JPH0628425A - Ｃａｄシステム - Google Patents
ＣａｄシステムInfo
- Publication number
- JPH0628425A JPH0628425A JP4183486A JP18348692A JPH0628425A JP H0628425 A JPH0628425 A JP H0628425A JP 4183486 A JP4183486 A JP 4183486A JP 18348692 A JP18348692 A JP 18348692A JP H0628425 A JPH0628425 A JP H0628425A
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- JP
- Japan
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- pattern
- mesh data
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 出図する面パターンのチェックに要する時間
が短く、あらゆる形状の面パターンに対してもチェック
漏れがなく、しかも塗りつぶしの不足部分とはみ出し部
分の両方についてチェックできるＣＡＤシステムを実現
することを目的とする。 【構成】 設計上の面パターンを表した設計データを
フォトプロッタに与え、フォトプロッタに面パターンを
描かせることにより、出図する面パターンを作成するＣ
ＡＤシステムにおいて、設計上の面パターンをメッシュ
データ上に展開し、第１のメモリに格納する。また、出
図する面パターンをメッシュデータ上に展開し、第２の
メモリに格納する。ここで、第１及び第２のメモリから
メッシュデータを読み出して画像処理演算を行い、出図
する面パターンが設計上の面パターンに対してはみ出し
ている部分と塗りつぶし不足になっている部分を検出す
る。そして、検出したはみ出し部分と塗りつぶし不足部
分が許容値を超えているかどうかをチェックする。
が短く、あらゆる形状の面パターンに対してもチェック
漏れがなく、しかも塗りつぶしの不足部分とはみ出し部
分の両方についてチェックできるＣＡＤシステムを実現
することを目的とする。 【構成】 設計上の面パターンを表した設計データを
フォトプロッタに与え、フォトプロッタに面パターンを
描かせることにより、出図する面パターンを作成するＣ
ＡＤシステムにおいて、設計上の面パターンをメッシュ
データ上に展開し、第１のメモリに格納する。また、出
図する面パターンをメッシュデータ上に展開し、第２の
メモリに格納する。ここで、第１及び第２のメモリから
メッシュデータを読み出して画像処理演算を行い、出図
する面パターンが設計上の面パターンに対してはみ出し
ている部分と塗りつぶし不足になっている部分を検出す
る。そして、検出したはみ出し部分と塗りつぶし不足部
分が許容値を超えているかどうかをチェックする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトプロッタを用い
てプリント基板を設計するＣＡＤシステムに関するもの
である。更に詳しくは、フォトプロッタにより描画され
る面パターンをチェックする機能をもったＣＡＤシステ
ムに関するものである。
てプリント基板を設計するＣＡＤシステムに関するもの
である。更に詳しくは、フォトプロッタにより描画され
る面パターンをチェックする機能をもったＣＡＤシステ
ムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】通常、ＣＡＤシステムでは電源ラインの
パターン及びグランドパターンを面パターンで定義して
設計し、設計した面パターンをフォトプロッタに描かせ
て出図している。このとき、設計者が意図した面パター
ン、すなわち設計上の面パターンと、フォトプロッタが
実際に出図する面パターンとが不一致になる場合があ
る。このようになると、出図する面パターンと隣接パタ
ーンとのクリアランスが保てなくなり、不良基板が作成
されるケースが多々あった。ここで、補足説明すると、
設計上の面パターンとは、ＣＡＤシステムで設計された
面パターンで、直線と円弧の一筆書きで輪郭を定義され
た塗りつぶし閉図形である。この図形には中抜きが定義
されることもある。一方、出図する面パターンとは、指
定されたＡＰＴ（アパーチャ）のフォトペンで塗りつぶ
された作図図形である。すなわち、出図する面パターン
は設計上の面パターンをフォトペンで描いた図形であ
る。ここで、ＡＰＴはフォトぺンを指定するコード情報
であり、面属性に応じて指定される。このようにフォト
プロッタを使用した場合、出図する面パターンと設計上
の面パターンが全く一致することはなく、出図する面パ
ターン上で、塗りつぶし不足部分や、塗りつぶしのはみ
出し部分が通常発生する。例えば、正方形のパターンを
円形のフォトペンで塗りつぶしたとき、正方形の四隅に
は塗りつぶしの不足部分ができてしまう。この不足部分
の寸法が許容値を超えたとき、不良基板が作成される。
パターン及びグランドパターンを面パターンで定義して
設計し、設計した面パターンをフォトプロッタに描かせ
て出図している。このとき、設計者が意図した面パター
ン、すなわち設計上の面パターンと、フォトプロッタが
実際に出図する面パターンとが不一致になる場合があ
る。このようになると、出図する面パターンと隣接パタ
ーンとのクリアランスが保てなくなり、不良基板が作成
されるケースが多々あった。ここで、補足説明すると、
設計上の面パターンとは、ＣＡＤシステムで設計された
面パターンで、直線と円弧の一筆書きで輪郭を定義され
た塗りつぶし閉図形である。この図形には中抜きが定義
されることもある。一方、出図する面パターンとは、指
定されたＡＰＴ（アパーチャ）のフォトペンで塗りつぶ
された作図図形である。すなわち、出図する面パターン
は設計上の面パターンをフォトペンで描いた図形であ
る。ここで、ＡＰＴはフォトぺンを指定するコード情報
であり、面属性に応じて指定される。このようにフォト
プロッタを使用した場合、出図する面パターンと設計上
の面パターンが全く一致することはなく、出図する面パ
ターン上で、塗りつぶし不足部分や、塗りつぶしのはみ
出し部分が通常発生する。例えば、正方形のパターンを
円形のフォトペンで塗りつぶしたとき、正方形の四隅に
は塗りつぶしの不足部分ができてしまう。この不足部分
の寸法が許容値を超えたとき、不良基板が作成される。
【０００３】このような不良基板の作成を防止するた
め、ＣＡＤシステムで面パターンを定義したときに、従
来は次の手順でフォトプロッタで出図する面パターンが
正式に出図できるものであるかどうかをチェックしてい
た。図５に示すパターンを例にとって説明する。図５に
おいて、（ａ）図は設計上の面パターンである。（ｂ）
図は、（ａ）図の面パターンの外周をフォトペンで描く
場合に、ペンの半径分だけ面パターンの輪郭線より内に
フォトペンをオフセットさせて描いた図形である。この
ときのフォトペンの軌跡は（ｂ）図の破線Ｐ1に示すと
おりになる。この軌跡で表される図形をオフセット図形
とする。（ｂ）図に示す描画図形は、設計上の面パター
ンに対してＡ部で塗りつぶし不足部分が生じ、Ｂ部では
み出し部分が発生している。オフセット図形を得たとこ
ろで、（ｃ）図に示すように、オフセット図形Ｐ1と、
（ａ）図の面パターンの外形を表す図形Ｐ2とが交点を
もっているかどうかをチェックする。（ｃ）図の場合は
交点があるため、フォトペンで描いた図形にはみ出し部
分が生じると判断する。
め、ＣＡＤシステムで面パターンを定義したときに、従
来は次の手順でフォトプロッタで出図する面パターンが
正式に出図できるものであるかどうかをチェックしてい
た。図５に示すパターンを例にとって説明する。図５に
おいて、（ａ）図は設計上の面パターンである。（ｂ）
図は、（ａ）図の面パターンの外周をフォトペンで描く
場合に、ペンの半径分だけ面パターンの輪郭線より内に
フォトペンをオフセットさせて描いた図形である。この
ときのフォトペンの軌跡は（ｂ）図の破線Ｐ1に示すと
おりになる。この軌跡で表される図形をオフセット図形
とする。（ｂ）図に示す描画図形は、設計上の面パター
ンに対してＡ部で塗りつぶし不足部分が生じ、Ｂ部では
み出し部分が発生している。オフセット図形を得たとこ
ろで、（ｃ）図に示すように、オフセット図形Ｐ1と、
（ａ）図の面パターンの外形を表す図形Ｐ2とが交点を
もっているかどうかをチェックする。（ｃ）図の場合は
交点があるため、フォトペンで描いた図形にはみ出し部
分が生じると判断する。
【０００４】しかし、このようにしてチェックする従来
例では次の問題点があった。 面パターンの種類が多くなったとき、特に輪郭線が円
弧で作成されているとき、それぞれの面パターンを解析
してオフセット図形を作成することや、オフセット図形
と元の図形との干渉をチェックすることに長い処理時間
がかかる。ここで、元の図形とは、図５では図形Ｐ2に
相当するものである。 上述したチェックの結果は正常でも、図６に示すよう
に実際の出図する面パターンには、はみ出しが生じる場
合がある。すなわち、図６では、設計上の面パターンは
Ｐ3に示す正方形パターンで、フォトペンのペン径が正
方形に比べて十分大きい。このため、オフセット図形Ｐ
1は元の図形Ｐ2の外部に作成されてしまうケースであ
る。このケースでは、オフセット図形Ｐ1と元の図形Ｐ2
とは交わらないため、チェック結果は正常となる。それ
にもかかわらず、実際の出図データは図６の点を施した
部分のように正方形パターンＰ3から大きくはみ出して
いる。 塗りつぶし不足についてはチェックできない。出図す
る面パターンに基づいて作成したフィルムを白黒反転し
て使用するとき、塗りつぶしの不足部分は塗りつぶしの
はみ出し部分に転じるが、このはみ出し部分は検出でき
ない。
例では次の問題点があった。 面パターンの種類が多くなったとき、特に輪郭線が円
弧で作成されているとき、それぞれの面パターンを解析
してオフセット図形を作成することや、オフセット図形
と元の図形との干渉をチェックすることに長い処理時間
がかかる。ここで、元の図形とは、図５では図形Ｐ2に
相当するものである。 上述したチェックの結果は正常でも、図６に示すよう
に実際の出図する面パターンには、はみ出しが生じる場
合がある。すなわち、図６では、設計上の面パターンは
Ｐ3に示す正方形パターンで、フォトペンのペン径が正
方形に比べて十分大きい。このため、オフセット図形Ｐ
1は元の図形Ｐ2の外部に作成されてしまうケースであ
る。このケースでは、オフセット図形Ｐ1と元の図形Ｐ2
とは交わらないため、チェック結果は正常となる。それ
にもかかわらず、実際の出図データは図６の点を施した
部分のように正方形パターンＰ3から大きくはみ出して
いる。 塗りつぶし不足についてはチェックできない。出図す
る面パターンに基づいて作成したフィルムを白黒反転し
て使用するとき、塗りつぶしの不足部分は塗りつぶしの
はみ出し部分に転じるが、このはみ出し部分は検出でき
ない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述した問題
点を解決するためになされたものであり、出図する面パ
ターンのチェックに要する時間が短く、あらゆる形状の
面パターンに対してもチェック漏れがなく、しかも塗り
つぶしの不足部分とはみ出し部分の両方についてチェッ
クできるＣＡＤシステムを実現することを目的とする。
点を解決するためになされたものであり、出図する面パ
ターンのチェックに要する時間が短く、あらゆる形状の
面パターンに対してもチェック漏れがなく、しかも塗り
つぶしの不足部分とはみ出し部分の両方についてチェッ
クできるＣＡＤシステムを実現することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、設計上の面パ
ターンを表した設計データをフォトプロッタに与え、フ
ォトプロッタに面パターンを描かせることにより、出図
する面パターンを作成するＣＡＤシステムにおいて、前
記フォトプロッタが用いるフォトペンの太さをもとに、
前記出図する面パターンをシミュレーションにより作成
する疑似描画パターン作成手段と、前記設計上の面パタ
ーンを２次元のメッシュデータに展開する第１の変換手
段と、前記疑似描画パターン作成手段により作成した面
パターンを２次元のメッシュデータに展開する第２の変
換手段と、前記第１及び第２の変換手段により得た２次
元のメッシュデータをそれぞれ格納する第１及び第２の
メモリと、該第１及び第２のメモリに格納されたメッシ
ュデータについて画像処理演算を行い、前記出図する面
パターンが前記設計上の面パターンに対して、はみ出す
部分と塗りつぶし不足を生じる部分を検出する比較手段
と、この比較手段により検出した部分の寸法が許容値を
超えているかどうかをチェックするチェック手段と、を
具備したことを特徴とするＣＡＤシステムである。
ターンを表した設計データをフォトプロッタに与え、フ
ォトプロッタに面パターンを描かせることにより、出図
する面パターンを作成するＣＡＤシステムにおいて、前
記フォトプロッタが用いるフォトペンの太さをもとに、
前記出図する面パターンをシミュレーションにより作成
する疑似描画パターン作成手段と、前記設計上の面パタ
ーンを２次元のメッシュデータに展開する第１の変換手
段と、前記疑似描画パターン作成手段により作成した面
パターンを２次元のメッシュデータに展開する第２の変
換手段と、前記第１及び第２の変換手段により得た２次
元のメッシュデータをそれぞれ格納する第１及び第２の
メモリと、該第１及び第２のメモリに格納されたメッシ
ュデータについて画像処理演算を行い、前記出図する面
パターンが前記設計上の面パターンに対して、はみ出す
部分と塗りつぶし不足を生じる部分を検出する比較手段
と、この比較手段により検出した部分の寸法が許容値を
超えているかどうかをチェックするチェック手段と、を
具備したことを特徴とするＣＡＤシステムである。
【０００７】
【作用】このような本発明では、設計上の面パターンを
メッシュデータ上に展開し、第１のメモリに格納する。
また、出図する面パターンをメッシュデータ上に展開
し、第２のメモリに格納する。ここで、第１及び第２の
メモリからメッシュデータを読み出して画像処理演算を
行い、出図する面パターンが設計上の面パターンに対し
てはみ出している部分と塗りつぶし不足になっている部
分を検出する。そして、検出したはみ出し部分と塗りつ
ぶし不足部分が許容値を超えているかどうかをチェック
する。
メッシュデータ上に展開し、第１のメモリに格納する。
また、出図する面パターンをメッシュデータ上に展開
し、第２のメモリに格納する。ここで、第１及び第２の
メモリからメッシュデータを読み出して画像処理演算を
行い、出図する面パターンが設計上の面パターンに対し
てはみ出している部分と塗りつぶし不足になっている部
分を検出する。そして、検出したはみ出し部分と塗りつ
ぶし不足部分が許容値を超えているかどうかをチェック
する。
【０００８】
【実施例】以下、図面を用いて本発明を説明する。図１
は本発明の一実施例を示した構成図である。図１におい
て、１は入力装置、２は出力装置、３は記憶装置、４は
コンピュータである。
は本発明の一実施例を示した構成図である。図１におい
て、１は入力装置、２は出力装置、３は記憶装置、４は
コンピュータである。
【０００９】入力装置１において、１１及び１２は設計
するプリント基板の情報をそれぞれ図形情報及びキー入
力情報により入力する図形入力手段及びキーボードであ
る。なお、入力装置１にはこれらの入力手段の他にマウ
ス等が設けられていてもよい。出力装置２において、２
１は設計するプリント基板を表示する表示部である。記
憶装置３において、３１は設計するプリント基板のパタ
ーン図をグラフィックデータで格納するグラフィックデ
ータ用メモリ、３２は基板設計で用いる部品を定義した
部品情報、パターンの結線状態を示した接続情報等を格
納したデータベース記憶部である。
するプリント基板の情報をそれぞれ図形情報及びキー入
力情報により入力する図形入力手段及びキーボードであ
る。なお、入力装置１にはこれらの入力手段の他にマウ
ス等が設けられていてもよい。出力装置２において、２
１は設計するプリント基板を表示する表示部である。記
憶装置３において、３１は設計するプリント基板のパタ
ーン図をグラフィックデータで格納するグラフィックデ
ータ用メモリ、３２は基板設計で用いる部品を定義した
部品情報、パターンの結線状態を示した接続情報等を格
納したデータベース記憶部である。
【００１０】コンピュータ４において、４１は入力装置
１からの入力を受け付けるとともに、記憶装置３に対し
て書き込みと読み出しを行う制御手段である。４２は第
１の変換手段であり、グラフィックデータ用メモリ３１
から設計上の面パターンを読み出し、読み出した面パタ
ーンを２次元のメッシュデータ上に展開する。このと
き、例えば、面パターンの内部と外部をそれぞれ１と０
のデータに対応させる。展開したメッシュデータは第１
のメモリ３３に格納する。４３は疑似描画パターン作成
手段であり、フォトプロッタが用いるフォトペンの太さ
をもとに、フォトプロッタが描く面パターンをシミュレ
ーションにより作成する。４４は疑似描画パターン作成
手段４３で作成した面パターンを２次元のメッシュデー
タ上に展開する第２の変換手段である。展開のしかたは
第１の変換手段と同様である。展開したメッシュデータ
は第２のメモリ３４に格納する。４５は比較手段であ
り、第１及び第２のメモリ３３及び３４からメッシュデ
ータを読み出して画像処理演算を実行し、出図する面パ
ターンが設計上の面パターンに対して、はみ出している
部分と塗りつぶしが不足している部分を検出する。４６
はチェック手段であり、比較手段４５で検出したはみ出
し部分と塗りつぶし不足部分の寸法が許容値を超えてい
るかどうかについてチェックする。許容値は、例えば、
入力装置１から制御手段４１を介して与えられる。チェ
ック結果により出図する面パターンの良否が判別され
る。
１からの入力を受け付けるとともに、記憶装置３に対し
て書き込みと読み出しを行う制御手段である。４２は第
１の変換手段であり、グラフィックデータ用メモリ３１
から設計上の面パターンを読み出し、読み出した面パタ
ーンを２次元のメッシュデータ上に展開する。このと
き、例えば、面パターンの内部と外部をそれぞれ１と０
のデータに対応させる。展開したメッシュデータは第１
のメモリ３３に格納する。４３は疑似描画パターン作成
手段であり、フォトプロッタが用いるフォトペンの太さ
をもとに、フォトプロッタが描く面パターンをシミュレ
ーションにより作成する。４４は疑似描画パターン作成
手段４３で作成した面パターンを２次元のメッシュデー
タ上に展開する第２の変換手段である。展開のしかたは
第１の変換手段と同様である。展開したメッシュデータ
は第２のメモリ３４に格納する。４５は比較手段であ
り、第１及び第２のメモリ３３及び３４からメッシュデ
ータを読み出して画像処理演算を実行し、出図する面パ
ターンが設計上の面パターンに対して、はみ出している
部分と塗りつぶしが不足している部分を検出する。４６
はチェック手段であり、比較手段４５で検出したはみ出
し部分と塗りつぶし不足部分の寸法が許容値を超えてい
るかどうかについてチェックする。許容値は、例えば、
入力装置１から制御手段４１を介して与えられる。チェ
ック結果により出図する面パターンの良否が判別され
る。
【００１１】このように構成したＣＡＤシステムの動作
を説明する。図２は出図する面パターンのチェック手順
を示したフローチャートである。図２で、先ず、設計上
の面パターンをメッシュデータ上に展開し、第１のメモ
リ３３に格納する。さらに、出図する面パターンをメッ
シュデータ上に展開し、第２のメモリ３４に格納する。
ここで、第１及び第２のメモリ３３及び３４からメッシ
ュデータを読み出して画像処理演算を行い、出図する面
パターンが設計上の面パターンに対してはみ出している
部分と塗りつぶし不足になっている部分を検出する。次
に、検出したはみ出し部分と塗りつぶし不足部分が許容
値を超えているかどうかをチェックする。チェック結果
により出図する面パターンの良否が判別される。
を説明する。図２は出図する面パターンのチェック手順
を示したフローチャートである。図２で、先ず、設計上
の面パターンをメッシュデータ上に展開し、第１のメモ
リ３３に格納する。さらに、出図する面パターンをメッ
シュデータ上に展開し、第２のメモリ３４に格納する。
ここで、第１及び第２のメモリ３３及び３４からメッシ
ュデータを読み出して画像処理演算を行い、出図する面
パターンが設計上の面パターンに対してはみ出している
部分と塗りつぶし不足になっている部分を検出する。次
に、検出したはみ出し部分と塗りつぶし不足部分が許容
値を超えているかどうかをチェックする。チェック結果
により出図する面パターンの良否が判別される。
【００１２】チェックのしかたをパターン例を用いて説
明する。図３で、（ａ）図は設計上の面パターン、
（ｂ）図は出図する面パターンである。これらの面パタ
ーンがメッシュデータ上に展開されて第１及び第２のメ
モリ３３及び３４に格納される。これらのメッシュデー
タについて画像処理演算を行うことにより、図４（ａ）
に示す塗りつぶし不足部分と、図４（ｂ）に示すはみ出
し部分とが検出される。これらの検出部分の寸法が許容
値を超えているかどうかにより出図する面パターンの良
否を判別できる。
明する。図３で、（ａ）図は設計上の面パターン、
（ｂ）図は出図する面パターンである。これらの面パタ
ーンがメッシュデータ上に展開されて第１及び第２のメ
モリ３３及び３４に格納される。これらのメッシュデー
タについて画像処理演算を行うことにより、図４（ａ）
に示す塗りつぶし不足部分と、図４（ｂ）に示すはみ出
し部分とが検出される。これらの検出部分の寸法が許容
値を超えているかどうかにより出図する面パターンの良
否を判別できる。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば次の効果が得られる。 設計上の面パターンと出図する面パターンとをメッシ
ュデータ上に展開し、画像処理演算して塗りつぶし不足
部分とはみ出し部分とを検出している。このため、従来
例にあるようなオフセット図形の作成や、オフセット図
形と元の図形との干渉チェックが不要になる。これによ
り、出図する面パターンのチェックに要する時間を短縮
できる。 メッシュデータの画像処理演算を駆使してチェックを
行っているため、あらゆる形状の面パターンに対しても
チェック漏れを生じることがない。 画像処理演算では画像の白黒反転を容易に行えるた
め、塗りつぶしの不足部分とはみ出し部分の両方につい
てチェックできる。
ュデータ上に展開し、画像処理演算して塗りつぶし不足
部分とはみ出し部分とを検出している。このため、従来
例にあるようなオフセット図形の作成や、オフセット図
形と元の図形との干渉チェックが不要になる。これによ
り、出図する面パターンのチェックに要する時間を短縮
できる。 メッシュデータの画像処理演算を駆使してチェックを
行っているため、あらゆる形状の面パターンに対しても
チェック漏れを生じることがない。 画像処理演算では画像の白黒反転を容易に行えるた
め、塗りつぶしの不足部分とはみ出し部分の両方につい
てチェックできる。
【図１】本発明の一実施例を示した構成図である。
【図２】出図する面パターンのチェック手順を示したフ
ローチャートである。
ローチャートである。
【図３】チェックを行う面パターン例を示した図であ
る。
る。
【図４】チェックを行う面パターン例を示した図であ
る。
る。
【図５】従来における面パターンのチェックのやり方を
示した説明図である。
示した説明図である。
【図６】従来における面パターンのチェックのやり方を
示した説明図である。
示した説明図である。
１ 入力装置 ２ 出力装置 ３ 記憶装置 ３３ 第１のメモリ ３４ 第２のメモリ ４ コンピュータ ４２ 第１の変換手段 ４３ 疑似描画パターン作成手段 ４４ 第２の変換手段 ４５ 比較手段 ４６ チェック手段
Claims (1)
- 【請求項１】 設計上の面パターンを表した設計データ
をフォトプロッタに与え、フォトプロッタに面パターン
を描かせることにより、出図する面パターンを作成する
ＣＡＤシステムにおいて、 前記フォトプロッタが用いるフォトペンの太さをもと
に、前記出図する面パターンをシミュレーションにより
作成する疑似描画パターン作成手段と、 前記設計上の面パターンを２次元のメッシュデータに展
開する第１の変換手段と、 前記疑似描画パターン作成手段により作成した面パター
ンを２次元のメッシュデータに展開する第２の変換手段
と、 前記第１及び第２の変換手段により得た２次元のメッシ
ュデータをそれぞれ格納する第１及び第２のメモリと、 該第１及び第２のメモリに格納されたメッシュデータに
ついて画像処理演算を行い、前記出図する面パターンが
前記設計上の面パターンに対して、はみ出す部分と塗り
つぶし不足を生じる部分を検出する比較手段と、 この比較手段により検出した部分の寸法が許容値を超え
ているかどうかをチェックするチェック手段と、を具備
したことを特徴とするＣＡＤシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4183486A JPH0628425A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | Ｃａｄシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4183486A JPH0628425A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | Ｃａｄシステム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0628425A true JPH0628425A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16136659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4183486A Pending JPH0628425A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | Ｃａｄシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0628425A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5801672A (en) * | 1993-09-09 | 1998-09-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device and its driving method |
| JP2012168730A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Fujitsu Ltd | 図形処理プログラム、方法及び装置 |
-
1992
- 1992-07-10 JP JP4183486A patent/JPH0628425A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5801672A (en) * | 1993-09-09 | 1998-09-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device and its driving method |
| US6107983A (en) * | 1993-09-09 | 2000-08-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device and driving method |
| JP2012168730A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-06 | Fujitsu Ltd | 図形処理プログラム、方法及び装置 |
| US8847971B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-09-30 | Fujitsu Limited | Graphic processing device, graphic processing method, and non-transitory medium for storing graphic processing program for generating corrected graphic data |
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