JPH06262376A - レーザマーキングシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】マーキングシステムでは、ワーク１５が動いて
いる状態でも刻印作業が行えるよう、ワークの移動方向
と直交する方向にレーザビーム走査すると共に、液晶マ
スク７に表示される符号や文字の形状を、ワークの移動
速度に応じて縮小又は拡大するように構成した。 【効果】ワークの移動中に刻印作業を行っても、ワーク
上にはワークの移動速度の影響を受けない正規の寸法を
有する符号や文字が刻印できるので、刻印作業の高スル
ープット化が実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はレーザマーカに係り、特
に、パターンマスクとして液晶マスクを用いたマーキン
グシステムに関する。

【０００２】

【従来の技術】パターンマスクとして液晶マスクを用い
たマーキングシステムに関しては特開平2−268988 号公
報がある。本公知例では、液晶マスクにレーザビームを
移動させながら照射し、液晶マスクに表示された符号や
文字をワーク上に刻印する方法が示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、刻
印作業はワークが停止した状態でレーザビームが照射さ
れる構成となっており、刻印作業を迅速に行うといった
点からの対処方法、つまり刻印作業の高スループット化
については考慮がされていない。

【０００４】本発明の目的は、液晶マスクにレーザビー
ムを移動させながら照射し、液晶マスクに表示された符
号や文字をワーク上に刻印する方法において、刻印作業
の高スループット化を実現できるマーキングシステムを
提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明のマーキングシステムでは、ワークが動いて
いる状態でも刻印作業が行えるよう、ワークの移動方向
と直交する方向にレーザビームを走査すると共に、液晶
マスクに表示される符号や文字の形状を、ワークの移動
速度に応じて縮小又は拡大するように構成した。

【０００６】

【作用】この結果、ワークの移動中に刻印作業を行って
も、ワーク上には移動速度の影響を受けない正規の寸法
を有する符号や文字が刻印できるので、刻印作業の高ス
ループット化を実現できる。

【０００７】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１および図２に
より説明する。図１において、レーザ装置１より出射さ
れるレーザ光２は、２枚の走査鏡３ａ，３ｂにより、一
平面内を密に走査し、これをレンズ５により平行ビーム
６にし、液晶マスク７に照射する。液晶マスク７を通過
したレーザ光８は偏光ビームスプリッタ９によって、吸
収体１０に向かう非マーキング用レーザ光１１と、マー
キング用レーザ光１２とに分離される。マーキング用レ
ーザ光１２は折り返し鏡１３によって結像レンズ系１４
へ導かれ、ワーク１５上に液晶マスク７に表示されたマ
ーキングパターン１６を刻印する。ワーク１５はコンベ
ア１７により、矢印１８の方向に移動しており、ワーク
１５が移動している状態で刻印作業が行われる。

【０００８】システム全体の制御は、レーザ装置制御部
１９，走査鏡３ａ，３ｂの駆動部４ａ，４ｂを制御する
走査制御部２０，液晶マスク７に表示するマーキングパ
ターン１６を制御する液晶マスク制御部２１、及びコン
ベア１７を一括して中央制御部２２で行っている。

【０００９】図２は液晶マスク７の表面をレーザビーム
６により走査する様子を示したもので、レーザビーム６
を左右に走査しながら矢印２３の方向へ移動させ、液晶
マスク７の全面を照射する。ここで、矢印２３の方向は
ワーク１５の移動方向である矢印１８と平行で逆向きと
なっており、レーザビーム６の走査方向２４と直交して
いる。

【００１０】図３，図４は液晶マスク７に表示されたマ
ーキングパターン１６とワーク１５上に刻印された刻印
パターン２５の関係を示すもので、説明を容易にするた
め結像レンズ系１４の結像倍率を１とした。１８はワー
ク１５の移動方向である。図示するように、マーキング
パターン１６は刻印パターン２５に比べΔＬだけ寸法が
縮小されている。

【００１１】ここに、 ΔＬ＝ｖ×ｔ で、ｖはワークの移動速度、ｔはマーキング所要時間で
ある。

【００１２】つまり、マーキングパターン１６は、ワー
クの移動方向では移動速度を考慮した縮小パターンとな
っている。これにより、ワーク上には移動速度の影響を
受けない正規の寸法の刻印パターンが得られる。

【００１３】なお、金属マスクのような固定パターンで
は、移動速度を考慮して縮小パターンを作成することは
煩雑な作業となるが、図示しないが、液晶マスクでは表
示されたマーキングパターン１６は小さなドットの集ま
りで構成されており、文字の寸法縮小，拡大等は中央制
御部２２からの信号により、液晶マスク制御部２１によ
って自由に変更することができる。これにより、ワーク
の移動に影響されない刻印パターン２５を容易に実現す
ることができる。

【００１４】図５は本発明の他の実施例でワークの移動
方向１８とレーザビームの移動方向２３が同一方向とな
っている。ワークの移動速度に比べ、レーザビームの移
動速度が速いことが前提となるが、本構成によれば、マ
ーキングパターン１６が縮小されてワーク上に刻印され
ることに成るので、小さいドットで構成されている刻印
パターンの精細度が高くなる。

【００１５】

【発明の効果】本発明のマーキングシステムによれば、
ワークの移動状態においても刻印作業ができるように、
ワークの移動速度に応じてマーキングパターン１６を縮
小又は拡大するようにしたので、刻印作業の高速化に効
果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例であるレーザマーキングシス
テムのブロック図。

【図２】レーザビームの走査方法の説明図。

【図３】マーキングパターン説明図。

【図４】刻印パターンの説明図。

【符号の説明】

１…レーザ装置、３ａ，３ｂ…走査鏡、６…レーザビー
ム、７…液晶マスク、９…偏光ビームスプリッタ、１５
…ワーク、１６…マーキングパターン、１７…コンベ
ア、２５…刻印パターン。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】マーキングパターンを表示する液晶マスク
   に、レーザビームを移動しながら照射し、前記マーキン
   グパターンを移動状態にあるワークにマーキングするシ
   ステムにおいて、前記マーキングパターンをワークの移
   動速度に応じて縮小、又は拡大するよう構成したことを
   特徴とするレーザマーキングシステム。