に
複数回浸漬するとともに、めっきを必要とする部分(マ
ーク1の先端側部分)を電気的に導通させる。すると、
めっきを必要としない部分に形成された無電解めっき層
6は、電気めっき液によって溶解される。また、めっき
を必要とする部分においては、無電解めっき層6の表面
に、前述した多層構造をなす電気めっき層7が形成され
る(図の左側)。このようにして、マーク1の先端側部
分においてのみ無電解めっき層6及び電気めっき層7の
形成されたマークプレート2が形成される。
Next, as shown in FIG. 1, the mark plate body 3 having the electroless plating layer 6 formed thereon is subjected to electroplating. That is, the main body 3 is dipped in a predetermined electroplating solution a plurality of times, and a portion requiring plating (a tip side portion of the mark 1) is electrically connected. Then,
The electroless plating layer 6 formed in the portion that does not require plating is dissolved by the electroplating solution. Further, the electroplating layer 7 having the above-described multilayer structure is formed on the surface of the electroless plating layer 6 in the portion requiring plating (on the left side of the figure). In this way, the mark plate 2 on which the electroless plating layer 6 and the electroplating layer 7 are formed is formed only on the tip side portion of the mark 1.

【0016】このとき、条溝5と、マークプレート本体
3との境界部分の断面形状が、その曲率半径「0.2m
m以上」の円弧状に形成されている。そのため、この境
界部分には、電気めっき層7が集中して堆積することは
なく、この部分において電気めっき層7が拡散形成され
ることがない。その結果、必要な箇所においてのみ、確
実に部分めっきを施すことができる。
At this time, the cross-sectional shape of the boundary between the groove 5 and the mark plate body 3 has a radius of curvature of 0.2 m.
It is formed in an arc shape of "m or more". Therefore, the electroplating layer 7 is not concentrated and deposited on this boundary portion, and the electroplating layer 7 is not diffused and formed in this portion. As a result, the partial plating can be surely performed only in the necessary place.

【0017】また、従来技術におけるような「花咲き現
象」が発生することはなく、めっき層4の見切り部分が
外観上鮮明に形成される。その結果、めっき層4の見切
り線をくっきりと明瞭なものとすることができ、ひいて
は外観品質の著しい向上を図ることができる。
Further, the "flowering phenomenon" as in the prior art does not occur, and the parting portion of the plating layer 4 is clearly formed in appearance. As a result, the parting line of the plating layer 4 can be made clear and clear, and the appearance quality can be remarkably improved.

【0018】なお、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で構成の一部
を適宜に変更して次のように実施することもできる。 (1)前記実施例では、条溝5と、マークプレート本体
3との境界部分のうち、図1の左右双方の境界部分の断
面形状を湾曲形成する構成としたが、図6に示すよう
に、部分めっきを必要とする部分の条溝8と、マークプ
レート本体9との境界部分(左側部分)のみの断面形状
を湾曲形成する構成としてもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, but may be implemented as follows with a part of the configuration appropriately changed without departing from the spirit of the invention. (1) In the above-described embodiment, the boundary shape between the groove 5 and the mark plate body 3 has a curved cross-sectional shape at both the left and right boundary portions in FIG. 1, but as shown in FIG. The cross-sectional shape of only the boundary portion (left side portion) between the groove 8 in the portion requiring partial plating and the mark plate body 9 may be curved.

【0019】また、図7に示すように、条溝10の断面
形状を全て円弧状として、直線部分を有しない形状のマ
ークプレート本体11を用いてもよい。さらに、図8に
示すように、条溝12を境として、めっき層4の形成さ
れる部分と、施されない部分との間に段差を有するマー
クプレート本体13を用いてもよい。
Further, as shown in FIG. 7, it is also possible to use a mark plate main body 11 having a shape in which all the cross-sectional shapes of the groove 10 are arcuate and having no linear portion. Further, as shown in FIG. 8, a mark plate body 13 having a step between the portion where the plating layer 4 is formed and the portion where the plating layer 4 is not formed may be used with the groove 12 as a boundary.

【0020】併せて、図9に示すように、斜面の中間点
に条溝14を有するマークプレート本体15を用いても
よい。加えて、図10に示すように、条溝16を凹部1
8のコーナー部分に有するマークプレート本体17を用
いてもよい。
In addition, as shown in FIG. 9, a mark plate body 15 having a groove 14 at the midpoint of the slope may be used. In addition, as shown in FIG.
You may use the mark plate main body 17 which has in the corner part of 8.

【0021】(2)前記実施例では、円盤形状のマーク
プレート2に本発明を具体化したが、マークプレート2
は円盤形状でなくともよい。また、前記実施例では、マ
ーク1の表面に「T」の字をかたどったものについて本
発明を具体化したが、めっきの施される部分の形状は特
に限定されるものではない。換言すれば、条溝5が環状
に形成されていれば、めっきの施される部分は、いかな
る形状を有していてもよい。
(2) In the above embodiment, the present invention is embodied in the disc-shaped mark plate 2, but the mark plate 2
Does not have to be disk-shaped. Further, although the present invention has been embodied in the above embodiment in which the surface of the mark 1 is shaped like a letter "T", the shape of the portion to be plated is not particularly limited. In other words, the plated portion may have any shape as long as the groove 5 is formed in an annular shape.

【0022】(3)前記実施例では、樹脂製品としてマ
ークプレート2に具体化したが、その外にも、フロント
グリル、ドアミラーブラケット用アウタパネル、バック
パネル、ルーバ、ピラーガーニッシュ、クォータベント
等の各種樹脂製品に具体化することもできる。また、こ
れらの基材を構成する樹脂素材は、ABSに限定される
ことなく、ポリプロピレン、ポリフェニンオキサイド、
ポリアミド、ポリスルフォン、ポリエステル等の各種樹
脂素材を用いてもよい。
(3) In the above embodiment, the mark plate 2 is embodied as a resin product. However, in addition to the mark plate 2, various resins such as a front grill, an outer panel for a door mirror bracket, a back panel, a louver, a pillar garnish, a quarter vent, etc. It can also be embodied in a product. Further, the resin material constituting these base materials is not limited to ABS, and polypropylene, polyphenine oxide,
Various resin materials such as polyamide, polysulfone, and polyester may be used.

【0023】(4)前記実施例では、無電解めっき層6
をニッケルにより形成したが、その外にも銅等により形
成してもよい。また、前記実施例では、電気めっき層7
を、銅、ニッケル及びクロムの3種類の金属により、多
層構造をなすように形成したが、これら以外の金属を用
いてもよいし、また、多層構造としない場合に具体化し
てもよい。
(4) In the above embodiment, the electroless plating layer 6
Although it is formed of nickel, it may be formed of copper or the like. Further, in the above embodiment, the electroplating layer 7
Was formed of three kinds of metals such as copper, nickel and chromium so as to form a multi-layer structure. However, a metal other than these may be used, or may be embodied when the multi-layer structure is not formed.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の部分めっ
きの施された樹脂製品によれば、必要な部分にのみ確実
に部分めっきを施すことができ、外観品質の向上を図る
ことができるという優れた効果を奏する。
As described above in detail, according to the partially plated resin product of the present invention, it is possible to surely perform the partial plating only on a necessary portion, and to improve the appearance quality. It has an excellent effect that it can be done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を具体化した一実施例における部分めっ
きの施されたマークプレートの要部を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a main part of a partially plated mark plate according to an embodiment of the present invention.

【図2】一実施例におけるマークプレートを模式的に示
す平面図である。
FIG. 2 is a plan view schematically showing a mark plate in one embodiment.

【図3】一実施例において、図2のA−A線断面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of FIG. 2 in one embodiment.

【図4】一実施例におけるマークプレート本体を示す要
部断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of essential parts showing a mark plate body in one embodiment.

【図5】一実施例におけるマークプレート本体上に無電
解めっきを施した状態を示す要部断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of essential parts showing a state in which electroless plating is applied to the mark plate body in one embodiment.

【図6】別の実施例における部分めっきの施されたマー
クプレートの要部を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the main parts of a partially plated mark plate according to another embodiment.

【図7】別の実施例における部分めっきの施されたマー
クプレートの要部を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a main part of a partially plated mark plate according to another embodiment.

【図8】別の実施例における部分めっきの施されたマー
クプレートの要部を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a main part of a partially plated mark plate according to another embodiment.

【図9】別の実施例における部分めっきの施されたマー
クプレートの要部を示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing the main parts of a partially plated mark plate according to another embodiment.

【図10】別の実施例における部分めっきの施されたマ
ークプレートの要部を示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing the main parts of a partially plated mark plate according to another embodiment.

【図11】従来技術における部分めっきの施された樹脂
製品の要部を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a main part of a resin product that is partially plated according to a conventional technique.

【図12】従来技術における基材上に無電解めっきを施
した状態を示す部分断面図である。
FIG. 12 is a partial cross-sectional view showing a state in which electroless plating is applied on a base material in the conventional technique.

【図13】従来技術における不具合の発生を示す部分断
面図である。
FIG. 13 is a partial cross-sectional view showing the occurrence of a problem in the conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3,9,11,13,15,17…基材としてのマーク
プレート本体、5,8,10,12,14,16…条
溝。
3, 9, 11, 13, 15, 17 ... Mark plate body as a base material, 5, 8, 10, 12, 14, 16 ... Strip grooves.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 成幸 愛知県西春日井郡春日町大字落合字長畑1 番地 豊田合成 株式会社内 (72)発明者 舟橋 利一 愛知県西春日井郡春日町大字落合字長畑1 番地 豊田合成 株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Naruyuki Takahashi No. 1 Nagahata, Ochiai, Kasuga-cho, Nishikasugai-gun, Aichi Toyoda Gosei Co., Ltd. Address: Toyoda Gosei Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂製の基材(3,9,11,13,1
5,17)の表面のうち、めっきを必要とする部分とめ
っきを必要としない部分との境界線部分に、断面略V字
状の条溝(5,8,10,12,14,16)を環状に
形成し、前記基材(3,9,11,13,15,17)
に無電解めっきを施した後、めっきを必要とする部分に
電気めっきを施して、前記基材(3,9,11,13,
15,17)の表面のうち、めっきを必要とする部分に
のみ部分めっきの施された樹脂製品であって、 前記条溝(5,8,10,12,14,16)と前記基
材(3,9,11,13,15,17)の表面のめっき
を必要とする部分との境界部分の断面形状を、曲率半径
0.2mm以上の円弧状に形成したことを特徴とする部
分めっきの施された樹脂製品。
1. A resin base material (3, 9, 11, 13, 1)
5, 17), a groove having a substantially V-shaped cross section (5, 8, 10, 12, 14, 16) at the boundary between the portion requiring plating and the portion not requiring plating. To form a ring, and the base material (3, 9, 11, 13, 15, 17)
After electroless plating on the base material, electroplating is performed on a portion requiring plating, and the base material (3, 9, 11, 13,
15 and 17) is a resin product in which the plating is performed only on a portion requiring plating, and the groove (5, 8, 10, 12, 14, 16) and the base material ( 3,9,11,13,15,17) of the partial plating characterized in that the cross-sectional shape of the boundary portion with the portion requiring plating of the surface is formed in an arc shape with a radius of curvature of 0.2 mm or more. The applied resin product.
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