JPH06292868A - 洗浄方法および洗浄スプレー装置 - Google Patents
洗浄方法および洗浄スプレー装置Info
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- JPH06292868A JPH06292868A JP10734593A JP10734593A JPH06292868A JP H06292868 A JPH06292868 A JP H06292868A JP 10734593 A JP10734593 A JP 10734593A JP 10734593 A JP10734593 A JP 10734593A JP H06292868 A JPH06292868 A JP H06292868A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 噴霧してもオゾン層破壊の危険がなく、しか
も洗浄液の成分を残すことなく洗浄できるスプレー式の
洗浄装置とする。 【構成】 ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルト
リシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンの
内の１種と低級アルコールとの混合物により洗浄液と
し、この洗浄液を噴霧用ガスとしての炭酸ガスと共に、
スプレー缶内に封入する。
も洗浄液の成分を残すことなく洗浄できるスプレー式の
洗浄装置とする。 【構成】 ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルト
リシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンの
内の１種と低級アルコールとの混合物により洗浄液と
し、この洗浄液を噴霧用ガスとしての炭酸ガスと共に、
スプレー缶内に封入する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄液を噴霧することに
よって被洗浄物を簡易に洗浄する方法およびこの洗浄方
法に使用される洗浄スプレー装置に関する。
よって被洗浄物を簡易に洗浄する方法およびこの洗浄方
法に使用される洗浄スプレー装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】被洗浄物の部分的な洗浄では洗浄液を噴
霧する簡易な操作で行われる。この洗浄に使用する洗浄
液としては、従来よりフロン１１３などのパーハロエタ
ンが知られている。また特開平１−１１１７５号公報お
よび同２−１１７９７８号公報には界面活性剤を主剤と
し、これにシリコンオイルを配合したエマルジョン状態
の組成物を噴霧して洗浄すると共に、組成物中の残留成
分により艶出しを行うことが記載されている。さらに、
洗浄液とリンス液とを別個の容器内に充填し、洗浄液を
噴霧後にリンス液を噴霧して汚れを除去することもなさ
れている（商品名「パインアルファＳＴ−２０００、荒
川化学工業（株）製）。
霧する簡易な操作で行われる。この洗浄に使用する洗浄
液としては、従来よりフロン１１３などのパーハロエタ
ンが知られている。また特開平１−１１１７５号公報お
よび同２−１１７９７８号公報には界面活性剤を主剤と
し、これにシリコンオイルを配合したエマルジョン状態
の組成物を噴霧して洗浄すると共に、組成物中の残留成
分により艶出しを行うことが記載されている。さらに、
洗浄液とリンス液とを別個の容器内に充填し、洗浄液を
噴霧後にリンス液を噴霧して汚れを除去することもなさ
れている（商品名「パインアルファＳＴ−２０００、荒
川化学工業（株）製）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フロン
１１３等のパーハロエタンは科学的に特に安定であるた
め対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生するハロゲンラジカル
がオゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊すること
から、使用の削減が求められており、パーハロエタンを
噴霧して洗浄を行うことは、環境保全上好ましくない。
また、特開平１−１１１７５号公報や特開平２−１１７
９７８号公報では組成物を噴霧後に拭き取るが、成分の
一部が残留するため、被洗浄物から汚れを完全に除去す
ることはできない。さらに、洗浄液とリンス液との２液
構成では、液の使い分けをしなければならず、作業上不
便な面がある。本発明は、これらの問題を考慮してなさ
れたものであり、オゾン層を破壊することなく、洗浄液
の残留がなく、１液で洗浄可能な洗浄方法および洗浄ス
プレー装置を提供することを目的とする。
１１３等のパーハロエタンは科学的に特に安定であるた
め対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生するハロゲンラジカル
がオゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊すること
から、使用の削減が求められており、パーハロエタンを
噴霧して洗浄を行うことは、環境保全上好ましくない。
また、特開平１−１１１７５号公報や特開平２−１１７
９７８号公報では組成物を噴霧後に拭き取るが、成分の
一部が残留するため、被洗浄物から汚れを完全に除去す
ることはできない。さらに、洗浄液とリンス液との２液
構成では、液の使い分けをしなければならず、作業上不
便な面がある。本発明は、これらの問題を考慮してなさ
れたものであり、オゾン層を破壊することなく、洗浄液
の残留がなく、１液で洗浄可能な洗浄方法および洗浄ス
プレー装置を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段および作用】本発明の洗浄
方法は、シロキサンと低級アルコールとの混合物により
洗浄液を構成し、この洗浄液を炭酸ガスにより被洗浄物
に噴霧することを特徴とする。また本発明の洗浄スプレ
ー装置は、上述した組成の洗浄液を噴霧用ガスとしての
炭酸ガスと共に、容器内に充填したことを特徴とする。
ここで、シロキサンとしてはヘキサメチルジシロキサ
ン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロ
テトラシロキサンの中から選ばれた少なくとも１種であ
り、乾燥性のみを考慮するとヘキサメチルジシロキサ
ン、オクタメチルトリシロキサンが好ましい。一方、低
級アルコールは１０〜５０ｗｔ％の割合で使用される。
方法は、シロキサンと低級アルコールとの混合物により
洗浄液を構成し、この洗浄液を炭酸ガスにより被洗浄物
に噴霧することを特徴とする。また本発明の洗浄スプレ
ー装置は、上述した組成の洗浄液を噴霧用ガスとしての
炭酸ガスと共に、容器内に充填したことを特徴とする。
ここで、シロキサンとしてはヘキサメチルジシロキサ
ン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロ
テトラシロキサンの中から選ばれた少なくとも１種であ
り、乾燥性のみを考慮するとヘキサメチルジシロキサ
ン、オクタメチルトリシロキサンが好ましい。一方、低
級アルコールは１０〜５０ｗｔ％の割合で使用される。
【０００５】本発明においては、洗浄液の成分としてシ
ロキサンと低級アルコールを含んでいるため、切削油な
どの油類や半田付けの際に用いるフラックスに対して溶
解性を有し、良好な洗浄能力を発揮する。成分の内シロ
キサンは、揮発性がよく蒸発潜熱が低いために、送風等
により速やかに乾燥表面を得られ、良好な洗浄効果を得
ることができる。ここでオクタメチルシクロテトラシロ
キサンよりも高沸点のジメチルシロキサンを用いた場合
には、沸点が高いために揮発性が悪く、乾燥面を速やか
に得ることが難しい。シロキサンにおいて、揮発性の観
点からは特にヘキサメチルジシロキサンが好ましい。ま
た、低級アルコールを含有することで、極性系の汚れに
対して溶解性が向上し、広範囲な汚れに対して洗浄力を
発揮することができる。この低級アルコールは、揮発性
を考慮して炭素数４以下のものが好ましく、毒性面を考
慮するとエタノールが好ましい。
ロキサンと低級アルコールを含んでいるため、切削油な
どの油類や半田付けの際に用いるフラックスに対して溶
解性を有し、良好な洗浄能力を発揮する。成分の内シロ
キサンは、揮発性がよく蒸発潜熱が低いために、送風等
により速やかに乾燥表面を得られ、良好な洗浄効果を得
ることができる。ここでオクタメチルシクロテトラシロ
キサンよりも高沸点のジメチルシロキサンを用いた場合
には、沸点が高いために揮発性が悪く、乾燥面を速やか
に得ることが難しい。シロキサンにおいて、揮発性の観
点からは特にヘキサメチルジシロキサンが好ましい。ま
た、低級アルコールを含有することで、極性系の汚れに
対して溶解性が向上し、広範囲な汚れに対して洗浄力を
発揮することができる。この低級アルコールは、揮発性
を考慮して炭素数４以下のものが好ましく、毒性面を考
慮するとエタノールが好ましい。
【０００６】本発明においては、洗浄液を噴霧すること
で目的の部粉以外は洗浄液が付着せず、選択的な洗浄が
可能となる。さらに、洗浄液の噴霧用の液化ガスとして
の炭酸ガスは洗浄液に対する溶解性が少ないため、噴霧
の際に安定した噴出性能を示し、被洗浄物へ噴霧した際
に気化熱による被洗浄物への結露が少ない。また、本発
明のシロキサンは、人体に対し毒性が低いため、噴霧し
て洗浄作業を行う際に人体への悪影響が少ない利点があ
る。
で目的の部粉以外は洗浄液が付着せず、選択的な洗浄が
可能となる。さらに、洗浄液の噴霧用の液化ガスとして
の炭酸ガスは洗浄液に対する溶解性が少ないため、噴霧
の際に安定した噴出性能を示し、被洗浄物へ噴霧した際
に気化熱による被洗浄物への結露が少ない。また、本発
明のシロキサンは、人体に対し毒性が低いため、噴霧し
て洗浄作業を行う際に人体への悪影響が少ない利点があ
る。
【０００７】
【実施例１】市販されているヘキサメチルジシロキサン
を蒸留精製することにより、オクタメチルシクロテトラ
シロキサンよりも高沸点成分（沸点１７５℃以上）がガ
スクロマトグラフでは検出されない程度の高純度のヘキ
サメチルジシロキサンを得た。このヘキサメチルジシロ
キサンと純度９９．５％のエタノールとを重量混合比で
ヘキサメチルジシロキサン：エタノール＝６３．５：３
６．５に調製した共沸組成物を作製し、洗浄液とした。
これを１００ｃｃのスプレー缶容器に９０ｃｃいれて、
それぞれ炭酸ガス、ＬＰＧ（プロパンガス）、窒素ガス
を圧力５ｋｇ／ｃｍ2 で封入し、洗浄スプレー装置を得
た。
を蒸留精製することにより、オクタメチルシクロテトラ
シロキサンよりも高沸点成分（沸点１７５℃以上）がガ
スクロマトグラフでは検出されない程度の高純度のヘキ
サメチルジシロキサンを得た。このヘキサメチルジシロ
キサンと純度９９．５％のエタノールとを重量混合比で
ヘキサメチルジシロキサン：エタノール＝６３．５：３
６．５に調製した共沸組成物を作製し、洗浄液とした。
これを１００ｃｃのスプレー缶容器に９０ｃｃいれて、
それぞれ炭酸ガス、ＬＰＧ（プロパンガス）、窒素ガス
を圧力５ｋｇ／ｃｍ2 で封入し、洗浄スプレー装置を得
た。
【０００８】次に、これらを用いて、切削油が付着した
銅板にそれぞれの洗浄液を噴霧した後、ワイパーで拭き
取り洗浄した。この結果を表１に示す。どのガスを用い
ても十分な洗浄効果が得られたが、ＬＰＧでは被洗浄物
表面に結露が多く発生し、乾燥が遅くなった。また、窒
素ガスでは使用中にガス圧力の低下が生じ、スプレー缶
内の洗浄液を全て噴出できなかった。炭酸ガスでは、結
露も少なく速やかに乾燥面が得られ、特に良好な洗浄結
果が得られた。
銅板にそれぞれの洗浄液を噴霧した後、ワイパーで拭き
取り洗浄した。この結果を表１に示す。どのガスを用い
ても十分な洗浄効果が得られたが、ＬＰＧでは被洗浄物
表面に結露が多く発生し、乾燥が遅くなった。また、窒
素ガスでは使用中にガス圧力の低下が生じ、スプレー缶
内の洗浄液を全て噴出できなかった。炭酸ガスでは、結
露も少なく速やかに乾燥面が得られ、特に良好な洗浄結
果が得られた。
【０００９】
【実施例２】実施例１と同様な純度まで蒸留精製したヘ
キサメチルジシロキサン６３．５重量部に純度９９．５
％のエタノール３６．５重量部を混合して共沸組成の洗
浄液を得、この洗浄液を実施例１と同様に炭酸ガスと共
にスプレー缶容器内に封入し、洗浄スプレー装置を得
た。このスプレー缶容器の噴出ノズルをスポットで噴出
するタイプのものに取り換えて、電気基板の半田付け部
分のみに噴出した後、ワイパーで拭き取ってフラックス
を洗浄した。その後同じ洗浄液を噴出し、リンスを行っ
た。この部分を顕微鏡で観察したところ、フラックスの
残渣は観察されず良好な洗浄結果が得られた。
キサメチルジシロキサン６３．５重量部に純度９９．５
％のエタノール３６．５重量部を混合して共沸組成の洗
浄液を得、この洗浄液を実施例１と同様に炭酸ガスと共
にスプレー缶容器内に封入し、洗浄スプレー装置を得
た。このスプレー缶容器の噴出ノズルをスポットで噴出
するタイプのものに取り換えて、電気基板の半田付け部
分のみに噴出した後、ワイパーで拭き取ってフラックス
を洗浄した。その後同じ洗浄液を噴出し、リンスを行っ
た。この部分を顕微鏡で観察したところ、フラックスの
残渣は観察されず良好な洗浄結果が得られた。
【００１０】
【実施例３】オクタメチルシクロテトラシロキサンより
も高沸点成分をガスクロマトグラフが検出できない純度
となるまでオクタメチルトリシロキサンを蒸留精製し
た。このオクタメチルトリシロキサン８０重量部と純度
９９．５％エタノール２０重量部を混合して洗浄液を
得、実施例１と同様に炭酸ガスと共にスプレー容器内に
充填して洗浄スプレー装置を作製した。そしてソルダー
ペーストが付着している印刷マスクに洗浄液を噴霧した
後、ワイパーで拭き取ることにより洗浄を行った。この
洗浄後に、目視観察を行ったところ残留しているソルダ
ーペーストはなく、良好な洗浄結果が得られた。
も高沸点成分をガスクロマトグラフが検出できない純度
となるまでオクタメチルトリシロキサンを蒸留精製し
た。このオクタメチルトリシロキサン８０重量部と純度
９９．５％エタノール２０重量部を混合して洗浄液を
得、実施例１と同様に炭酸ガスと共にスプレー容器内に
充填して洗浄スプレー装置を作製した。そしてソルダー
ペーストが付着している印刷マスクに洗浄液を噴霧した
後、ワイパーで拭き取ることにより洗浄を行った。この
洗浄後に、目視観察を行ったところ残留しているソルダ
ーペーストはなく、良好な洗浄結果が得られた。
【００１１】次に、オクタメチルトリシロキサンに代え
てオクタメチルシクロテトラシロキサンを用いて、同様
に洗浄液および洗浄スプレー装置を作成し、洗浄を行っ
たところ、同様の結果が得られた。
てオクタメチルシクロテトラシロキサンを用いて、同様
に洗浄液および洗浄スプレー装置を作成し、洗浄を行っ
たところ、同様の結果が得られた。
【００１２】
【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、オゾン
層を破壊することなく、洗浄液成分を残留させずに優れ
た洗浄効果を発揮することができ、１種類の洗浄液で洗
浄とリンスとが可能で速やかに清浄な乾燥面とすること
ができる。
層を破壊することなく、洗浄液成分を残留させずに優れ
た洗浄効果を発揮することができ、１種類の洗浄液で洗
浄とリンスとが可能で速やかに清浄な乾燥面とすること
ができる。
【表１】
Claims (2)
- 【請求項１】 ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチ
ルトリシロキサンまたはオクタメチルシクロテトラシロ
キサンの中から選ばれた少なくとも１種のシロキサンと
低級アルコールとの混合物からなる洗浄液を炭酸ガスを
噴霧用ガスとして被洗浄物に噴霧することを特徴とする
洗浄方法。 - 【請求項２】 ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチ
ルトリシロキサンまたはオクタメチルシクロテトラシロ
キサンの中から選ばれた少なくとも１種のシロキサンと
低級アルコールとの混合物からなる洗浄液と、噴霧用ガ
スとしての炭酸ガスとを噴射ノズルを具備した密閉可能
な容器内に充填したことを特徴とする洗浄スプレー装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10734593A JP3274737B2 (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 洗浄方法および洗浄スプレー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10734593A JP3274737B2 (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 洗浄方法および洗浄スプレー装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06292868A true JPH06292868A (ja) | 1994-10-21 |
| JP3274737B2 JP3274737B2 (ja) | 2002-04-15 |
Family
ID=14456703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10734593A Expired - Fee Related JP3274737B2 (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 洗浄方法および洗浄スプレー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3274737B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4221949A1 (de) * | 1992-07-02 | 1994-01-13 | Siemens Ag | Optischer Druckkopf |
| US5341195A (en) * | 1991-08-23 | 1994-08-23 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic printer using electroluminescent imaging head |
| US5454970A (en) * | 1994-08-11 | 1995-10-03 | Dow Corning Corporation | Octamethyltrisiloxane containing azeotropes |
| US5456856A (en) * | 1995-01-18 | 1995-10-10 | Dow Corning Corporation | Azeotrope and azeotrope-like compositions of octamethyltrisiloxane |
| US5478493A (en) * | 1994-06-15 | 1995-12-26 | Dow Corning Corporation | Hexamethyldisiloxane containing azeotropes |
| US5507878A (en) * | 1995-04-24 | 1996-04-16 | Dow Corning Corporation | Azeotropes of octamethyltrisiloxane and aliphatic or alicyclic alcohols |
| DE102006025994B3 (de) * | 2006-06-02 | 2008-01-03 | Sprügel, Friedrich A. | Reinigungsflüssigkeit mit verringerter Entzündbarkeit |
| US8973407B2 (en) | 2011-11-25 | 2015-03-10 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Method for producing synthetic quartz glass |
| US8984911B2 (en) | 2011-11-25 | 2015-03-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Atomizing method for producing synthetic quartz glass |
| US8997528B2 (en) | 2011-11-25 | 2015-04-07 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Method for producing synthetic quartz glass |
| US9061935B2 (en) | 2011-11-25 | 2015-06-23 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Method for producing synthetic quartz glass |
-
1993
- 1993-04-09 JP JP10734593A patent/JP3274737B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5341195A (en) * | 1991-08-23 | 1994-08-23 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic printer using electroluminescent imaging head |
| DE4221949A1 (de) * | 1992-07-02 | 1994-01-13 | Siemens Ag | Optischer Druckkopf |
| US5478493A (en) * | 1994-06-15 | 1995-12-26 | Dow Corning Corporation | Hexamethyldisiloxane containing azeotropes |
| US5454970A (en) * | 1994-08-11 | 1995-10-03 | Dow Corning Corporation | Octamethyltrisiloxane containing azeotropes |
| US5456856A (en) * | 1995-01-18 | 1995-10-10 | Dow Corning Corporation | Azeotrope and azeotrope-like compositions of octamethyltrisiloxane |
| US5507878A (en) * | 1995-04-24 | 1996-04-16 | Dow Corning Corporation | Azeotropes of octamethyltrisiloxane and aliphatic or alicyclic alcohols |
| EP0739998A3 (en) * | 1995-04-24 | 1997-03-05 | Dow Corning | Azeotropic compositions containing octamethyltrisiloxane and aliphatic or alicyclic alcohols |
| DE102006025994B3 (de) * | 2006-06-02 | 2008-01-03 | Sprügel, Friedrich A. | Reinigungsflüssigkeit mit verringerter Entzündbarkeit |
| US8973407B2 (en) | 2011-11-25 | 2015-03-10 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Method for producing synthetic quartz glass |
| US8984911B2 (en) | 2011-11-25 | 2015-03-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Atomizing method for producing synthetic quartz glass |
| US8997528B2 (en) | 2011-11-25 | 2015-04-07 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Method for producing synthetic quartz glass |
| US9061935B2 (en) | 2011-11-25 | 2015-06-23 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Method for producing synthetic quartz glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3274737B2 (ja) | 2002-04-15 |
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|---|---|---|---|
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