JPH06288071A - 電磁式浮き床構造 - Google Patents
電磁式浮き床構造Info
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- JPH06288071A JPH06288071A JP4250598A JP25059892A JPH06288071A JP H06288071 A JPH06288071 A JP H06288071A JP 4250598 A JP4250598 A JP 4250598A JP 25059892 A JP25059892 A JP 25059892A JP H06288071 A JPH06288071 A JP H06288071A
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- Japan
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- floating floor
- floor
- floating
- electromagnetic
- electromagnetic actuator
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
- F16F15/03—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using magnetic or electromagnetic means
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- Acoustics & Sound (AREA)
- Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Floor Finish (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 建屋の床構造が、電磁アクチュエータによっ
て浮上保持されることにより、建屋の柱、梁等から空間
的に分離され、振動が遮断される電磁式浮き床構造を提
供する。 【構成】 多数の支持点３１において電磁アクチュエー
タ２によって浮上支持された浮き床２４と、建屋の柱２
２又は梁に設置された水平方向のビーム状の光線を放射
する発光部２５と、前記浮き床２４に固定され、前記ビ
ーム状の光線のあたる位置に応じた信号を該電磁アクチ
ュエータに出力する光センサ２６とを備え、前記各支持
点３１における浮き床２４は、前記発光部２５の水平方
向のビーム状の光線を前記光センサ２６で受けることに
より出力される前記浮き床の位置信号に基づいて、前記
電磁アクチュエータ２によって、前記浮き床２４の鉛直
方向位置が制御されることを特徴とする電磁式浮き床構
造。
て浮上保持されることにより、建屋の柱、梁等から空間
的に分離され、振動が遮断される電磁式浮き床構造を提
供する。 【構成】 多数の支持点３１において電磁アクチュエー
タ２によって浮上支持された浮き床２４と、建屋の柱２
２又は梁に設置された水平方向のビーム状の光線を放射
する発光部２５と、前記浮き床２４に固定され、前記ビ
ーム状の光線のあたる位置に応じた信号を該電磁アクチ
ュエータに出力する光センサ２６とを備え、前記各支持
点３１における浮き床２４は、前記発光部２５の水平方
向のビーム状の光線を前記光センサ２６で受けることに
より出力される前記浮き床の位置信号に基づいて、前記
電磁アクチュエータ２によって、前記浮き床２４の鉛直
方向位置が制御されることを特徴とする電磁式浮き床構
造。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電磁式浮き床構造に係
り、建屋の梁や柱から床面が磁気浮上することにより空
間的に分離され、振動を除去することのできる電磁式浮
き床構造に関する。
り、建屋の梁や柱から床面が磁気浮上することにより空
間的に分離され、振動を除去することのできる電磁式浮
き床構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、振動を極度に嫌う電子顕微
鏡、半導体製造装置等の機械装置は、除振装置に搭載さ
れて工場等に設置されていた。従来の除振装置として、
古くから有る空気ばね、ゴムを用いたものに代わり、高
性能の除振を実現できる磁気浮上による除振装置が開発
され、例えば特開平２−２０３０４０号公報にその詳細
が開示されている。
鏡、半導体製造装置等の機械装置は、除振装置に搭載さ
れて工場等に設置されていた。従来の除振装置として、
古くから有る空気ばね、ゴムを用いたものに代わり、高
性能の除振を実現できる磁気浮上による除振装置が開発
され、例えば特開平２−２０３０４０号公報にその詳細
が開示されている。
【０００３】図４は係る磁気浮上による除振装置の一例
を示すものであり、除振テーブル１上には振動を極度に
嫌う、電子顕微鏡、半導体製造装置等の機械装置が搭載
され（図示せず）、電磁アクチュエータ２により非接触
で浮上した状態で保持される。したがって、電磁アクチ
ュエータ２が設置されている設置床が地震等で振動して
も、非接触で浮上保持された除振テーブル１には振動が
伝わらず、振動を極度に嫌う機械装置等は、設置床の振
動の影響を受けない。
を示すものであり、除振テーブル１上には振動を極度に
嫌う、電子顕微鏡、半導体製造装置等の機械装置が搭載
され（図示せず）、電磁アクチュエータ２により非接触
で浮上した状態で保持される。したがって、電磁アクチ
ュエータ２が設置されている設置床が地震等で振動して
も、非接触で浮上保持された除振テーブル１には振動が
伝わらず、振動を極度に嫌う機械装置等は、設置床の振
動の影響を受けない。
【０００４】図５は、係る除振装置の電磁アクチュエー
タの説明図である。除振される装置を搭載する除振テー
ブル１には、磁性体継鉄３が固定されている。設置床６
に固定した浮上用電磁石４は、その磁気吸引力により除
振テーブル１が固定された磁性体継鉄３を非接触で浮上
支持する。浮上用電磁石４の磁極と、ターゲットとなる
磁性体継鉄３との間隙は変位センサ５によって測定され
る。コントローラ７は補償回路９、パワーアンプ１０を
備え、変位センサ５からの出力を基に、磁性体継鉄３を
固定した除振テーブル１を目標位置に安定に浮上支持す
るように、浮上用電磁石４の励磁電流を制御する。
タの説明図である。除振される装置を搭載する除振テー
ブル１には、磁性体継鉄３が固定されている。設置床６
に固定した浮上用電磁石４は、その磁気吸引力により除
振テーブル１が固定された磁性体継鉄３を非接触で浮上
支持する。浮上用電磁石４の磁極と、ターゲットとなる
磁性体継鉄３との間隙は変位センサ５によって測定され
る。コントローラ７は補償回路９、パワーアンプ１０を
備え、変位センサ５からの出力を基に、磁性体継鉄３を
固定した除振テーブル１を目標位置に安定に浮上支持す
るように、浮上用電磁石４の励磁電流を制御する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、各個別
の振動を嫌う機械装置毎に設置していた上述の除振装置
では、設置部屋内の装置の配置を変える場合には、その
都度除振装置の配置を変えなければならず、建屋の煩わ
しい改修工事を必要としていた。また例えば半導体工場
等においては、技術革新が激しいため、設備の入替え等
の機会も多く、その都度除振装置の配置の変更のための
改修工事をするのは煩に耐えないという問題がある。
の振動を嫌う機械装置毎に設置していた上述の除振装置
では、設置部屋内の装置の配置を変える場合には、その
都度除振装置の配置を変えなければならず、建屋の煩わ
しい改修工事を必要としていた。また例えば半導体工場
等においては、技術革新が激しいため、設備の入替え等
の機会も多く、その都度除振装置の配置の変更のための
改修工事をするのは煩に耐えないという問題がある。
【０００６】本発明は、係る従来技術の問題点に鑑み、
除振装置の配置の変更を伴うことなく、振動を極度に嫌
う機械装置等を自由に配置することのできる大部屋用の
電磁式浮き床構造を提供するものである。
除振装置の配置の変更を伴うことなく、振動を極度に嫌
う機械装置等を自由に配置することのできる大部屋用の
電磁式浮き床構造を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の電磁式浮き床構
造は、多数の支持点において電磁アクチュエータによっ
て浮上支持された浮き床と、建屋の柱又は梁に設置され
た水平方向のビーム状の光線を放射する発光部と、前記
浮き床の支持点に固定され、前記ビーム状の光線のあた
る位置に応じた信号を前記電磁アクチュエータに出力す
る光センサとを備え、前記各支持点における浮き床は、
前記発光部の水平方向のビーム状の光線を前記光センサ
で受けることにより出力される前記浮き床の位置信号に
基づいて、前記電磁アクチュエータによって、前記浮き
床の鉛直方向位置が制御されることを特徴とする。
造は、多数の支持点において電磁アクチュエータによっ
て浮上支持された浮き床と、建屋の柱又は梁に設置され
た水平方向のビーム状の光線を放射する発光部と、前記
浮き床の支持点に固定され、前記ビーム状の光線のあた
る位置に応じた信号を前記電磁アクチュエータに出力す
る光センサとを備え、前記各支持点における浮き床は、
前記発光部の水平方向のビーム状の光線を前記光センサ
で受けることにより出力される前記浮き床の位置信号に
基づいて、前記電磁アクチュエータによって、前記浮き
床の鉛直方向位置が制御されることを特徴とする。
【０００８】
【作用】浮き床は、支持点において電磁アクチュエータ
によって浮上支持され空間的に建屋から分離されている
ため、建屋の振動は浮き床に搭載された機械装置等に伝
わらない。又、浮き床の全体的な水平性を保つために、
建屋の柱または梁に設置された一本の水平方向のビーム
状の光線を基準として、支持点における浮き床に固定さ
れた光センサによりそのビーム状の光線により各浮き床
の鉛直方向位置を検出することによって、電磁アクチュ
エータによって浮き床の鉛直方向位置を制御する。これ
によって、浮き床構造の全体的な水平性が確保される。
によって浮上支持され空間的に建屋から分離されている
ため、建屋の振動は浮き床に搭載された機械装置等に伝
わらない。又、浮き床の全体的な水平性を保つために、
建屋の柱または梁に設置された一本の水平方向のビーム
状の光線を基準として、支持点における浮き床に固定さ
れた光センサによりそのビーム状の光線により各浮き床
の鉛直方向位置を検出することによって、電磁アクチュ
エータによって浮き床の鉛直方向位置を制御する。これ
によって、浮き床構造の全体的な水平性が確保される。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の一実施例の電磁式浮き床構造
の概念を示すものである。柱２２と梁２３によって仕切
られた大部屋２１には、振動を極度に嫌う電子顕微鏡や
半導体製造装置等の機械装置を多数設置できる電磁式浮
き床２４を備えている。電磁式浮き床構造は、浮き床２
４が多数の支持点３１で電磁アクチュエータ２によって
浮上支持され、建屋から空間的に分離されている。
の概念を示すものである。柱２２と梁２３によって仕切
られた大部屋２１には、振動を極度に嫌う電子顕微鏡や
半導体製造装置等の機械装置を多数設置できる電磁式浮
き床２４を備えている。電磁式浮き床構造は、浮き床２
４が多数の支持点３１で電磁アクチュエータ２によって
浮上支持され、建屋から空間的に分離されている。
【００１０】図２は本発明の一実施例の電磁式浮き床構
造の詳細を示す説明図である。支持点３１で浮き床２４
を支持する電磁アクチュエータ２の構造は、図５に示す
従来の除振装置の電磁アクチュエータの構造とほぼ同様
である。即ち、支持点３１において、浮き床２４に磁性
体継鉄３が固定されており、磁性体継鉄３は床６に固定
された浮上用電磁石４の磁気吸引力によって浮上支持さ
れる。建屋の柱２２には、レーザ発光素子からなる水平
方向のビーム状の光線を放射する発光部２５が設けられ
ている。電磁アクチュエータ２によって浮上支持される
磁性体継鉄３には、ビーム状の光線のあたる位置に応じ
た鉛直方向の位置信号を出力する光センサ２６が固定さ
れている。光センサ２６で検出される位置信号は、支持
点３１における浮き床２４の基準位置となる水平方向の
ビーム上の光線に対する変位を示すものであり、アンプ
２８で増幅されて、補償回路９に入力される。補償回路
９で位相およびゲインが調整され、パワーアンプ１０で
増幅されて浮上用電磁石４に励磁電流として印加され、
その磁気吸引力によって浮き床２４の位置が基準位置に
戻るように調整される。なお、発光部２５の設置された
柱の反対側の柱には受光部２７が備えられ、水平方向の
ビーム状の光線の水平度を確認するようになっている。
造の詳細を示す説明図である。支持点３１で浮き床２４
を支持する電磁アクチュエータ２の構造は、図５に示す
従来の除振装置の電磁アクチュエータの構造とほぼ同様
である。即ち、支持点３１において、浮き床２４に磁性
体継鉄３が固定されており、磁性体継鉄３は床６に固定
された浮上用電磁石４の磁気吸引力によって浮上支持さ
れる。建屋の柱２２には、レーザ発光素子からなる水平
方向のビーム状の光線を放射する発光部２５が設けられ
ている。電磁アクチュエータ２によって浮上支持される
磁性体継鉄３には、ビーム状の光線のあたる位置に応じ
た鉛直方向の位置信号を出力する光センサ２６が固定さ
れている。光センサ２６で検出される位置信号は、支持
点３１における浮き床２４の基準位置となる水平方向の
ビーム上の光線に対する変位を示すものであり、アンプ
２８で増幅されて、補償回路９に入力される。補償回路
９で位相およびゲインが調整され、パワーアンプ１０で
増幅されて浮上用電磁石４に励磁電流として印加され、
その磁気吸引力によって浮き床２４の位置が基準位置に
戻るように調整される。なお、発光部２５の設置された
柱の反対側の柱には受光部２７が備えられ、水平方向の
ビーム状の光線の水平度を確認するようになっている。
【００１１】係る浮き床２４を支持点３１において浮上
保持する電磁アクチュエータ２は、以下のように動作す
る。浮上用電磁石４は磁性体継鉄３を磁気吸引力により
浮上支持することにより、浮き床２４は支持点３１にお
いて電磁アクチュエータ２により浮上保持され、建屋か
ら空間的に分離される。例えば、設置床６の一部の鉛直
方向位置が変動した場合には、光センサ２６は発光部２
５よりのビーム状の水平方向の光線を受ける位置が変わ
ってくることにより、レーザ光のあたる位置に応じた出
力電圧を出力する。検出された鉛直方向の位置信号に基
づいて、補償回路９、パワーアンプ１０により浮上用電
磁石４の励磁電流が制御され、基準となる位置まで磁性
体継鉄３、即ち支持点における浮き床２４を引き上げ
る、又は引き下げる。それ故、浮き床２４は基準となる
鉛直方向位置に引き戻され、浮き床２４の全体的な水平
性が保たれる。
保持する電磁アクチュエータ２は、以下のように動作す
る。浮上用電磁石４は磁性体継鉄３を磁気吸引力により
浮上支持することにより、浮き床２４は支持点３１にお
いて電磁アクチュエータ２により浮上保持され、建屋か
ら空間的に分離される。例えば、設置床６の一部の鉛直
方向位置が変動した場合には、光センサ２６は発光部２
５よりのビーム状の水平方向の光線を受ける位置が変わ
ってくることにより、レーザ光のあたる位置に応じた出
力電圧を出力する。検出された鉛直方向の位置信号に基
づいて、補償回路９、パワーアンプ１０により浮上用電
磁石４の励磁電流が制御され、基準となる位置まで磁性
体継鉄３、即ち支持点における浮き床２４を引き上げ
る、又は引き下げる。それ故、浮き床２４は基準となる
鉛直方向位置に引き戻され、浮き床２４の全体的な水平
性が保たれる。
【００１２】また浮き床２４には加速度センサ２９を備
え、床６には加速度センサ３０を備える。これら加速度
センサ２９，３０で検出された信号は、補償回路９に入
力され、補償信号が生成され、パワーアンプ１０により
電力増幅されて励磁電流として浮上用電磁石４に印加さ
れる。この際、補償回路９は加速度センサ２９，３０で
検出された加速度をもとに床振動をダンピング（減衰）
させるように制御する。
え、床６には加速度センサ３０を備える。これら加速度
センサ２９，３０で検出された信号は、補償回路９に入
力され、補償信号が生成され、パワーアンプ１０により
電力増幅されて励磁電流として浮上用電磁石４に印加さ
れる。この際、補償回路９は加速度センサ２９，３０で
検出された加速度をもとに床振動をダンピング（減衰）
させるように制御する。
【００１３】従って、浮き床２４の電磁アクチュエータ
２の支持点で何らかの外力が加わった場合には、加速度
センサ２９はその外力による加速度を検出してその外力
を打ち消すような磁気吸引力が補償回路９及びパワーア
ンプ１０によって生成される。それ故、浮き床２４に加
えられる外力は打ち消され、浮き床２４の位置は一定位
置に保たれる。なお床６に外力が印加された場合も同様
であり、床６に印加された外力による加速度は加速度セ
ンサ３０により検出され、補償回路９及びパワーアンプ
１０を経て浮上用電磁石４の励磁電流としてフィードバ
ックされ、床６の振動は速やかに減衰するように制御さ
れる。
２の支持点で何らかの外力が加わった場合には、加速度
センサ２９はその外力による加速度を検出してその外力
を打ち消すような磁気吸引力が補償回路９及びパワーア
ンプ１０によって生成される。それ故、浮き床２４に加
えられる外力は打ち消され、浮き床２４の位置は一定位
置に保たれる。なお床６に外力が印加された場合も同様
であり、床６に印加された外力による加速度は加速度セ
ンサ３０により検出され、補償回路９及びパワーアンプ
１０を経て浮上用電磁石４の励磁電流としてフィードバ
ックされ、床６の振動は速やかに減衰するように制御さ
れる。
【００１４】図３は本発明の一実施例の電磁式浮き床構
造の平面図である。大部屋２１には、多数の電磁アクチ
ュエータ２が配置されており、浮き床２４はこれら電磁
アクチュエータ２によって支持点において浮上支持され
る。部屋の柱２２には、発光部２５が備えられ、部屋を
横切るように水平方向のビーム状の光線を放射する。浮
き床２４の電磁アクチュエータ２による支持点の近傍に
は、ハーフミラー３２がそれぞれ備えられている。した
がって、発光部２５より放射されるビーム状の光線は、
それぞれハーフミラー３２に当たり、そのうちの一部の
光が反射されて電磁アクチュエータ２の光センサ２６に
よって受光される。このようにして、浮き床２４を浮上
支持するアクチュエータ２には、水平方向の光ビームの
位置を基準として浮き床２４のそれぞれの浮上位置が入
力される。
造の平面図である。大部屋２１には、多数の電磁アクチ
ュエータ２が配置されており、浮き床２４はこれら電磁
アクチュエータ２によって支持点において浮上支持され
る。部屋の柱２２には、発光部２５が備えられ、部屋を
横切るように水平方向のビーム状の光線を放射する。浮
き床２４の電磁アクチュエータ２による支持点の近傍に
は、ハーフミラー３２がそれぞれ備えられている。した
がって、発光部２５より放射されるビーム状の光線は、
それぞれハーフミラー３２に当たり、そのうちの一部の
光が反射されて電磁アクチュエータ２の光センサ２６に
よって受光される。このようにして、浮き床２４を浮上
支持するアクチュエータ２には、水平方向の光ビームの
位置を基準として浮き床２４のそれぞれの浮上位置が入
力される。
【００１５】
【発明の効果】以上に説明したように本発明の電磁式浮
き床構造は、水平方向の光ビームを基準として、電磁ア
クチュエータを制御することにより、浮き床２４の水平
性を保持するものである。それゆえ、浮き床２４上では
全体的な、絶対的な水平性が保たれ、かつ浮き床全体
が、建屋の梁と柱から空間的に絶縁され、建屋の振動が
伝わらない。又、浮き床の一部分に生じた振動は、制御
系により速やかに減衰させることができる。それ故、浮
き床上で自由に振動を極度に嫌う機械装置を配置するこ
とが可能であり、そのような機械装置の再配置を容易に
行うことが可能となる。
き床構造は、水平方向の光ビームを基準として、電磁ア
クチュエータを制御することにより、浮き床２４の水平
性を保持するものである。それゆえ、浮き床２４上では
全体的な、絶対的な水平性が保たれ、かつ浮き床全体
が、建屋の梁と柱から空間的に絶縁され、建屋の振動が
伝わらない。又、浮き床の一部分に生じた振動は、制御
系により速やかに減衰させることができる。それ故、浮
き床上で自由に振動を極度に嫌う機械装置を配置するこ
とが可能であり、そのような機械装置の再配置を容易に
行うことが可能となる。
【図１】本発明の一実施例の電磁式浮き床構造の説明
図。
図。
【図２】本発明の一実施例の電磁式浮き床構造の電磁ア
クチュエータの説明図。
クチュエータの説明図。
【図３】本発明の一実施例の電磁式浮き床構造の平面
図。
図。
【図４】従来の除振装置の斜視図。
【図５】従来の電磁アクチュエータの説明図。
２１ 大部屋 ２２ 柱 ２３ 梁 ２５ 発光部 ２６ 光センサ ２７ 受光部 ２８ アンプ ２９，３０ 加速度センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 和英 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 多数の支持点において電磁アクチュエー
タによって浮上支持された浮き床と、建屋の柱又は梁に
設置された水平方向のビーム状の光線を放射する発光部
と、前記浮き床の支持点に固定され、前記ビーム状の光
線のあたる位置に応じた信号を前記電磁アクチュエータ
に出力する光センサとを備え、 前記各支持点における浮き床は、前記発光部の水平方向
のビーム状の光線を前記光センサで受けることにより出
力される前記浮き床の位置信号に基づいて、前記電磁ア
クチュエータによって、前記浮き床の鉛直方向位置が制
御されることを特徴とする電磁式浮き床構造。 - 【請求項２】 前記浮き床には、前記支持点の近傍にハ
ーフミラーを備え、前記発光部より放射された一本のビ
ーム状の光線を、該ハーフミラーにより多数の浮き床に
固定された光センサに導くことを特徴とする請求項１記
載の電磁式浮き床構造。 - 【請求項３】 前記浮き床と、前記電磁アクチュエータ
の設置床には、それぞれ加速度センサを備え、該加速度
センサの信号を基に前記浮き床に生じる部分的な振動が
前記電磁アクチュエータによって制振されることを特徴
とする請求項１又は請求項２記載の電磁式浮き床構造。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4250598A JP2816513B2 (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 電磁式浮き床構造 |
| DE69311650T DE69311650T2 (de) | 1992-08-26 | 1993-08-24 | Schwimmender Boden mit elektromagnetischer Aufhängung |
| EP93113505A EP0584791B1 (en) | 1992-08-26 | 1993-08-24 | Electromagnetically suspended floating floor apparatus |
| US08/111,438 US5471802A (en) | 1992-08-26 | 1993-08-25 | Electromagnetically suspended floating floor apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4250598A JP2816513B2 (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 電磁式浮き床構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06288071A true JPH06288071A (ja) | 1994-10-11 |
| JP2816513B2 JP2816513B2 (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=17210262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4250598A Expired - Fee Related JP2816513B2 (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 電磁式浮き床構造 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5471802A (ja) |
| EP (1) | EP0584791B1 (ja) |
| JP (1) | JP2816513B2 (ja) |
| DE (1) | DE69311650T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0925989A (ja) * | 1995-07-13 | 1997-01-28 | Kofu Nippon Denki Kk | 吸振装置及び吸振構造 |
| JP2001518598A (ja) * | 1997-09-26 | 2001-10-16 | テクニッシュ ウニヴェルシテイト デルフト | 磁気支持システム |
Families Citing this family (17)
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