JP2001107255A - Method of metal plating for electrical non-conductor - Google Patents

Method of metal plating for electrical non-conductor

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JP2001107255A
JP2001107255A JP28735099A JP28735099A JP2001107255A JP 2001107255 A JP2001107255 A JP 2001107255A JP 28735099 A JP28735099 A JP 28735099A JP 28735099 A JP28735099 A JP 28735099A JP 2001107255 A JP2001107255 A JP 2001107255A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an easy method of application of metal plating to a material composed of electrical non-conductor e.g. silicone rubber conventionally considered to be difficult or incapable of plating with metal. SOLUTION: Moisture curing resin is applied to the surface of a basis material composed of an electrical non-conductor, and this moisture curing resin is dried and cured to form a primer layer. Then a metallic catalyst having catalytic activity to electroless plating metal is brought into contact with the above primer layer to form a metallic catalyst layer. Further, electroless plating is applied to form a metal plating layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、電気的不導体へ
の金属メッキ方法に関し、更に詳細には、シリコーンゴ
ム、ポリエチレンゴムまたはEPR(エチレン−プロピ
レン−ゴム)等の如く、メッキが従来困難または不可能
であった電気的不導体に対して、金属メッキを容易に施
し得るようにした方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for plating a metal on an electrically nonconductive material, and more particularly, to a method for plating a metal such as silicone rubber, polyethylene rubber or EPR (ethylene-propylene-rubber), which has been difficult or impossible. The present invention relates to a method in which metal plating can be easily applied to an electric nonconductor that has been impossible.

【0002】[0002]

【従来技術】プラスチック等に代表される電気的不導体
の表面に金属メッキを施すことは、一般に困難である。
これは前記不導体の基材表面が平滑であって、前処理と
しての触媒金属層の形成が難しいからである。そこで従
来は、ブラストや液体ホーニング等の機械的処理を不導
体基材の表面に施して粗化させたり、クロム酸等の強力
な薬剤により該表面を化学的に粗化させたりした後に、
触媒を用いて金属メッキ層を基材表面に形成する方法が
採用されていた。
2. Description of the Related Art It is generally difficult to apply metal plating to the surface of an electrically nonconductive material such as plastic.
This is because the surface of the non-conductive base material is smooth and it is difficult to form a catalytic metal layer as a pretreatment. Therefore, conventionally, mechanical treatment such as blasting or liquid honing is performed on the surface of the nonconductive substrate to roughen the surface, or after chemically roughening the surface with a strong chemical such as chromic acid,
A method of forming a metal plating layer on the surface of a base material using a catalyst has been adopted.

【0003】しかし、前記の如く基材表面を機械的に粗
化して金属メッキを施す方法では、複雑な外部形状を呈
する物品の入り組んだ部分には当該処理が実施困難であ
り、また均一に粗化し得ないためにメッキ後の外観が悪
く、更に密着性の不良に起因して剥離し易い等の諸欠点
が指摘される。また基材表面を化学的に粗化してから金
属メッキを施す方法(エッチング)では、基材の種類に応
じた適切な処理が不可欠であって、汎用性の点で劣る難
点がある。
However, in the method of mechanically roughening the surface of a base material and applying metal plating as described above, it is difficult to perform the treatment on a complicated portion of an article having a complicated external shape, and it is difficult to uniformly perform the treatment. It is pointed out that various defects such as poor appearance after plating and poor peeling due to poor adhesion are not obtained. In addition, in a method of performing metal plating after chemically roughening the surface of a base material (etching), an appropriate treatment in accordance with the type of the base material is indispensable, and there is a disadvantage in that it is inferior in versatility.

【0004】基材に適応した処理としては、例えばAB
S系材料に硫酸−無水クロム酸溶液で表面粗化を行なう
ことが知られている。これによれば高い品質の外観と良
好な密着性が得られるので、これがプラスチックメッキ
の標準処方として広く用いられている。本発明は、不導
体材料への金属メッキ方法に関するものであるので、理
解に資するために従来実施されているABS系材料への
金属メッキ方法の概略を先に説明する。
[0004] As a treatment suitable for a base material, for example, AB
It is known to perform surface roughening on an S-based material with a sulfuric acid-chromic anhydride solution. According to this, a high quality appearance and good adhesion are obtained, and this is widely used as a standard formulation for plastic plating. Since the present invention relates to a method for plating a non-conductive material with a metal, an outline of a conventionally practiced metal plating method for an ABS-based material will be described first for the sake of understanding.

【0005】先ず、メッキ対象物であるABS系材料の
表面に、例えば重クロム酸によるエッチングを行なって
酸化による粗化処理を行ない、その後に触媒物質(後述)
の付着性を向上させるコンディショナに浸漬する。次い
で水洗を行ない、例えばパラジウム・スズの触媒浴に浸
漬することで無電解メッキの析出に不可欠な触媒を付与
し、更に効率的に該触媒を析出させるために、例えば硫
酸に浸漬する促進処理を施す。
[0005] First, the surface of an ABS-based material to be plated is subjected to a roughening treatment by oxidation, for example, by etching with dichromic acid, and then a catalytic substance (described later).
Immerse in a conditioner to improve the adhesion. Subsequently, washing is performed, for example, by immersing in a catalyst bath of palladium / tin to provide a catalyst indispensable for the deposition of electroless plating, and in order to deposit the catalyst more efficiently, accelerated treatment, for example, immersion in sulfuric acid is performed. Apply.

【0006】次いで導電層を形成するための導電化工程
が実施される。この導電化工程は、前記ABS系材料
を、例えばニッケルの無電解メッキ浴に所定時間浸漬さ
せて無電解メッキを施し、その表面に導電層となる無電
解メッキを析出させるものである。この導電化工程は、
この後に行なわれる電気メッキ工程に不可欠である。導
電化工程を経たABS系材料には、必要に応じて電気メ
ッキが施されて、例えばニッケルの金属メッキ層が形成
される。この電気メッキを施す工程は、該ABS系材料
を、スルファミン酸ニッケル浴に所定時間浸漬させ、前
記導電層に通電を行なってニッケルの金属皮膜を所望厚
さになるまで析出させることで完了する。
Next, a conductive step for forming a conductive layer is performed. In the conductive step, the ABS material is immersed in, for example, a nickel electroless plating bath for a predetermined time to perform electroless plating, and electroless plating to be a conductive layer is deposited on the surface. This conductive process,
It is essential for the subsequent electroplating process. The ABS-based material that has been subjected to the conductive process is subjected to electroplating as necessary, and a metal plating layer of, for example, nickel is formed. This electroplating step is completed by immersing the ABS-based material in a nickel sulfamate bath for a predetermined period of time and energizing the conductive layer to deposit a nickel metal film to a desired thickness.

【0007】前述したABS系材料以外の素材であっ
て、例えばポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリカーボネート系
アロイ、ポリアセタール樹脂、ナイロン樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテル
イミド樹脂等についても、夫々の材料に応じた化学的粗
化工程を含む確立した前処理方法によって実用可能なメ
ッキの形成が可能である。
[0007] Materials other than the above-mentioned ABS materials include, for example, polyphenylene oxide resin, polypropylene resin, polycarbonate resin, polycarbonate alloy, polyacetal resin, nylon resin, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyphenylene sulfide resin, and polyphenylene sulfide resin. With respect to etherimide resin and the like, it is possible to form a practicable plating by an established pretreatment method including a chemical roughening step corresponding to each material.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たように種々の樹脂に対応した前処理方法は確立されて
いても、材料中に導電性フィラーを含ませたり、合金
(アロイ)化させたり、前処理として有機溶剤によるプリ
エッチングが必要となる等の多く制約があるため、不導
体へのメッキ形成は自由度が少ない難点がある。また一
般に、ゴム類にメッキを施すことは従来技術では不可能
であった。
However, as described above, even though a pretreatment method corresponding to various resins has been established, a conductive filler may be contained in the material or an alloy may be contained.
There are many restrictions, such as the need for alloying and pre-etching with an organic solvent as a pre-treatment, so that there is a difficulty in forming a plating on a non-conductor with a low degree of freedom. Generally, plating of rubbers has not been possible with the prior art.

【0009】更に昨今、各種の水質汚濁物質に対する関
心が高まり、この水質汚染物質廃棄に関して広範囲の規
制がなされつつある。従って前述した硫酸−無水クロム
酸溶液による化学的粗化処理で発生する6価のクロム等
の廃液は、前記規制をクリアするための後処理に要する
コストが増大する難点が併せて指摘される。
In recent years, interest in various water pollutants has increased, and a wide range of regulations have been imposed on the disposal of water pollutants. Therefore, it is pointed out that the waste liquid such as hexavalent chromium generated by the chemical roughening treatment using the sulfuric acid-chromic anhydride solution described above increases the cost required for post-treatment to satisfy the above regulations.

【0010】[0010]

【発明の目的】この発明は、従来技術に係る電気的不導
体への金属メッキ方法に内在していた問題に鑑み、これ
を好適に解決するべく提案されたものであって、その目
的とするところは、金属メッキが従来困難または不可能
であった電気的不導体、例えばシリコーンゴムその他の
材料に容易に金属メッキを施し得る方法を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed in view of the problems inherent in the prior art metal plating method for electrically nonconductive materials, and has been proposed to solve the problems suitably. However, it is an object of the present invention to provide a method for easily performing metal plating on an electrically nonconductive material, for example, silicone rubber or other materials, for which metal plating has conventionally been difficult or impossible.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記課題を克服し、所期
の目的を達成するため本発明の電気的不導体への金属メ
ッキ方法は、電気的に不導体である基材の表面に湿気硬
化性樹脂を付与し、この湿気硬化性樹脂を乾燥硬化させ
てプライマー層を形成した後、無電解メッキ金属に対し
て触媒活性を有する触媒金属を前記プライマー層に接触
させることで触媒金属層を形成し、前記触媒金属層に無
電解メッキを施して所要の金属メッキ層を形成するよう
にしたことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to overcome the above-mentioned problems and achieve the intended object, the metal plating method for an electrically non-conductive material according to the present invention employs a method in which the surface of an electrically non-conductive substrate is exposed to moisture. A curable resin is applied, and the moisture-curable resin is dried and cured to form a primer layer, and then a catalytic metal having catalytic activity on an electroless plating metal is brought into contact with the primer layer to form a catalytic metal layer. The catalyst metal layer is formed by electroless plating to form a required metal plating layer.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】次に、本発明に係る電気的不導体
への金属メッキ方法につき、好適な実施例を挙げて、添
付図面を参照しながら以下説明する。本願の発明者は、
これまで金属メッキの形成が不可能であった例えばシリ
コーンゴムの基材に対し、前処理工程として湿気硬化性
樹脂のプライマーを付与することで、機械的な手段や化
学的手段を用いて表面粗化処理を施さなくとも、高い密
着性を有する金属メッキ層を容易に形成し得ることを知
見したものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a method for plating metal on an electrically non-conductive material according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings by way of preferred embodiments. The inventor of the present application
By applying a moisture-curable resin primer as a pre-treatment step to a substrate made of, for example, silicone rubber, for which metal plating could not be formed until now, surface roughness can be achieved using mechanical or chemical means. It has been found that a metal plating layer having high adhesiveness can be easily formed without performing the oxidizing treatment.

【0013】本発明に係る電気的不導体への金属メッキ
方法は、図1に示す如く、前処理工程S1および導電化
工程S2に大きく分かれる。そして前処理工程S1は、
図2に示す如く、電気的不導体の基材(ゴム部材)10に
スプレー塗布等の手段により後述する湿気硬化性樹脂2
0を付与するプライマー付与段階S11と、この湿気硬
化性樹脂20により形成されたプライマー層12を所定
の手段で乾燥させる乾燥工程S12とからなる。
As shown in FIG. 1, the method for plating metal on an electrically nonconductive material according to the present invention is roughly divided into a pretreatment step S1 and a conductive step S2. And the pre-processing step S1
As shown in FIG. 2, a moisture-curable resin 2 (described later) is applied to an electrically nonconductive base material (rubber member) 10 by means such as spray coating.
It comprises a primer applying step S11 for giving 0, and a drying step S12 for drying the primer layer 12 formed of the moisture-curable resin 20 by a predetermined means.

【0014】前処理工程S1に続いて行なわれる導電化
工程S2は、図1および図3に示す如く、前記基材10
上のプライマー層12に、無電解メッキに対して触媒活
性を発現する所望の金属微粒子を含む触媒金属22を吸
着させて、触媒金属層14を形成させる触媒吸着段階S
21と、適宜に選択されるメッキ用金属24のメッキ浴
30に浸漬させて該触媒金属層14上に所定厚さの金属
メッキ層16を付与する無電解メッキ段階S22とから
なる。以上の各段階を経た後に、検査工程S3での検査
を行なうことで電気的不導体への金属メッキの付与は完
了する。なお場合によっては、無電解メッキ段階S22
に引き続き、更に厚い金属メッキ層16を形成するため
に電解メッキ段階S23が行なわれる。この電解メッキ
段階S23は、電気的不導体に求められる各種物性(例
えば導電度)に応じて適宜選択的に実施される。
As shown in FIGS. 1 and 3, the conductive step S2 performed after the pre-processing step S1
A catalyst adsorption step S in which the upper primer layer 12 adsorbs a catalyst metal 22 containing desired fine metal particles exhibiting catalytic activity for electroless plating to form a catalyst metal layer 14.
21 and an electroless plating step S22 of applying a metal plating layer 16 having a predetermined thickness on the catalyst metal layer 14 by immersing the plating metal 30 in a plating bath 30 of an appropriately selected plating metal 24. After each of the above steps, the inspection in the inspection step S3 is performed to complete the application of the metal plating to the electric nonconductor. In some cases, the electroless plating step S22
Subsequently, an electrolytic plating step S23 is performed to form a thicker metal plating layer 16. The electrolytic plating step S23 is selectively performed as appropriate in accordance with various physical properties (eg, conductivity) required for the electrically non-conductive material.

【0015】本発明におけるメッキ対象物となる基材と
しては、これまで金属メッキが非常に困難であった物質
であって、前記湿気硬化性樹脂を表面に付与し得るもの
であれば問題なく選択し得る。好適にはシリコーンゴ
ム、天然ゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴ
ム、ニトリルゴム、エチレン・プロピレンゴム、ポリエ
チレン、ポリプロピレンまたはポリアセタール等が挙げ
られ、この他に一般的な高分子材料および極性の高い無
機材料等に対しても付与可能である。
The substrate to be plated in the present invention can be selected without any problem as long as it is a substance which has been extremely difficult to be metal-plated and which can impart the moisture-curable resin to the surface. I can do it. Preferable examples include silicone rubber, natural rubber, butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, nitrile rubber, ethylene / propylene rubber, polyethylene, polypropylene, and polyacetal, and other general polymer materials and highly polar inorganic materials. Can also be provided.

【0016】本発明で使用される湿気硬化性樹脂は、主
に接着剤の分野で知られており、空気中の水分を吸収す
ることによって構造内に架橋を生じ、この架橋によって
固化する性質を有する樹脂を配合した樹脂配合物を一般
的に指称する。この湿気硬化性樹脂は、前記基材の種類
等に応じて、該基材上に厚さ1〜100μm程度の範囲
で付与される。湿気硬化性樹脂で好適なものとしては、
湿気硬化性シリコーン樹脂、シアノアクリレート樹脂ま
たはウレタン系湿気接着剤等が挙げられる。前記湿気硬
化性シリコーン樹脂は、構造内の加水分解性官能基と、
水分により生成されたシラノール基とが縮合反応を起し
て、架橋を生じていくものであり、該縮合反応によりオ
リゴマからはずれていく縮合反応副生成物により、酢酸
型、アルコール型、オキシム型、アミン型、アミド型、
アミノキシ型およびアセトン型等に分類される。前記シ
アノアクリレート樹脂は、瞬間接着剤として広く知られ
ているものであり、水分により組成内の重合反応が促進
されて硬化するものである。前記ウレタン系湿気接着剤
は、構造内のイソシアネート基末端部にオリゴマを含有
しており、該イソシアネート基と水分との反応から生じ
たアミノ基が、更に他のイソシアネート基と反応するこ
とで架橋が生成されて硬化するものである。
The moisture-curable resin used in the present invention is mainly known in the field of adhesives, and has a property of causing cross-linking in a structure by absorbing moisture in the air and solidifying by the cross-linking. Generally, a resin composition containing a resin having the same is referred to. This moisture-curable resin is applied on the substrate in a thickness of about 1 to 100 μm depending on the type of the substrate and the like. Suitable moisture curable resins include:
Examples include a moisture-curable silicone resin, a cyanoacrylate resin, or a urethane-based moisture adhesive. The moisture-curable silicone resin has a hydrolyzable functional group in the structure,
Condensation reaction occurs with the silanol group generated by the moisture to cause cross-linking, and by the condensation reaction by-product deviating from the oligomer by the condensation reaction, acetic acid type, alcohol type, oxime type, Amine type, amide type,
It is classified into aminoxy type and acetone type. The cyanoacrylate resin is widely known as an instant adhesive, and is cured by promoting a polymerization reaction in the composition by moisture. The urethane-based moisture adhesive contains an oligomer at an isocyanate group terminal in the structure, and an amino group resulting from a reaction between the isocyanate group and moisture further reacts with another isocyanate group to form a crosslink. It is produced and hardened.

【0017】これら湿気硬化性樹脂は、一般に粘度が高
いので、ロールコーター等での塗布による付与が可能で
ある。キシレン等の溶媒による濃度調整も可能であるの
で、均一かつ薄いプライマー層を容易に形成し得る。ま
た雰囲気湿度により硬化するので、基材への付与時の湿
気を制御することにより、硬化速度も容易に制御し得
る。湿気硬化性樹脂は、様々な物質に対して高い物理的
な接着能力を有すると共に、硬化後に未反応状態で構造
内に残留する官能基または水分との反応により新たに生
成される官能基多数が、後述する触媒金属のコロイドま
たは該コロイドを安定化させている界面活性剤官能基を
捕捉し、その結果として該触媒金属を多数吸着すること
で、間接的に強力なメッキ層の密着性を提供しているも
のと推察される。
Since these moisture-curable resins generally have a high viscosity, they can be applied by coating with a roll coater or the like. Since the concentration can be adjusted with a solvent such as xylene, a uniform and thin primer layer can be easily formed. Further, since the composition is cured by the atmospheric humidity, the curing rate can be easily controlled by controlling the humidity at the time of application to the substrate. Moisture-curable resins have a high physical adhesion capacity to various substances and a large number of functional groups that remain in the structure in an unreacted state after curing or that are newly generated by reaction with moisture. By capturing a catalytic metal colloid described later or a surfactant functional group that stabilizes the colloid, and consequently adsorbing a large number of the catalytic metal, indirectly provides strong adhesion of the plating layer. It is presumed that it is doing.

【0018】本発明に使用される触媒金属としては、後
述する無電解メッキ反応に対して触媒活性を有するもの
が好適であり、金、銀、ルテニウム、ロジウム、パラジ
ウム、イリジウム、オスミウムまたは白金が挙げられ、
これはコロイド状態の下で使用される。前記触媒金属の
コロイドを製造するに、該触媒金属を含有する水溶性塩
を溶解させ、界面活性剤を加えて激しく撹拌しながら還
元剤を添加する方法が一般的であるが、他の公知方法を
用いてもよい。前記界面活性剤として、陰イオン性また
は陽イオン性の、例えば石けん、高級アルコール硫酸ナ
トリウム、アルキルベンゼンスルフォン酸ナトリウム、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム
等、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドまたは
アルキルベンジルジメチルアンモニウムクロライド等
が、前記触媒金属に合わせて適宜選択的に採用される。
ここで形成される触媒金属層は、後述する無電解メッキ
による金属メッキ層を形成する際の核として作用するの
で、前記プライマー層に対して連続層を形成する必要は
なく、分散・吸着されていればよい。
As the catalytic metal used in the present invention, those having catalytic activity for the electroless plating reaction described below are preferable, and examples thereof include gold, silver, ruthenium, rhodium, palladium, iridium, osmium and platinum. And
It is used under colloidal conditions. In order to produce a colloid of the catalyst metal, a method of dissolving a water-soluble salt containing the catalyst metal, adding a surfactant, and adding a reducing agent with vigorous stirring is generally used. May be used. As the surfactant, anionic or cationic, for example, soap, higher alcohol sodium sulfate, sodium alkylbenzene sulfonate,
Sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate and the like, lauryl trimethyl ammonium chloride, alkylbenzyl dimethyl ammonium chloride and the like are appropriately and selectively adopted according to the catalyst metal.
Since the catalyst metal layer formed here acts as a nucleus when forming a metal plating layer by electroless plating described later, it is not necessary to form a continuous layer on the primer layer, and the catalyst layer is dispersed and adsorbed. Just do it.

【0019】更に本発明に使用される無電解メッキのメ
ッキ用金属としては、無電解銅、無電解銅・ニッケル・
リン合金、無電解ニッケル・リン合金、無電解ニッケル
・ホウ素合金、無電解コバルト・リン合金、無電解金、
無電解銀または無電解パラジウム等が挙げられる。前記
基材に付与された金属メッキ層の導電度の程度如何によ
っては、必要に応じて引続き電解メッキ段階を経て金属
メッキ層が形成される。この場合、前記メッキ用金属と
しては、電解メッキ段階への移行を考慮して、コストお
よび安定性の観点から無電解銅または無電解ニッケル・
リン合金が好適である。
Further, as the metal for electroless plating used in the present invention, electroless copper, electroless copper, nickel,
Phosphorus alloy, electroless nickel-phosphorus alloy, electroless nickel-boron alloy, electroless cobalt-phosphorus alloy, electroless gold,
Electroless silver or electroless palladium may, for example, be mentioned. Depending on the degree of conductivity of the metal plating layer applied to the base material, the metal plating layer may be formed through an electrolytic plating step as needed. In this case, as the plating metal, in consideration of the transition to the electrolytic plating step, from the viewpoint of cost and stability, use is made of electroless copper or electroless nickel.
Phosphorus alloys are preferred.

【0020】以下に本発明に係る電気的不導体への金属
メッキ方法の好適な実施例を示すが、これに限定される
ものではない。
The preferred embodiment of the method for plating metal on an electrically nonconductive material according to the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.

【0021】[0021]

【第1実施例】本実施例で用いられる基材として、寸法
が100×100×3mmのシリコーンゴムシート(製
品名:東芝GEシリコーン社製)を用いた。このシリコー
ンゴムシートの片面側に、金属メッキ層を形成すべく以
下の操作を実施した。前処理工程として、 プライマー付与段階:シリコーンゴムシートに対し
て、湿気硬化性シリコーン樹脂(商品名 スーパーX:セ
メダイン社製)の50%キシレン溶液を、プライマー層
の乾燥厚さが10μmになるようにスプレー塗布した。 乾燥段階:温度設定可能な高温オーブンを用いて、温
度60℃で30分間の乾燥を施した。導電化工程とし
て、 触媒吸着段階:塩化パラジウム(PdCl2)0.089
g/Lと塩化ナトリウム(NaCl)0.146g/Lとか
らなる純水溶液に、ステアリルトリメチルアンモニウム
クロライド(製品名コータミン86Pコンク)を0.1g/
L添加した主溶液に対して、予め少量の純水に0.07
6gの水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を溶解した
溶液を添加しながら激しく撹拌することで、黒褐色透明
なパラジウムコロイド触媒溶液を作製した。このパラジ
ウムコロイド触媒溶液を、前処理工程で作製したシリコ
ーンゴムシートにスプレー塗布することで充分に付与
し、その後に温度設定可能な高温オーブンで温度100
℃として30分間乾燥させた。 無電解メッキ段階:無電解ニッケルメッキ浴(製品名
TMP化学ニッケル:奥野製薬社製:標準配合)を、30
℃の温度下で10分間実施した。 電解メッキ段階:次いで光沢ニッケル浴(製品名#6
6:荏原ユージライト社製:標準配合)を、温度30℃、
電流強度2A/dm2の条件下で30分間実施して、12
μm厚のニッケル金属の金属メッキ層を形成させた。
First Embodiment A silicone rubber sheet (product name: manufactured by Toshiba GE Silicone Co., Ltd.) having dimensions of 100 × 100 × 3 mm was used as a substrate used in this example. The following operation was performed to form a metal plating layer on one side of the silicone rubber sheet. As a pretreatment step, a primer application step: a 50% xylene solution of a moisture-curable silicone resin (trade name: Super X: manufactured by Cemedine Co.) is applied to the silicone rubber sheet so that the dry thickness of the primer layer becomes 10 μm. Spray applied. Drying stage: Drying was performed at a temperature of 60 ° C. for 30 minutes using a high-temperature oven capable of setting a temperature. As a conductive process, a catalyst adsorption step: palladium chloride (PdCl 2 ) 0.089
g / L and 0.146 g / L of sodium chloride (NaCl) in a pure aqueous solution containing 0.1 g / l of stearyltrimethylammonium chloride (product name Cotamine 86P Conc).
To the main solution to which L was added, add 0.07
By vigorously stirring while adding a solution in which 6 g of sodium borohydride (NaBH 4 ) was dissolved, a black-brown transparent palladium colloid catalyst solution was prepared. This palladium colloid catalyst solution is sufficiently applied by spray coating on the silicone rubber sheet prepared in the pretreatment step, and then the temperature is set to 100 ° C. in a high temperature oven capable of setting the temperature.
C. and dried for 30 minutes. Electroless plating stage: Electroless nickel plating bath (product name: TMP Chemical Nickel: Okuno Pharmaceutical Co., Ltd .: standard formulation)
Performed at a temperature of 10 ° C. for 10 minutes. Electroplating step: Bright nickel bath (product name # 6)
6: EBARA Eugerite Co., Ltd .: standard formulation) at a temperature of 30 ° C.
It is carried out for 30 minutes under the condition of a current intensity of 2 A / dm 2 , and 12
A metal plating layer of nickel metal having a thickness of μm was formed.

【0022】前記の各工程を経て得られた金属メッキ層
の密着性を評価するため、金属メッキ層の付与されたシ
ート状物を、湿気硬化接着剤スーパーXにより鉄板に対
して固定して試験片を作製し、JIS H 8630に規
定される「プラスチック上の装飾用電気めっき 附属書
6 密着性試験方法」に従って密着力を測定した。具体
的には、金属メッキ層に10mm幅で2本の平行な切り
込みを入れ、この切り込み部分から引き起こし、ペンチ
等により形成した20mm程度の剥離部を引っ張り試験
機のヘッドに固定して、該剥離部および基材(鉄板)間の
角度が90°,25mm/分のヘッド移動速度の条件下
に引っ張ってロードセル値を測定した。このときのロー
ドセル値は、約14.7N/cmであり充分な密着性が確
認された。
In order to evaluate the adhesion of the metal plating layer obtained through each of the above steps, the sheet-like material provided with the metal plating layer was fixed to an iron plate with a moisture-curing adhesive Super X and tested. A piece was prepared, and the adhesion was measured according to "Electroplating for decoration on plastic Annex 6 Adhesion test method" specified in JIS H 8630. Specifically, two parallel cuts with a width of 10 mm are made in the metal plating layer, and the cuts are caused by the cuts, and a peeled portion of about 20 mm formed by pliers or the like is fixed to a head of a tensile tester, and the peeling is performed. The load cell value was measured by pulling under the condition that the angle between the part and the substrate (iron plate) was 90 ° and the head moving speed was 25 mm / min. The load cell value at this time was about 14.7 N / cm, and sufficient adhesion was confirmed.

【0023】[0023]

【第2実施例】本実施例で用いられる基材として、寸法
が100×100×0.125mmの軟質ポリ塩化ビニ
ールシートを用いた。このビニールシートの両面側に、
金属メッキ層を形成すべく以下の操作を実施した。前処
理工程として、 プライマー付与段階:軟質ポリ塩化ビニールシートに
対して、湿気硬化性シリコーン樹脂(商品名 スーパー
X:セメダイン社製)原液を、プライマー層の乾燥厚さが
5μmになるように、乾燥空気の供給下でロールコータ
ーにより塗布付与した。 乾燥段階:乾燥空気の供給により、樹脂付与と同時に
乾燥させた。導電化工程として、 触媒吸着段階:塩化パラジウム(PdCl2)0.089
g/Lと塩化ナトリウム(NaCl)0.146g/Lとか
らなる純水溶液に、ステアリルトリメチルアンモニウム
クロライド(製品名コータミン86Pコンク)を0.1g/
L添加した主溶液に対して、予め少量の純水に0.07
6gの水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を溶解した
溶液を添加しながら激しく撹拌することで、黒褐色透明
なパラジウムコロイド触媒溶液を作製した。このパラジ
ウムコロイド触媒溶液を、前記前処理工程で作製した軟
質ポリ塩化ビニールシートにスプレー塗布することで充
分に付与し、その後に温度設定可能な高温オーブンで温
度100℃として30分間乾燥させた。 無電解メッキ段階:無電解銅メッキ浴(製品名オムニ
シールド1598:シプレイ・ファーイースト社製:標準
配合)を、30℃の温度下で10分間実施した。 電解メッキ段階:次いで光沢硫酸銅浴(製品名UBA
C−EPII:荏原ユージライト社製:標準配合)を、温度
25℃、電流強度4A/dm2の条件下で15分間実施し
て、12μm厚の銅の金属メッキ層を形成させた。
Second Embodiment As a substrate used in this embodiment, a soft polyvinyl chloride sheet having dimensions of 100.times.100.times.0.125 mm was used. On both sides of this vinyl sheet,
The following operation was performed to form a metal plating layer. As a pretreatment step, a primer application step: a moisture-curable silicone resin (trade name: Super X: manufactured by Cemedine Co.) is applied to a soft polyvinyl chloride sheet so that the primer layer has a dry thickness of 5 μm. The coating was applied by a roll coater under the supply of air. Drying step: The resin was dried at the same time as the resin was applied by supplying dry air. As a conductive process, a catalyst adsorption step: palladium chloride (PdCl 2 ) 0.089
g / L and 0.146 g / L of sodium chloride (NaCl) in a pure aqueous solution containing 0.1 g / l of stearyltrimethylammonium chloride (product name Cotamine 86P Conc).
To the main solution to which L was added, add 0.07
By vigorously stirring while adding a solution in which 6 g of sodium borohydride (NaBH 4 ) was dissolved, a black-brown transparent palladium colloid catalyst solution was prepared. The palladium colloid catalyst solution was sufficiently applied to the soft polyvinyl chloride sheet produced in the pretreatment step by spray coating, and then dried at a temperature of 100 ° C. for 30 minutes in a high temperature oven capable of setting the temperature. Electroless plating step: An electroless copper plating bath (product name Omnishield 1598: manufactured by Shipley Far East Co., Ltd .: standard blending) was carried out at 30 ° C. for 10 minutes. Electroplating step: Next, bright copper sulfate bath (product name UBA
C-EPII: manufactured by EBARA Eugelite Co., Ltd .: standard blending) was carried out at a temperature of 25 ° C. and a current intensity of 4 A / dm 2 for 15 minutes to form a 12 μm thick copper metal plating layer.

【0024】前記の各工程を経て得られた金属メッキ層
の密着性を評価するため、金属メッキ層の付与されたシ
ート状物を、湿気硬化接着剤スーパーXにより鉄板に固
定して試験片を作製し、JIS H 8630に規定され
る「プラスチック上の装飾用電気めっき 附属書6 密
着性試験方法」に従って密着力を測定した。具体的に
は、金属メッキ層に10mm幅で2本の平行な切り込み
を入れ、この切り込み部分から引き起こし、ペンチ等に
より形成した20mm程度の剥離部を引っ張り試験機の
ヘッドに固定して、該剥離部および基材(鉄板)間の角度
が90°,25mm/分のヘッド移動速度の条件下に引
っ張ってロードセル値を測定した。このときのロードセ
ル値は、約9.8N/cmであり充分な密着性が確認され
た。
In order to evaluate the adhesion of the metal plating layer obtained through each of the above steps, the sheet-like material provided with the metal plating layer was fixed to an iron plate with a moisture-curing adhesive Super X, and the test piece was used. It was prepared and the adhesion was measured in accordance with "Decorative electroplating on plastics Appendix 6 Adhesion test method" specified in JIS H 8630. Specifically, two parallel cuts with a width of 10 mm are made in the metal plating layer, and the cuts are caused by the cuts, and a peeled portion of about 20 mm formed by pliers or the like is fixed to a head of a tensile tester, and the peeling is performed. The load cell value was measured by pulling under the condition that the angle between the part and the substrate (iron plate) was 90 ° and the head moving speed was 25 mm / min. The load cell value at this time was about 9.8 N / cm, and sufficient adhesion was confirmed.

【0025】[0025]

【第3実施例】本実施例で用いられる基材として、寸法
が100×100×3mmのEPDMゴムシート(イノ
アックエラストマ社製)を用いた。このEPDMゴムシ
ートの両面側に、金属メッキ層を形成すべく以下の操作
を実施した。前処理工程として、 プライマー付与段階:EPDMゴムシートに対して、
湿気硬化性シリコーン樹脂(商品名 スーパーX:セメダ
イン社製)の50%キシレン溶液を、プライマー層の乾
燥厚さが10μmになるようにスプレー塗布した。 乾燥段階:温度設定可能な高温オーブンを用いて、温
度60℃で30分間の乾燥を施した。導電化工程とし
て、 触媒吸着段階:テトラクロロ金(III)酸ナトリウム(N
aAuCl4・2H2O)0.199g/Lの純水溶液に、
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド(製品名
コータミン86Pコンク)を0.1g/L添加した主溶液
に対して、予め少量の純水に0.076gの水素化ホウ
素ナトリウム(NaBH4)を溶解した溶液を添加しなが
ら激しく撹拌することで、赤色透明な金コロイド触媒溶
液を作製した。この金コロイド触媒溶液を、前処理工程
で作製したEPDMゴムシートにスプレー塗布すること
で充分に付与した後に水洗を施した。そして温度設定可
能な高温オーブンで温度100℃で30分間乾燥させ
た。 無電解銅メッキ浴(製品名オムニシールド1598:シ
プレイ・ファーイースト社製:標準配合)を、30℃の温
度下で30分間実施した。次いで塩化パラジウムを含む
活性化浴(オムニシールド1501:シプレイ・ファーイ
ースト社製:標準配合)を25℃の温度下で1分間実施し
て充分に水洗し、最後に無電解ニッケルメッキ浴(製品
名オムニシールド1580:シプレイ・ファーイースト
社製:標準配合)を、30℃の温度下で15分間実施し
た。以上の2段階の無電解メッキにより、銅メッキ層お
よびニッケルメッキ層が夫々1μmずつ形成・積層され
たEPDMゴムシートを作製した。
Third Embodiment As a substrate used in this embodiment, an EPDM rubber sheet (manufactured by INOAC Elastomer Co., Ltd.) having dimensions of 100.times.100.times.3 mm was used. The following operation was performed to form a metal plating layer on both sides of the EPDM rubber sheet. As a pretreatment step, a primer application step: for an EPDM rubber sheet,
A 50% xylene solution of a moisture-curable silicone resin (trade name: Super X: manufactured by Cemedine Co., Ltd.) was spray-coated so that the dry thickness of the primer layer was 10 μm. Drying stage: Drying was performed at a temperature of 60 ° C. for 30 minutes using a high-temperature oven capable of setting a temperature. As a conductive process, a catalyst adsorption step: sodium tetrachloroaurate (III) (N
a pure water solution of aAuCl 4 · 2H 2 O) 0.199g / L,
To a main solution to which 0.1 g / L of stearyltrimethylammonium chloride (product name Cotamine 86P Conc) was added, a solution in which 0.076 g of sodium borohydride (NaBH 4 ) was previously dissolved in a small amount of pure water was added. While stirring vigorously, a red transparent gold colloid catalyst solution was prepared. This gold colloid catalyst solution was sufficiently applied by spray coating on the EPDM rubber sheet produced in the pretreatment step, and then washed with water. Then, it was dried at a temperature of 100 ° C. for 30 minutes in a high temperature oven capable of setting a temperature. An electroless copper plating bath (product name Omnishield 1598: manufactured by Shipley Far East Co., Ltd .: standard formulation) was carried out at a temperature of 30 ° C. for 30 minutes. Then, an activation bath containing palladium chloride (Omnishield 1501: manufactured by Shipley Far East Co., Ltd .: standard formulation) was carried out at a temperature of 25 ° C. for 1 minute, washed sufficiently with water, and finally an electroless nickel plating bath (product name) Omnishield 1580: manufactured by Shipley Far East Co., Ltd .: standard formulation) at 30 ° C. for 15 minutes. By the two-stage electroless plating described above, an EPDM rubber sheet was formed in which a copper plating layer and a nickel plating layer were formed and laminated in a thickness of 1 μm each.

【0026】前記の各工程を経て得られた金属メッキ層
の密着性を評価するため、金属メッキ層の付与されたシ
ート状物を、湿気硬化接着剤スーパーXにより鉄板に固
定して試験片を作製し、JIS H 8504に規定され
る「めっきの密着性試験」における「テープ試験方法」に
従って密着性を評価した。具体的には、カッターで金属
メッキ層を完全に貫通する一辺2mmの正方形条痕を形
成し、幅12mmのセロテープを10秒間押し付けるこ
とで密着させた。次いでセロテープを金属メッキの層面
に対して垂直となる条件で瞬時に引き剥がし、その剥離
状態を確認した。本実施例に係る金属メッキ層につい
て、その剥離は認められなかった。また60℃の温水に
4時間浸漬処理を行なった後に、同様の剥離試験を行な
ったが剥離は生じず、強固な金属メッキ層が形成されて
いることが確認された。
In order to evaluate the adhesion of the metal plating layer obtained through each of the above steps, the sheet-like material provided with the metal plating layer was fixed to an iron plate with a moisture-curing adhesive Super X, and the test piece was used. It was prepared and the adhesion was evaluated according to the “tape test method” in the “plating adhesion test” specified in JIS H8504. Specifically, a square streak having a side of 2 mm was completely formed with a cutter to completely penetrate the metal plating layer, and a cellophane tape having a width of 12 mm was pressed for 10 seconds to be adhered. Next, the cellophane tape was instantaneously peeled off under conditions perpendicular to the metal plating layer surface, and the peeled state was confirmed. No peeling was observed in the metal plating layer according to this example. After a dipping treatment in hot water at 60 ° C. for 4 hours, a similar peeling test was performed, but no peeling occurred, and it was confirmed that a strong metal plating layer was formed.

【0027】[0027]

【第4実施例】本実施例で用いられる基材として、寸法
が100×100×1mmの天然ゴムシートを用いた。
この天然ゴムシートの片面側に、金属メッキ層を形成す
べく以下の操作を実施した。前処理工程として、 プライマー付与段階:天然ゴムシートに対して、シア
ノアクリレート樹脂(瞬間接着剤:商品名 セメダイン3
000D:セメダイン社製)をプライマー層の乾燥厚さが
10μmになるように刷毛塗りにより付与した。 乾燥段階:温度設定可能な高温オーブンを用いて、温
度60℃で30分間の乾燥を施した。導電化工程とし
て、 触媒吸着段階:塩化パラジウム(PdCl2)0.089
g/Lと塩化ナトリウム(NaCl)0.146g/Lとか
らなる純水溶液に、ステアリルトリメチルアンモニウム
クロライド(製品名コータミン86Pコンク)を0.1g/
L添加した主溶液に対して、予め少量の純水に0.07
6gの水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)を溶解した
溶液を添加しながら激しく撹拌することで、黒褐色透明
なパラジウムコロイド触媒溶液を作製した。このパラジ
ウムコロイド触媒溶液を、前記前処理工程で作製したシ
リコーンゴムシートにスプレー塗布することで充分に付
与し、その後温度設定可能な高温オーブンで温度100
℃で30分間乾燥させた。 無電解メッキ段階:無電解ニッケルメッキ浴(製品名
TMP化学ニッケル:奥野製薬社製:標準配合)を、30
℃の温度下で10分間メッキを実施した。 電解メッキ段階:次いで光沢ニッケル浴(製品名#6
6:荏原ユージライト社製:標準配合)を、温度30℃、
電流強度2A/dm2の条件下で30分間実施し、12μ
m厚のニッケル金属の金属メッキ層を形成させた。
Fourth Embodiment A natural rubber sheet having dimensions of 100.times.100.times.1 mm was used as a substrate used in this embodiment.
The following operation was performed to form a metal plating layer on one side of the natural rubber sheet. As a pretreatment process, a primer application step: a natural rubber sheet is applied to a cyanoacrylate resin (flash adhesive: trade name Cemedine 3)
000D: manufactured by Cemedine Co.) was applied by brush coating so that the dry thickness of the primer layer became 10 μm. Drying stage: Drying was performed at a temperature of 60 ° C. for 30 minutes using a high-temperature oven capable of setting a temperature. As a conductive process, a catalyst adsorption step: palladium chloride (PdCl 2 ) 0.089
g / L and 0.146 g / L of sodium chloride (NaCl) in a pure aqueous solution containing 0.1 g / l of stearyltrimethylammonium chloride (product name Cotamine 86P Conc).
To the main solution to which L was added, add 0.07
By vigorously stirring while adding a solution in which 6 g of sodium borohydride (NaBH 4 ) was dissolved, a black-brown transparent palladium colloid catalyst solution was prepared. The palladium colloid catalyst solution is sufficiently applied by spray coating on the silicone rubber sheet prepared in the pretreatment step, and then the temperature is set to 100 ° C. in a high temperature oven capable of setting the temperature.
Dry at 30 ° C. for 30 minutes. Electroless plating stage: Electroless nickel plating bath (product name: TMP Chemical Nickel: Okuno Pharmaceutical Co., Ltd .: standard formulation)
The plating was performed at a temperature of 10 ° C. for 10 minutes. Electroplating step: Bright nickel bath (product name # 6)
6: EBARA Eugerite Co., Ltd .: standard formulation) at a temperature of 30 ° C.
It is carried out for 30 minutes under the condition of a current intensity of 2 A / dm 2 ,
An m-thick nickel metal plating layer was formed.

【0028】前記の各工程を経て得られた金属メッキ層
の密着性を評価するため、金属メッキ層の付与されたシ
ート状物を、湿気硬化接着剤スーパーXにより鉄板に固
定して試験片を作製し、JIS H 8504に規定され
る「めっきの密着性試験」における「テープ試験方法」に
従って密着性を評価した。具体的には、カッターで金属
メッキ層を完全に貫通する一辺2mmの正方形条痕を形
成し、幅12mmのセロテープを10秒間押し付けるこ
とで密着させた。次いでセロテープを金属メッキの層面
に対して垂直となる条件で瞬時に引き剥がし、その剥離
状態を確認した。本実施例に係る金属メッキ層につい
て、その剥離は認められなかった。また60℃の温水に
4時間浸漬処理を行なった後に、同様の剥離試験を行な
ったが剥離は生じず、強固な金属メッキ層が形成されて
いることが確認された。
In order to evaluate the adhesion of the metal plating layer obtained through each of the above steps, the sheet-like material provided with the metal plating layer was fixed to an iron plate with a moisture-curing adhesive Super X, and the test piece was used. It was prepared and the adhesion was evaluated according to the “tape test method” in the “plating adhesion test” specified in JIS H8504. Specifically, a square streak having a side of 2 mm was completely formed with a cutter to completely penetrate the metal plating layer, and a cellophane tape having a width of 12 mm was pressed for 10 seconds to be adhered. Next, the cellophane tape was instantaneously peeled off under conditions perpendicular to the metal plating layer surface, and the peeled state was confirmed. No peeling was observed in the metal plating layer according to this example. After a dipping treatment in hot water at 60 ° C. for 4 hours, a similar peeling test was performed, but no peeling occurred, and it was confirmed that a strong metal plating layer was formed.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上に説明した如く、本発明に係る電気
的不導体への金属メッキ方法によれば、これまで金属メ
ッキ層の形成が困難または不可能であったゴム等の電気
的不導体に対して、高い均一性および密着度を有する金
属メッキを容易に付与することが可能となった。例えば
ゴム部材への金属メッキによる導電性の付与に伴い、レ
ーザープリンタおよびコピー等に不可欠の高いニップお
よび導電度を有する導電ローラ等を好適に作成し得る。
また、他の金属メッキ層の形成困難な物質を含む広範な
種類の物質に対しても、同様に金属メッキを施し得る有
益な効果を奏する。更にクロムの如き毒性および環境に
対する負荷が高い物質の使用を回避し得るので、汚染物
質の廃棄に伴う後処理の問題を生ずることもない。
As described above, according to the method for plating metal on an electrically nonconductive material according to the present invention, it has been difficult or impossible to form a metal plated layer. In contrast, it became possible to easily apply metal plating having high uniformity and adhesion. For example, a conductive roller having a high nip and a high conductivity, which is indispensable for a laser printer, a copy, and the like, can be suitably produced with the addition of conductivity to a rubber member by metal plating.
In addition, the present invention has a beneficial effect that metal plating can be similarly applied to a wide variety of substances including other substances having difficulty in forming a metal plating layer. Furthermore, the use of toxic and environmentally hazardous substances such as chromium can be avoided, so that there is no post-treatment problem associated with the disposal of pollutants.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に係る金属メッキ方法を段階的
に示すフローチャート図である。
FIG. 1 is a flowchart illustrating a metal plating method according to an embodiment of the present invention step by step.

【図2】本発明の実施例に係る金属メッキ方法における
前処理工程の各段階を示す工程図である。
FIG. 2 is a process diagram showing each stage of a pretreatment process in a metal plating method according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例に係る金属メッキ方法における
前処理工程の各段階を示す工程図である。
FIG. 3 is a process chart showing each stage of a pretreatment process in a metal plating method according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 基材 12 プライマー層 14 触媒金属層 16 金属メッキ層 20 湿気硬化性樹脂 22 触媒金属 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base material 12 Primer layer 14 Catalyst metal layer 16 Metal plating layer 20 Moisture curable resin 22 Catalyst metal

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気的に不導体である基材(10)の表面に
湿気硬化性樹脂(20)を付与し、 この湿気硬化性樹脂(20)を乾燥硬化させてプライマー層
(12)を形成した後、 無電解メッキ金属に対して触媒活性を有する触媒金属(2
2)を前記プライマー層(12)に接触させることで触媒金属
層(14)を形成し、 前記触媒金属層(14)に無電解メッキを施して所要の金属
メッキ層(16)を形成するようにしたことを特徴とする電
気的不導体への金属メッキ方法。
A moisture-curable resin (20) is applied to the surface of an electrically non-conductive substrate (10), and the moisture-curable resin (20) is dried and cured to form a primer layer.
After forming (12), a catalytic metal (2
2) is contacted with the primer layer (12) to form a catalyst metal layer (14), and the catalyst metal layer (14) is subjected to electroless plating to form a required metal plating layer (16). A method for plating metal on an electrically nonconductive material, characterized in that:
【請求項2】 前記湿気硬化性樹脂(20)として、シリコ
ーン樹脂が使用される請求項1記載の電気的不導体への
金属メッキ方法。
2. The method according to claim 1, wherein a silicone resin is used as the moisture-curable resin (20).
【請求項3】 前記湿気硬化性樹脂(20)として、シアノ
アクリレート樹脂が使用される請求項1記載の電気的不
導体への金属メッキ方法。
3. The method according to claim 1, wherein a cyanoacrylate resin is used as the moisture-curable resin (20).
【請求項4】 前記湿気硬化性樹脂(20)は、スプレー塗
布により付与される請求項1〜3の何れかに記載の電気
的不導体への金属メッキ方法。
4. The method according to claim 1, wherein the moisture-curable resin (20) is applied by spray coating.
【請求項5】 前記湿気硬化性樹脂(20)は、ロールロー
ターの使用により付与される請求項1〜3の何れかに記
載の電気的不導体への金属メッキ方法。
5. The method according to claim 1, wherein the moisture-curable resin (20) is applied by using a roll rotor.
【請求項6】 前記無電解メッキに引続いて、電解メッ
キが施される請求項1〜5の何れかに記載の電気的不導
体への金属メッキ方法。
6. The method according to claim 1, wherein electrolytic plating is performed subsequent to the electroless plating.
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