JPH06287019A - 水和ジルコニア粉末の製造方法 - Google Patents
水和ジルコニア粉末の製造方法Info
- Publication number
- JPH06287019A JPH06287019A JP7564093A JP7564093A JPH06287019A JP H06287019 A JPH06287019 A JP H06287019A JP 7564093 A JP7564093 A JP 7564093A JP 7564093 A JP7564093 A JP 7564093A JP H06287019 A JPH06287019 A JP H06287019A
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- JP
- Japan
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- hydrated zirconia
- powder
- zirconia powder
- ammonia gas
- neutralization
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/02—Oxides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】オキシ塩化ジルコニウムを加水分解して得られ
る水和ジルコニアゾルを乾燥し、えられた乾燥粉末をア
ンモニアガスと接触させることからなる、水和ジルコニ
ア粉末の製造方法。 【効果】常温で腐食性と刺激臭の強い塩酸ガスの発生が
全く起こらない水和ジルコニア粉末が得られ、乾燥によ
ってえられた粉末を仮焼工程に移動させるまでの設備の
腐食の問題が解決されるだけでなく、作業環境が改善さ
れて水和ジルコニア粉末の取扱いがきわめて容易とな
る。また、水和ジルコニアゾルスラリーの直接中和に比
べ、水和ジルコニア粉末の各粒子の表面層が中和される
だけなので、塩化アンモニウムの生成量が非常に少な
く、したがって後工程におけるスケーリングの問題も小
さい。
る水和ジルコニアゾルを乾燥し、えられた乾燥粉末をア
ンモニアガスと接触させることからなる、水和ジルコニ
ア粉末の製造方法。 【効果】常温で腐食性と刺激臭の強い塩酸ガスの発生が
全く起こらない水和ジルコニア粉末が得られ、乾燥によ
ってえられた粉末を仮焼工程に移動させるまでの設備の
腐食の問題が解決されるだけでなく、作業環境が改善さ
れて水和ジルコニア粉末の取扱いがきわめて容易とな
る。また、水和ジルコニアゾルスラリーの直接中和に比
べ、水和ジルコニア粉末の各粒子の表面層が中和される
だけなので、塩化アンモニウムの生成量が非常に少な
く、したがって後工程におけるスケーリングの問題も小
さい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水和ジルコニア粉末の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
【０００２】水和ジルコニア粉末は、仮焼することによ
り酸化ジルコニウム粉末とすることができる。
り酸化ジルコニウム粉末とすることができる。
【０００３】本明細書中「水和ジルコニア」とは、水酸
化ジルコニウム、結晶性水和ジルコニアまたは非晶質水
和ジルコニアをいう。
化ジルコニウム、結晶性水和ジルコニアまたは非晶質水
和ジルコニアをいう。
【０００４】
【従来の技術】オキシ塩化ジルコニウムの加水分解によ
って得られる水和ジルコニアゾルは、ＺｒＯ2換算濃度
が６０ｇ／ｌ程度と稀薄であるため、通常、ＺｒＯ2換
算濃度３００〜４００ｇ／ｌ程度まで濃縮した後、噴霧
乾燥機を使用し１００〜１８０℃の熱風で乾燥し、平均
径４０〜６０μｍの顆粒状の水和ジルコニア粉末を得て
いる。得られる水和ジルコニア粉末中には、通常、Ｃｌ
を塩酸換算で１０〜１５ｗｔ％と１０〜１５ｗｔ％の水
分を含有している。
って得られる水和ジルコニアゾルは、ＺｒＯ2換算濃度
が６０ｇ／ｌ程度と稀薄であるため、通常、ＺｒＯ2換
算濃度３００〜４００ｇ／ｌ程度まで濃縮した後、噴霧
乾燥機を使用し１００〜１８０℃の熱風で乾燥し、平均
径４０〜６０μｍの顆粒状の水和ジルコニア粉末を得て
いる。得られる水和ジルコニア粉末中には、通常、Ｃｌ
を塩酸換算で１０〜１５ｗｔ％と１０〜１５ｗｔ％の水
分を含有している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このようにＣ
ｌを含有する水和ジルコニア粉末からは、常温下で塩酸
ガスが発生し、発生した塩酸ガスによる製造設備の腐食
問題や、その強い刺激臭による作業環境上の問題などが
ある。
ｌを含有する水和ジルコニア粉末からは、常温下で塩酸
ガスが発生し、発生した塩酸ガスによる製造設備の腐食
問題や、その強い刺激臭による作業環境上の問題などが
ある。
【０００６】このような問題を解決するために、水和ジ
ルコニアゾルのアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液
などによる中和処理が容易に考えられるが、水和ジルコ
ニアゾルスラリーを直接中和処理すると、中和反応によ
り副生する多量の塩化アンモニウム、塩化ナトリウム等
の塩類の除去の問題が発生する。また、塩類の除去を行
わないで乾燥し、仮焼すると、仮焼中に発生する多量の
塩化物の仮焼設備へのスケーリングや酸化ジルコニウム
におけるＮａなどの不純物含有量の問題が発生する。
ルコニアゾルのアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液
などによる中和処理が容易に考えられるが、水和ジルコ
ニアゾルスラリーを直接中和処理すると、中和反応によ
り副生する多量の塩化アンモニウム、塩化ナトリウム等
の塩類の除去の問題が発生する。また、塩類の除去を行
わないで乾燥し、仮焼すると、仮焼中に発生する多量の
塩化物の仮焼設備へのスケーリングや酸化ジルコニウム
におけるＮａなどの不純物含有量の問題が発生する。
【０００７】本発明の目的は、常温下でこのような塩酸
ガスの発生が起こらず、したがって、仮焼に供するまで
の工程における、上記の製造設備の腐食問題や作業環境
上の問題を起こすことのない、水和ジルコニア粉末の製
造方法を提供することにある。
ガスの発生が起こらず、したがって、仮焼に供するまで
の工程における、上記の製造設備の腐食問題や作業環境
上の問題を起こすことのない、水和ジルコニア粉末の製
造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討した
結果、乾燥して得られた水和ジルコニア粉末をアンモニ
アガスを接触させれば、水和ジルコニア粉末の粒子の表
面層のみが中和されるが、その中和によってえられた水
和ジルコニア粉末から塩酸ガスが全く発生しないことを
見出し、本発明を完成した。
結果、乾燥して得られた水和ジルコニア粉末をアンモニ
アガスを接触させれば、水和ジルコニア粉末の粒子の表
面層のみが中和されるが、その中和によってえられた水
和ジルコニア粉末から塩酸ガスが全く発生しないことを
見出し、本発明を完成した。
【０００９】すなわち、本発明は、オキシ塩化ジルコニ
ウムを加水分解して得られる水和ジルコニアゾルを乾燥
し、えられた乾燥粉末をアンモニアガスと接触させるこ
とによる水和ジルコニア粉末の製造方法、を要旨とする
ものである。
ウムを加水分解して得られる水和ジルコニアゾルを乾燥
し、えられた乾燥粉末をアンモニアガスと接触させるこ
とによる水和ジルコニア粉末の製造方法、を要旨とする
ものである。
【００１０】上記乾燥粉末とアンモニアガスとの接触
は、該粉末をアンモニアガスで流動させる方法、アンモ
ニアガス雰囲気内で該粉末を攪拌させる方法等該乾燥粉
末の全粒子をアンモニアガスと接触させうる方法による
のがよい。水和ジルコニア粉末を静置下で堆積状態のま
ま中和処理すると、中和により生成する塩化アンモニウ
ムによって水和ジルコニア粉末の顆粒同士が架橋されて
塊となるため後工程のハンドリング上好ましくない。
は、該粉末をアンモニアガスで流動させる方法、アンモ
ニアガス雰囲気内で該粉末を攪拌させる方法等該乾燥粉
末の全粒子をアンモニアガスと接触させうる方法による
のがよい。水和ジルコニア粉末を静置下で堆積状態のま
ま中和処理すると、中和により生成する塩化アンモニウ
ムによって水和ジルコニア粉末の顆粒同士が架橋されて
塊となるため後工程のハンドリング上好ましくない。
【００１１】中和に使用するアンモニアガス濃度に制限
はないが、１〜２分間の短時間で中和処理を完了するに
は、５０ｖｏｌ％以上が必要となる。
はないが、１〜２分間の短時間で中和処理を完了するに
は、５０ｖｏｌ％以上が必要となる。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、常温で腐食性と刺激臭
の強い塩酸ガスの発生が全く起こらない水和ジルコニア
粉末が得られ、乾燥によってえられた粉末を仮焼工程に
移動させるまでの設備の腐食の問題が解決されるだけで
なく、作業環境が改善されて水和ジルコニア粉末の取扱
いがきわめて容易となる。
の強い塩酸ガスの発生が全く起こらない水和ジルコニア
粉末が得られ、乾燥によってえられた粉末を仮焼工程に
移動させるまでの設備の腐食の問題が解決されるだけで
なく、作業環境が改善されて水和ジルコニア粉末の取扱
いがきわめて容易となる。
【００１３】また、水和ジルコニアゾルスラリーの直接
中和に比べ、水和ジルコニア粉末の各粒子の表面層が中
和されるだけなので、塩化アンモニウムの生成量が非常
に少なく、したがって後工程におけるスケーリングの問
題も小さい。
中和に比べ、水和ジルコニア粉末の各粒子の表面層が中
和されるだけなので、塩化アンモニウムの生成量が非常
に少なく、したがって後工程におけるスケーリングの問
題も小さい。
【００１４】
【実施例】オキシ塩化ジルコニウムのＺｒＯ2換算値と
の合計に対して３ｍｏｌ％のＹ2Ｏ3を含む、ＺｒＯ2換
算６０ｇ／ｌのオキシ塩化ジルコニウム水溶液を煮沸
し、還流下で７２時間加水分解して水和ジルコニアゾル
スラリーを得た。次ぎに、得られたスラリーのＺｒＯ2
換算濃度が３５０ｇ／ｌとなるまで加熱濃縮を行った。
該濃縮スラリーを噴霧乾燥機を用い１５０℃の熱風下で
乾燥して水和ジルコニア粉末を得た。
の合計に対して３ｍｏｌ％のＹ2Ｏ3を含む、ＺｒＯ2換
算６０ｇ／ｌのオキシ塩化ジルコニウム水溶液を煮沸
し、還流下で７２時間加水分解して水和ジルコニアゾル
スラリーを得た。次ぎに、得られたスラリーのＺｒＯ2
換算濃度が３５０ｇ／ｌとなるまで加熱濃縮を行った。
該濃縮スラリーを噴霧乾燥機を用い１５０℃の熱風下で
乾燥して水和ジルコニア粉末を得た。
【００１５】得られた水和ジルコニア粉末中のＣｌ量は
塩酸換算で１２ｗｔ％であり、該粉末からは、刺激臭の
強い塩酸ガスの発生があった。
塩酸換算で１２ｗｔ％であり、該粉末からは、刺激臭の
強い塩酸ガスの発生があった。
【００１６】次ぎに、得られた水和ジルコニア粉末５０
０ｇを攪拌機付きの内容量１リットルのガラス製セパラ
ブルフラスコに投入し、攪拌下の該粉末にＮＨ３換算で
６０ｖｏｌ％のアンモニアガスを１０リットル／分の流
量で２分間吹き掛けて、粉末表面が中和処理された水和
ジルコニア粉末を得た。
０ｇを攪拌機付きの内容量１リットルのガラス製セパラ
ブルフラスコに投入し、攪拌下の該粉末にＮＨ３換算で
６０ｖｏｌ％のアンモニアガスを１０リットル／分の流
量で２分間吹き掛けて、粉末表面が中和処理された水和
ジルコニア粉末を得た。
【００１７】得られた粉末からの塩酸ガスは、塩酸ガス
検知管で検出されなかった。
検知管で検出されなかった。
【００１８】次に、中和処理された水和ジルコニア粉末
を９００℃で２時間の仮焼を行ったが、仮焼設備への塩
化アンモニウムのスケーリング等はなかった。
を９００℃で２時間の仮焼を行ったが、仮焼設備への塩
化アンモニウムのスケーリング等はなかった。
Claims (1)
- 【請求項１】オキシ塩化ジルコニウムを加水分解して得
られる水和ジルコニアゾルを乾燥し、えられた乾燥粉末
をアンモニアガスと接触させることを特徴とする、水和
ジルコニア粉末の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7564093A JPH06287019A (ja) | 1993-04-01 | 1993-04-01 | 水和ジルコニア粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7564093A JPH06287019A (ja) | 1993-04-01 | 1993-04-01 | 水和ジルコニア粉末の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06287019A true JPH06287019A (ja) | 1994-10-11 |
Family
ID=13582053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7564093A Pending JPH06287019A (ja) | 1993-04-01 | 1993-04-01 | 水和ジルコニア粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06287019A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008273801A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 表面修飾ジルコニア粒子と表面修飾ジルコニア粒子分散液及び複合体並びに表面修飾ジルコニア粒子の製造方法 |
| CN104528824A (zh) * | 2015-01-06 | 2015-04-22 | 武汉拓柏仕科技有限公司 | 一种同时生产氧化锆粉体和铵盐的方法及产品 |
-
1993
- 1993-04-01 JP JP7564093A patent/JPH06287019A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008273801A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 表面修飾ジルコニア粒子と表面修飾ジルコニア粒子分散液及び複合体並びに表面修飾ジルコニア粒子の製造方法 |
| CN104528824A (zh) * | 2015-01-06 | 2015-04-22 | 武汉拓柏仕科技有限公司 | 一种同时生产氧化锆粉体和铵盐的方法及产品 |
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