JPH06288922A - 分析装置 - Google Patents

分析装置

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JPH06288922A
JPH06288922A JP7384793A JP7384793A JPH06288922A JP H06288922 A JPH06288922 A JP H06288922A JP 7384793 A JP7384793 A JP 7384793A JP 7384793 A JP7384793 A JP 7384793A JP H06288922 A JPH06288922 A JP H06288922A
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JP
Japan
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metal oxide
oxide
measured
analyzer
substance
Prior art date
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Pending
Application number
JP7384793A
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English (en)
Inventor
Yuji Yao
祐史 八尾
Yasuaki Matsuura
保彰 松浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Information and Control Systems Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Information and Control Systems Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Information and Control Systems Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP7384793A priority Critical patent/JPH06288922A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、測定物質、測定項目の影響を受け
ず、多種成分の濃度を同時に測定することができる分析
装置を提供することにある。 【構成】本発明の分析装置は、被測定物質を吸着させる
金属酸化物と、前記金属酸化物を加熱する加熱装置と、
前記金属酸化物の温度を調整する温度調整器と、前記金
属酸化物の加熱の際出る光を集光する集光器と、前記金
属酸化物の加熱の際出る光を波長毎に分光する分光器
と、前記集光器と前記分光器をつなぐ光伝送路と、前記
金属酸化物の加熱の際出る光波長毎に分解された光と基
準光を比較し成分濃度を演算する分光分析器とから構成
されているので、1個の分析装置により吸着前の波長毎
の強度と吸着後の波長毎の強度との強度差を求め、予め
求めている強度差とガス濃度の関係表を用いて測定物質
の成分濃度を測定するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水質成分濃度やガス成
分濃度等、多種類の液体や気体が混入している物質の成
分毎の濃度を測定する分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、物質含有濃度は、測定したい物質
用の濃度検出器により測定していた。すなわち、赤外
線、マイクロ波、X線、可視光の吸収率(物質により吸
収する波長が違う)等を測定するいくつかの濃度検出器
を設けることにより多種成分の濃度を測定していた。
【0003】ところで、成分分析装置は分子質量測定方
式をとっているため、この測定方式では濃度の測定はで
きない。そのため次のような問題が生じる。 (1)測定物質が増えるとその分の濃度計が必要とな
り、スペースをとる。 (2)測定物質、項目により計測方法が異なる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記したように、従来
の測定方法では、測定方法自体が測定物質の影響を受
け、また測定物質が増えると、その分測定機器が増える
ことになり、大きなスペースが要求されるという問題が
あった。
【0005】本発明は上記問題を解消するためになされ
たもので、その目的は測定物質、測定項目の影響を受け
ず、多種成分の濃度を同時に測定することができる分析
装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の分析装置は、被測定物質を吸着させる金属
酸化物と、前記金属酸化物を加熱する加熱装置と、前記
金属酸化物の温度を調整する温度調整器と、前記金属酸
化物の加熱の際出る光を集光する集光器と、前記金属酸
化物の加熱の際出る光を波長毎に分光する分光器と、前
記集光器と前記分光器をつなぐ光伝送路と、前記金属酸
化物の加熱の際出る光波長毎に分解された光と基準光を
比較し成分濃度を演算する分光分析器とから構成された
ことを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明によると、1個の分析装置により吸着前
の波長毎の強度Dλ1 と吸着後の波長毎の強度Dλ2 と
の強度差ΔDλ、つまり、ΔDλ=Dλ2 −Dλ1 を求
め、予め求めている強度差とガス濃度の関係表を用いて
測定物質の成分濃度を測定するものである。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図を参照して説明す
る。図1は、本発明の成分濃度分析装置の構成図であ
る。同図に示すように、測定物質が流れている配管1
に、分析器に引込むための引込配管2が接続されてい
る。この引込配管2に接続された圧送機5により、測定
物質が圧送機5と測定部7間に設けられた流入配管6を
介してヒータ9付の金属酸化物8(導体であればヒータ
は不要)が収納されている測定部7に注入される。
【0009】また、測定部7は外部からの影響を受けな
いように密閉構造とし、金属酸化物8はヒータ9と温度
調整器10により一定温度となるように調整しておく。
流入配管6より流入された測定物質は、仕切弁16を設
けた排出配管15を介して元の配管1に戻すように構成
されている。さらに、測定部7には、金属酸化物8を加
熱した際、発する光を集光する集光器11と、集光され
た光を伝送する光伝送路12と、伝送された光を分光す
る分光器13と、分光された光を解析する分光分析器1
4とが設けられている。
【0010】ここで、図2および図3を参照して測定部
7の構造について説明する。図2は測定部7の下部構造
の詳細図であり、同図(a)は測定部7の下部付近の側
面図、同図(b)は同図(a)のY−Y線に沿う下部の
断面図、同図(c)は同図(b)の平面図である。また
図3(a)は測定部7の上部の側面図、同図(b)は同
図(a)のZ−Z線に沿う断面図である。これらの図か
ら分かるように、測定部下部には皮膜26で外側を覆っ
た金属酸化物25が取り付けられており、また測定部上
部にはガラス板28を介して集光器11,光伝送路12
が取り付けられている。なお、27,29はゴムであ
る。
【0011】また、本分析装置の金属酸化物は、測定
後、洗浄(空気中で一定時間加熱)が必要であるため、
洗浄用ガスタンク17および洗浄用の予備タンク18を
設けている。洗浄用ガスは洗浄用ガスタンク17から引
込配管2に接続された洗浄配管24,仕切弁19,2
3,4を介して測定部7に圧送機22により注入される
ように構成されている。なお、3,20,21は仕切弁
であり、これら仕切弁3,4,16,19,20,2
1,23の開閉と圧送機5,22の動作はいずれも自動
制御される。
【0012】本実施例の分析装置の動作を図4のタイム
チャートと図5の分析フローおよび図6〜図8の測定手
順,発行プロセス,計測方法をモデル化した図を参照し
て説明する。
【0013】まず、図4のタイムチャートにおいて、第
1ステップ(I) では、仕切弁3,19,21,23を閉
めた状態で仕切弁4,16,20を開け、圧送機5より
空気を注入し金属酸化物を加熱し洗浄を行う。第2ステ
ップ(II)では、仕切弁4,16,20,21を閉めた状
態で仕切弁3,19,23を開き、圧送機22より空気
を注入し引込配管2の洗浄を行った後、第3ステップ(I
II) では全ての仕切弁を閉める。洗浄過程が済んだ後、
第4ステップ(IV)では、仕切弁16,19,20,2
1,23を閉め、仕切弁3,4を再び開いた状態で圧送
機5により測定物質(ここでは測定物質は気体とする)
を注入し、測定物質を金属酸化物8に吸着させる。第5
ステップ(V) では仕切弁を第1ステップ(I) の状態に切
替る。
【0014】次に、上記の第4ステップ(IV)から第5ス
テップ(V) では濃度分析が行われるが、図5はその分析
フローであり、これを分り易くモデル化して示したのが
図8の本発明による計測方法である。
【0015】ところで、この分析フローにおいては、測
定物質が金属酸化物に吸着された後、金属酸化物を加熱
し金属酸化物を発光させるが、これをモデル化して示し
たのが図7である。そして、その工程により出た光を分
光器によりスペクトル分解を行う(a) 。このスペクトル
分解により得た波長毎の光の強度データをDλ2 (λ=
a,b,c,d…:単位はnm)とする(b) 。また金属
酸化物に吸着される前の波長毎の光の強度データをDλ
1 (λ=a,b,c,d…:単位はnm)とする(c) 。
ただし、Dλ1 は予め入力済みである。
【0016】次に、Dλ2 とDλ1 との差ΔDλを
(1)式により求める(d) 。 ΔDλ=Dλ2 −Dλ1 (λ=a,b,c,d…:単位
はnm)…(1) λは金属酸化物に吸着された物質により1対1の関係に
なっているので、物質毎に対応した波長のΔDλを割当
てる(e) 。次に、物質毎に割当てられたΔDλが濃度に
対応することから(濃度が大きくなるとΔDλも大きく
なる)物質毎の濃度を求め出力する(f) 。
【0017】以上説明した(b) 〜(f) をモデル化して示
したのが図6である。そして、測定後、また仕切弁16
を開き、仕切弁3を閉めた状態として最初の洗浄工程に
戻る。
【0018】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、下記のように変更してもよい。 (1)分光器、分光分析器を密閉箱に収納してもよい。 (2)集光器、分光器を一体にしてもよい。 (3)液体の成分濃度分析を行う際は、測定物質を金属
酸化物に吸着させた後、空気充満にしてから金属酸化物
を加熱し光の測定を行う。 (4)測定部を箱形にしてもよい。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
測定物質の成分濃度を測定できる分析装置を提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の構成図。
【図2】図1の測定部下半部の詳細図。
【図3】図1の測定部上半部の詳細図。
【図4】図1の仕切弁、圧送機のタイムチャート。
【図5】本発明の分析フローを説明するための図。
【図6】本発明により分析したガス濃度の測定手順をモ
デル化して示した図。
【図7】本発明による発光プロセスを説明するための
図。
【図8】本発明の分析装置による計測方法をモデル化し
て示した図。
【符号の説明】
1…配管、2…引込配管、3,4,16,19,20,
21,23…仕切弁、5,22…圧送機、6…流入配
管、7…測定部、8,25…金属酸化物、9…ヒータ、
10…温度調整器、11…集光器、12…光伝送路、1
3…分光器、14…分光分析器、15…排出配管、1
7,18…洗浄用ガスタンク、24…洗浄配管、26…
被覆、27,29…ゴム、28…ガラス板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被測定物質を吸着させる金属酸化物と、
    前記金属酸化物を加熱する加熱装置と、前記金属酸化物
    の温度を調整する温度調整器と、前記金属酸化物の加熱
    の際出る光を集光する集光器と、前記金属酸化物の加熱
    の際出る光を波長毎に分光する分光器と、前記集光器と
    前記分光器をつなぐ光伝送路と、前記金属酸化物の加熱
    の際出る光波長毎に分解された光と基準光を比較し成分
    濃度を演算する分光分析器とから構成されたことを特徴
    とする分析装置。
JP7384793A 1993-03-31 1993-03-31 分析装置 Pending JPH06288922A (ja)

Priority Applications (1)

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JP7384793A JPH06288922A (ja) 1993-03-31 1993-03-31 分析装置

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JP7384793A JPH06288922A (ja) 1993-03-31 1993-03-31 分析装置

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JPH06288922A true JPH06288922A (ja) 1994-10-18

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ID=13529953

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JP7384793A Pending JPH06288922A (ja) 1993-03-31 1993-03-31 分析装置

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JP (1) JPH06288922A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8308354B2 (en) 2006-10-05 2012-11-13 Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation Mechanism of monitoring unit of electric rotating machinery and monitoring method of electric rotating machinery

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8308354B2 (en) 2006-10-05 2012-11-13 Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation Mechanism of monitoring unit of electric rotating machinery and monitoring method of electric rotating machinery

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