JP4526621B2 - Method of metal plating on electrical non-conductor - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、電気的不導体への金属メッキ方法に関し、更に詳細には、シリコーンゴム、ポリエチレンゴムまたはEPR(エチレン−プロピレン−ゴム)等の如く、メッキが従来困難または不可能であった電気的不導体に対して、金属メッキを容易に施し得るようにした方法に関するものである。
【0002】
【従来技術】
プラスチック等に代表される電気的不導体の表面に金属メッキを施すことは、一般に困難である。これは前記不導体の基材表面が平滑であって、前処理としての触媒金属層の形成が難しいからである。そこで従来は、ブラストや液体ホーニング等の機械的処理を不導体基材の表面に施して粗化させたり、クロム酸等の強力な薬剤により該表面を化学的に粗化させたりした後に、触媒を用いて金属メッキ層を基材表面に形成する方法が採用されていた。
【0003】
しかし、前記の如く基材表面を機械的に粗化して金属メッキを施す方法では、複雑な外部形状を呈する物品の入り組んだ部分には当該処理が実施困難であり、また均一に粗化し得ないためにメッキ後の外観が悪く、更に密着性の不良に起因して剥離し易い等の諸欠点が指摘される。また基材表面を化学的に粗化してから金属メッキを施す方法(エッチング)では、基材の種類に応じた適切な処理が不可欠であって、汎用性の点で劣る難点がある。
【0004】
基材に適応した処理としては、例えばABS系材料に硫酸−無水クロム酸溶液で表面粗化を行なうことが知られている。これによれば高い品質の外観と良好な密着性が得られるので、これがプラスチックメッキの標準処方として広く用いられている。本発明は、不導体材料への金属メッキ方法に関するものであるので、理解に資するために従来実施されているABS系材料への金属メッキ方法の概略を先に説明する。
【0005】
先ず、メッキ対象物であるABS系材料の表面に、例えば重クロム酸によるエッチングを行なって酸化による粗化処理を行ない、その後に触媒物質(後述)の付着性を向上させるコンディショナに浸漬する。次いで水洗を行ない、例えばパラジウム・スズの触媒浴に浸漬することで無電解メッキの析出に不可欠な触媒を付与し、更に効率的に該触媒を析出させるために、例えば硫酸に浸漬する促進処理を施す。
【0006】
次いで導電層を形成するための導電化工程が実施される。この導電化工程は、前記ABS系材料を、例えばニッケルの無電解メッキ浴に所定時間浸漬させて無電解メッキを施し、その表面に導電層となる無電解メッキを析出させるものである。この導電化工程は、この後に行なわれる電気メッキ工程に不可欠である。導電化工程を経たABS系材料には、必要に応じて電気メッキが施されて、例えばニッケルの金属メッキ層が形成される。この電気メッキを施す工程は、該ABS系材料を、スルファミン酸ニッケル浴に所定時間浸漬させ、前記導電層に通電を行なってニッケルの金属皮膜を所望厚さになるまで析出させることで完了する。
【0007】
前述したABS系材料以外の素材であって、例えばポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリカーボネート系アロイ、ポリアセタール樹脂、ナイロン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂等についても、夫々の材料に応じた化学的粗化工程を含む確立した前処理方法によって実用可能なメッキの形成が可能である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述したように種々の樹脂に対応した前処理方法は確立されていても、材料中に導電性フィラーを含ませたり、合金(アロイ)化させたり、前処理として有機溶剤によるプリエッチングが必要となる等の多く制約があるため、不導体へのメッキ形成は自由度が少ない難点がある。また一般に、ゴム類にメッキを施すことは従来技術では不可能であった。
【0009】
更に昨今、各種の水質汚濁物質に対する関心が高まり、この水質汚染物質廃棄に関して広範囲の規制がなされつつある。従って前述した硫酸−無水クロム酸溶液による化学的粗化処理で発生する6価のクロム等の廃液は、前記規制をクリアするための後処理に要するコストが増大する難点が併せて指摘される。
【0010】
【発明の目的】
この発明は、従来技術に係る電気的不導体への金属メッキ方法に内在していた問題に鑑み、これを好適に解決するべく提案されたものであって、その目的とするところは、金属メッキが従来困難または不可能であった電気的不導体、例えばシリコーンゴムその他の材料に容易に金属メッキを施し得る方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
前記課題を克服し、所期の目的を達成するため本発明の電気的不導体への金属メッキ方法は、
電気的に不導体である基材の表面に、水分を吸収することで構造内における官能基が反応して固化する湿気硬化性樹脂を、ロールコーターまたはスプレーにより付与し、
前記基材の表面に、前記官能基が未反応状態で付与された前記湿気硬化性樹脂を乾燥硬化させてプライマー層を形成した後、
無電解メッキ金属に対して触媒活性を有する触媒金属を前記プライマー層に接触させることで触媒金属層を形成し、
前記触媒金属層に無電解メッキを施して所要の金属メッキ層を形成するようにしたことを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に係る電気的不導体への金属メッキ方法につき、好適な実施例を挙げて、添付図面を参照しながら以下説明する。本願の発明者は、これまで金属メッキの形成が不可能であった例えばシリコーンゴムの基材に対し、前処理工程として湿気硬化性樹脂のプライマーを付与することで、機械的な手段や化学的手段を用いて表面粗化処理を施さなくとも、高い密着性を有する金属メッキ層を容易に形成し得ることを知見したものである。
【0013】
本発明に係る電気的不導体への金属メッキ方法は、図1に示す如く、前処理工程S1および導電化工程S2に大きく分かれる。そして前処理工程S1は、図2に示す如く、電気的不導体の基材(ゴム部材)10にスプレー塗布等の手段により後述する湿気硬化性樹脂20を付与するプライマー付与段階S11と、この湿気硬化性樹脂20により形成されたプライマー層12を所定の手段で乾燥させる乾燥工程S12とからなる。
【0014】
前処理工程S1に続いて行なわれる導電化工程S2は、図1および図3に示す如く、前記基材10上のプライマー層12に、無電解メッキに対して触媒活性を発現する所望の金属微粒子を含む触媒金属22を吸着させて、触媒金属層14を形成させる触媒吸着段階S21と、適宜に選択されるメッキ用金属24のメッキ浴30に浸漬させて該触媒金属層14上に所定厚さの金属メッキ層16を付与する無電解メッキ段階S22とからなる。以上の各段階を経た後に、検査工程S3での検査を行なうことで電気的不導体への金属メッキの付与は完了する。なお場合によっては、無電解メッキ段階S22に引き続き、更に厚い金属メッキ層16を形成するために電解メッキ段階S23が行なわれる。この電解メッキ段階S23は、電気的不導体に求められる各種物性(例えば導電度)に応じて適宜選択的に実施される。
【0015】
本発明におけるメッキ対象物となる基材としては、これまで金属メッキが非常に困難であった物質であって、前記湿気硬化性樹脂を表面に付与し得るものであれば問題なく選択し得る。好適にはシリコーンゴム、天然ゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレン・プロピレンゴム、ポリエチレン、ポリプロピレンまたはポリアセタール等が挙げられ、この他に一般的な高分子材料および極性の高い無機材料等に対しても付与可能である。
【0016】
本発明で使用される湿気硬化性樹脂は、主に接着剤の分野で知られており、空気中の水分を吸収することによって構造内に架橋を生じ、この架橋によって固化する性質を有する樹脂を配合した樹脂配合物を一般的に指称する。この湿気硬化性樹脂は、前記基材の種類等に応じて、該基材上に厚さ1〜100μm程度の範囲で付与される。湿気硬化性樹脂で好適なものとしては、湿気硬化性シリコーン樹脂、シアノアクリレート樹脂またはウレタン系湿気接着剤等が挙げられる。前記湿気硬化性シリコーン樹脂は、構造内の加水分解性官能基と、水分により生成されたシラノール基とが縮合反応を起して、架橋を生じていくものであり、該縮合反応によりオリゴマからはずれていく縮合反応副生成物により、酢酸型、アルコール型、オキシム型、アミン型、アミド型、アミノキシ型およびアセトン型等に分類される。前記シアノアクリレート樹脂は、瞬間接着剤として広く知られているものであり、水分により組成内の重合反応が促進されて硬化するものである。前記ウレタン系湿気接着剤は、構造内のイソシアネート基末端部にオリゴマを含有しており、該イソシアネート基と水分との反応から生じたアミノ基が、更に他のイソシアネート基と反応することで架橋が生成されて硬化するものである。
【0017】
これら湿気硬化性樹脂は、一般に粘度が高いので、ロールコーター等での塗布による付与が可能である。キシレン等の溶媒による濃度調整も可能であるので、均一かつ薄いプライマー層を容易に形成し得る。また雰囲気湿度により硬化するので、基材への付与時の湿気を制御することにより、硬化速度も容易に制御し得る。湿気硬化性樹脂は、様々な物質に対して高い物理的な接着能力を有すると共に、硬化後に未反応状態で構造内に残留する官能基または水分との反応により新たに生成される官能基多数が、後述する触媒金属のコロイドまたは該コロイドを安定化させている界面活性剤官能基を捕捉し、その結果として該触媒金属を多数吸着することで、間接的に強力なメッキ層の密着性を提供しているものと推察される。
【0018】
本発明に使用される触媒金属としては、後述する無電解メッキ反応に対して触媒活性を有するものが好適であり、金、銀、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、オスミウムまたは白金が挙げられ、これはコロイド状態の下で使用される。前記触媒金属のコロイドを製造するに、該触媒金属を含有する水溶性塩を溶解させ、界面活性剤を加えて激しく撹拌しながら還元剤を添加する方法が一般的であるが、他の公知方法を用いてもよい。前記界面活性剤として、陰イオン性または陽イオン性の、例えば石けん、高級アルコール硫酸ナトリウム、アルキルベンゼンスルフォン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム等、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドまたはアルキルベンジルジメチルアンモニウムクロライド等が、前記触媒金属に合わせて適宜選択的に採用される。ここで形成される触媒金属層は、後述する無電解メッキによる金属メッキ層を形成する際の核として作用するので、前記プライマー層に対して連続層を形成する必要はなく、分散・吸着されていればよい。
【0019】
更に本発明に使用される無電解メッキのメッキ用金属としては、無電解銅、無電解銅・ニッケル・リン合金、無電解ニッケル・リン合金、無電解ニッケル・ホウ素合金、無電解コバルト・リン合金、無電解金、無電解銀または無電解パラジウム等が挙げられる。前記基材に付与された金属メッキ層の導電度の程度如何によっては、必要に応じて引続き電解メッキ段階を経て金属メッキ層が形成される。この場合、前記メッキ用金属としては、電解メッキ段階への移行を考慮して、コストおよび安定性の観点から無電解銅または無電解ニッケル・リン合金が好適である。
【0020】
以下に本発明に係る電気的不導体への金属メッキ方法の好適な実施例を示すが、これに限定されるものではない。
【0021】
【第1実施例】
本実施例で用いられる基材として、寸法が100×100×3mmのシリコーンゴムシート(製品名:東芝GEシリコーン社製)を用いた。このシリコーンゴムシートの片面側に、金属メッキ層を形成すべく以下の操作を実施した。
前処理工程として、
▲1▼プライマー付与段階:シリコーンゴムシートに対して、湿気硬化性シリコーン樹脂(商品名 スーパーX:セメダイン社製)の50%キシレン溶液を、プライマー層の乾燥厚さが10μmになるようにスプレー塗布した。
▲2▼乾燥段階:温度設定可能な高温オーブンを用いて、温度60℃で30分間の乾燥を施した。
導電化工程として、
▲3▼触媒吸着段階:塩化パラジウム(PdCl2)0.089g/Lと塩化ナトリウム(NaCl)0.146g/Lとからなる純水溶液に、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド(製品名コータミン86Pコンク)を0.1g/L添加した主溶液に対して、予め少量の純水に0.076gの水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を溶解した溶液を添加しながら激しく撹拌することで、黒褐色透明なパラジウムコロイド触媒溶液を作製した。このパラジウムコロイド触媒溶液を、前処理工程で作製したシリコーンゴムシートにスプレー塗布することで充分に付与し、その後に温度設定可能な高温オーブンで温度100℃として30分間乾燥させた。
▲4▼無電解メッキ段階:無電解ニッケルメッキ浴(製品名TMP化学ニッケル:奥野製薬社製:標準配合)を、30℃の温度下で10分間実施した。
▲5▼電解メッキ段階:次いで光沢ニッケル浴(製品名#66:荏原ユージライト社製:標準配合)を、温度30℃、電流強度2A/dm2の条件下で30分間実施して、12μm厚のニッケル金属の金属メッキ層を形成させた。
【0022】
前記の各工程を経て得られた金属メッキ層の密着性を評価するため、金属メッキ層の付与されたシート状物を、湿気硬化接着剤スーパーXにより鉄板に対して固定して試験片を作製し、JIS H 8630に規定される「プラスチック上の装飾用電気めっき 附属書6 密着性試験方法」に従って密着力を測定した。具体的には、金属メッキ層に10mm幅で2本の平行な切り込みを入れ、この切り込み部分から引き起こし、ペンチ等により形成した20mm程度の剥離部を引っ張り試験機のヘッドに固定して、該剥離部および基材(鉄板)間の角度が90°,25mm/分のヘッド移動速度の条件下に引っ張ってロードセル値を測定した。このときのロードセル値は、約14.7N/cmであり充分な密着性が確認された。
【0023】
【第2実施例】
本実施例で用いられる基材として、寸法が100×100×0.125mmの軟質ポリ塩化ビニールシートを用いた。このビニールシートの両面側に、金属メッキ層を形成すべく以下の操作を実施した。
前処理工程として、
▲1▼プライマー付与段階:軟質ポリ塩化ビニールシートに対して、湿気硬化性シリコーン樹脂(商品名 スーパーX:セメダイン社製)原液を、プライマー層の乾燥厚さが5μmになるように、乾燥空気の供給下でロールコーターにより塗布付与した。
▲2▼乾燥段階:乾燥空気の供給により、樹脂付与と同時に乾燥させた。
導電化工程として、
▲3▼触媒吸着段階:塩化パラジウム(PdCl2)0.089g/Lと塩化ナトリウム(NaCl)0.146g/Lとからなる純水溶液に、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド(製品名コータミン86Pコンク)を0.1g/L添加した主溶液に対して、予め少量の純水に0.076gの水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を溶解した溶液を添加しながら激しく撹拌することで、黒褐色透明なパラジウムコロイド触媒溶液を作製した。このパラジウムコロイド触媒溶液を、前記前処理工程で作製した軟質ポリ塩化ビニールシートにスプレー塗布することで充分に付与し、その後に温度設定可能な高温オーブンで温度100℃として30分間乾燥させた。
▲4▼無電解メッキ段階:無電解銅メッキ浴(製品名オムニシールド1598:シプレイ・ファーイースト社製:標準配合)を、30℃の温度下で10分間実施した。
▲5▼電解メッキ段階:次いで光沢硫酸銅浴(製品名UBAC−EPII:荏原ユージライト社製:標準配合)を、温度25℃、電流強度4A/dm2の条件下で15分間実施して、12μm厚の銅の金属メッキ層を形成させた。
【0024】
前記の各工程を経て得られた金属メッキ層の密着性を評価するため、金属メッキ層の付与されたシート状物を、湿気硬化接着剤スーパーXにより鉄板に固定して試験片を作製し、JIS H 8630に規定される「プラスチック上の装飾用電気めっき 附属書6 密着性試験方法」に従って密着力を測定した。具体的には、金属メッキ層に10mm幅で2本の平行な切り込みを入れ、この切り込み部分から引き起こし、ペンチ等により形成した20mm程度の剥離部を引っ張り試験機のヘッドに固定して、該剥離部および基材(鉄板)間の角度が90°,25mm/分のヘッド移動速度の条件下に引っ張ってロードセル値を測定した。このときのロードセル値は、約9.8N/cmであり充分な密着性が確認された。
【0025】
【第3実施例】
本実施例で用いられる基材として、寸法が100×100×3mmのEPDMゴムシート(イノアックエラストマ社製)を用いた。このEPDMゴムシートの両面側に、金属メッキ層を形成すべく以下の操作を実施した。
前処理工程として、
▲1▼プライマー付与段階:EPDMゴムシートに対して、湿気硬化性シリコーン樹脂(商品名 スーパーX:セメダイン社製)の50%キシレン溶液を、プライマー層の乾燥厚さが10μmになるようにスプレー塗布した。
▲2▼乾燥段階:温度設定可能な高温オーブンを用いて、温度60℃で30分間の乾燥を施した。
導電化工程として、
▲3▼触媒吸着段階:テトラクロロ金(III)酸ナトリウム(NaAuCl4・2H2O)0.199g/Lの純水溶液に、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド(製品名コータミン86Pコンク)を0.1g/L添加した主溶液に対して、予め少量の純水に0.076gの水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を溶解した溶液を添加しながら激しく撹拌することで、赤色透明な金コロイド触媒溶液を作製した。この金コロイド触媒溶液を、前処理工程で作製したEPDMゴムシートにスプレー塗布することで充分に付与した後に水洗を施した。そして温度設定可能な高温オーブンで温度100℃で30分間乾燥させた。
▲4▼無電解銅メッキ浴(製品名オムニシールド1598:シプレイ・ファーイースト社製:標準配合)を、30℃の温度下で30分間実施した。次いで塩化パラジウムを含む活性化浴(オムニシールド1501:シプレイ・ファーイースト社製:標準配合)を25℃の温度下で1分間実施して充分に水洗し、最後に無電解ニッケルメッキ浴(製品名オムニシールド1580:シプレイ・ファーイースト社製:標準配合)を、30℃の温度下で15分間実施した。
以上の2段階の無電解メッキにより、銅メッキ層およびニッケルメッキ層が夫々1μmずつ形成・積層されたEPDMゴムシートを作製した。
【0026】
前記の各工程を経て得られた金属メッキ層の密着性を評価するため、金属メッキ層の付与されたシート状物を、湿気硬化接着剤スーパーXにより鉄板に固定して試験片を作製し、JIS H 8504に規定される「めっきの密着性試験」における「テープ試験方法」に従って密着性を評価した。具体的には、カッターで金属メッキ層を完全に貫通する一辺2mmの正方形条痕を形成し、幅12mmのセロテープを10秒間押し付けることで密着させた。次いでセロテープを金属メッキの層面に対して垂直となる条件で瞬時に引き剥がし、その剥離状態を確認した。本実施例に係る金属メッキ層について、その剥離は認められなかった。また60℃の温水に4時間浸漬処理を行なった後に、同様の剥離試験を行なったが剥離は生じず、強固な金属メッキ層が形成されていることが確認された。
【0027】
【第4実施例】
本実施例で用いられる基材として、寸法が100×100×1mmの天然ゴムシートを用いた。この天然ゴムシートの片面側に、金属メッキ層を形成すべく以下の操作を実施した。
前処理工程として、
▲1▼プライマー付与段階:天然ゴムシートに対して、シアノアクリレート樹脂(瞬間接着剤:商品名 セメダイン3000D:セメダイン社製)をプライマー層の乾燥厚さが10μmになるように刷毛塗りにより付与した。
▲2▼乾燥段階:温度設定可能な高温オーブンを用いて、温度60℃で30分間の乾燥を施した。
導電化工程として、
▲3▼触媒吸着段階:塩化パラジウム(PdCl2)0.089g/Lと塩化ナトリウム(NaCl)0.146g/Lとからなる純水溶液に、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド(製品名コータミン86Pコンク)を0.1g/L添加した主溶液に対して、予め少量の純水に0.076gの水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を溶解した溶液を添加しながら激しく撹拌することで、黒褐色透明なパラジウムコロイド触媒溶液を作製した。このパラジウムコロイド触媒溶液を、前記前処理工程で作製したシリコーンゴムシートにスプレー塗布することで充分に付与し、その後温度設定可能な高温オーブンで温度100℃で30分間乾燥させた。
▲4▼無電解メッキ段階:無電解ニッケルメッキ浴(製品名TMP化学ニッケル:奥野製薬社製:標準配合)を、30℃の温度下で10分間メッキを実施した。
▲5▼電解メッキ段階:次いで光沢ニッケル浴(製品名#66:荏原ユージライト社製:標準配合)を、温度30℃、電流強度2A/dm2の条件下で30分間実施し、12μm厚のニッケル金属の金属メッキ層を形成させた。
【0028】
前記の各工程を経て得られた金属メッキ層の密着性を評価するため、金属メッキ層の付与されたシート状物を、湿気硬化接着剤スーパーXにより鉄板に固定して試験片を作製し、JIS H 8504に規定される「めっきの密着性試験」における「テープ試験方法」に従って密着性を評価した。具体的には、カッターで金属メッキ層を完全に貫通する一辺2mmの正方形条痕を形成し、幅12mmのセロテープを10秒間押し付けることで密着させた。次いでセロテープを金属メッキの層面に対して垂直となる条件で瞬時に引き剥がし、その剥離状態を確認した。本実施例に係る金属メッキ層について、その剥離は認められなかった。また60℃の温水に4時間浸漬処理を行なった後に、同様の剥離試験を行なったが剥離は生じず、強固な金属メッキ層が形成されていることが確認された。
【0029】
【発明の効果】
以上に説明した如く、本発明に係る電気的不導体への金属メッキ方法によれば、これまで金属メッキ層の形成が困難または不可能であったゴム等の電気的不導体に対して、高い均一性および密着度を有する金属メッキを容易に付与することが可能となった。例えばゴム部材への金属メッキによる導電性の付与に伴い、レーザープリンタおよびコピー等に不可欠の高いニップおよび導電度を有する導電ローラ等を好適に作成し得る。また、他の金属メッキ層の形成困難な物質を含む広範な種類の物質に対しても、同様に金属メッキを施し得る有益な効果を奏する。更にクロムの如き毒性および環境に対する負荷が高い物質の使用を回避し得るので、汚染物質の廃棄に伴う後処理の問題を生ずることもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係る金属メッキ方法を段階的に示すフローチャート図である。
【図2】本発明の実施例に係る金属メッキ方法における前処理工程の各段階を示す工程図である。
【図3】本発明の実施例に係る金属メッキ方法における前処理工程の各段階を示す工程図である。
【符号の説明】
10 基材
12 プライマー層
14 触媒金属層
16 金属メッキ層
20 湿気硬化性樹脂
22 触媒金属
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for plating a metal on an electrically non-conductive material, and more specifically, an electrical method in which plating has conventionally been difficult or impossible, such as silicone rubber, polyethylene rubber or EPR (ethylene-propylene-rubber). The present invention relates to a method in which metal plating can be easily applied to a nonconductor.
[0002]
[Prior art]
It is generally difficult to apply metal plating to the surface of an electrical non-conductor represented by plastic or the like. This is because the surface of the non-conductive substrate is smooth and it is difficult to form a catalytic metal layer as a pretreatment. Therefore, conventionally, after a mechanical treatment such as blasting or liquid honing is applied to the surface of the non-conductive substrate to roughen the surface, or the surface is chemically roughened with a strong agent such as chromic acid, A method of forming a metal plating layer on the surface of a base material by using the above has been adopted.
[0003]
However, in the method in which the surface of the base material is mechanically roughened and the metal plating is performed as described above, it is difficult to perform the treatment on an intricate portion of an article having a complicated external shape, and it cannot be uniformly roughened. For this reason, the appearance after plating is poor, and various drawbacks such as easy peeling due to poor adhesion are pointed out. In addition, in the method (etching) in which the surface of the base material is chemically roughened and then metal plating is performed, an appropriate treatment according to the type of the base material is indispensable, and there is a problem that it is inferior in versatility.
[0004]
As a treatment suitable for the substrate, for example, it is known to roughen the surface of an ABS material with a sulfuric acid-chromic anhydride solution. According to this, a high quality appearance and good adhesion can be obtained, and this is widely used as a standard prescription for plastic plating. Since the present invention relates to a metal plating method for a non-conductive material, an outline of a conventional metal plating method for an ABS-based material will be described first for the sake of understanding.
[0005]
First, the surface of an ABS material, which is an object to be plated, is etched with, for example, dichromic acid to be roughened by oxidation, and then immersed in a conditioner that improves the adhesion of a catalyst substance (described later). Next, it is washed with water, for example, immersed in a palladium / tin catalyst bath to give an indispensable catalyst for deposition of electroless plating. Apply.
[0006]
Next, a conductive step for forming a conductive layer is performed. In this conductive step, the ABS material is immersed in an electroless plating bath of nickel for a predetermined time to perform electroless plating, and an electroless plating serving as a conductive layer is deposited on the surface. This conductive step is indispensable for the subsequent electroplating step. The ABS-based material that has undergone the conductive step is subjected to electroplating as necessary to form, for example, a nickel metal plating layer. This electroplating step is completed by immersing the ABS material in a nickel sulfamate bath for a predetermined time, energizing the conductive layer to deposit a nickel metal film to a desired thickness.
[0007]
Materials other than the ABS-based materials described above, such as polyphenylene oxide resin, polypropylene resin, polycarbonate resin, polycarbonate alloy, polyacetal resin, nylon resin, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyphenylene sulfide resin, polyetherimide resin For example, it is possible to form a practical plating by an established pretreatment method including a chemical roughening step corresponding to each material.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, as described above, even though pretreatment methods corresponding to various resins have been established, conductive filler is included in the material, alloyed, or pre-etching with an organic solvent is performed as pretreatment. Since there are many restrictions such as necessary, the formation of plating on non-conductors has a difficulty in that there are few degrees of freedom. In general, it is impossible to plate rubbers with the prior art.
[0009]
In recent years, interest in various water pollutants has been increasing, and a wide range of regulations regarding the disposal of water pollutants are being made. Therefore, it is pointed out that the waste liquid such as hexavalent chromium generated by the chemical roughening treatment with the sulfuric acid-chromic anhydride solution described above also increases the cost required for the post-treatment for clearing the regulation.
[0010]
OBJECT OF THE INVENTION
In view of the problems inherent in the metal plating method for electrical non-conductors according to the prior art, the present invention has been proposed to suitably solve this problem. It is an object of the present invention to provide a method for easily applying metal plating to electrical non-conductors, such as silicone rubber and other materials, which has been difficult or impossible in the past.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
In order to overcome the above-mentioned problems and achieve the intended purpose, the metal plating method for the electrical non-conductor of the present invention includes:
Moisture curable resin , in which the functional groups in the structure react and solidify by absorbing moisture, is applied to the surface of the base material that is electrically non-conductive by a roll coater or spray ,
After forming the primer layer by drying and curing the moisture curable resin provided with the functional group in an unreacted state on the surface of the base material,
Forming a catalytic metal layer by contacting a catalytic metal having catalytic activity with respect to the electroless plating metal to the primer layer;
The catalyst metal layer is subjected to electroless plating to form a required metal plating layer.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, a preferred embodiment of the metal plating method for an electrically non-conductive material according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The inventor of the present application provides a moisture curable resin primer as a pretreatment step to a silicone rubber base material, for example, where metal plating could not be formed so far. It has been found that a metal plating layer having high adhesion can be easily formed without performing surface roughening treatment using means.
[0013]
As shown in FIG. 1, the method for plating a metal on an electrically non-conductive material according to the present invention is largely divided into a pretreatment step S1 and a conductive step S2. As shown in FIG. 2, the pretreatment step S1 includes a primer application step S11 for applying a moisture curable resin 20 to be described later to the electrically non-conductive base material (rubber member) 10 by means such as spray coating, and this moisture. It comprises a drying step S12 in which the primer layer 12 formed of the curable resin 20 is dried by a predetermined means.
[0014]
As shown in FIGS. 1 and 3, the conductive step S <b> 2 performed after the pretreatment step S <b> 1 is performed on the primer layer 12 on the substrate 10 with desired metal fine particles exhibiting catalytic activity against electroless plating. A catalyst adsorption step S21 for adsorbing the catalyst metal 22 containing the catalyst metal 14 to form a catalyst metal layer 14 and a plating bath 30 of an appropriately selected plating metal 24 so as to have a predetermined thickness on the catalyst metal layer 14 The electroless plating step S22 for applying the metal plating layer 16 is included. After passing through the above steps, the inspection in the inspection step S3 is performed to complete the application of the metal plating to the electrical non-conductor. In some cases, subsequent to the electroless plating step S22, an electrolytic plating step S23 is performed to form a thicker metal plating layer 16. This electrolytic plating step S23 is selectively performed as appropriate according to various physical properties (for example, conductivity) required for electrical non-conductors.
[0015]
The base material to be plated in the present invention can be selected without any problem as long as it is a substance that has been extremely difficult to be metal plated so far and can impart the moisture curable resin to the surface. Preferable examples include silicone rubber, natural rubber, butadiene rubber, styrene butadiene rubber, nitrile rubber, ethylene / propylene rubber, polyethylene, polypropylene, polyacetal, etc. In addition, general polymer materials and highly polar inorganic materials, etc. Can also be granted.
[0016]
The moisture curable resin used in the present invention is mainly known in the field of adhesives, and is a resin having the property of causing cross-linking in the structure by absorbing moisture in the air and solidifying by this cross-linking. The blended resin blend is generally referred to. The moisture curable resin is applied on the base material in a thickness range of about 1 to 100 μm according to the type of the base material. Suitable examples of the moisture curable resin include a moisture curable silicone resin, a cyanoacrylate resin, and a urethane moisture adhesive. In the moisture curable silicone resin, a hydrolyzable functional group in the structure and a silanol group generated by moisture cause a condensation reaction to cause cross-linking. It is classified into acetic acid type, alcohol type, oxime type, amine type, amide type, aminoxy type, acetone type, etc., depending on the condensation reaction by-products. The cyanoacrylate resin is widely known as an instantaneous adhesive, and is cured by the polymerization reaction in the composition accelerated by moisture. The urethane moisture adhesive contains an oligomer at the end of the isocyanate group in the structure, and the amino group resulting from the reaction between the isocyanate group and moisture further crosslinks by reacting with another isocyanate group. It is produced and cured.
[0017]
Since these moisture curable resins generally have a high viscosity, they can be applied by coating with a roll coater or the like. Since the concentration can be adjusted with a solvent such as xylene, a uniform and thin primer layer can be easily formed. Moreover, since it hardens | cures by atmospheric humidity, a cure rate can also be easily controlled by controlling the humidity at the time of the provision to a base material. Moisture curable resins have a high physical adhesion ability to various substances and have many functional groups newly generated by reaction with functional groups remaining in the structure in an unreacted state after curing or with moisture. Capturing a catalytic metal colloid or a surfactant functional group that stabilizes the colloid, which will be described later, and adsorbing a large number of the catalytic metal as a result, indirectly provides strong adhesion of the plating layer It is inferred that
[0018]
As the catalytic metal used in the present invention, those having catalytic activity for the electroless plating reaction described later are suitable, and examples thereof include gold, silver, ruthenium, rhodium, palladium, iridium, osmium, and platinum. Is used under colloidal conditions. In order to produce the catalyst metal colloid, a general method is to dissolve a water-soluble salt containing the catalyst metal, add a surfactant, and add a reducing agent while stirring vigorously. May be used. As the surfactant, anionic or cationic, for example, soap, sodium higher alcohol sulfate, sodium alkylbenzene sulfonate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, lauryltrimethylammonium chloride or alkylbenzyldimethylammonium chloride, It is appropriately selected depending on the catalyst metal. The catalyst metal layer formed here acts as a nucleus when forming a metal plating layer by electroless plating, which will be described later, so it is not necessary to form a continuous layer with respect to the primer layer, and is dispersed and adsorbed. Just do it.
[0019]
Further, the electroless plating metal used in the present invention includes electroless copper, electroless copper / nickel / phosphorous alloy, electroless nickel / phosphorous alloy, electroless nickel / boron alloy, electroless cobalt / phosphorous alloy. Electroless gold, electroless silver, electroless palladium, and the like. Depending on the degree of conductivity of the metal plating layer applied to the substrate, the metal plating layer is formed through an electrolytic plating step as necessary. In this case, the plating metal is preferably electroless copper or electroless nickel / phosphorous alloy from the viewpoint of cost and stability in consideration of the transition to the electrolytic plating stage.
[0020]
Although the suitable Example of the metal plating method to the electrical nonconductor which concerns on this invention below is shown, it is not limited to this.
[0021]
[First embodiment]
As a base material used in this example, a silicone rubber sheet (product name: manufactured by Toshiba GE Silicone) having a size of 100 × 100 × 3 mm was used. The following operation was performed to form a metal plating layer on one side of the silicone rubber sheet.
As a pretreatment process
(1) Primer application step: A 50% xylene solution of moisture curable silicone resin (trade name Super X: manufactured by Cemedine Co.) is spray-applied to the silicone rubber sheet so that the dry thickness of the primer layer is 10 μm. did.
(2) Drying step: Using a high-temperature oven capable of setting the temperature, drying was performed at a temperature of 60 ° C. for 30 minutes.
As a conductive process,
( 3 ) Catalyst adsorption step: Stearyltrimethylammonium chloride (product name: Cotamine 86P Conch) was added to a pure aqueous solution consisting of 0.089 g / L of palladium chloride (PdCl 2 ) and 0.146 g / L of sodium chloride (NaCl). A dark brown transparent palladium colloid catalyst solution by vigorously stirring while adding a solution prepared by dissolving 0.076 g of sodium borohydride (NaBH 4 ) in a small amount of pure water to the main solution added with 1 g / L. Was made. This palladium colloid catalyst solution was sufficiently applied by spray coating on the silicone rubber sheet prepared in the pretreatment step, and then dried for 30 minutes at a temperature of 100 ° C. in a high-temperature oven capable of setting the temperature.
(4) Electroless plating step: An electroless nickel plating bath (product name: TMP chemical nickel: manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd .: standard composition) was carried out at a temperature of 30 ° C. for 10 minutes.
(5) Electrolytic plating step: Next, a bright nickel bath (product name # 66: manufactured by EBARA Eugeneite Co., Ltd .: standard composition) is carried out for 30 minutes at a temperature of 30 ° C. and a current intensity of 2 A / dm 2 to obtain a thickness of 12 μm. A metal plating layer of nickel metal was formed.
[0022]
In order to evaluate the adhesion of the metal plating layer obtained through each of the above steps, a test piece was prepared by fixing the sheet-like material provided with the metal plating layer to the iron plate with a moisture curing adhesive Super X Then, the adhesion force was measured according to “Electroplating for decoration on plastic, Annex 6 Adhesion test method” prescribed in JIS H 8630. Specifically, two parallel cuts with a width of 10 mm are made in the metal plating layer, and the peeling part of about 20 mm formed by pliers or the like is fixed to the head of a tensile tester by causing the cut to occur. The load cell value was measured by pulling the head and the base material (iron plate) at an angle of 90 ° and a head moving speed of 25 mm / min. The load cell value at this time was about 14.7 N / cm, and sufficient adhesion was confirmed.
[0023]
[Second embodiment]
As a base material used in this example, a flexible polyvinyl chloride sheet having dimensions of 100 × 100 × 0.125 mm was used. The following operation was performed to form a metal plating layer on both sides of the vinyl sheet.
As a pretreatment process
(1) Primer application stage: Moisture curable silicone resin (trade name Super X: manufactured by Cemedine) is applied to a soft polyvinyl chloride sheet so that the dry thickness of the primer layer is 5 μm. The coating was applied by a roll coater under supply.
(2) Drying step: Drying was performed simultaneously with resin application by supplying dry air.
As a conductive process,
( 3 ) Catalyst adsorption step: Stearyltrimethylammonium chloride (product name: Cotamine 86P Conch) was added to a pure aqueous solution consisting of 0.089 g / L of palladium chloride (PdCl 2 ) and 0.146 g / L of sodium chloride (NaCl). A dark brown transparent palladium colloid catalyst solution by vigorously stirring while adding a solution prepared by dissolving 0.076 g of sodium borohydride (NaBH 4 ) in a small amount of pure water to the main solution added with 1 g / L. Was made. The palladium colloid catalyst solution was sufficiently applied by spray coating on the soft polyvinyl chloride sheet prepared in the pretreatment step, and then dried for 30 minutes at a temperature of 100 ° C. in a high temperature oven.
(4) Electroless plating step: An electroless copper plating bath (product name Omnishield 1598: manufactured by Shipley Far East Co., Ltd .: standard composition) was carried out at a temperature of 30 ° C. for 10 minutes.
(5) Electrolytic plating step: Next, a bright copper sulfate bath (product name: UBAC-EPII: manufactured by Ebara Eugelite Co., Ltd .: standard composition) is carried out for 15 minutes at a temperature of 25 ° C. and a current intensity of 4 A / dm 2 . A 12 μm thick copper metal plating layer was formed.
[0024]
In order to evaluate the adhesion of the metal plating layer obtained through each of the above steps, a sheet-like material provided with the metal plating layer was fixed to an iron plate with a moisture-curing adhesive Super X, and a test piece was prepared. The adhesion was measured according to “Electroplating for decoration on plastic, Annex 6 Adhesion test method” defined in JIS H 8630. Specifically, two parallel cuts with a width of 10 mm are made in the metal plating layer, and the peeling part of about 20 mm formed by pliers or the like is fixed to the head of a tensile tester by causing the cut to occur. The load cell value was measured by pulling the head and the base material (iron plate) at an angle of 90 ° and a head moving speed of 25 mm / min. The load cell value at this time was about 9.8 N / cm, and sufficient adhesion was confirmed.
[0025]
[Third embodiment]
As a base material used in this example, an EPDM rubber sheet (manufactured by Inoac Elastomer Co., Ltd.) having a size of 100 × 100 × 3 mm was used. The following operation was performed to form a metal plating layer on both sides of the EPDM rubber sheet.
As a pretreatment process
(1) Primer application stage: Spray coating of a 50% xylene solution of moisture-curing silicone resin (trade name Super X: manufactured by Cemedine Co.) onto the EPDM rubber sheet so that the dry thickness of the primer layer is 10 μm. did.
(2) Drying step: Using a high-temperature oven capable of setting the temperature, drying was performed at a temperature of 60 ° C. for 30 minutes.
As a conductive process,
(3) Catalyst adsorption stage: 0.1 g / L of stearyltrimethylammonium chloride (product name: Cotamine 86P Conch) into a pure aqueous solution of sodium tetrachloroaurate (III) (NaAuCl 4 .2H 2 O) of 0.199 g / L A red transparent gold colloid catalyst solution was prepared by vigorously stirring the added main solution while adding a solution prepared by dissolving 0.076 g of sodium borohydride (NaBH 4 ) in a small amount of pure water in advance. . The gold colloid catalyst solution was sufficiently applied by spray coating on the EPDM rubber sheet prepared in the pretreatment step, and then washed with water. Then, it was dried at a temperature of 100 ° C. for 30 minutes in a high-temperature oven capable of setting the temperature.
(4) An electroless copper plating bath (product name Omnishield 1598: manufactured by Shipley Far East Co., Ltd .: standard composition) was carried out at a temperature of 30 ° C. for 30 minutes. Next, an activation bath containing palladium chloride (Omnishield 1501: manufactured by Shipley Far East Co., Ltd .: standard formulation) was run for 1 minute at a temperature of 25 ° C. and thoroughly washed with water, and finally an electroless nickel plating bath (product name) Omnishield 1580 (manufactured by Shipley Far East Co., Ltd .: standard composition) was carried out at a temperature of 30 ° C. for 15 minutes.
By the above two-stage electroless plating, an EPDM rubber sheet in which a copper plating layer and a nickel plating layer were formed and laminated by 1 μm each was produced.
[0026]
In order to evaluate the adhesion of the metal plating layer obtained through each of the above steps, a sheet-like material provided with the metal plating layer was fixed to an iron plate with a moisture-curing adhesive Super X, and a test piece was prepared. Adhesion was evaluated according to “Tape Test Method” in “Plating Adhesion Test” defined in JIS H 8504. Specifically, a square stripe having a side of 2 mm that completely penetrates the metal plating layer was formed with a cutter, and a cellophane tape having a width of 12 mm was pressed for 10 seconds to make contact. Next, the cellophane was peeled off instantaneously under the condition of being perpendicular to the metal plating layer surface, and the peeled state was confirmed. The peeling was not recognized about the metal plating layer concerning a present Example. Moreover, after performing the immersion process for 4 hours in 60 degreeC warm water, the same peeling test was done, but peeling did not arise but it was confirmed that the strong metal plating layer is formed.
[0027]
[Fourth embodiment]
As a base material used in this example, a natural rubber sheet having a size of 100 × 100 × 1 mm was used. The following operation was carried out to form a metal plating layer on one side of the natural rubber sheet.
As a pretreatment process
(1) Primer application step: A cyanoacrylate resin (instant adhesive: trade name: Cemedine 3000D: manufactured by Cemedine) was applied to a natural rubber sheet by brush coating so that the dry thickness of the primer layer was 10 μm.
(2) Drying step: Using a high-temperature oven capable of setting the temperature, drying was performed at a temperature of 60 ° C. for 30 minutes.
As a conductive process,
( 3 ) Catalyst adsorption step: Stearyltrimethylammonium chloride (product name: Cotamine 86P Conch) was added to a pure aqueous solution consisting of 0.089 g / L of palladium chloride (PdCl 2 ) and 0.146 g / L of sodium chloride (NaCl). A dark brown transparent palladium colloid catalyst solution by vigorously stirring while adding a solution prepared by dissolving 0.076 g of sodium borohydride (NaBH 4 ) in a small amount of pure water to the main solution added with 1 g / L. Was made. This palladium colloid catalyst solution was sufficiently applied by spray coating on the silicone rubber sheet prepared in the pretreatment step, and then dried at a temperature of 100 ° C. for 30 minutes in a high-temperature oven capable of setting the temperature.
(4) Electroless plating step: An electroless nickel plating bath (product name: TMP chemical nickel: manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd .: standard composition) was plated at a temperature of 30 ° C. for 10 minutes.
(5) Electrolytic plating step: Next, a bright nickel bath (product name # 66: EBARA Eugleite Co., Ltd .: standard composition) was carried out for 30 minutes under the conditions of a temperature of 30 ° C. and a current intensity of 2 A / dm 2 . A metal plating layer of nickel metal was formed.
[0028]
In order to evaluate the adhesion of the metal plating layer obtained through each of the above steps, a sheet-like material provided with the metal plating layer was fixed to an iron plate with a moisture-curing adhesive Super X, and a test piece was prepared. Adhesion was evaluated according to “Tape Test Method” in “Plating Adhesion Test” defined in JIS H 8504. Specifically, a square stripe having a side of 2 mm that completely penetrates the metal plating layer was formed with a cutter, and a cellophane tape having a width of 12 mm was pressed for 10 seconds to make contact. Next, the cellophane was peeled off instantaneously under the condition of being perpendicular to the metal plating layer surface, and the peeled state was confirmed. The peeling was not recognized about the metal plating layer concerning a present Example. Moreover, after performing the immersion process for 4 hours in 60 degreeC warm water, the same peeling test was done, but peeling did not arise but it was confirmed that the strong metal plating layer is formed.
[0029]
【The invention's effect】
As described above, according to the metal plating method on the electrical non-conductor according to the present invention, it is higher than the electrical non-conductor such as rubber which has been difficult or impossible to form a metal plating layer until now. It became possible to easily apply metal plating having uniformity and adhesion. For example, with the addition of conductivity to the rubber member by metal plating, a conductive roller or the like having a high nip and conductivity essential for laser printers and copying can be suitably produced. In addition, the present invention has a beneficial effect that metal plating can be similarly applied to a wide variety of substances including substances that are difficult to form other metal plating layers. Furthermore, the use of substances such as chromium, which are highly toxic and environmentally burdensome, can be avoided, so that there are no post-treatment problems associated with disposal of pollutants.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a flowchart showing steps of a metal plating method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a process diagram showing each stage of a pretreatment process in a metal plating method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a process diagram showing each stage of a pretreatment process in a metal plating method according to an embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base material 12 Primer layer 14 Catalyst metal layer 16 Metal plating layer 20 Moisture curable resin 22 Catalyst metal

Claims (6)

電気的に不導体である基材(10)の表面に、水分を吸収することで構造内における官能基が反応して固化する湿気硬化性樹脂(20)を、ロールコーターまたはスプレーにより付与し、
前記基材(10)の表面に、前記官能基が未反応状態で付与された前記湿気硬化性樹脂(20)を乾燥硬化させてプライマー層(12)を形成した後、
無電解メッキ金属に対して触媒活性を有する触媒金属(22)を前記プライマー層(12)に接触させることで触媒金属層(14)を形成し、
前記触媒金属層(14)に無電解メッキを施して所要の金属メッキ層(16)を形成するようにした
ことを特徴とする電気的不導体への金属メッキ方法。
Moisture curable resin (20), which is solidified by the reaction of functional groups in the structure by absorbing moisture, is applied to the surface of the electrically non-conductive substrate (10) by a roll coater or spray ,
After forming the primer layer (12) by drying and curing the moisture curable resin (20) provided with the functional group in an unreacted state on the surface of the substrate (10),
Forming a catalytic metal layer (14) by contacting a catalytic metal (22) having catalytic activity with respect to the electroless plating metal to the primer layer (12),
A method of plating a metal on an electrically non-conductive material, wherein the catalyst metal layer (14) is electrolessly plated to form a required metal plating layer (16).
前記湿気硬化性樹脂(20)として、シリコーン樹脂が使用される請求項1記載の電気的不導体への金属メッキ方法。  The method for metal plating on an electrically non-conductive material according to claim 1, wherein a silicone resin is used as the moisture curable resin (20). 前記湿気硬化性樹脂(20)として、シアノアクリレート樹脂が使用される請求項1記載の電気的不導体への金属メッキ方法。  The metal plating method for an electrically non-conductive material according to claim 1, wherein a cyanoacrylate resin is used as the moisture curable resin (20). 前記基材(10)として、ゴムが用いられる請求項1〜3の何れか一項に記載の電気的不導体への金属メッキ方法。  The method for metal plating on an electrically nonconductive material according to any one of claims 1 to 3, wherein rubber is used as the base material (10). 前記触媒金属(22)は、コロイド状態で付与される請求項1〜4の何れか一項に記載の電気的不導体への金属メッキ方法。  The method for metal plating on an electrically non-conductive material according to any one of claims 1 to 4, wherein the catalytic metal (22) is applied in a colloidal state. 前記無電解メッキに引続いて、電解メッキが施される請求項1〜5の何れか一項に記載の電気的不導体への金属メッキ方法。  6. The method for plating a metal on an electrically non-conductive body according to any one of claims 1 to 5, wherein electrolytic plating is performed subsequent to the electroless plating.
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