JPH06271521A - ビシクロヘプタン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

ビシクロヘプタン誘導体及びその製造方法

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JPH06271521A
JPH06271521A JP8007693A JP8007693A JPH06271521A JP H06271521 A JPH06271521 A JP H06271521A JP 8007693 A JP8007693 A JP 8007693A JP 8007693 A JP8007693 A JP 8007693A JP H06271521 A JPH06271521 A JP H06271521A
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Hiroyuki Nohira
博之 野平
Kenichi Kikegawa
健一 亀卦川
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 トロンボキサンA2受容体拮抗薬であるS−
1452の中間体である(1R,2S,3S,4S)3
−フェニルスルホニルアミノ−ビシクロ[2,2,1]
ヘプタン−2−カルボン酸を製造するための原料を提供
する。 【構成】 ラセミ体の(エンド、エンド)3−アミノカ
ルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−
2−カルボン酸またはその塩に光学活性なエチルベンジ
ルアミンを作用させることにより得られる(1S,2
R,3S,4R)または(1R,2S,3R,4S)3
−アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−
5−エン−2−カルボン酸及びその塩を中間体の原料と
して使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、トロンボキサンA2受
容体拮抗作用を持つ医薬品の中間体として有用な(1
S,2R,3S,4R)または(1R,2S,3R,4
S)3−アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘ
プト−5−エン−2−カルボン酸及びその塩、ならびに
それらの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明により製造される(1S,2R,
3S,4R)または(1R,2S,3R,4S)3−ア
ミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−
エン−2−カルボン酸及びその塩は新規な化合物であ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明により製造され
る(1S,2R,3S,4R)3−アミノカルボニル−
ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−カルボ
ン酸及びその塩は、トロンボキサンA2受容体拮抗薬で
あるS−1452の中間体である(1R,2S,3S,
4S)3−フェニルスルホニルアミノ−ビシクロ[2,
2,1]ヘプタン−2−カルボン酸を製造するための原
料として有用な新規化合物である。
【0004】従来知られている(1R,2S,3S,4
S)3−フェニルスルホニルアミノ−ビシクロ[2,
2,1]ヘプタン−2−カルボン酸の製造方法として
は、ノルボルネンジカルボン酸無水物を、(R)マンデ
ル酸ベンジルのリチウムアルコラートを用いて不斉エス
テル化を行った後、水素化、異性化、アミド化、加水分
解、ホフマン分解した後、フェニルスルホニルクロライ
ドによりスルホンアミド化する下記の方法が知られてい
る。
【0005】(J.Org.Chem.56,212
2,1991 )
【0006】
【化1】 しかし、この方法は、高価な(R)マンデル酸ベンジル
のリチウムアルコラートを最初の工程で使用するため、
その原単位が大きくなるという問題がある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決すべく研究を重ねた結果、(1R,2S,3
S,4S)3−フェニルスルホニルアミノ−ビシクロ
[2,2,1]ヘプタン−2−カルボン酸の製造中間体
となり得る(1S,2R,3S,4R)3−アミノカル
ボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2
−カルボン酸が、対応するラセミ体を(−)エチルベン
ジルアミンを分割剤として光学分割することにより得ら
れることを見出だした。
【0008】本発明により製造される(1S,2R,3
S,4R)3−アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,
1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸は例えば下記に
示すようにホフマン分解、フェニルスルホニル化、エス
テル化、異性化、水素化した後、エステル加水分解を行
うことにより高収率で、(1R,2S,3S,4S)3
−フェニルスルホニルアミノ−ビシクロ[2,2,1]
ヘプタン−2−カルボン酸に導くことができる。
【0009】
【化2】 次に本発明の実施態様について詳しく説明する。
【0010】本発明の化合物である(1S,2R,3
S,4R)3−アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,
1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸及びその塩は対
応するラセミ体の(エンド、エンド)3−アミノカルボ
ニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−
カルボン酸またはその塩に光学活性なエチルベンジルア
ミンを作用させ、光学分割することにより製造すること
ができる。ラセミ体の(エンド、エンド)3−アミノカ
ルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−
2−カルボン酸またはその塩は既知物質であるノルボル
ネンジカルボン酸無水物をアンモニア水と反応させ、所
望により酸性にするか、または所望によりアルカリ金属
水酸化物により塩基性にすることにより製造することが
できる。
【0011】光学分割剤であるエチルベンジルアミンは
(−)体を用いた場合には、3−アミノカルボニル−ビ
シクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−カルボン
酸の(1S,2R,3S,4R)体が得られ、(+)体
を用いた場合には、(1R,2S,3R,4S)体が得
られる。
【0012】エチルベンジルアミンと(エンド、エン
ド)3−アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘ
プト−5−エン−2−カルボン酸またはその塩のモル比
は特に限定されないが、0.4〜1当量使用するのが、
効率良くかつ高純度で分割するために好ましい。
【0013】本発明の目的のために使用する溶媒として
は、メタノール、エタノールなどの低級アルコール、ア
セトン、メチルエチルケトンなどの低級ケトン類、およ
び水などを例示することができるが、特に好ましい溶媒
は水である。用いる溶媒の量は、溶媒の種類、溶解温
度、晶析温度によってそれぞれ異なり、一義的に規定す
ることはできないが、通常、用いるエチルベンジルアミ
ン1モルに対して、300〜3000mlの範囲で用いられる。
晶析温度も用いる溶媒の種類、溶媒の量、溶解温度によ
って異なるが、経済的な見地から、通常−20〜50℃
の範囲から選ばれる。
【0014】本発明は例えば次のような方法で実施す
る。
【0015】原料として、ラセミ体の(エンド、エン
ド)3−アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘ
プト−5−エン−2−カルボン酸のアンモニウム塩を使
用する場合は、これを水に溶解させ、0.4〜1当量の
エチルベンジルアミン及び、それと当量の鉱酸を加え
る。(あらかじめ、エチルベンジルアミンの鉱酸塩を調
整して使用しても良い。)適当な温度まで昇温して全量
を溶解させた後、冷却して過飽和となし、好ましくは種
結晶を少量接種して目的とする(1S,2R,3S,4
R)3−アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘ
プト−5−エン−2−カルボン酸の(−)エチルベンジ
ルアミン塩、または(1R,2S,3R,4S)3−ア
ミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−
エン−2−カルボン酸の(+)エチルベンジルアミン塩
を析出させ、これを分離する。得られたエチルベンジル
アミン塩を塩酸、硫酸などを用いて酸性にすることによ
り、対応するカルボン酸が得られる。また、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどを用いて塩基性にすること
により、対応するカルボン酸のアルカリ金属塩が得られ
る。
【0016】
【実施例】以下に本発明の実施例をあげて具体的に説明
する。 実施例1 (エンド、エンド)3−アミノカルボニル−ビシクロ
[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸アン
モニウム7.92g (40mmol)を水に溶解させ全量が 100mlに
なるように希釈した。
【0017】これを45℃に加熱し、これに2M塩酸20ml
と(−)エチルベンジルアミン5.40g (40mmol)を混合
し、塩としたものを加えた。これを25℃まで冷却し、濾
過により(1S,2R,3S,4R)3−アミノカルボ
ニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−
カルボン酸の(−)エチルベンジルアミン塩の白色結晶
4.46gを得た。
【0018】[α]D =−9.3゜、[α]435 =−2
1.6゜(c 0.5, メタノール) IRスペクトル:3422cm-1、1654cm-1、153
4cm-1、702cm-1 この塩 3.36g (10.6mmol) に1M水酸化ナトリウム32ml
を加え、攪拌溶解した。遊離した(−)エチルベンジル
アミンをエーテルを用いて抽出除去し、(1S,2R,
3S,4R)3−アミノカルボニル−ビシクロ[2,
2,1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸ナトリウム
の水溶液を得た。 参考例 実施例1で得られた(1S,2R,3S,4R)3−ア
ミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−
エン−2−カルボン酸ナトリウムの水溶液を0℃まで冷
却し、1。5M次亜塩素酸ナトリウム 7.5mlを加え、0
℃で8分攪拌し、後に80〜85℃に加熱し8分間攪拌し
た。
【0019】次にこの溶液を0℃まで冷却し、塩化ベン
ゼンスルホニル 1.87g(10.6mmol)とジオキサン 1.3mlを
加え、2時間攪拌した。反応終了後、濃塩酸により溶液
をコンゴーレッド酸性にし、ジクロルメタンで抽出し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去することによ
り(1S,2R,3S,4R)3−フェニルスルホニル
アミノ−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2
−カルボン酸 2.25g(8.7mmol) を得た。
【0020】[α]D =+9.2゜(c 0.5, メタノー
ル) 得られた(1S,2R,3S,4S)3−フェニルスル
ホニルアミノ−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エ
ン−2−カルボン酸 2.19g(7.5mmol)に乾燥メタノール
15mlとオキシ塩化リン 0.38gを加え、3時間加熱還流し
た。
【0021】反応終了後、メタノールを減圧留去した後
水15mlを加え、濾過により、(1S,2R,3S,4
R)3−フェニルスルホニルアミノ−ビシクロ[2,
2,1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸メチル 2.0
8g(6.8mmol)を得た。
【0022】[α]D =−18.3゜(c 0.5, メタノ
ール)、e.e.88%(HPLC)融点112〜11
6℃ これをメタノール 11ml で再結晶し光学的にほぼ純粋な
(1S,2R,3S,4R)3−フェニルスルホニルア
ミノ−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−
カルボン酸メチル 1.36g(4.4mmol) を得た。
【0023】[α]D =−20.5゜(c 0.5, メタノ
ール)、e.e.>99%(HPLC)融点121〜1
22℃ 得られた(1S,2R,3S,4R)3−フェニルスル
ホニルアミノ−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エ
ン−2−カルボン酸メチル 614mgを乾燥メタノール100m
l と金属ナトリウム460mg から調整したナトリウムメチ
ラート溶液に加え、室温で24時間攪拌した。
【0024】メタノールを減圧留去後、3M塩酸でコン
ゴーレッド酸性にし、ジクロルメタンで抽出し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去することにより(1
S,2S,3S,4R)3−フェニルスルホニルアミノ
−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−カル
ボン酸メチル 580mg(1.9mmol) を得た。
【0025】HPLC分析による2S/2R比は90/10
であった。
【0026】次いでこれをメタノール 6mlに溶解し、Pd
/C 50mgを加えて、室温、常圧にて水素還元した。反
応終了後濾過し、母液からメタノールを留去した後、2
−プロパノールを用いて再結晶し、(1R,2S,3
S,4S)3−フェニルスルホニルアミノ−ビシクロ
[2,2,1]ヘプタン−2−カルボン酸メチルを得
た。
【0027】[α]D =+16.4゜、[α]435 =+
27.1゜(c 0.5, メタノール) 2S/2R= 100/0 、e.e.100% 得られた(1R,2S,3S,4S)3−フェニルスル
ホニルアミノ−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2−
カルボン酸メチルを水酸化ナトリウム水溶液により加水
分解し、文献公知(J.Org.Chem.56,21
22,1991)の(1R,2S,3S,4S)3−フ
ェニルスルホニルアミノ−ビシクロ[2,2,1]ヘプ
タン−2−カルボン酸を得た。
【0028】 [α]D =+7.7゜(c 0.2, メタノール)
【0029】
【発明の効果】この発明は、トロンボキサンA2受容体
拮抗作用を持つ医薬品の中間体として有用な(1S,2
R,3S,4R)または(1R,2S,3R,4S)3
−アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−
5−エン−2−カルボン酸及びその塩、ならびにそれら
の製造方法を提供する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1S,2R,3S,4R)または(1
    R,2S,3R,4S)3−アミノカルボニル−ビシク
    ロ[2,2,1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸及
    びその塩。
  2. 【請求項2】 ラセミ体の(エンド、エンド)3−アミ
    ノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−5−エ
    ン−2−カルボン酸またはその塩に光学活性なエチルベ
    ンジルアミンを作用させることを特徴とする(1S,2
    R,3S,4R)または(1R,2S,3R,4S)3
    −アミノカルボニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−
    5−エン−2−カルボン酸またはその塩の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002069074A (ja) * 2000-08-25 2002-03-08 Kuraray Co Ltd 光学活性endo−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002069074A (ja) * 2000-08-25 2002-03-08 Kuraray Co Ltd 光学活性endo−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2−カルボン酸の製造方法

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