JPH1121696A - Partially plated resin products and production thereof - Google Patents
Partially plated resin products and production thereofInfo
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- JPH1121696A JPH1121696A JP18138597A JP18138597A JPH1121696A JP H1121696 A JPH1121696 A JP H1121696A JP 18138597 A JP18138597 A JP 18138597A JP 18138597 A JP18138597 A JP 18138597A JP H1121696 A JPH1121696 A JP H1121696A
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Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂製の基材の表
面のうち、めっきを必要とする部分にのみ部分的にめっ
きが施された樹脂製品及びその製造方法に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin product in which only a portion of a surface of a resin base material that requires plating is partially plated, and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、この種の技術として、2つの技術
が知られている。第1の技術は、樹脂製の基材の表面の
うち、めっきを必要とする部分と、めっきを必要としな
い部分との境界線部分に、環状又は環状の一部をなすよ
うにレジスト塗装を施すものである。この技術において
は、前記基材表面に、まず無電解めっきが施される。こ
のとき、レジスト塗膜層上には、無電解めっき層は形成
されない。換言すれば、レジスト塗膜層を除くすべての
部分には、無電解めっき層が形成される。2. Description of the Related Art Conventionally, two techniques are known as this kind of technique. The first technique is to apply a resist coating so as to form a ring or a part of a ring on a boundary portion between a portion requiring plating and a portion not requiring plating on the surface of a resin base material. It is something to give. In this technique, first, electroless plating is applied to the surface of the base material. At this time, no electroless plating layer is formed on the resist coating layer. In other words, the electroless plating layer is formed on all parts except the resist coating layer.
【0003】次に、無電解めっき層の形成された基材を
電気めっきに供する。すなわち、同基材を、所定の電気
めっき液に浸漬し、めっきを必要とする部分を電気的に
導通させる。すると、めっきを必要としない部分に形成
された無電解めっき層は、電気めっき液等によって溶解
される。また、めっきを必要とする部分においては、無
電解めっき層の表面に、電気めっき層が形成される。こ
のようにして、基材上には、めっきを必要とする部分に
おいてのみ、無電解めっき層及び電気めっき層が形成さ
れる。つまり、上記工程を経ることにより、いわゆる部
分めっきの施された樹脂製品が得られるのである。[0003] Next, the substrate on which the electroless plating layer is formed is subjected to electroplating. That is, the base material is immersed in a predetermined electroplating solution to electrically conduct portions requiring plating. Then, the electroless plating layer formed in a portion that does not require plating is dissolved by an electroplating solution or the like. In portions requiring plating, an electroplating layer is formed on the surface of the electroless plating layer. In this way, the electroless plating layer and the electroplating layer are formed only on the portions requiring plating on the base material. That is, through the above steps, a so-called partially plated resin product is obtained.
【0004】ところが、上記レジスト塗装を施す技術に
おいては、レジスト塗装工程が別途必要になるため、作
業工数の増大を招いていた。また、電気めっき工程にお
いて、非めっき部分の電気的導通を完全に遮断すること
が困難であり、めっきむらが生じやすいという問題があ
った。また、めっき部分と非めっき部分との境界部分の
見切りがはっきりとせず、外観品質の向上を図ることが
困難であった。[0004] However, in the above-described technique of applying a resist coating, a separate resist coating step is required, which has led to an increase in man-hours. Further, in the electroplating step, it is difficult to completely shut off the electrical continuity of the non-plated portion, and there is a problem that uneven plating is apt to occur. In addition, the boundary between the plated portion and the non-plated portion was not clearly distinguished, and it was difficult to improve the appearance quality.
【0005】また、第2の技術は、例えば特開昭55−
152195号公報及び特開昭52−50937号公報
等において提案されたものである。すなわち、上記レジ
スト塗装に代えて、環状又は環状の一部をなすように断
面略V字状の条溝を形成するものである。かかる技術に
おいては、断面略V字状の条溝は、金型を用いた基材成
形時において、同時に形成されるものであるため、工程
数の増大を招くこともない。また、めっき部分と非めっ
き部分との境界部分の見切りがはっきりとしており、外
観品質の向上を図ることができる。The second technique is disclosed in, for example,
This has been proposed in JP-A-152195 and JP-A-52-50937. That is, instead of the resist coating, a groove having a substantially V-shaped cross section is formed so as to form a ring or a part of a ring. In such a technique, the grooves having a substantially V-shaped cross section are formed at the same time when the base material is formed using the mold, so that the number of steps does not increase. In addition, the boundary between the plated portion and the non-plated portion is clearly separated, and the appearance quality can be improved.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記第
2の従来技術においては、断面略V字状の条溝を金型に
より形成していたため、次に記すような問題があった。
すなわち、図3(b)に示すように、金型51の成形面
に対し、条溝に対応する微細かつ精度の高い凸条55を
形成しなければならず、金型加工が非常に困難であり、
金型51に要するコストの増大を招いていた。また、か
かる凸条55は、使用により摩耗するものであるため、
耐久性の面でも問題があった。さらに、同一形状の基材
に対し、異なっためっき部分を形成ようとした場合に
は、複数の金型を用いなければならなず、汎用性に乏し
いものとなっていた。However, in the second prior art, since the groove having a substantially V-shaped cross section is formed by a mold, there are the following problems.
That is, as shown in FIG. 3 (b), fine and high-accuracy ridges 55 corresponding to the grooves must be formed on the molding surface of the mold 51, and the mold processing is extremely difficult. Yes,
The cost required for the mold 51 has been increased. In addition, since such a ridge 55 is worn by use,
There was also a problem in terms of durability. Furthermore, when different plating portions are to be formed on a substrate having the same shape, a plurality of dies must be used, and the versatility is poor.
【0007】併せて、同図に示すように、金型51のパ
ーティングラインとの関係で、条溝に対応する部分がア
ンダーカット形状になる場合には、固定型52及び可動
型53に加えて、スライド型56,57等を別途用いる
必要があった。その結果、金型51の複雑化を招いた
り、形状の自由度が少ないものとなってしまうといった
問題があった。In addition, as shown in the figure, when the portion corresponding to the groove has an undercut shape in relation to the parting line of the mold 51, in addition to the fixed mold 52 and the movable mold 53, as shown in FIG. Therefore, it was necessary to separately use the slide dies 56, 57 and the like. As a result, there are problems that the mold 51 is complicated and the degree of freedom of the shape is reduced.
【0008】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、部分めっきの施された
樹脂製品を得るに際し、外観品質の向上を図ることがで
き、製造コストの低減、製品形状及びめっき形状の自由
度の増大、並びに基材成形用の金型の簡素化を図ること
のできる部分めっきの施された樹脂製品及びその製造方
法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to improve the appearance quality when obtaining a partially plated resin product, and to reduce the manufacturing cost. It is an object of the present invention to provide a partially plated resin product capable of reducing the size, increasing the degree of freedom of a product shape and a plating shape, and simplifying a mold for forming a base material, and a method of manufacturing the same.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明においては、樹脂製の基材の
表面のうち、めっきを必要とする部分とめっきを必要と
しない部分との境界線部分に、条溝を、環状をなすよう
に形成し、前記基材に無電解めっきを施した後、めっき
を必要とする部分に電気めっきを施すことにより、前記
基材の表面のうち、めっきを必要とする部分にのみめっ
き層を形成した樹脂製品であって、前記条溝は、レーザ
ー加工により形成されたものであることをその要旨とし
ている。In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a portion of the surface of a resin substrate that requires plating and a portion that does not require plating are provided. In the boundary line portion, a groove is formed so as to form an annular shape, and after applying electroless plating to the base material, electroplating is applied to a portion requiring plating, thereby forming a surface of the base material. Among them, the gist is that the resin product has a plating layer formed only on a portion requiring plating, and the groove is formed by laser processing.
【0010】また、請求項2に記載の発明では、樹脂製
の基材の表面のうち、めっきを必要とする部分とめっき
を必要としない部分との境界線部分に、環状をなすよう
にレーザー加工により条溝を形成する条溝形成工程と、
前記基材の表面の前記条溝を除く部分にエッチングを施
すエッチング工程と、前記エッチングの施された部位に
触媒核を付与する触媒核付与工程と、前記基材の表面の
前記条溝を除く部分に無電解めっき層を形成する無電解
めっき工程と、前記無電解めっき工程を経た前記基材に
形成された前記無電解めっき層のうち、めっきの必要な
部分を電気的に導通させて、前記無電解めっき層上のめ
っきの必要な部分に電気めっき層を形成する電気めっき
工程とを備えた部分めっきの施された樹脂製品の製造方
法をその要旨としている。[0010] According to the second aspect of the present invention, the laser is formed so as to form an annular shape at the boundary between the portion requiring plating and the portion not requiring plating on the surface of the resin base material. A groove forming step of forming a groove by processing,
An etching step of etching a portion of the surface of the base material other than the grooves, a catalyst nucleus providing step of providing a catalyst nucleus to the etched portion, and removing the grooves of the surface of the base material An electroless plating step of forming an electroless plating layer on a portion, of the electroless plating layer formed on the base material that has undergone the electroless plating step, electrically conducts a necessary portion of plating, A gist of the present invention is a method of manufacturing a partially plated resin product comprising: an electroplating step of forming an electroplating layer on a portion of the electroless plating layer that requires plating.
【0011】さらに、請求項3に記載の発明では、請求
項2に記載の部分めっきの施された樹脂製品の製造方法
において、前記電気めっき工程の後に、電気めっき層の
形成された部位をマスクにて被覆し、露出部分に対し、
塗装を施す塗装工程を設けたことをその要旨としてい
る。According to a third aspect of the present invention, in the method of manufacturing a partially plated resin product according to the second aspect, after the electroplating step, a portion where the electroplating layer is formed is masked. And cover the exposed part.
The gist is that a painting process for painting is provided.
【0012】併せて、請求項4に記載の発明では、請求
項2又は3に記載の部分めっきの施された樹脂製品の製
造方法において、前記条溝の深さは、0.5mm以上で
あることをその要旨としている。According to a fourth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a partially plated resin product according to the second or third aspect, the groove has a depth of 0.5 mm or more. That is the main point.
【0013】(作用)上記各発明によれば、樹脂製の基
材の表面のうち、めっきを必要とする部分とめっきを必
要としない部分との境界線部分に、環状又は環状の一部
をなすようにレーザー加工により条溝が形成される。(Effects) According to each of the above-mentioned inventions, a ring or a part of a ring is formed at the boundary between the portion requiring plating and the portion not requiring plating on the surface of the resin base material. The grooves are formed by laser processing as described.
【0014】このようにレーザー加工により条溝が形成
されることで、単に形状的に溝が形成されるのみなら
ず、条溝の表面部分は、化学的に分解している。このた
め、その後のエッチング工程においても、条溝に対応す
る基材表面は浸食されにくく、触媒核も形成されにくい
ものとなる。そのため、当該条溝には、無電解めっき層
は形成されない。つまり、基材表面の条溝を除く部分に
は、無電解めっき層が形成されることとなる。By forming the grooves by the laser processing in this way, not only the grooves are formed in shape, but also the surface portions of the grooves are chemically decomposed. Therefore, even in the subsequent etching step, the surface of the base material corresponding to the groove is hardly eroded, and the catalyst nucleus is hardly formed. Therefore, no electroless plating layer is formed in the groove. That is, an electroless plating layer is formed in a portion other than the grooves on the surface of the base material.
【0015】そして、その後の電気めっき工程において
は、めっき溶液等により、めっきを必要としない部分に
おける無電解めっきが溶解される。また、これととも
に、めっきを必要とする部分にのみ、無電解めっきの施
された上から電気めっきが施される。これにより、めっ
きの必要な部分にのみめっき層が形成された樹脂製品が
得られる。Then, in the subsequent electroplating step, the electroless plating is dissolved in portions that do not require plating by a plating solution or the like. At the same time, electroplating is performed only on portions that require plating after electroless plating is performed. As a result, a resin product in which a plating layer is formed only on a portion requiring plating can be obtained.
【0016】さて、本発明によれば、金型成形時に条溝
を形成していた従来技術と同様、条溝がめっき部分と非
めっき部分との境界部分となり、該境界部分の見切りが
はっきりとしたものとなる。なお、特に、請求項4に記
載の発明によれば、条溝の深さが0.5mm以上である
ため、上記作用がより確実に奏される。According to the present invention, as in the prior art in which the grooves were formed during the molding of the mold, the grooves serve as the boundary between the plated portion and the non-plated portion. It will be. In addition, in particular, according to the invention described in claim 4, since the depth of the groove is 0.5 mm or more, the above operation is more reliably achieved.
【0017】さらに、各発明では、条溝は、金型により
形成されるものではないため、金型に対し、条溝を形成
するための凸条を設ける必要がない。そのため、金型の
加工が容易になり、その分簡素なものとなる。また、凸
条の摩耗を懸念する必要もない。さらに、金型とは無関
係に、任意の部位に条溝を形成することが可能となる。Further, in each invention, since the groove is not formed by a mold, it is not necessary to provide a convex in the mold for forming the groove. Therefore, machining of the mold is facilitated, and the mold becomes simpler. Also, there is no need to worry about the wear of the ridges. Further, it is possible to form a groove at an arbitrary position irrespective of the mold.
【0018】併せて、請求項3に記載の発明によれば、
電気めっき工程の後に、電気めっき層の形成された部位
がマスクにて被覆され、露出部分に対し、塗装が施され
る。従って、塗装部分とめっき層部分との見切り外観が
さらに向上する。In addition, according to the third aspect of the present invention,
After the electroplating step, the portion where the electroplating layer is formed is covered with a mask, and the exposed portion is painted. Therefore, the parting appearance of the painted portion and the plating layer portion is further improved.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した一実施
の形態を図面に基づいて説明する。図1,2に示すよう
に、樹脂製品としてのプレート1は円板状をなし、その
正面側(図2の左側面)には、凹部2が形成されてい
る。本実施の形態におけるプレート1は、ABS樹脂製
の基材としてのプレート本体3と、部分的に形成された
めっき層4と、プレート本体3の表面において、前記め
っき層4を除く部位に形成された塗膜層5(図2におい
て網目模様を付した部分)とから構成されている。すな
わち、前記プレート1の側面には、断面略V字状をなす
条溝6が環状に形成されている。この条溝6により囲ま
れた部分に前記めっき層4が形成されているのである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIGS. 1 and 2, a plate 1 as a resin product has a disk shape, and a recess 2 is formed on the front side (the left side surface in FIG. 2). The plate 1 in the present embodiment is formed of a plate body 3 as a base material made of ABS resin, a plating layer 4 partially formed, and a portion of the surface of the plate body 3 other than the plating layer 4. And a coating layer 5 (a portion with a mesh pattern in FIG. 2). That is, on the side surface of the plate 1, a groove 6 having a substantially V-shaped cross section is formed in an annular shape. The plating layer 4 is formed in a portion surrounded by the groove 6.
【0020】図1に示すように、前記めっき層4は、無
電解めっき層7と、電気めっき層8とからなっている。
本実施の形態において、無電解めっき層7はニッケルに
より、厚さ「0.3〜0.4μm」程度に形成されてい
る。また、電気めっき層8は、銅、ニッケル及びクロム
の3種類の金属により厚さ「20〜50μm」程度に形
成され、例えばニッケルよりなるストライクめっき層、
銅めっき層、半光沢ニッケルめっき層、光沢ニッケルめ
っき層及びクロムめっき層(いずれも図示せず)の順よ
りなる各種金属により形成されている。As shown in FIG. 1, the plating layer 4 includes an electroless plating layer 7 and an electroplating layer 8.
In the present embodiment, the electroless plating layer 7 is formed of nickel to a thickness of about “0.3 to 0.4 μm”. The electroplating layer 8 is formed of three kinds of metals, copper, nickel, and chromium, to a thickness of about “20 to 50 μm”, for example, a strike plating layer made of nickel,
It is formed of various metals in the order of a copper plating layer, a semi-bright nickel plating layer, a bright nickel plating layer, and a chromium plating layer (all not shown).
【0021】また、無電解めっき層7を構成する際のめ
っき溶液について説明すると、無電解めっき溶液は、硫
酸ニッケル26g/L、エチレンジアミン90g/L、
次亜リン酸ナトリウム11g/L等を含有している。The plating solution for forming the electroless plating layer 7 will be described below. The electroless plating solution is composed of nickel sulfate 26 g / L, ethylenediamine 90 g / L,
It contains 11 g / L of sodium hypophosphite.
【0022】さらに、上記電気めっき層8を構成する各
金属めっきを形成する際の各種めっき溶液について説明
すると、前記ストライクめっき層を形成する際のめっき
溶液は、硫酸ニッケル250g/L、塩化ニッケル30
g/L及び硼酸30g/Lを含有している。銅めっき層
を形成する際のめっき溶液は、硫酸銅200g/L、硫
酸50g/L、塩酸0.01g/L及び微量の光沢剤を
含有している。さらに、半光沢ニッケルめっき層を形成
する際のめっき溶液は、硫酸ニッケル280g/L、塩
化ニッケル45g/L、硼酸40g/L及び微量の光沢
剤を含有している。併せて、光沢ニッケルめっき層を形
成する際のめっき溶液は、硫酸ニッケル240g/L、
塩化ニッケル45g/L、硼酸30g/L並びに微量の
光沢剤及び添加剤を含有している。加えて、クロムめっ
き層を形成する際のめっき溶液は、無水クロム酸250
g/L、ケイフッ化ナトリウム10g/L、硫酸1g/
Lを含有している。Further, various plating solutions for forming each metal plating constituting the electroplating layer 8 will be described. The plating solution for forming the strike plating layer is nickel sulfate 250 g / L, nickel chloride 30
g / L and 30 g / L boric acid. The plating solution for forming the copper plating layer contains 200 g / L of copper sulfate, 50 g / L of sulfuric acid, 0.01 g / L of hydrochloric acid, and a slight amount of brightener. Further, the plating solution for forming the semi-bright nickel plating layer contains 280 g / L of nickel sulfate, 45 g / L of nickel chloride, 40 g / L of boric acid, and a trace amount of brightener. In addition, the plating solution for forming the bright nickel plating layer is nickel sulfate 240 g / L,
It contains 45 g / L of nickel chloride, 30 g / L of boric acid and trace amounts of brighteners and additives. In addition, the plating solution for forming the chromium plating layer is chromic anhydride 250
g / L, sodium silicofluoride 10 g / L, sulfuric acid 1 g /
Contains L.
【0023】さらに、前記条溝6のサイズについては、
例えば幅Wが「0.7mm」、深さDが「1.2mm」
に形成されている。但し、幅Wは、特に限定されるもの
ではないが、加工上の制限から「0.3mm」以上が好
ましく、意匠性の向上を図る意味で「1.0mm」以下
が好ましい。また、深さDについては、「0.5mm」
以上である必要がある。さらに、深さDについては、
「0.9mm」以上であることがより好ましく、「1.
2mm」以上がなお一層好ましい。本実施の形態におい
て、条溝6は、レーザー加工により形成されている。Further, regarding the size of the groove 6,
For example, the width W is “0.7 mm” and the depth D is “1.2 mm”
Is formed. However, the width W is not particularly limited, but is preferably “0.3 mm” or more from the viewpoint of processing, and is preferably “1.0 mm” or less from the viewpoint of improving design. For the depth D, “0.5 mm”
It is necessary to be above. Further, for the depth D,
It is more preferably at least “0.9 mm”, and “1.
2 mm "or more is still more preferable. In the present embodiment, the groove 6 is formed by laser processing.
【0024】次に、上記のように構成されてなるプレー
ト1の製造方法について説明する。まず、プレート本体
3の成形に際しては、図3(a)に示すような金型11
が用いられる。すなわち、金型11は、固定型12及び
該固定型12に対し接離可能に設けられた可動型13を
備えており、これら両型12,13の成形面によりプレ
ート本体3を形成するためのキャビティ14が構成され
ている。ここで、参考のために再度従来の金型51につ
いて説明すると、図3(b)に示すように、従来の金型
51は、固定型52及び可動型53を備えているととも
に、スライド型56,57をも有していた。これは、条
溝を基材の成形と同時に作製する必要があったため、条
溝に対応する凸条55を金型51に一体的に形成する必
要があるが、凸条55がアンダーカット形状になってお
り、構成上1つの固定型52及び1つの可動型53のみ
では構成できなかったためである。このように、本実施
の形態では、金型11は、その構成において、非常に簡
素なものとなっている。Next, a method of manufacturing the plate 1 configured as described above will be described. First, at the time of molding the plate body 3, a mold 11 as shown in FIG.
Is used. That is, the mold 11 includes a fixed mold 12 and a movable mold 13 provided so as to be able to contact and separate from the fixed mold 12. A cavity 14 is formed. Here, the conventional mold 51 will be described again for reference. As shown in FIG. 3B, the conventional mold 51 includes a fixed mold 52 and a movable mold 53 and a slide mold 56. , 57 as well. This is because it is necessary to form the groove at the same time as the molding of the base material, and thus it is necessary to integrally form the ridge 55 corresponding to the groove in the mold 51, but the ridge 55 has an undercut shape. This is because it was not possible to configure only one fixed mold 52 and one movable mold 53 due to the configuration. Thus, in the present embodiment, the mold 11 is very simple in its configuration.
【0025】そして、公知の射出成形法により、前記キ
ャビティ14内に、溶融されたABS樹脂を射出し、充
填する。樹脂が冷却され、固化されたならば、両型1
2,13を開き、プレート本体3を取り出す。このよう
にして、図4に示すように、正面側のほぼ中央に凹部2
の形成されたプレート本体3が得られる。Then, the melted ABS resin is injected and filled into the cavity 14 by a known injection molding method. Once the resin has cooled and solidified,
2 and 13 are opened, and the plate body 3 is taken out. In this way, as shown in FIG.
Is obtained.
【0026】続いて、上記のプレート本体3に対しレー
ザー加工を施す。すなわち、図5に示すように、めっき
層4と、塗膜層5との境界部分にレーザー加工装置(例
えば株式会社精電舎製)15を用いて、所定の走査速度
(例えば1m/分)、所定の出力(例えば25W)でも
ってレーザー光線を照射する。すると、レーザー光線が
照射された部位は、断面略V字状に抉られるとともに、
ABS樹脂が化学分解を起こす。より詳しくは、ABS
樹脂のブタジエン成分の2重結合が解裂分解し、分子量
低下が起こる。そして、このようなレーザー加工を施す
ことにより、プレート本体3の側面には、上述した断面
略V字状の条溝6が環状に形成される。Subsequently, laser processing is performed on the plate body 3. That is, as shown in FIG. 5, a predetermined scanning speed (for example, 1 m / min) is applied to a boundary portion between the plating layer 4 and the coating film layer 5 by using a laser processing device (for example, Seidensha Co., Ltd.) 15. A laser beam is irradiated with a predetermined output (for example, 25 W). Then, the portion irradiated with the laser beam is hollowed out in a substantially V-shaped cross section,
ABS resin undergoes chemical decomposition. More specifically, ABS
The double bond of the butadiene component of the resin is cleaved and decomposed, resulting in a decrease in molecular weight. By performing such laser processing, the above-described groove 6 having a substantially V-shaped cross section is formed in an annular shape on the side surface of the plate body 3.
【0027】次に、条溝6の形成されたプレート本体3
に、エッチング加工を施す。すなわち、酸、アルカリ脱
脂後、クロム酸400g/L、硫酸200ml/Lを含
有してなるエッチング溶液(約70℃)に7〜15分間
浸漬する。これにより、図6に示すように、プレート本
体3の表面の前記条溝6を除く部分に無数のエッチング
痕16が形成される。ここで、条溝6にエッチング痕1
6が形成されないのは、条溝6内にエッチング溶液が浸
入しにくいこと、及び、上記化学的な変化により、条溝
6の部分はエッチング溶液に侵されにくくなっているこ
と等が考えられる。Next, the plate body 3 having the grooves 6 formed thereon
Is subjected to an etching process. That is, after degreasing with acid and alkali, it is immersed in an etching solution (about 70 ° C.) containing 400 g / L of chromic acid and 200 ml / L of sulfuric acid for 7 to 15 minutes. Thereby, as shown in FIG. 6, innumerable etching marks 16 are formed on the surface of the plate body 3 except for the grooves 6. Here, the etching trace 1 is formed in the groove 6.
It is considered that the reason why the grooves 6 are not formed is that the etching solution hardly penetrates into the grooves 6 and that the portions of the grooves 6 are hardly affected by the etching solution due to the chemical change.
【0028】さらに、上記エッチング工程を経たプレー
ト本体3を中和処理した後、キャタリスト工程へ供す
る。ここで、キャタリスト工程とは、上記エッチング痕
16に無電解めっき用の触媒核17を付与する工程であ
る。本実施の形態では、塩化パラジウム0.2g/L、
塩化第一錫50g/L、錫酸ソーダ5g/L、塩酸35
0ml/Lを含有してなるキャタリスト液(約30℃)
中に、プレート本体3が1〜5分浸漬される。これによ
り、図7に示すように、前記エッチング痕16には、触
媒核17が付与される。Further, after the plate body 3 having undergone the above etching step is neutralized, the plate body 3 is subjected to a catalyst step. Here, the catalyst step is a step of applying a catalyst core 17 for electroless plating to the etching trace 16. In the present embodiment, 0.2 g / L of palladium chloride,
Stannous chloride 50 g / L, sodium stannate 5 g / L, hydrochloric acid 35
Catalyst solution containing 0 ml / L (about 30 ° C)
The plate body 3 is immersed therein for 1 to 5 minutes. As a result, as shown in FIG. 7, catalyst nuclei 17 are provided on the etching marks 16.
【0029】次いで、エッチング痕16に触媒核17が
付与されたプレート本体3を無電解めっき溶液中に浸漬
し、無電解めっきを施す。このとき、図8に示すよう
に、条溝6に対応する部分のプレート本体3の表面にお
いては、エッチングが施されず、かつ、触媒核17も付
与されないため、めっきは成長せず、無電解めっき層7
は形成されない。換言すれば、プレート本体3表面の条
溝6が形成された部分を除くすべての部分には、無電解
めっき層7が形成される。Next, the plate body 3 in which the catalyst nucleus 17 is provided on the etching mark 16 is immersed in an electroless plating solution to perform electroless plating. At this time, as shown in FIG. 8, the surface of the plate body 3 corresponding to the groove 6 is not etched and the catalyst nucleus 17 is not provided. Plating layer 7
Is not formed. In other words, the electroless plating layer 7 is formed on all portions of the surface of the plate body 3 except for the portions where the grooves 6 are formed.
【0030】さらに、図9に示すように、無電解めっき
層7の形成されたプレート本体3を電気めっきに供す
る。より詳しく説明すると、この電気めっき工程は、ス
トライクめっき工程、銅めっき工程、半光沢ニッケルめ
っき工程、光沢ニッケルめっき工程及びクロムめっき工
程等の複数の工程よりなる。すなわち、同プレート本体
3を、前述した所定の各電気めっき溶液に複数回浸漬す
るとともに、そのめっき溶液中においてめっきを必要と
する部分を電気的に導通させる。Further, as shown in FIG. 9, the plate body 3 on which the electroless plating layer 7 is formed is subjected to electroplating. More specifically, the electroplating step includes a plurality of steps such as a strike plating step, a copper plating step, a semi-bright nickel plating step, a bright nickel plating step, and a chromium plating step. That is, the plate body 3 is immersed a plurality of times in each of the above-described predetermined electroplating solutions, and a portion requiring plating in the plating solution is electrically conducted.
【0031】すると、めっきを必要としない部分に形成
された無電解めっき層7は、電気めっき溶液によって溶
解される(図9の右側)。また、めっきを必要とする部
分においては、無電解めっき層7の表面に、前述した多
層構造をなす電気めっき層8が形成される。このように
して、めっきを必要とする部分においてのみ無電解めっ
き層7及び電気めっき層8(めっき層4)の形成された
プレート本体3が得られる。Then, the electroless plating layer 7 formed in a portion not requiring plating is dissolved by the electroplating solution (right side in FIG. 9). Further, in portions requiring plating, the electroplating layer 8 having the above-described multilayer structure is formed on the surface of the electroless plating layer 7. In this way, the plate body 3 on which the electroless plating layer 7 and the electroplating layer 8 (plating layer 4) are formed only in a portion requiring plating is obtained.
【0032】その後、図10に示すように、めっき層4
の形成された部分を、電鋳マスク18で被覆する。この
電鋳マスク18で被覆されない部分は露出しており、該
露出部分に向けて、スプレー塗装を施す。この塗装によ
り、塗膜の必要な箇所には塗膜層5が形成される。な
お、図中、無電解めっき層7、電気めっき層8、塗膜層
5、条溝6、エッチング痕16等については、説明の便
宜上、実際よりも大きく描かれているものもある。Thereafter, as shown in FIG.
Is formed with an electroformed mask 18. The portion not covered with the electroformed mask 18 is exposed, and spray coating is applied to the exposed portion. By this coating, the coating film layer 5 is formed at a necessary portion of the coating film. In the drawings, some of the electroless plating layers 7, the electroplating layers 8, the coating layers 5, the grooves 6, the etching marks 16, and the like are drawn larger than the actual ones for convenience of explanation.
【0033】そして、塗膜層5が形成された後、電鋳マ
スク18の被覆を解除することにより、図2に示すよう
な最終的な樹脂製品たるプレート1が得られる。次に、
本実施の形態の作用及び効果について説明する。After the coating layer 5 is formed, the coating of the electroformed mask 18 is released to obtain the final resin product plate 1 as shown in FIG. next,
The operation and effect of the present embodiment will be described.
【0034】・本実施の形態によれば、樹脂製のプレー
ト本体3の表面のうち、めっきを必要とする部分とめっ
きを必要としない部分との境界線部分に、環状の条溝6
がレーザー加工により形成される。このようにレーザー
加工により条溝6が形成されることで、単に形状的に溝
が形成されるのみならず、条溝6の表面部分は、化学的
に分解している。このため、その後、当該部分は、エッ
チングが施されず、触媒核も付与されず、そのため、無
電解めっき層7は形成されない。従って、その後の電気
めっき工程において、めっき溶液により、めっきを必要
としない部分における無電解めっき層7が溶解され、こ
れとともに、めっきを必要とする部分にのみ、電気めっ
き層8が形成される。そのため、めっきの必要な部分に
のみ、部分的にめっきを施すことができる。According to the present embodiment, the annular groove 6 is formed at the boundary between the portion requiring plating and the portion not requiring plating on the surface of the resin plate body 3.
Are formed by laser processing. By forming the grooves 6 by the laser processing in this way, not only are grooves formed simply in shape, but also the surface portions of the grooves 6 are chemically decomposed. Therefore, thereafter, the portion is not subjected to the etching and the catalyst nucleus is not provided, so that the electroless plating layer 7 is not formed. Therefore, in the subsequent electroplating step, the electroless plating layer 7 is dissolved by the plating solution in the portion not requiring plating, and the electroplating layer 8 is formed only in the portion requiring plating. Therefore, plating can be partially applied only to a portion requiring plating.
【0035】・また、本実施の形態によれば、金型成形
時に条溝を形成していた従来技術と同様、条溝6がめっ
き部分と非めっき部分との境界部分となり、該境界部分
の見切りがはっきりとしたものとなる。特に、本実施の
形態によれば、条溝6の深さが「1.2mm」と比較的
深いため、上記作用効果がより確実に奏される。According to the present embodiment, similarly to the prior art in which the grooves are formed during the molding of the mold, the grooves 6 serve as the boundary between the plated portion and the non-plated portion. Clearing is clear. In particular, according to the present embodiment, since the depth of the groove 6 is relatively deep as “1.2 mm”, the above-described operation and effect can be more reliably achieved.
【0036】・加えて、本実施の形態によれば、電気め
っき工程の後に、電気めっき層8の形成された部位が電
鋳マスク18で被覆され、露出部分に対し、塗装が施さ
れる。従って、塗膜層5とめっき層4との境界部分の見
切り外観の向上を図ることができる。In addition, according to the present embodiment, after the electroplating step, the portion where the electroplating layer 8 is formed is covered with the electroformed mask 18 and the exposed portion is painted. Therefore, the appearance of the boundary between the coating layer 5 and the plating layer 4 can be improved.
【0037】・さらに、本実施の形態では、条溝6は、
金型により形成されるものではないため、金型11に対
し、条溝6を形成するための凸条を設ける必要がない。
そのため、金型11の加工が容易になり、その分簡素化
を図ることができる。また、従来凸条を形成することに
より必要となっていたスライド金型等も不要となること
から、かかる点でも金型11の簡素化を図ることができ
る。その結果、コストの飛躍的な低減を図ることができ
る。Further, in the present embodiment, the groove 6 is
Since it is not formed by a mold, it is not necessary to provide a protrusion on the mold 11 for forming the groove 6.
Therefore, processing of the mold 11 is facilitated, and simplification can be achieved accordingly. In addition, since a slide mold or the like, which is conventionally required by forming a convex strip, is not required, the mold 11 can be simplified in this respect. As a result, the cost can be drastically reduced.
【0038】・また、凸条の摩耗を懸念する必要もな
い。その結果、金型11の耐久性の向上をも図ることが
できる。 ・併せて、金型11とは無関係に、レーザー加工により
任意の部位に条溝6を形成することができる。その結
果、製品形状及びめっき形状の自由度の増大を図ること
ができる。There is no need to worry about wear of the ridges. As a result, the durability of the mold 11 can be improved. In addition, irrespective of the mold 11, the groove 6 can be formed at an arbitrary portion by laser processing. As a result, the degree of freedom of the product shape and the plating shape can be increased.
【0039】尚、本発明は前記実施の形態に限定される
ものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で構成の一
部を適宜に変更して次のように実施することもできる。 (1)前記実施の形態では、円板状のプレート1に本発
明を具体化したが、例えば、車両用のフロントグリル、
ドアミラーブラケット用アウタカバー、車両用のバック
パネル、車両用のルーバ、車両用のピラーガーニッシ
ュ、車両用のクォータベント、マークプレート等に具体
化してもよい。また、上記の樹脂製品に限定されるもの
ではなく、部分的にめっき層を有するその他の樹脂製品
に本発明を具体化してもよい。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and may be carried out as follows by appropriately changing a part of the configuration without departing from the spirit of the invention. (1) In the above embodiment, the present invention is embodied in a disk-shaped plate 1. For example, a front grill for a vehicle,
It may be embodied as an outer cover for a door mirror bracket, a back panel for a vehicle, a louver for a vehicle, a pillar garnish for a vehicle, a quarter vent for a vehicle, a mark plate, or the like. Further, the present invention is not limited to the above resin products, and the present invention may be embodied in other resin products having a plating layer partially.
【0040】また、塗膜層を有しないものに具体化して
もよい。 (2)前記実施の形態では、基材を構成する樹脂素材と
して、ABS樹脂を採用したが、その外にも例えばポリ
プロピレン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアミド、
ポリスルフォン、ポリエステル等の各種樹脂素材を用い
てもよい。Further, the present invention may be embodied without a coating layer. (2) In the above embodiment, the ABS resin is used as the resin material constituting the base material. However, for example, polypropylene, polyphenylene oxide, polyamide,
Various resin materials such as polysulfone and polyester may be used.
【0041】(3)前記実施の形態では、無電解めっき
層7をニッケルにより形成したが、その外にも銅等によ
り形成してもよい。また、前記実施の形態では、電気め
っき層8を、銅、ニッケル及びクロムの3種類の金属に
より、多層構造をなすように形成したが、これら以外の
金属を用いてもよいし、また、多層構造としない場合に
具体化してもよい。(3) In the above embodiment, the electroless plating layer 7 is formed of nickel, but may be formed of copper or the like. Further, in the above-described embodiment, the electroplating layer 8 is formed of a three-layered metal of copper, nickel, and chromium so as to form a multilayer structure. However, other metals may be used. The present invention may be embodied when the structure is not used.
【0042】(4)前記実施の形態において、ストライ
クめっき層を形成する前段階において、所定の溶液(例
えばアンモニア水溶液等)を用いて、めっきの不必要な
部分の無電解めっき層7を溶解するようにしてもよい。
この場合には、その後の電気めっき工程において、めっ
き溶液中に不要な無電解めっき層7が溶解することが防
止され、該めっき溶液の汚染を未然に防止することがで
きる。(4) In the above embodiment, before the formation of the strike plating layer, the electroless plating layer 7 in the unnecessary portion of plating is dissolved by using a predetermined solution (for example, an aqueous ammonia solution). You may do so.
In this case, in the subsequent electroplating step, unnecessary electroless plating layer 7 is prevented from being dissolved in the plating solution, and contamination of the plating solution can be prevented.
【0043】[0043]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の部分めっ
きの施された樹脂製品及びその製造方法によれば、部分
めっきの施された樹脂製品を得るに際し、外観品質の向
上を図ることができ、製造コストの低減、製品形状及び
めっき形状の自由度の増大、並びに基材成形用の金型の
簡素化を図ることができるという従来にはない優れた効
果を奏する。As described above in detail, according to the partially plated resin product and the method of manufacturing the same of the present invention, the appearance quality is improved when the partially plated resin product is obtained. Thus, the present invention has an unprecedented excellent effect that the manufacturing cost can be reduced, the degree of freedom of the product shape and the plating shape can be increased, and the mold for forming the base material can be simplified.
【図1】本発明を具体化した一実施の形態における部分
めっきの施されたプレートの拡大断面図であって、図2
のA−A線断面図。FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a partially plated plate according to an embodiment of the present invention.
Sectional view on the AA line of FIG.
【図2】プレートを示す斜視図。FIG. 2 is a perspective view showing a plate.
【図3】(a)は本実施の形態の金型を示す断面図であ
り、(b)は従来技術における金型を示す断面図。FIG. 3A is a cross-sectional view illustrating a mold according to the present embodiment, and FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating a mold according to the related art.
【図4】プレート本体を示す斜視図。FIG. 4 is a perspective view showing a plate body.
【図5】プレート本体にレーザー加工を施している状態
を示す斜視図。FIG. 5 is a perspective view showing a state where laser processing is performed on the plate body.
【図6】プレート本体をエッチング加工した状態を示す
拡大断面図。FIG. 6 is an enlarged sectional view showing a state where the plate body is etched.
【図7】触媒核を付与した状態を示す拡大断面図。FIG. 7 is an enlarged sectional view showing a state where a catalyst nucleus is provided.
【図8】無電解めっきを施した状態を示す拡大断面図。FIG. 8 is an enlarged sectional view showing a state where electroless plating is performed.
【図9】電気めっきを施した状態を示す拡大断面図。FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing a state where electroplating is performed.
【図10】塗装を施した状態を示す拡大断面図。FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view showing a state in which painting is performed.
1…樹脂製品としてのプレート、3…基材としてのプレ
ート本体、4…めっき層、5…塗膜層、6…条溝、7…
無電解めっき層、8…電気めっき層、11…金型、15
…レーザー加工装置。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plate as a resin product, 3 ... Plate body as a base material, 4 ... Plating layer, 5 ... Coating layer, 6 ... Groove, 7 ...
Electroless plating layer, 8: electroplating layer, 11: mold, 15
... Laser processing equipment.
Claims (4)
要とする部分とめっきを必要としない部分との境界線部
分に、条溝を、環状をなすように形成し、前記基材に無
電解めっきを施した後、めっきを必要とする部分に電気
めっきを施すことにより、前記基材の表面のうち、めっ
きを必要とする部分にのみめっき層を形成した樹脂製品
であって、 前記条溝は、レーザー加工により形成されたものである
ことを特徴とする部分めっきの施された樹脂製品。1. A method according to claim 1, wherein, on the surface of the resin base material, a groove is formed in an annular shape at a boundary between a portion requiring plating and a portion not requiring plating, and After applying electroless plating, by applying electroplating to a portion requiring plating, a resin product having a plating layer formed only on a portion requiring plating on the surface of the base material, The groove is formed by laser processing, wherein the resin product is partially plated.
要とする部分とめっきを必要としない部分との境界線部
分に、環状をなすようにレーザー加工により条溝を形成
する条溝形成工程と、 前記基材の表面の前記条溝を除く部分にエッチングを施
すエッチング工程と、 前記エッチングの施された部位に触媒核を付与する触媒
核付与工程と、 前記基材の表面の前記条溝を除く部分に無電解めっき層
を形成する無電解めっき工程と、 前記無電解めっき工程を経た前記基材に形成された前記
無電解めっき層のうち、めっきの必要な部分を電気的に
導通させて、前記無電解めっき層上のめっきの必要な部
分に電気めっき層を形成する電気めっき工程とを備えた
ことを特徴とする部分めっきの施された樹脂製品の製造
方法。2. A groove formed by laser processing so as to form an annular shape at a boundary portion between a portion requiring plating and a portion not requiring plating on the surface of a resin base material. A forming step, an etching step of etching a portion of the surface of the base material other than the grooves, a catalyst nucleus providing step of providing a catalyst nucleus to a portion on which the etching is performed, and An electroless plating step of forming an electroless plating layer in a portion other than the groove, and, of the electroless plating layer formed on the base material that has undergone the electroless plating step, electrically necessary portions of the electroless plating layer are plated. An electroplating step of forming an electroplating layer on a portion of the electroless plating layer where plating is required by conducting the electroplating layer, a method of manufacturing a partially plated resin product.
層の形成された部位をマスクにて被覆し、露出部分に対
し、塗装を施す塗装工程を設けたことを特徴とする請求
項2に記載の部分めっきの施された樹脂製品の製造方
法。3. The method according to claim 2, further comprising, after the electroplating step, a coating step of coating a portion where the electroplating layer is formed with a mask and coating the exposed portion. Method for manufacturing resin products with partial plating.
ることを特徴とする請求項2又は3に記載の部分めっき
の施された樹脂製品の製造方法。4. The method according to claim 2, wherein the groove has a depth of 0.5 mm or more.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18138597A JPH1121696A (en) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | Partially plated resin products and production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18138597A JPH1121696A (en) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | Partially plated resin products and production thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1121696A true JPH1121696A (en) | 1999-01-26 |
Family
ID=16099818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18138597A Pending JPH1121696A (en) | 1997-07-07 | 1997-07-07 | Partially plated resin products and production thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1121696A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015108247A1 (en) * | 2014-01-20 | 2015-07-23 | 주식회사 부광피엘 | Synthetic resin product plating method |
JP2016165831A (en) * | 2015-03-09 | 2016-09-15 | トリニティ工業株式会社 | Manufacturing method of decorative part and laser decorative device |
-
1997
- 1997-07-07 JP JP18138597A patent/JPH1121696A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015108247A1 (en) * | 2014-01-20 | 2015-07-23 | 주식회사 부광피엘 | Synthetic resin product plating method |
JP2016165831A (en) * | 2015-03-09 | 2016-09-15 | トリニティ工業株式会社 | Manufacturing method of decorative part and laser decorative device |
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