JPH08127894A - Method for partially plating resin product - Google Patents

Method for partially plating resin product

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JPH08127894A
JPH08127894A JP26584294A JP26584294A JPH08127894A JP H08127894 A JPH08127894 A JP H08127894A JP 26584294 A JP26584294 A JP 26584294A JP 26584294 A JP26584294 A JP 26584294A JP H08127894 A JPH08127894 A JP H08127894A
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JP
Japan
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layer
plating
conductive coating
electroplating
coating film
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Pending
Application number
JP26584294A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Ogisu
康彦 荻巣
Yasutaka Hasegawa
恭孝 長谷川
Nariyuki Takahashi
成幸 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyoda Gosei Co Ltd
Original Assignee
Toyoda Gosei Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toyoda Gosei Co Ltd filed Critical Toyoda Gosei Co Ltd
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
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Abstract

PURPOSE: To improve the adhesion of plating to a substrate and the appearance quality at the time of partially plating the surface of the resin product difficult to plate. CONSTITUTION: A grill main body 2 is formed, and a conductive coating material is applied on the face to be plated to form a conductive coating film layer 16. The surface side of the layer 16 is then ground by sanding, hence the area of the exposed nickel powder on the surface side is increased, the ruggednesses ar made uniform, and the surface is smoothed. Various electroplatings are then applied thereon. At this time, the area of the exposed nickel powder is increased and specified conductivity is secured, and an electroplating layer 3 is easily and surely formed and firmly attached to the surface layer. Further, since the surface layer side of the layer 16 is made uniform and smoothed, the electroplating layer 3 formed thereon is also made uniform and smoothed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、難めっき性の樹脂より
なり、かつ、所定の形状に成形された基材の表面のう
ち、めっきを必要とする部分にのみめっきを施す樹脂製
品の部分めっき方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a portion of a resin product which is made of a resin which is difficult to plate and which is plated only on a portion of the surface of a substrate which is molded into a predetermined shape and which requires plating. The present invention relates to a plating method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、この種の樹脂製品として、車
両用のフロントグリルやバックパネル等の外装用装飾品
がある。例えば、フロントグリルにおいては、その前面
(意匠面)の所定部分にめっき層が形成されているとと
もに、それ以外の部分には塗膜層が形成されている。或
いは、予め着色された基材が使用された場合には、前記
塗膜層の形成が省略され、非めっき部分は露出した状態
となっているものもある。このように、部分的にめっき
を施す技術としては、従来より種々のものが提案されて
いる。かかる技術において、基材として例えばABS
(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン)樹脂や、
PPO(ポリフェニレンオキサイド)等の比較的めっき
のされやすいものが採用された場合には、当該基材上の
めっきの必要な部分に直接的にめっきが施される。
2. Description of the Related Art Conventionally, resin products of this type include exterior decorations such as front grilles and back panels for vehicles. For example, in a front grill, a plating layer is formed on a predetermined portion of its front surface (design surface), and a coating layer is formed on other portions. Alternatively, when a pre-colored substrate is used, the formation of the coating layer may be omitted and the non-plated portion may be exposed. As described above, various techniques have been conventionally proposed as a technique for partially plating. In such a technique, as the base material, for example, ABS
(Acrylonitrile-butadiene-styrene) resin,
When a material such as PPO (polyphenylene oxide) which is relatively easy to plate is adopted, the plating is directly applied to the required portion of the base material.

【0003】しかしながら、例えばAES(アクリロニ
トリル−エチレン−スチレン)樹脂や、PE(ポリエチ
レン)、PP(ポリプロピレン)、ポリアミド等の難め
っき性の樹脂よりなる基材が採用された場合には、直接
めっきを施すことが実際上困難となる。
However, for example, when a base material made of an AES (acrylonitrile-ethylene-styrene) resin or a difficult-to-plate resin such as PE (polyethylene), PP (polypropylene) or polyamide is adopted, direct plating is performed. It is practically difficult to apply.

【0004】そこで、かかる不具合を解消するための技
術として、例えば特開平1−301882号公報、特開
昭60−162792号公報等に開示されたものが知ら
れている。これらの技術においては、難めっき性の樹脂
基材上に、金属粉等の混入されてなる導電性塗料が塗布
されることにより、導電性塗膜層が形成される。その
後、電気めっきが施されることにより、導電性塗膜層上
に電気めっき層が形成される。かかる技術を部分めっき
に応用することにより、一応は、難めっき性の樹脂基材
上に部分めっきを施すことが可能となる。
Therefore, as techniques for solving such a problem, those disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 1-301882 and 60-162792 are known. In these techniques, a conductive coating layer is formed by applying a conductive coating material mixed with metal powder or the like onto a resin base material that is difficult to plate. Then, electroplating is performed to form an electroplating layer on the conductive coating film layer. By applying such a technique to partial plating, it becomes possible to perform partial plating on a resin base material that is difficult to plate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、導電性塗膜層中に金属粉が混入されている
とはいえ、金属粉が塗膜マトリックスで覆われてしまう
場合がほとんどであり、表層側の金属粉も塗膜マトリッ
クスの皮膜で覆われることがあった(図7参照)。この
ため、その後の電気めっきに際し十分な導電性を確保す
ることは著しく困難となってしまっていた。その結果、
形成された電気めっき層は、導電性塗膜層に対し容易に
界面剥離を起こしてしまい、いわゆるめっき層の密着強
度は著しく低いものとなってしまっていた。
However, in the above-mentioned prior art, even though the conductive coating layer contains the metal powder, the metal powder is almost always covered with the coating matrix. However, the metal powder on the surface layer side was sometimes covered with the coating film matrix (see FIG. 7). Therefore, it has been extremely difficult to secure sufficient conductivity in the subsequent electroplating. as a result,
The formed electroplating layer easily causes interfacial peeling with respect to the conductive coating layer, and the so-called adhesion strength of the plating layer is extremely low.

【0006】また、導電性塗膜層中の金属粉の存在によ
り、塗膜層の表層は、微細な凹凸が多数存在し、その上
に電気めっき層が形成された場合には、当該電気めっき
層の表面も凹凸を有するようになってしまうおそれがあ
った。かかる場合には、樹脂製品の外観品質が著しく悪
化したものとなってしまっていた。
Further, due to the presence of the metal powder in the conductive coating film layer, the surface layer of the coating film layer has a large number of fine irregularities, and when an electroplating layer is formed thereon, the electroplating is performed. There was a risk that the surface of the layer would also have irregularities. In such a case, the appearance quality of the resin product is significantly deteriorated.

【0007】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、難めっき性の樹脂製基
材の表面におけるめっきの必要な箇所に、めっきを施す
ための樹脂製品のめっき方法において、基材に対するめ
っきの密着性の向上を図るとともに、外観品質の向上を
図ることのできる樹脂製品の部分めっき方法を提供する
ことにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a resin product for applying plating to a portion of the surface of a resin base material that is difficult to plate, where plating is required. Another object of the present invention is to provide a partial plating method for a resin product, which can improve the adhesion of the plating to the base material and improve the appearance quality.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明においては、難めっき性の樹
脂よりなり、かつ、所定の形状に成形された基材の表面
におけるめっきの必要な箇所に、塗料中に導電性粉体を
含有してなる導電性塗料を塗布することにより、導電性
塗膜層を形成する導電性塗膜層形成工程と、少なくとも
前記導電性塗膜層の表層側にある塗料マトリックスを除
去することにより表面処理を施す表面処理工程と、前記
表面処理の施された導電性塗膜層上に電気めっきを施す
ことにより、電気めっき層を形成する電気めっき工程と
を備えた樹脂製品の部分めっき方法をその要旨としてい
る。
In order to achieve the above-mentioned object, in the invention described in claim 1, the plating on the surface of a base material made of a resin which is difficult to plate and which is molded into a predetermined shape. A conductive coating film layer forming step of forming a conductive coating film layer by applying a conductive coating material containing a conductive powder in the coating material to a necessary portion, and at least the conductive coating film layer. A surface treatment step of performing a surface treatment by removing the coating matrix on the surface layer side, and an electroplating for forming an electroplating layer by performing electroplating on the surface-treated conductive coating layer The gist is a partial plating method for a resin product including steps.

【0009】また、請求項2に記載の発明においては、
難めっき性の樹脂よりなり、かつ、所定の形状に成形さ
れた基材の表面におけるめっきの必要な箇所に、塗料中
に導電性粉体を含有してなる導電性塗料を塗布すること
により、導電性塗膜層を形成する導電性塗膜層形成工程
と、前記導電性塗膜層上に無電解めっきを施すことによ
り、無電解めっき層を形成する無電解めっき工程と、前
記無電解めっき層上に電気めっきを施すことにより、電
気めっき層を形成する電気めっき工程とを備えた樹脂製
品の部分めっき方法をその要旨としている。
According to the second aspect of the invention,
Made of a difficult-to-plate resin, and, where necessary for plating on the surface of the base material molded into a predetermined shape, by applying a conductive coating material containing a conductive powder in the coating material, A conductive coating layer forming step of forming a conductive coating layer, an electroless plating step of forming an electroless plating layer by performing electroless plating on the conductive coating layer, and the electroless plating The gist is a partial plating method for a resin product including an electroplating step of forming an electroplated layer by performing electroplating on the layer.

【0010】さらに、請求項3に記載の発明において
は、難めっき性の樹脂よりなり、かつ、所定の形状に成
形された基材の表面におけるめっきの必要な箇所に、塗
料中に導電性粉体を含有してなる導電性塗料を塗布する
ことにより、導電性塗膜層を形成する導電性塗膜層形成
工程と、少なくとも前記導電性塗膜層の表層側にある塗
料マトリックスを除去することにより表面処理を施す表
面処理工程と、前記表面処理の施された導電性塗膜層上
に無電解めっきを施すことにより、無電解めっき層を形
成する無電解めっき工程と、前記無電解めっき層上に電
気めっきを施すことにより、電気めっき層を形成する電
気めっき工程とを備えた樹脂製品の部分めっき方法をそ
の要旨としている。
Further, in the invention described in claim 3, in the coating material, a conductive powder is added to a portion of the surface of the base material made of a resin having a poor plating property and molded into a predetermined shape, where plating is required. A conductive coating layer forming step of forming a conductive coating layer by applying a conductive coating material containing a body, and removing at least the coating matrix on the surface layer side of the conductive coating layer. A surface treatment step of applying a surface treatment with, an electroless plating step of forming an electroless plating layer by applying electroless plating on the surface-treated conductive coating layer, and the electroless plating layer The gist is a partial plating method for a resin product including an electroplating step of forming an electroplating layer by performing electroplating on the resin product.

【0011】[0011]

【作用】上記請求項1に記載の発明によれば、まず、導
電性塗膜層形成工程において、難めっき性の樹脂よりな
り、かつ、所定の形状に成形された基材の表面における
めっきの必要な箇所に、塗料中に導電性粉体を含有して
なる導電性塗料が塗布される。この塗布により、導電性
塗膜層が形成される。また、表面処理工程では、少なく
とも導電性塗膜層の表層側にある塗料マトリックスが除
去されることにより表面処理が施される。その後、電気
めっき工程において、表面処理の施された導電性塗膜層
上に電気めっきが施されることにより、電気めっき層が
形成される。
According to the invention described in claim 1, first, in the step of forming the conductive coating film layer, the plating on the surface of the base material made of a resin having poor plating property and formed into a predetermined shape is performed. A conductive paint containing a conductive powder in the paint is applied to a required portion. By this coating, a conductive coating film layer is formed. Further, in the surface treatment step, the surface treatment is performed by removing at least the paint matrix on the surface layer side of the conductive coating film layer. Then, in the electroplating step, electroplating is performed on the surface-treated conductive coating layer to form the electroplating layer.

【0012】このように、本発明によれば、導電性塗膜
層形成後に表面処理工程を経ることにより、導電性塗膜
層の表層側における導電性粉体の露出面積が増大し、電
気めっき時において導電性が付与される。従って、電気
めっき層が容易かつ確実に形成されるとともに、電気め
っき層は導電性粉体に対し強固に密着する。
As described above, according to the present invention, the surface area of the electroconductive coating layer is exposed by increasing the exposed area of the electroconductive powder by performing the surface treatment process after forming the electroconductive coating layer. Sometimes conductivity is imparted. Therefore, the electroplating layer is easily and surely formed, and the electroplating layer firmly adheres to the conductive powder.

【0013】また、表面処理により、導電性塗膜層の表
層側が均一化、平滑化されるため、その上に形成される
電気めっき層も均一、かつ、平滑なものとなる。さら
に、請求項2に記載の発明によれば、無電解めっき工程
において、上記請求項1に記載の発明における導電性塗
膜層形成工程にて形成された導電性塗膜層上に無電解め
っきが施されることにより、無電解めっき層が形成され
る。また、その無電解めっき層上に電気めっきが施され
ることにより、電気めっき層が形成される。
Further, the surface treatment makes the surface side of the conductive coating film uniform and smooth, so that the electroplating layer formed thereon is also uniform and smooth. Further, according to the invention of claim 2, in the electroless plating step, electroless plating is performed on the conductive coating layer formed in the conductive coating layer forming step of the invention of claim 1. The electroless plating layer is formed by applying. Moreover, an electroplating layer is formed by performing electroplating on the electroless plating layer.

【0014】このように、本発明によれば、導電性塗膜
層の表層側における導電性粉体を核として無電解めっき
層が形成される。このため、この無電解めっき層によ
り、電気めっき時において導電性が付与され、電気めっ
き層が容易かつ確実に形成される。そして、最終的に電
気めっき層は導電性塗膜層に対し無電解めっき層を介し
て強固に密着する。
As described above, according to the present invention, the electroless plating layer is formed with the conductive powder on the surface side of the conductive coating film layer as the nucleus. Therefore, the electroless plating layer imparts conductivity during electroplating, and the electroplating layer is easily and reliably formed. Then, finally, the electroplating layer firmly adheres to the electroconductive coating layer via the electroless plating layer.

【0015】また、無電解めっき層の形成により、最表
層側が均一化、平滑化されるため、その上に形成される
電気めっき層も均一、かつ、平滑なものとなる。さら
に、請求項3に記載の発明によれば、上記請求項1及び
2に記載された双方の作用を奏する。
Further, the formation of the electroless plating layer makes the outermost surface side uniform and smooth, so that the electroplating layer formed thereon is also uniform and smooth. Furthermore, according to the invention described in claim 3, both the effects described in claims 1 and 2 are achieved.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

(第1実施例)以下、本発明を樹脂製品としての車両用
のフロントグリル1に具体化した第1実施例を図1〜9
に基づいて説明する。
(First Embodiment) A first embodiment in which the present invention is embodied in a vehicle front grill 1 as a resin product will be described with reference to FIGS.
It will be described based on.

【0017】車両の前面には、図2に示すようなフロン
トグリル1が装着されるようになっている。図1,3に
示すように、このフロントグリル1は、所定の顔料の混
入されたAES(アクリロニトリル−エチレン−スチレ
ン)樹脂製の基材としてのフロントグリル本体(以下、
グリル本体という)2を備えている。なお、このAES
樹脂は、直接的にめっきを施すのが困難な樹脂とされて
いる。また、グリル本体2の意匠面の一部、すなわち前
面の一部には、電気めっき層3が形成されている(図3
では網目状に示した部分)。従って、この電気めっき層
3以外の箇所は、顔料着色されたAES樹脂が露出した
状態となっている。
A front grill 1 as shown in FIG. 2 is mounted on the front surface of the vehicle. As shown in FIGS. 1 and 3, the front grill 1 includes a front grill main body (hereinafter, referred to as “AES (acrylonitrile-ethylene-styrene) resin base material mixed with a predetermined pigment).
It is equipped with 2). In addition, this AES
The resin is a resin that is difficult to directly plate. An electroplating layer 3 is formed on a part of the design surface of the grill body 2, that is, a part of the front surface (see FIG. 3).
Then the part shown in a mesh). Therefore, the portion other than the electroplated layer 3 is in a state where the pigmented AES resin is exposed.

【0018】より詳細に説明すると、図2,3に示すよ
うに、フロントグリル1は、正面略矩形状の枠5、該枠
5内において横方向に延びる複数の副仕切り板6、枠5
内において縦方向に延びる複数の連結板7、中央部にお
いてマークプレート(図示せず)を取付けるための取付
プレート8及び前記枠5から取付プレート8に向かって
延びる主仕切り板9を有している。そして、前記枠5の
主として正面側部分及び主仕切り板9の正面側部分に
は、前記電気めっき層3が形成されている。
More specifically, as shown in FIGS. 2 and 3, the front grill 1 includes a frame 5 having a substantially rectangular front shape, a plurality of sub-partition plates 6 extending laterally in the frame 5, and a frame 5.
It has a plurality of connecting plates 7 extending in the longitudinal direction, a mounting plate 8 for mounting a mark plate (not shown) in the central portion, and a main partition plate 9 extending from the frame 5 toward the mounting plate 8. . The electroplating layer 3 is formed mainly on the front side portion of the frame 5 and on the front side portion of the main partition plate 9.

【0019】図4は主仕切り板9の一部(図3のα部
分)を拡大して示す正面図であり、図5は図4のA−A
線断面図である。これらの図及び図1に示すように、グ
リル本体2の正面側部分において、前記電気めっき層3
の周縁部分、つまり電気めっき層3の形成されている部
分と形成されていない部分との境界部分には、枠5及び
主仕切り板9から上下方向に突出する正面側段差部10
が環状に形成されている。そして、この正面側段差部1
0には、見切り用の断面略U字状の簡易溝11が環状
(閉曲線状)に形成されている。さらに、グリル本体2
の裏面側部分には、同裏面方向(車両後部方向)へ突出
する電極用突起12が突出形成されている。
FIG. 4 is an enlarged front view showing a part of the main partition plate 9 (α portion in FIG. 3), and FIG. 5 is an AA line in FIG.
It is a line sectional view. As shown in these figures and FIG. 1, the electroplating layer 3 is formed on the front side of the grill body 2.
The front side step portion 10 protruding in the vertical direction from the frame 5 and the main partition plate 9 is provided at the peripheral edge portion of the base plate, that is, the boundary portion between the portion where the electroplating layer 3 is formed and the portion where the electroplating layer 3 is not formed.
Is formed in a ring shape. And this front side step portion 1
At 0, a simple groove 11 having a substantially U-shaped cross section for a parting is formed in an annular shape (closed curve shape). Furthermore, the grill body 2
An electrode projection 12 is formed on the rear surface side of the vehicle so as to project in the rear surface direction (vehicle rear direction).

【0020】図1に示すように、本実施例において、グ
リル本体2と電気めっき層3との間には、導電性塗膜層
16が形成されている。この導電性塗膜層16は、1液
型熱可塑性アクリル系塗料中にニッケル粉体の混入され
た導電性塗料が乾燥固化することにより形成されたもの
である。すなわち、図8又は図9に示すように、導電性
塗膜層16は塗料マトリックス17及び同マトリックス
17中に分散されてなる金属粉体としてのニッケル粉体
18から構成され、厚さ「50μm」程度に形成されて
いる。
As shown in FIG. 1, a conductive coating layer 16 is formed between the grill body 2 and the electroplating layer 3 in this embodiment. The conductive coating film layer 16 is formed by drying and solidifying the conductive coating material in which nickel powder is mixed in the one-pack type thermoplastic acrylic coating material. That is, as shown in FIG. 8 or FIG. 9, the conductive coating film layer 16 is composed of a paint matrix 17 and a nickel powder 18 as a metal powder dispersed in the matrix 17, and has a thickness of “50 μm”. It is formed to a degree.

【0021】また、本実施例においては、導電性塗膜層
16の表層側の面がサンディングにより研磨加工されて
いる。この表面処理により、導電性塗膜層16の表層側
の塗料マトリックス17が研磨にて除去され、導電性塗
膜層16の表層面におけるニッケル粉体18の占有面積
が比較的大きいものとなっている。
Further, in this embodiment, the surface of the conductive coating layer 16 on the surface layer side is polished by sanding. By this surface treatment, the paint matrix 17 on the surface layer side of the conductive coating film layer 16 is removed by polishing, and the area occupied by the nickel powder 18 on the surface layer surface of the conductive coating film layer 16 becomes relatively large. There is.

【0022】なお、前記電気めっき層3は、厚さ「20
〜50μm」程度に形成され、ニッケルよりなるストラ
イクめっき層と、一般電気めっき層とからなっている。
より詳しくは、前記一般電気めっき層は、その下層か
ら、銅めっき層、半光沢ニッケルめっき層、光沢ニッケ
ルめっき層及びクロムめっき層(いずれも図示せず)の
順よりなる各種金属めっきにより形成されている。
The electroplating layer 3 has a thickness of "20".
˜50 μm ”and is composed of a strike plating layer made of nickel and a general electroplating layer.
More specifically, the general electroplating layer is formed by various metal platings in the order of a copper plating layer, a semi-bright nickel plating layer, a bright nickel plating layer, and a chrome plating layer (all not shown) from the lower layer. ing.

【0023】さらに、上記めっき層3を構成する各金属
めっきを形成する際の各種めっき溶液について説明す
る。まず、電気めっき層3の最下層をなすストライクめ
っき層を形成する際のめっき溶液は、硫酸ニッケル25
0g/L、塩化ニッケル30g/L及び硼酸30g/L
を含有している。また、一般電気めっき層のうち、銅め
っき層を形成する際のめっき溶液は、硫酸銅200g/
L、硫酸50g/L、塩酸0.01g/L及び微量の光
沢剤を含有している。さらに、半光沢ニッケルめっき層
を形成する際のめっき溶液は、硫酸ニッケル280g/
L、塩化ニッケル45g/L、硼酸40g/L及び微量
の光沢剤を含有している。併せて、光沢ニッケルめっき
層を形成する際のめっき溶液は、硫酸ニッケル240g
/L、塩化ニッケル45g/L、硼酸30g/L並びに
微量の光沢剤及び添加剤を含有している。加えて、クロ
ムめっき層を形成する際のめっき溶液は、無水クロム酸
250g/L、ケイフッ化ナトリウム10g/L、硫酸
1g/Lを含有している。
Further, various plating solutions for forming each metal plating forming the plating layer 3 will be described. First, the plating solution for forming the strike plating layer which is the lowermost layer of the electroplating layer 3 is nickel sulfate 25
0 g / L, nickel chloride 30 g / L and boric acid 30 g / L
It contains. In addition, the plating solution for forming the copper plating layer of the general electroplating layer is copper sulfate 200 g /
L, sulfuric acid 50 g / L, hydrochloric acid 0.01 g / L and a slight amount of brightener. Furthermore, the plating solution for forming the semi-bright nickel plating layer is 280 g of nickel sulfate /
L, nickel chloride 45 g / L, boric acid 40 g / L and a slight amount of brightener. In addition, the plating solution for forming the bright nickel plating layer is 240 g of nickel sulfate.
/ L, 45 g / L of nickel chloride, 30 g / L of boric acid, and a slight amount of brightener and additives. In addition, the plating solution for forming the chromium plating layer contains chromic anhydride 250 g / L, sodium silicofluoride 10 g / L, and sulfuric acid 1 g / L.

【0024】次に、上記のフロントグリル1を製造する
に際しての作用及びその効果について説明する。まず、
公知の金型成形法により、グリル本体2を成形する。
Next, the operation and effect of manufacturing the front grill 1 will be described. First,
The grill main body 2 is molded by a known mold molding method.

【0025】続いて、図6に示すように、グリル本体2
のめっきを必要としない部分を電鋳マスク19で被覆
し、めっきを必要とする面、すなわち、簡易溝11で囲
まれた部分等に前記導電性塗料を塗布する。このとき、
上記簡易溝11が丁度当該塗料の見切り部分となる。そ
して、塗布後80℃×30分の加熱乾燥を施すことによ
り、導電性塗膜層16が形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 6, the grill body 2
The portion that does not require plating is covered with the electroforming mask 19, and the conductive paint is applied to the surface that requires plating, that is, the portion surrounded by the simple groove 11. At this time,
The simple groove 11 serves as a parting portion of the coating material. Then, after the application, the conductive coating film layer 16 is formed by heating and drying at 80 ° C. for 30 minutes.

【0026】ここで、図7に示すように、導電性塗膜層
16の表層側は、ニッケル粉体18の存在により微細な
凹凸が形成されているとともに、表層側のニッケル粉体
18は塗膜マトリックス17の皮膜で覆われてしまう場
合が多い。そこで、本実施例では、かかる状態にある導
電性塗膜層16に対しサンディング(目の粗さ:♯15
00又は♯2000)により研磨処理を施す。すると、
図8又は図9に示すように、導電性塗膜層16の表層側
におけるニッケル粉体18の露出面積が増大するととも
に、表面処理を施さない場合に比べて凹凸が均一化、平
滑化される。
Here, as shown in FIG. 7, fine irregularities are formed on the surface side of the conductive coating layer 16 due to the presence of the nickel powder 18, and the nickel powder 18 on the surface side is coated. It is often covered by the film of the film matrix 17. Therefore, in the present embodiment, the conductive coating film layer 16 in such a state is sanded (coarseness: # 15).
00 or # 2000). Then
As shown in FIG. 8 or FIG. 9, the exposed area of the nickel powder 18 on the surface side of the conductive coating film layer 16 is increased, and the unevenness is made uniform and smooth as compared with the case where no surface treatment is performed. .

【0027】次に、酸活性処理(酸性溶液中に浸漬させ
て、表面の酸化物を除去する処理)を施した後、ストラ
イクめっき工程に供する。ストライクめっき工程におい
ては、導電性塗膜層16が形成され、かつ、表面処理さ
れ、さらに酸活性処理されたグリル本体2を、ストライ
クめっき層を形成するための上記めっき溶液中に所定時
間だけ浸漬させるとともに、めっきを必要とする部分を
電気的に導通させる。すると、めっきを必要としない部
分は、AES樹脂が露出しており、電気的導通が遮断さ
れるため、その上には何らのめっきも形成されない。一
方、めっきを必要とする部分においては、導電性塗膜層
16の表面に、ストライクめっき層が比較的薄く形成さ
れる。このとき、導電性塗膜層16の表層側におけるニ
ッケル粉体18の露出面積が増大しているため、所定の
導電性が確保されている。従って、ストライクめっき層
が容易かつ確実に形成されるとともに、当該ストライク
めっき層はニッケル粉体18に対し強固に密着する。
Next, after performing an acid activation treatment (a treatment of immersing it in an acidic solution to remove oxides on the surface), it is subjected to a strike plating step. In the strike plating step, the conductive coating layer 16 is formed, and the grill body 2 which has been surface-treated and acid-activated is dipped in the plating solution for forming the strike plating layer for a predetermined time. At the same time, the portion requiring plating is electrically connected. Then, since the AES resin is exposed at the portion that does not require plating and electrical conduction is cut off, no plating is formed on it. On the other hand, in the portion requiring plating, the strike plating layer is formed relatively thin on the surface of the conductive coating film layer 16. At this time, since the exposed area of the nickel powder 18 on the surface side of the conductive coating film layer 16 is increased, a predetermined conductivity is secured. Therefore, the strike plating layer is easily and surely formed, and the strike plating layer firmly adheres to the nickel powder 18.

【0028】また、表面処理により、導電性塗膜層16
の表層側が均一化、平滑化されるため、その上に形成さ
れるストライクめっき層も均一、かつ、平滑なものとす
ることができる。
Further, by the surface treatment, the conductive coating layer 16
Since the surface layer side of is uniformized and smoothed, the strike plating layer formed thereon can also be uniform and smooth.

【0029】続いて、銅めっき工程、半光沢ニッケルめ
っき工程、光沢ニッケルめっき工程及びクロムめっき工
程において、上記ストライクめっき工程とほぼ同様の操
作を行う。すると、ストライクめっき層上には、多層構
造をなす一般電気めっき層が形成される。このようにし
て、ストライクめっき層及び一般電気めっき層よりなる
電気めっき層3が、めっきを必要とする部分においての
み形成される。
Then, in the copper plating step, the semi-bright nickel plating step, the bright nickel plating step and the chrome plating step, operations similar to those in the strike plating step are performed. Then, a general electroplating layer having a multilayer structure is formed on the strike plating layer. In this way, the electroplating layer 3 including the strike plating layer and the general electroplating layer is formed only in the portion requiring plating.

【0030】以上説明したように、本実施例によれば、
導電性塗膜層16を形成した後に表面処理を施すことに
より、導電性塗膜層16の表層側におけるニッケル粉体
18の露出面積が増大し、電気めっき時において表層側
に導電性を付与することができる。従って、ストライク
めっき層をはじめとする電気めっき層3を容易、かつ、
確実に形成することができる。しかも、電気めっき層3
をニッケル粉体18に対し、或いは、導電性塗膜層1
6、ひいてはグリル本体2に対し強固に密着させること
ができる。
As described above, according to this embodiment,
By performing the surface treatment after forming the conductive coating film layer 16, the exposed area of the nickel powder 18 on the surface layer side of the conductive coating film layer 16 is increased, and conductivity is imparted to the surface layer side during electroplating. be able to. Therefore, the electroplating layer 3 including the strike plating layer can be easily and
It can be reliably formed. Moreover, electroplating layer 3
To the nickel powder 18 or the conductive coating layer 1
6. As a result, the grill body 2 can be firmly attached.

【0031】なお、実際に電気めっき層3の剥離試験を
行った結果、従来技術では界面剥離を起こしてしまった
のに対し、本実施例では、凝集破壊を起こし、密着強度
の著しい向上が図られていることが確認できた。
Incidentally, as a result of actually performing the peeling test of the electroplating layer 3, in the prior art, interfacial peeling occurred, whereas in the present example, cohesive failure occurred and the adhesion strength was significantly improved. It was confirmed that it was done.

【0032】また、サンディングによる表面処理によ
り、導電性塗膜層16の表層側が均一化、平滑化され
る。このため、その上に形成される電気めっき層3も均
一、かつ、平滑なものとすることができ、凹凸の形成を
抑制することができる。その結果、外観品質の著しい向
上を図ることができる。
By the surface treatment by sanding, the surface side of the conductive coating film layer 16 is made uniform and smooth. Therefore, the electroplating layer 3 formed thereon can also be made uniform and smooth, and the formation of irregularities can be suppressed. As a result, the appearance quality can be significantly improved.

【0033】さらに、本実施例において電気めっき層3
以外の部分は、基材を露出させた構成を採用した訳であ
るが、本実施例では無電解めっきを施していない。この
ため、無電解めっきに際してのエッチング等が施され
ず、非めっき部分にエッチング等による微細な凹凸が形
成されない。その結果、本実施例の如く基材が露出した
部分が存在しても、当該露出部分が白化したりすること
がなく、良好な外観を呈する。
Further, in this embodiment, the electroplated layer 3
The other parts have a structure in which the base material is exposed, but in this embodiment, electroless plating is not performed. Therefore, etching or the like at the time of electroless plating is not performed, and fine unevenness due to etching or the like is not formed on the non-plated portion. As a result, even if there is a portion where the base material is exposed as in the present embodiment, the exposed portion does not whiten and exhibits a good appearance.

【0034】併せて、本実施例では、前記正面側の簡易
溝11が、電気めっき層3と露出部分との境界部とな
る。このため、境界部の見切り部分が、ジグザグ状では
なく鮮明に形成される。その結果、見切り線をくっきり
と明瞭なものとすることができ、ひいては外観品質のさ
らなる向上を図ることができる。
In addition, in this embodiment, the simple groove 11 on the front side serves as the boundary between the electroplated layer 3 and the exposed portion. For this reason, the parting portion of the boundary portion is clearly formed instead of the zigzag shape. As a result, the parting line can be made clear and clear, and further, the appearance quality can be further improved.

【0035】(第2実施例)次に、本発明を樹脂製品と
しての車両用のグリルガード21に具体化した第2実施
例を図10〜15に基づいて説明する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment in which the present invention is embodied in a vehicle grill guard 21 as a resin product will be described with reference to FIGS.

【0036】車両の前面におけるバンパの上部には、図
11に示すような正面逆U字状のグリルガード21が装
着されるようになっている。このグリルガード21は、
基材としてのグリルガード本体(以下、ガード本体とい
う)22を備えている。このガード本体22はパイプ状
をなし、ナイロン−12により構成されている。なお、
このナイロン−12も、第1実施例におけるAES樹脂
と同様、直接的にめっきを施すのが困難な樹脂とされて
いる。
A front inverted U-shaped grille guard 21 as shown in FIG. 11 is mounted on the upper part of the bumper on the front surface of the vehicle. This grill guard 21
A grill guard body (hereinafter referred to as a guard body) 22 as a base material is provided. The guard body 22 has a pipe shape and is made of nylon-12. In addition,
This nylon-12 is also a resin that is difficult to plate directly, like the AES resin in the first embodiment.

【0037】また、ガード本体22の中央部分には、め
っき層23が形成されている。さらに、上記めっき層2
3を除くガード本体22の両側部には、塗膜層24が形
成されている。なお、両側部の下部には、さらに下方へ
突出するとともに、車両本体へ取付けるための取付部2
5が一体形成されている。
A plating layer 23 is formed in the central portion of the guard body 22. Furthermore, the plating layer 2
A coating layer 24 is formed on both sides of the guard body 22 except for 3. It should be noted that the mounting portions 2 for protruding further downward and attached to the vehicle body are provided at the lower portions of both side portions.
5 are integrally formed.

【0038】図10に示すように、めっき層23と塗膜
層24との間には、見切り用の断面略U字状の簡易溝2
6が形成されている。すなわち、簡易溝26を境とし
て、めっき層23と塗膜層24とが形成されている。本
実施例において、めっき層23は、無電解めっき層27
及び電気めっき層28から構成される。また、ガード本
体22と無電解めっき層27との間には、導電性塗膜層
29が形成されている。この導電性塗膜層29は、2液
型ポリウレタン系塗料中にニッケル粉体の混入された導
電性塗料が乾燥固化することにより形成されたものであ
る。すなわち、導電性塗膜層29は、第1実施例とほぼ
同様、塗料マトリックス及び同マトリックス中に分散さ
れてなる金属粉体としてのニッケル粉体から構成されて
いる。
As shown in FIG. 10, between the plating layer 23 and the coating layer 24, a simple groove 2 having a substantially U-shaped cross-section for parting.
6 is formed. That is, the plating layer 23 and the coating layer 24 are formed with the simple groove 26 as a boundary. In this embodiment, the plating layer 23 is the electroless plating layer 27.
And an electroplating layer 28. A conductive coating layer 29 is formed between the guard body 22 and the electroless plating layer 27. The conductive coating film layer 29 is formed by drying and solidifying the conductive coating material in which nickel powder is mixed in the two-component polyurethane coating material. That is, the conductive coating film layer 29 is composed of a paint matrix and nickel powder as a metal powder dispersed in the same as in the first embodiment.

【0039】また、本実施例においても、導電性塗膜層
29の表層側の面がサンディングにより研磨加工されて
いる。この表面処理により、導電性塗膜層29の表層側
の塗料マトリックスが研磨にて除去され、導電性塗膜層
29の表層面におけるニッケル粉体の占有面積が比較的
大きいものとなっている。
Also in this embodiment, the surface of the electroconductive coating layer 29 on the surface layer side is polished by sanding. By this surface treatment, the paint matrix on the surface layer side of the conductive coating film layer 29 is removed by polishing, and the area occupied by the nickel powder on the surface layer surface of the conductive coating film layer 29 becomes relatively large.

【0040】なお、電気めっき層28は、第1実施例と
同様、ニッケルよりなるストライクめっき層と、一般電
気めっき層とからなっている。さらに、無電解めっき層
27は、ニッケルによって構成されている。この無電解
めっき層27を形成する際のめっき溶液は、例えば硫酸
ニッケル7g/L(金属ニッケル換算)、次亜リン酸ソ
ーダ16g/L、亜リン酸ソーダ120g/Lを含んで
いる。
The electroplating layer 28 is composed of a strike plating layer made of nickel and a general electroplating layer, as in the first embodiment. Further, the electroless plating layer 27 is made of nickel. The plating solution for forming the electroless plating layer 27 contains, for example, 7 g / L of nickel sulfate (metal nickel conversion), 16 g / L of sodium hypophosphite, and 120 g / L of sodium phosphite.

【0041】一方、前記塗膜層24は、2液型ポリウレ
タン系塗料(オリジン電気社製 商品名:オリジンプレ
ートZ)が塗布されることにより形成されている。次
に、上記のグリルガード21を製造するに際しての作用
及びその効果について説明する。
On the other hand, the coating layer 24 is formed by applying a two-component polyurethane paint (Origin Electric Co., Ltd., trade name: Origin Plate Z). Next, the operation and effect of manufacturing the grill guard 21 will be described.

【0042】まず、公知の金型成形法により、ガード本
体22を成形する。続いて、図12に示すように、ガー
ド本体22のめっきを必要としない部分を電鋳マスク3
0で被覆し、めっきを必要とする面、すなわち、簡易溝
26で囲まれた部分等に前記導電性塗料を塗布する。こ
のとき、上記簡易溝26が丁度当該塗料の見切り部分と
なる。そして、塗布後80℃×30分の加熱乾燥を施す
ことにより、導電性塗膜層29が形成される。
First, the guard main body 22 is molded by a known mold molding method. Then, as shown in FIG. 12, the portion of the guard body 22 that does not require plating is electrocast mask 3
The surface is covered with 0, and the conductive paint is applied to the surface requiring plating, that is, the portion surrounded by the simple groove 26. At this time, the simple groove 26 just serves as a parting portion of the paint. Then, after the application, the conductive coating film layer 29 is formed by heating and drying at 80 ° C. for 30 minutes.

【0043】ここで、第1実施例と同様、導電性塗膜層
29に対しサンディング(目の粗さ:♯1500又は♯
2000)により研磨処理を施す。すると、導電性塗膜
層16の表層側におけるニッケル粉体の露出面積が増大
するとともに、凹凸が均一化、平滑化される。
Here, as in the case of the first embodiment, the conductive coating layer 29 is sanded (coarseness: # 1500 or # 1500).
2000). Then, the exposed area of the nickel powder on the surface side of the conductive coating film layer 16 is increased, and the unevenness is made uniform and smooth.

【0044】次に、第1実施例と同様の酸活性処理を施
した後、無電解めっき工程に供する。すなわち、無電解
めっき工程においては、上記導電性塗膜層29が形成さ
れ、かつ、表面処理され、さらに酸活性処理の施された
ガード本体22を、無電解めっき層を形成するための上
記めっき溶液中に所定時間だけ浸漬させる。すると、図
13に示すように、前記ニッケル粉体を核として無電解
めっきが成長し、導電性塗膜層29の形成された表面に
のみ無電解めっき層27が形成される。このとき、導電
性塗膜層29の表層側におけるニッケル粉体の露出面積
が増大しているため、所定の導電性が確保されている。
従って、無電解めっき層27が容易かつ確実に形成され
るとともに、当該無電解めっき層27はニッケル粉体に
対し強固に密着する。
Next, after the same acid activation treatment as in the first embodiment, it is subjected to an electroless plating process. That is, in the electroless plating step, the conductive coating layer 29 is formed, the surface of the guard body 22 is further subjected to the acid activation treatment, and the guard body 22 is plated to form the electroless plating layer. Immerse in the solution for a predetermined time. Then, as shown in FIG. 13, electroless plating grows with the nickel powder as a nucleus, and the electroless plating layer 27 is formed only on the surface where the conductive coating film layer 29 is formed. At this time, since the exposed area of the nickel powder on the surface side of the conductive coating film layer 29 is increased, a predetermined conductivity is secured.
Therefore, the electroless plating layer 27 is easily and reliably formed, and the electroless plating layer 27 is firmly adhered to the nickel powder.

【0045】また、表面処理により、導電性塗膜層16
の表層側が均一化、平滑化されるため、その上に形成さ
れる無電解めっき層27も均一、かつ、平滑なものとす
ることができる。さらに、無電解めっき層27自身の形
成により、最表層側が均一化、平滑化される。すなわ
ち、ニッケル粉体の存在に起因する最表層側の凹凸が、
成長形成された無電解めっき層27によって相殺され
る。
Further, by the surface treatment, the conductive coating layer 16
Since the surface layer side thereof is made uniform and smooth, the electroless plating layer 27 formed thereon can also be made uniform and smooth. Further, by forming the electroless plating layer 27 itself, the outermost surface side is made uniform and smooth. That is, the unevenness on the outermost surface side due to the presence of the nickel powder,
This is offset by the electroless plating layer 27 that has been grown and formed.

【0046】続いて、ストライクめっき工程、銅めっき
工程、半光沢ニッケルめっき工程、光沢ニッケルめっき
工程及びクロムめっき工程を経ることにより、図14に
示すように、無電解めっき層27上には、多層構造をな
す電気めっき層28が形成される。このようにして、無
電解めっき層27及び電気めっき層28よりなるめっき
層23が、めっきを必要とする部分においてのみ形成さ
れる。
Subsequently, a strike plating step, a copper plating step, a semi-bright nickel plating step, a bright nickel plating step and a chrome plating step are performed, whereby a multi-layer is formed on the electroless plating layer 27 as shown in FIG. The structural electroplating layer 28 is formed. In this way, the plating layer 23 including the electroless plating layer 27 and the electroplating layer 28 is formed only in the portion requiring plating.

【0047】なお、本実施例のように意匠面の都合上め
っき用の脚(突起)を形成できないような場合には、上
記電気めっき工程において、電気めっき用の針状電極を
ガード本体22の被めっき部分に形成された導電性塗膜
層29(若しくは無電解めっき層27)に接触させてお
く等の方策を採用することができる。
When the legs (protrusions) for plating cannot be formed due to the design surface as in this embodiment, the needle electrode for electroplating is attached to the guard body 22 in the electroplating step. It is possible to employ a measure such as keeping in contact with the conductive coating film layer 29 (or the electroless plating layer 27) formed on the plated portion.

【0048】その後、図15に示すように、当該めっき
層23を電鋳マスク31で被覆して非めっき面に塗装を
施す。そして、乾燥後、当該非めっき面には、塗膜層2
4が形成されるとともに、上記被覆を解除することによ
り、グリルガード21が得られる。
Then, as shown in FIG. 15, the plating layer 23 is covered with an electroforming mask 31 and the non-plated surface is coated. After drying, the coating layer 2 is formed on the non-plated surface.
4 is formed and the above-mentioned coating is released to obtain the grill guard 21.

【0049】以上説明したように、本実施例によれば、
導電性塗膜層28の上に無電解めっき層27を形成する
ようにした。このため、上記第1実施例で説明した作用
効果の外に、無電解めっき層27自身の形成により、最
表層側がさらに均一化、平滑化される。すなわち、ニッ
ケル粉体の存在に起因する最表層側の凹凸が、成長形成
された無電解めっき層27によって相殺される。そのた
め、その無電解めっき層27上に形成される電気めっき
層28もより一層均一、かつ、平滑なものとすることが
できる。その結果、さらなる外観品質の向上を図ること
ができる。
As described above, according to this embodiment,
The electroless plating layer 27 was formed on the conductive coating layer 28. Therefore, in addition to the function and effect described in the first embodiment, the formation of the electroless plating layer 27 itself makes the outermost layer side more uniform and smooth. That is, the unevenness on the outermost layer side due to the presence of the nickel powder is offset by the electroless plated layer 27 that has been grown and formed. Therefore, the electroplating layer 28 formed on the electroless plating layer 27 can be made more uniform and smooth. As a result, it is possible to further improve the appearance quality.

【0050】尚、本発明は上記各実施例に限定されず、
例えば次の如く構成してもよい。 (1)前記各実施例では、導電性塗膜層16,29に対
しサンディングにより研磨処理を施すことにより表面処
理を行うようにした。しかし、それ以外にも、例えば酸
性溶液中に浸漬等させることにより、表面の塗料マトリ
ックス17の皮膜を溶解除去するようにしてもよい。か
かる方法を採用しても、導電性塗膜層16,29の表層
側におけるニッケル粉体の露出面積を増大させることが
できるともに、めっき面の均一化、平滑化を図ることが
できる。
The present invention is not limited to the above embodiments,
For example, the configuration may be as follows. (1) In each of the above-described examples, the surface treatment is performed by polishing the conductive coating layers 16 and 29 by sanding. However, other than that, the coating film of the paint matrix 17 on the surface may be dissolved and removed by, for example, immersing in an acidic solution. Even if such a method is adopted, the exposed area of the nickel powder on the surface side of the conductive coating layers 16 and 29 can be increased, and the plated surface can be made uniform and smooth.

【0051】(2)非めっき面には、塗装を施しても施
さなくてもよい。 (3)前記各実施例では、簡易溝11,26を基材上に
形成する構成としたが、これはあくまでも見切り外観向
上のために形成したものであって、別に当該溝を省略す
る構成としてもよい。
(2) The non-plated surface may or may not be painted. (3) In each of the above-described embodiments, the simple grooves 11 and 26 are formed on the base material. However, this is only formed to improve the appearance of the parting off, and the grooves are separately omitted. Good.

【0052】(4)前記各実施例では、基材を構成する
樹脂素材として、ABS樹脂又はナイロン−12を採用
したが、それ以外にも、難めっき材と認定される素材で
あれば、ポリプロピレン、ポリエチレン等いかなる素材
を用いてもよい。
(4) In each of the above embodiments, ABS resin or nylon-12 was adopted as the resin material constituting the base material. Any material such as polyethylene or polyethylene may be used.

【0053】(5)前記各実施例では、導電性粉体とし
てニッケル粉体18を採用したが、その外の金属粉体で
あってもよいし、当該粉体よりも若干大きめの粒状物で
あってもよい。
(5) In each of the above embodiments, the nickel powder 18 was used as the conductive powder, but other metal powder may be used, or a granular material slightly larger than the powder. It may be.

【0054】(6)前記第1実施例では本発明を車両用
のフロントグリルに具体化し、第2実施例では車両用の
グリルガード21に具体化したが、その外にも例えばド
アミラーブラケット用アウタカバー、車両用のバックパ
ネル、車両用のルーバ、車両用のピラーガーニッシュ、
車両用のクォータベント、車両用のマークプレート等に
も具体化してもよい。また、上記の自動車用樹脂製品に
限定されるものではなく、部分的にめっき層を有するそ
の他の樹脂製品に本発明を具体化することもできる。
(6) In the first embodiment, the present invention is embodied in a front grill for a vehicle, and in the second embodiment, it is embodied in a grill guard 21 for a vehicle. , Vehicle back panel, vehicle louver, vehicle pillar garnish,
It may also be embodied in a vehicle quarter vent, a vehicle mark plate, and the like. Further, the present invention is not limited to the above resin products for automobiles, and the present invention can be embodied in other resin products partially having a plating layer.

【0055】(7)前記各実施例における各種めっき層
の組成については何ら限定されるものではない。また、
めっきを形成するためのめっき溶液の組成についても何
ら限定されるものではない。
(7) The composition of each plating layer in each of the above embodiments is not limited. Also,
The composition of the plating solution for forming the plating is not limited at all.

【0056】特許請求の範囲の各請求項に記載されない
ものであって、上記実施例から把握できる技術的思想に
ついて以下にその効果とともに記載する。 (a)請求項2又は3に記載の樹脂製品の部分めっき方
法において、前記表面処理工程は、前記導電性塗膜層の
表層側にある塗料マトリックスを研磨又は溶解により除
去することを特徴とする。かかる方法によれば、本発明
の効果を容易にかつ確実に達成することができる。
The technical idea which is not described in each claim of the claims and which can be understood from the above-mentioned embodiment will be described below together with its effect. (A) In the partial plating method for a resin product according to claim 2 or 3, the surface treatment step is characterized in that the paint matrix on the surface side of the conductive coating film layer is removed by polishing or dissolution. . According to such a method, the effects of the present invention can be achieved easily and reliably.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明における樹
脂製品の部分めっき方法によれば、難めっき性の樹脂製
基材の表面におけるめっきの必要な箇所に、めっきを施
すに際し、基材に対するめっきの密着性の向上を図ると
ともに、外観品質の向上を図ることができるという優れ
た効果を奏する。
As described above in detail, according to the method for partially plating a resin product according to the present invention, when plating is applied to a portion of the surface of a resin base material which is difficult to plate, the base material is required to be plated. It has an excellent effect that it is possible to improve the adhesiveness of the plating with respect to and to improve the appearance quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 第1実施例のグリルの主仕切り板を示す部分
断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing a main partition plate of a grill according to a first embodiment.

【図2】 第1実施例におけるフロントグリルを示す正
面図である。
FIG. 2 is a front view showing a front grill in the first embodiment.

【図3】 第1実施例において、フロントグリルのめっ
きが施された部分を示す図であって、フロントグリルを
正面及び裏面に展開した模式図である。
FIG. 3 is a diagram showing a plated portion of the front grille in the first embodiment, and is a schematic diagram in which the front grille is developed on the front surface and the back surface.

【図4】 フロントグリルの主仕切り板を拡大して示す
正面図である。
FIG. 4 is an enlarged front view showing a main partition plate of the front grill.

【図5】 第1実施例における図4のA−A線断面図で
ある。
FIG. 5 is a sectional view taken along line AA of FIG. 4 in the first embodiment.

【図6】 第1実施例の導電性塗膜層形成状態を示す部
分断面図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing a conductive coating film layer forming state of the first embodiment.

【図7】 第1実施例の導電性塗膜層を示す拡大断面図
である。
FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing a conductive coating film layer of the first embodiment.

【図8】 第1実施例において導電性塗膜層の表面処理
の一態様を模式的に示す拡大断面図である。
FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view schematically showing one aspect of the surface treatment of the conductive coating film layer in the first example.

【図9】 図7とは異なる態様を模式的に示す拡大断面
図である。
9 is an enlarged cross-sectional view schematically showing an aspect different from FIG.

【図10】 第2実施例におけるグリルガードの拡大断
面図である。
FIG. 10 is an enlarged sectional view of a grill guard according to a second embodiment.

【図11】 第2実施例におけるグリルガードの斜視図
である。
FIG. 11 is a perspective view of a grill guard according to a second embodiment.

【図12】 第2実施例のガード本体に導電性塗膜層を
形成した状態を示す部分断面図である。
FIG. 12 is a partial cross-sectional view showing a state in which a conductive coating film layer is formed on the guard body of the second embodiment.

【図13】 第2実施例の無電解めっき層形成状態を示
す断面図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state of forming an electroless plating layer according to a second embodiment.

【図14】 第2実施例の電気めっき層形成状態を示す
断面図である。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state of forming an electroplating layer according to a second embodiment.

【図15】 第2実施例の塗膜層を形成した状態を示す
断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state in which a coating layer of the second embodiment has been formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…樹脂製品としてのフロントグリル、2…基材として
のグリル本体、3,28…電気めっき層、16,29…
導電性塗膜層、17…塗料マトリックス、18…導電性
粉体としてのニッケル粉体、21…樹脂製品としてのグ
リルガード、22…基材としてのガード本体、27…無
電解めっき層。
1 ... Front grill as a resin product, 2 ... Grill main body as a base material, 3, 28 ... Electroplating layer, 16, 29 ...
Conductive coating layer, 17 ... Paint matrix, 18 ... Nickel powder as conductive powder, 21 ... Grill guard as resin product, 22 ... Guard body as base material, 27 ... Electroless plating layer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B05D 7/02 7415−4F 7/14 L ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location B05D 7/02 7415-4F 7/14 L

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 難めっき性の樹脂よりなり、かつ、所定
の形状に成形された基材(2,22)の表面におけるめ
っきの必要な箇所に、塗料中に導電性粉体(18)を含
有してなる導電性塗料を塗布することにより、導電性塗
膜層(16,29)を形成する導電性塗膜層形成工程
と、 少なくとも前記導電性塗膜層(16,29)の表層側に
ある塗料マトリックス(17)を除去することにより表
面処理を施す表面処理工程と、 前記表面処理の施された導電性塗膜層(16,29)上
に電気めっきを施すことにより、電気めっき層(3,2
8)を形成する電気めっき工程とを備えたことを特徴と
する樹脂製品の部分めっき方法。
1. A conductive powder (18) is added to a coating material on a surface of a base material (2, 22) which is made of a hard-to-plate resin and has a predetermined shape, where plating is required. A conductive coating film layer forming step of forming a conductive coating film layer (16, 29) by applying a conductive coating material containing, and at least a surface layer side of the conductive coating film layer (16, 29) A surface treatment step of removing the paint matrix (17) in (1), and electroplating on the surface-treated conductive coating layer (16, 29). (3,2
8) An electroplating step of forming 8), which is a partial plating method for a resin product.
【請求項2】 難めっき性の樹脂よりなり、かつ、所定
の形状に成形された基材(2,22)の表面におけるめ
っきの必要な箇所に、塗料中に導電性粉体(18)を含
有してなる導電性塗料を塗布することにより、導電性塗
膜層(16,29)を形成する導電性塗膜層形成工程
と、 前記導電性塗膜層(16,29)上に無電解めっきを施
すことにより、無電解めっき層(27)を形成する無電
解めっき工程と、 前記無電解めっき層(27)上に電気めっきを施すこと
により、電気めっき層(3,28)を形成する電気めっ
き工程とを備えたことを特徴とする樹脂製品の部分めっ
き方法。
2. A conductive powder (18) is added to a coating material on a surface of a base material (2, 22) made of a resin having a poor plating property and molded into a predetermined shape, where plating is required. A conductive coating film layer forming step of forming a conductive coating film layer (16, 29) by applying a conductive coating material containing the same; and an electroless coating on the conductive coating film layer (16, 29). An electroless plating step of forming an electroless plating layer (27) by plating, and an electroplating layer (3, 28) is formed by performing electroplating on the electroless plating layer (27). A method for partially plating a resin product, which comprises an electroplating step.
【請求項3】 難めっき性の樹脂よりなり、かつ、所定
の形状に成形された基材(2,22)の表面におけるめ
っきの必要な箇所に、塗料中に導電性粉体(18)を含
有してなる導電性塗料を塗布することにより、導電性塗
膜層(16,29)を形成する導電性塗膜層形成工程
と、 少なくとも前記導電性塗膜層(16,29)の表層側に
ある塗料マトリックス(17)を除去することにより表
面処理を施す表面処理工程と、 前記表面処理の施された導電性塗膜層(16,29)上
に無電解めっきを施すことにより、無電解めっき層(2
7)を形成する無電解めっき工程と、 前記無電解めっき層(27)上に電気めっきを施すこと
により、電気めっき層(28)を形成する電気めっき工
程とを備えたことを特徴とする樹脂製品の部分めっき方
法。
3. A conductive powder (18) is added to a coating material on a surface of a base material (2, 22) made of a resin having a poor plating property and molded into a predetermined shape, where plating is required. A conductive coating film layer forming step of forming a conductive coating film layer (16, 29) by applying a conductive coating material containing, and at least a surface layer side of the conductive coating film layer (16, 29) A surface treatment step of performing a surface treatment by removing the paint matrix (17) in (1), and an electroless plating by performing electroless plating on the surface-treated conductive coating layer (16, 29). Plating layer (2
A resin characterized by comprising an electroless plating step of forming 7) and an electroplating step of forming an electroplating layer (28) by performing electroplating on the electroless plating layer (27). Partial plating method for products.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1015478A (en) * 1996-06-28 1998-01-20 T C Ii:Kk Masking method for coating
WO2005019504A1 (en) * 2003-08-21 2005-03-03 Shuhou Co., Ltd. Method of preparing printed or daubed image and printed or daubed image element by it
KR100715090B1 (en) * 2006-02-20 2007-05-04 가부시키가이샤 슈호 Method of preparing printed image and printed image element by it
JP2009539593A (en) * 2006-06-14 2009-11-19 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Method for producing a conductive surface on a support
JP6039854B1 (en) * 2016-07-13 2016-12-07 名古屋メッキ工業株式会社 Electroplating method, plating ornaments, golf ball and support jig

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1015478A (en) * 1996-06-28 1998-01-20 T C Ii:Kk Masking method for coating
WO2005019504A1 (en) * 2003-08-21 2005-03-03 Shuhou Co., Ltd. Method of preparing printed or daubed image and printed or daubed image element by it
US7597933B2 (en) 2003-08-21 2009-10-06 Shuhou Co., Ltd. Method of preparing printed or daubed image and printed or daubed image element by it
KR100715090B1 (en) * 2006-02-20 2007-05-04 가부시키가이샤 슈호 Method of preparing printed image and printed image element by it
JP2009539593A (en) * 2006-06-14 2009-11-19 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア Method for producing a conductive surface on a support
JP6039854B1 (en) * 2016-07-13 2016-12-07 名古屋メッキ工業株式会社 Electroplating method, plating ornaments, golf ball and support jig

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