JPH06277775A - Agめっき層を有する材料の製造方法 - Google Patents

Agめっき層を有する材料の製造方法

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Publication number
JPH06277775A
JPH06277775A JP9093293A JP9093293A JPH06277775A JP H06277775 A JPH06277775 A JP H06277775A JP 9093293 A JP9093293 A JP 9093293A JP 9093293 A JP9093293 A JP 9093293A JP H06277775 A JPH06277775 A JP H06277775A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating layer
leveler
coil
roll
strip
Prior art date
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Pending
Application number
JP9093293A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Furuya
隆司 古谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
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Publication of JPH06277775A publication Critical patent/JPH06277775A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 銀めっき本来の半田濡れ性を保持しつつコイ
ルセット修正を可能にすることができるAgめっき層を
有する材料の製造方法を提供する。 【構成】 コイル1から巻き解かれたAgめっき層を有
する金属条材3を複数のロール7を相互に平行に配置し
たレベラー4に通してその巻癖を矯正する。その後、こ
の金属条材3をプレス5に供給してスタンピング加工す
る。この場合に、レベラー4のロール7は、その周面に
凹状の段差8が設けられているので、Agめっき層にロ
ーラ7が接触することはない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、銅、銅合金、鉄又は鉄
合金等の条材の表面に銀(Ag)めっき層を設けたリー
ドフレーム用金属条材として好適のAgめっき層を有す
る材料の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体集積回路(IC)等の半導
体部品及び電子部品等に使用されるリードフレーム用金
属条材は、図5に示すようにして製造されている。即
ち、金属条材13は、図7に示すように、銅、銅合金、
鉄又は鉄合金等の素材の条材にストライプ状の部分Ag
めっき層16を形成して構成されており、この金属条材
13をコイル1に成形したものを、図5に示すように、
送り出しロール2に装着する。そして、金属条材13を
コイル1から巻き解き、レベラ14に通して、コイルの
巻癖を矯正した後、プレス5に供給してこのプレス5に
おいてスタンピング加工を行う。
【0003】レベラ14は図6に示す円柱状の5個のワ
ークロール15を相互に平行に且つ水平に配置して構成
されている。このワークロール15間を通る間に、条材
13はワークロール15により加圧されて巻癖が矯正さ
れ、コイルセットが改善される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、条材1
3をレベラ14に通すことにより、ワークロール15が
条材13の銀めっき面に接してこれを加圧することにな
り、これにより銀めっき粒子がつぶれてしまう。図8は
このワークロール15による加圧によりつぶされた銀め
っき粒子を示すSEM像である。この図8に示すよう
に、ワークロール15による加圧で銀めっき粒子がつぶ
れる結果、半田濡れ性が悪化してしまう。図8の右欄
は、半田ボールの広がり結果を示す図である。この図に
示すように、半田ボールの広がりが少なく、半濡れ性が
悪い。
【0005】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、銀めっき本来の半田濡れ性を保持しつつコ
イルセット修正を可能にすることができるAgめっき層
を有する材料の製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係るAgめっき
層を有する材料の製造方法は、コイルから巻き解かれた
Agめっき層を有する材料を複数のロールを相互に平行
に配置したレベラーに通してその巻癖を矯正するAgめ
っき層を有する材料の製造方法において、前記レベラー
のロールは、その周面に凹状の段差が設けられているこ
とを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明においては、レベラのロールはその周面
に凹状の段差が設けられているので、この段差部分をス
トライプ状のAgめっき部分が通過するようにすること
により、このAgめっき部分はロールに接触しない。こ
のため、Agめっき部分がロールにより加圧されること
はないので、Agめっき層のAgめっき粒子がつぶれる
ことはなく、Agめっき本来のもつ半田濡れ性が得られ
る。
【0008】
【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して説明する。
【0009】図1は本発明の実施例方法を示す模式図で
ある。図1において、図5と同一物には同一符号を付し
てその詳細な説明を省略する。本実施例の条材3は、図
3に示すように、ストライプ状のAgめっき層6がその
表面に形成されている。また、本実施例においては、図
2に示すように、その周面に周方向に延びる段差8が2
本形成されているワークロール7を使用する。この段差
8は深さが数μm、幅がAgめっき層6の幅に対応する
凹状のものである。また、この段差8の位置はワークロ
ール7を通過する条材3の表面にストライプ状に選択的
に形成されたAgめっき層6と整合する位置に設けられ
ている。
【0010】このように構成されたレベラ4のワークロ
ール7を使用する本実施例方法においては、コイル1か
ら巻き解かれた条材3はレベラ4を通過してそのワーク
ロール7による加圧を受け、その巻癖が矯正されてコイ
ルセットが修正される。この場合に、ワークロール7に
は、Agめっき層6に整合する位置に段差8が設けらて
いるので、Agめっき層6がワークロール7に接触する
ことはなく、Agめっき層6はワークロール7による加
圧を受けない。
【0011】従って、図4のSEM像に示すように、A
gめっき層6のAgめっき粒子はつぶれていない。
【0012】このようにAgめっき粒子がそのまま残存
しているため、図4の半田ボール広がり結果欄に示すよ
うに、半田の広がりも良好である。また、光沢度も0.1
以下と従来の0.4以下(図8参照)に比して優れてい
る。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レベラのロールの周面に凹状の段差が形成されているの
で、金属条材等の材料表面に形成されたAgめっき層に
レベラのロールが接触して加圧してしまうことはなく、
Agめっき粒子がつぶれることはない。このため、この
材料をリードフレーム等に成形した場合に、良好な半田
の広がりが得られ、半田濡れ性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例方法を示す模式図である。
【図2】同じくそのワークロールの形状を示す図であ
る。
【図3】同じくその条材表面を示す模式図である。
【図4】本実施例方法の場合のAgめっき粒子の状態を
示す金属組織写真及び半田濡れ性を示す図である。
【図5】従来方法を示す模式図である。
【図6】同じくそのワークロールを示す図である。
【図7】同じくその金属条材を示す模式図である。
【図8】従来方法の場合のAgめっき粒子のつぶれ状態
を示す金属組織写真及び半田濡れ性を示す図である。
【符号の説明】
1;コイル 3,13;金属条材 4,14;レベラ 5;プレス 6,16;Agめっき層 7,15;ワークロール 8;段差

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コイルから巻き解かれたAgめっき層を
    有する材料を複数のロールを相互に平行に配置したレベ
    ラーに通してその巻癖を矯正するAgめっき層を有する
    材料の製造方法において、前記レベラーのロールは、そ
    の周面に凹状の段差が設けられていることを特徴とする
    Agめっき層を有する材料の製造方法。
JP9093293A 1993-03-25 1993-03-25 Agめっき層を有する材料の製造方法 Pending JPH06277775A (ja)

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JP9093293A JPH06277775A (ja) 1993-03-25 1993-03-25 Agめっき層を有する材料の製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998024128A1 (fr) * 1996-11-28 1998-06-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Dispositif a semi-conducteur

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998024128A1 (fr) * 1996-11-28 1998-06-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Dispositif a semi-conducteur
US5998856A (en) * 1996-11-28 1999-12-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device

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