JPH06258240A - 座標変換方法 - Google Patents
座標変換方法Info
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- JPH06258240A JPH06258240A JP5048406A JP4840693A JPH06258240A JP H06258240 A JPH06258240 A JP H06258240A JP 5048406 A JP5048406 A JP 5048406A JP 4840693 A JP4840693 A JP 4840693A JP H06258240 A JPH06258240 A JP H06258240A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 230000009466 transformation Effects 0.000 title abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 34
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 機能の異なる２台の微細形状観察装置を用い
て同一の目標物を観察する時に、一方を出力側、他方を
入力側として、出力側の「試料の外形や特徴点で定義さ
れた座標系」での座標値を「入力側の位置制御座標系」
での座標値へ変換をするときに、変換座標値の誤差を低
減する。 【構成】 あらかじめ、出力側と入力側の「試料の外形
や特徴点で定義された座標系（共通座標系）」間の誤差
を補正する座標変換係数を求めておく。座標値入出力装
置１５を介して入力側装置に入力される目標物の出力側
の座標値を、上記座標変換係数を用いて変換し、「入力
側の共通座標系」の座標値とする。この座標値を用いて
目標物の「入力側の位置制御座標系」での座標値を求め
る。
て同一の目標物を観察する時に、一方を出力側、他方を
入力側として、出力側の「試料の外形や特徴点で定義さ
れた座標系」での座標値を「入力側の位置制御座標系」
での座標値へ変換をするときに、変換座標値の誤差を低
減する。 【構成】 あらかじめ、出力側と入力側の「試料の外形
や特徴点で定義された座標系（共通座標系）」間の誤差
を補正する座標変換係数を求めておく。座標値入出力装
置１５を介して入力側装置に入力される目標物の出力側
の座標値を、上記座標変換係数を用いて変換し、「入力
側の共通座標系」の座標値とする。この座標値を用いて
目標物の「入力側の位置制御座標系」での座標値を求め
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】電子顕微鏡、レーザー顕微鏡、走
査型プローブ顕微鏡などの微細形状観察装置に関する。
査型プローブ顕微鏡などの微細形状観察装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学的異物検出装置で異物の存在位置を
高速度に検出し、検出された異物の幾つかを電子線によ
る異物分析装置で時間をかけて分析する場合のように、
特徴の異なる装置間で同一の目標物を観察する方が有利
な場合がある。このような場合は、光学的異物検出装置
を出力側、電子線による異物分析装置を入力側として、
出力側の異物の座標値を、入力側の位置制御座標系での
座標値へ変換をする必要がある。
高速度に検出し、検出された異物の幾つかを電子線によ
る異物分析装置で時間をかけて分析する場合のように、
特徴の異なる装置間で同一の目標物を観察する方が有利
な場合がある。このような場合は、光学的異物検出装置
を出力側、電子線による異物分析装置を入力側として、
出力側の異物の座標値を、入力側の位置制御座標系での
座標値へ変換をする必要がある。
【０００３】この課題に対して、従来は以下のように対
処していた。座標値の受け渡し用の「共通の座標系」と
して、「試料の外形や特徴点で定義された座標系」を用
いる。例としては、ウエハの中心を原点として、オリフ
ラ方向（半導体ウエハのカット方向）をＸ軸に取った直
交座標系がある。この共通座標系と位置制御座標系をア
ライメントするために、位置座標系での前述の中心座標
とオリフラ方向を観察により求めて、共通座標系と位置
座標間の変換係数を求める。ただし各位置制御座標系で
の観察方法、位置制御座標系のＸ，Ｙ軸の直交度、スケ
ールの正確さ等の差異によって、共通座標系の各位置制
御座標系ごとに差異が発生する。
処していた。座標値の受け渡し用の「共通の座標系」と
して、「試料の外形や特徴点で定義された座標系」を用
いる。例としては、ウエハの中心を原点として、オリフ
ラ方向（半導体ウエハのカット方向）をＸ軸に取った直
交座標系がある。この共通座標系と位置制御座標系をア
ライメントするために、位置座標系での前述の中心座標
とオリフラ方向を観察により求めて、共通座標系と位置
座標間の変換係数を求める。ただし各位置制御座標系で
の観察方法、位置制御座標系のＸ，Ｙ軸の直交度、スケ
ールの正確さ等の差異によって、共通座標系の各位置制
御座標系ごとに差異が発生する。
【０００４】まず、出力側で「出力側の位置制御座標
系」と「出力側の共通座標系」とをアライメントし、各
座標系間の座標変換関係を設定する。この後、目標物の
座標値を「出力側の位置制御座標系」で観察で求める。
この状態で目標物の「出力側の共通座標系」での座標値
を先に設定した座標変換関係を使って求めて出力する。
系」と「出力側の共通座標系」とをアライメントし、各
座標系間の座標変換関係を設定する。この後、目標物の
座標値を「出力側の位置制御座標系」で観察で求める。
この状態で目標物の「出力側の共通座標系」での座標値
を先に設定した座標変換関係を使って求めて出力する。
【０００５】次に、入力側で「入力側の位置制御座標
系」と「入力側の共通座標系」とをアライメントし、各
座標系間の座標変換関係を設定する。この状態で幾つか
の目標物の「出力側の共通座標系」での座標値を、「入
力側の共通座標系」での値とみなして、「入力側の位置
制御座標系」での座標値に変換する。
系」と「入力側の共通座標系」とをアライメントし、各
座標系間の座標変換関係を設定する。この状態で幾つか
の目標物の「出力側の共通座標系」での座標値を、「入
力側の共通座標系」での値とみなして、「入力側の位置
制御座標系」での座標値に変換する。
【０００６】この状態では各共通座標間の差異に起因す
る誤差を含んでいる。この誤差を補正するために、変換
後の座標をもとに、目標物の「入力側位置制御座標系」
での座標値を観察により求め直す。この処理で得られた
より正確な「入力側の位置制御座標系」と「出力側の共
通座標系」との座標値の組から、座標変換係数を求め直
す。この方法で各共通座標間の差異に起因する誤差が補
正された座標変換係数が求められる。
る誤差を含んでいる。この誤差を補正するために、変換
後の座標をもとに、目標物の「入力側位置制御座標系」
での座標値を観察により求め直す。この処理で得られた
より正確な「入力側の位置制御座標系」と「出力側の共
通座標系」との座標値の組から、座標変換係数を求め直
す。この方法で各共通座標間の差異に起因する誤差が補
正された座標変換係数が求められる。
【０００７】ここで得られた座標変換係数を用いてその
他の目標物の「出力側の共通座標系」での座標値を「入
力側の位置制御座標系」での座標に変換する。
他の目標物の「出力側の共通座標系」での座標値を「入
力側の位置制御座標系」での座標に変換する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の各共通
座標間の差異に起因する誤差は、目標物の大きさが試料
の大きさに対して非常に小さい場合には、上記の目標物
の「入力側の位置制御座標系」での座標値への観察によ
る求めなおしが一視野内で済まず、操作が煩雑になる。
座標間の差異に起因する誤差は、目標物の大きさが試料
の大きさに対して非常に小さい場合には、上記の目標物
の「入力側の位置制御座標系」での座標値への観察によ
る求めなおしが一視野内で済まず、操作が煩雑になる。
【０００９】たとえば直径２００ｍｍのウエハ上の１μ
ｍの目標物を観察する場合にＸ，Ｙ座標軸の直交度が
０．１度ずれるだけで最大１７０μｍの誤差になり１μ
ｍの視野範囲の１辺５０μｍ程度に比べ、非常に大きく
なる。
ｍの目標物を観察する場合にＸ，Ｙ座標軸の直交度が
０．１度ずれるだけで最大１７０μｍの誤差になり１μ
ｍの視野範囲の１辺５０μｍ程度に比べ、非常に大きく
なる。
【００１０】
【課題を解決するため手段】本発明は、上記の変換以外
に、あらかじめ同一目標物を観察して得られた「出力側
の共通座標系」と「入力側の共通座標系」間の座標変換
係数を用いた変換を施して変換座標値の誤差を減少させ
る方法である。
に、あらかじめ同一目標物を観察して得られた「出力側
の共通座標系」と「入力側の共通座標系」間の座標変換
係数を用いた変換を施して変換座標値の誤差を減少させ
る方法である。
【００１１】
【作用】上記のような座標変換方法を用いることで、各
位置制御座標系の差異に起因する共通座標間の差異に基
づく目標物の「入力側の位置制御座標系」での座標値の
誤差を低減することができる。
位置制御座標系の差異に起因する共通座標間の差異に基
づく目標物の「入力側の位置制御座標系」での座標値の
誤差を低減することができる。
【００１２】
【実施例】以下本発明を図示の実施例に基づき説明す
る。図１は本発明が適用される微細形状観察装置の構成
図を示したものである。電子銃１から発生する電子線ａ
は偏向器２ｘによりｘ方向に偏向され偏向器２ｙにより
ｙ方向に偏向される。
る。図１は本発明が適用される微細形状観察装置の構成
図を示したものである。電子銃１から発生する電子線ａ
は偏向器２ｘによりｘ方向に偏向され偏向器２ｙにより
ｙ方向に偏向される。
【００１３】偏向量はＣＰＵ６からｘ方向のＤＡ変換器
４とｙ方向のＤＡ変換器５に与えられる。このＤＡ変換
器４、５の出力は偏向器２ｘと２ｙに接続されている。
ＣＰＵ６がＡＤ変換器７にたいして読み込み動作をする
と、試料３から発生する電子ｂが検出器８に検出されて
変換された電気信号ｃの値がデジタル量に変換されてＣ
ＰＵ６に取り込まれる。
４とｙ方向のＤＡ変換器５に与えられる。このＤＡ変換
器４、５の出力は偏向器２ｘと２ｙに接続されている。
ＣＰＵ６がＡＤ変換器７にたいして読み込み動作をする
と、試料３から発生する電子ｂが検出器８に検出されて
変換された電気信号ｃの値がデジタル量に変換されてＣ
ＰＵ６に取り込まれる。
【００１４】ＣＰＵ６はＡＤ変換器７から読み込んだ値
を画像メモリ９に書き込む。画像メモリ９の内容は表示
器１０に表示される。試料３は試料装着装置１３に装着
されステージ駆動装置１２を介して観察位置が制御され
る。
を画像メモリ９に書き込む。画像メモリ９の内容は表示
器１０に表示される。試料３は試料装着装置１３に装着
されステージ駆動装置１２を介して観察位置が制御され
る。
【００１５】位置制御座標値としてのステージ移動量
は、ＣＰＵ６からステージ制御装置１１に与えられる。
このステージ制御装置１１の出力はステージ駆動装置１
２に接続されている。本実施例を出力側として用いる場
合は、座標値入出力装置１５を介して共通座標系での座
標値が、他の装置に出力される。
は、ＣＰＵ６からステージ制御装置１１に与えられる。
このステージ制御装置１１の出力はステージ駆動装置１
２に接続されている。本実施例を出力側として用いる場
合は、座標値入出力装置１５を介して共通座標系での座
標値が、他の装置に出力される。
【００１６】本実施例を入力側として用いる場合は、座
標値入出力装置１５を介して共通座標系での座標値が、
他の装置から入力される。図２は位置制御座標系と共通
座標系の関係の例である。この例ではウエハ１６のを中
心を原点として、オリフラ方向をＸ軸に取った直交座標
系を共通座標系とした場合である。
標値入出力装置１５を介して共通座標系での座標値が、
他の装置から入力される。図２は位置制御座標系と共通
座標系の関係の例である。この例ではウエハ１６のを中
心を原点として、オリフラ方向をＸ軸に取った直交座標
系を共通座標系とした場合である。
【００１７】各位置制御座標系ごとに、位置制御座標系
と共通座標系とをアライメントする。このときに、ウエ
ハ１６の原点検出方法により、出力側と入力側の共通座
標系で原点に差異が発生する。またオリフラ方向が出力
側と入力側の共通座標系で正確に一致していても各座標
系Ｘ，Ｙ軸の直交度、スケールの正確さ等の差異によ
り、出力側の共通座標系で差異が発生する。
と共通座標系とをアライメントする。このときに、ウエ
ハ１６の原点検出方法により、出力側と入力側の共通座
標系で原点に差異が発生する。またオリフラ方向が出力
側と入力側の共通座標系で正確に一致していても各座標
系Ｘ，Ｙ軸の直交度、スケールの正確さ等の差異によ
り、出力側の共通座標系で差異が発生する。
【００１８】図３は上記の各共通座標系の差異を示して
いる。この差異を補正するため「出力側の共通座標系」
が「入力側の共通座標系」へ座標変換係数を下記第１の
ステップにより求める。第１のステップ（「出力側の共
通座標系」と「入力側の共通座標系」間の座標変換係数
を求めること）。
いる。この差異を補正するため「出力側の共通座標系」
が「入力側の共通座標系」へ座標変換係数を下記第１の
ステップにより求める。第１のステップ（「出力側の共
通座標系」と「入力側の共通座標系」間の座標変換係数
を求めること）。
【００１９】（１）出力側で「出力側の位置制御座標
系」と「出力側の共通座標系」とをアライメントし、各
座標系間の座標変換関係を設定する。 （２）幾つかの目標物の「出力側の位置制御座標系」で
の座標値を観察により求める。
系」と「出力側の共通座標系」とをアライメントし、各
座標系間の座標変換関係を設定する。 （２）幾つかの目標物の「出力側の位置制御座標系」で
の座標値を観察により求める。
【００２０】（３）幾つかの目標物の「出力側の共通座
標系」での座標値を（１）で設定した座標変換関係を使
って求めて出力する。 （４）入力側で「入力側の位置制御座標系」と「入力側
の共通座標系」とアライメントし、各座標系間の座標変
換関係を設定する。
標系」での座標値を（１）で設定した座標変換関係を使
って求めて出力する。 （４）入力側で「入力側の位置制御座標系」と「入力側
の共通座標系」とアライメントし、各座標系間の座標変
換関係を設定する。
【００２１】（５）（３）で求めた幾つかの目標物の
「出力側の共通座標系」での座標値を、「入力側の共通
座標系」での値とみなして、「入力側の位置制御座標
系」での座標値を（４）で設定した変換係数を使って求
める。 （６）（５）で求めた座標値をもとに幾つかの目標物の
「入力側の共通座標系」での座標値を下記、のステ
ップで観察により求め直す。
「出力側の共通座標系」での座標値を、「入力側の共通
座標系」での値とみなして、「入力側の位置制御座標
系」での座標値を（４）で設定した変換係数を使って求
める。 （６）（５）で求めた座標値をもとに幾つかの目標物の
「入力側の共通座標系」での座標値を下記、のステ
ップで観察により求め直す。
【００２２】（５）で求めた座標値をもとに幾つかの
目標物の「入力側の位置制御座標系」での座標値を観察
により求め直す。 （４）で設定した座標変換関係を使って幾つかの目標
物の「入力側の共通座標系」での座標値を求める。
目標物の「入力側の位置制御座標系」での座標値を観察
により求め直す。 （４）で設定した座標変換関係を使って幾つかの目標
物の「入力側の共通座標系」での座標値を求める。
【００２３】（７）以上のステップで求めた幾つかの目
標物の「出力側の共通座標系」と「入力側の共通座標
系」での座標値の組から、「出力側の共通座標系」と
「入力側の共通座標系」の間の座標変換係数を求める。
以下に座標変換係数ａ0 〜ａ2 、ｂ0 〜ｂ2 の計算によ
る求め方を示す。
標物の「出力側の共通座標系」と「入力側の共通座標
系」での座標値の組から、「出力側の共通座標系」と
「入力側の共通座標系」の間の座標変換係数を求める。
以下に座標変換係数ａ0 〜ａ2 、ｂ0 〜ｂ2 の計算によ
る求め方を示す。
【００２４】Ｘ1 : 出力側共通座標系Ｘ座標値 Ｙ1 : 出力側共通座標系Ｙ座標値 Ｘ2 : 入力側共通座標系Ｘ座標値 Ｙ2 : 入力側共通座標系Ｙ座標値 として
【００２５】
【数１】
【００２６】の関係式で与えられる。この座標変換係数
は Ｘi1：ｉ番目の目標物の「出力側の共通座標系」でのＸ
座標値 Ｙi1：ｉ番目の目標物の「出力側の共通座標系」でのＹ
座標値 Ｘ2i：ｉ番目の目標物の「入力側の共通座標系」でのＸ
座標値 Ｙ2i：ｉ番目の目標物の「入力側の共通座標系」でのＹ
座標値 を用い、点(X2i, Y2i ) と計算上の点(a0X1i+a1Y1i+a2,
b0X1i b1Y1i b2) との距離の自乗和を誤差量として最小
自乗法により求める。すなわち、ａ0 ，ａ1 ，ａ2 は以
下の方程式を解いて求める。
は Ｘi1：ｉ番目の目標物の「出力側の共通座標系」でのＸ
座標値 Ｙi1：ｉ番目の目標物の「出力側の共通座標系」でのＹ
座標値 Ｘ2i：ｉ番目の目標物の「入力側の共通座標系」でのＸ
座標値 Ｙ2i：ｉ番目の目標物の「入力側の共通座標系」でのＹ
座標値 を用い、点(X2i, Y2i ) と計算上の点(a0X1i+a1Y1i+a2,
b0X1i b1Y1i b2) との距離の自乗和を誤差量として最小
自乗法により求める。すなわち、ａ0 ，ａ1 ，ａ2 は以
下の方程式を解いて求める。
【００２７】
【数２】
【００２８】ｂ0 ，ｂ1 ，ｂ2 は以下の方程式を解いて
求める。
求める。
【００２９】
【数３】
【００３０】上記のようにして求めた、座標変換係数の
使用法を下記第２のステップに示す。 第２ステップ（第１のステップで求めた座標変換係数を
使用して目標物の「入力側の位置制御座標系」での座標
値を求めること）。
使用法を下記第２のステップに示す。 第２ステップ（第１のステップで求めた座標変換係数を
使用して目標物の「入力側の位置制御座標系」での座標
値を求めること）。
【００３１】（１）出力側で「出力側の位置制御座標
系」と「出力側の共通座標系」とをアライメントし、各
座標系間の座標変換関係を設定する。 （２）目標物の座標値を「出力側の位置制御座標系」で
観察により求める。 （３）目標物の「出力側の共通座標系」での座標値を
（１）で設定した座標変換係数を使って求めて出力す
る。
系」と「出力側の共通座標系」とをアライメントし、各
座標系間の座標変換関係を設定する。 （２）目標物の座標値を「出力側の位置制御座標系」で
観察により求める。 （３）目標物の「出力側の共通座標系」での座標値を
（１）で設定した座標変換係数を使って求めて出力す
る。
【００３２】（４）（３）で出力された座標値を、入力
側において第１のステップで求めた座標変換係数を用い
て「入力側の共通座標系」での座標値に変換する。 （５）入力側で「入力側の位置制御座標系」と「入力側
の共通座標系」とアライメントし、各座標系間の座標変
換関係を設定する。
側において第１のステップで求めた座標変換係数を用い
て「入力側の共通座標系」での座標値に変換する。 （５）入力側で「入力側の位置制御座標系」と「入力側
の共通座標系」とアライメントし、各座標系間の座標変
換関係を設定する。
【００３３】（６）（４）で得られた目標物の「入力側
の共通座標系」での座標値を「入力側の位置制御座標
系」での座標値を（５）で設定した変換係数を使って求
める。 以上のステップを経ることにより、出力側の入力側の共
通座標間の差異に起因する誤差は著しく減少される。し
かし、上記ステップで求めた「入力側の位置制御座標
系」での目標物の座標値には、観測の誤差に起因する誤
差を含んでいる。一般にこの誤差は小さいが、さらに精
度を要求する場合には、従来技術で最後に行った以下の
処理を行う。
の共通座標系」での座標値を「入力側の位置制御座標
系」での座標値を（５）で設定した変換係数を使って求
める。 以上のステップを経ることにより、出力側の入力側の共
通座標間の差異に起因する誤差は著しく減少される。し
かし、上記ステップで求めた「入力側の位置制御座標
系」での目標物の座標値には、観測の誤差に起因する誤
差を含んでいる。一般にこの誤差は小さいが、さらに精
度を要求する場合には、従来技術で最後に行った以下の
処理を行う。
【００３４】すなわち、上記の変換後の「入力側の位置
制御座標系」での座標値をもとに、目標物の「入力側の
位置制御座標系」での座標値を観察により求め直す。こ
の処理で得られたより正確な「入力側の位置制御座標
系」と「出力側の共通座標系」との座標値の組から、座
標変換係数を求め直す。この方法で各共通座標間の差異
に起因する誤差が補正された座標変換係数が求められ
る。
制御座標系」での座標値をもとに、目標物の「入力側の
位置制御座標系」での座標値を観察により求め直す。こ
の処理で得られたより正確な「入力側の位置制御座標
系」と「出力側の共通座標系」との座標値の組から、座
標変換係数を求め直す。この方法で各共通座標間の差異
に起因する誤差が補正された座標変換係数が求められ
る。
【００３５】
【発明の効果】本発明によれば、あらかじめ出力側装置
と入力側装置間の共通座標変換係数を求めておき、この
共通座標変換係数を用いて、目標物の「入力側共通座標
系」での座標値を求め、しかるのちこの座標値から「入
力側の位置制御座標系」での目標物の座標値を求めるよ
うにしたことで、共通座標の差異に起因する誤差が著し
く低減されるので、目標物の「出力側の共通座標系」で
の座標値をスタートして、「入力側の位置制御座標系」
での目標物の座標値が精度よく求められる。従って、目
標物の大きさが試料の大きさに対して、非常に小さい場
合であっても、入力側装置において目標物を一視野内に
とらえることが容易であり、入力側装置における操作を
簡便にする。
と入力側装置間の共通座標変換係数を求めておき、この
共通座標変換係数を用いて、目標物の「入力側共通座標
系」での座標値を求め、しかるのちこの座標値から「入
力側の位置制御座標系」での目標物の座標値を求めるよ
うにしたことで、共通座標の差異に起因する誤差が著し
く低減されるので、目標物の「出力側の共通座標系」で
の座標値をスタートして、「入力側の位置制御座標系」
での目標物の座標値が精度よく求められる。従って、目
標物の大きさが試料の大きさに対して、非常に小さい場
合であっても、入力側装置において目標物を一視野内に
とらえることが容易であり、入力側装置における操作を
簡便にする。
【図１】本発明が適用される微細形状観察装置の構成図
である。
である。
【図２】位置制御座標系と共通座標系の関係の例を示す
図である。
図である。
【図３】出力側と入力側の各共通座標系の差異を示す図
である。
である。
１ 電子銃 ２ｘ ｘ方向偏向器 ２ｙ ｙ方向偏向器 ３ 試料 ４ ＤＡ変換器 ５ ＤＡ変換器 ６ ＣＰＵ ７ ＡＤ変換器 ８ 検出器 ９ 画像メモリ １０ 表示器 １１ ステージ制御装置 １２ ステージ駆動装置 １３ 試料装着装置 １４、１７ レンズ １５ 座標値入出力装置 １６ ウエハ ａ 電子線 ｂ 試料から発生する電子 ｃ 電気信号
Claims (1)
- 【請求項１】 ２つの機能の異なる微細形状観察装置で
同一の試料上の同一目標物を各々観察する場合におい
て、第１の微細形状観察装置を出力側に第２の微細形状
観察装置を入力側として、各々前記試料の外形や特徴点
で定義された座標系を共通座標系として、あらかじめ前
記出力側の前記共通座標系と前記入力側の前記共通座標
系間の座標変換係数を求めておき、前記座標変換係数を
用いて、前記出力側の前記共通座標系での前記試料上の
観察目標点の座標値を前記入力側の前記共通座標系での
座標値を変換し、しかるのち前記入力側の前記共通座標
系での前記座標値を用いて前記入力側の位置制御座標系
での座標値に変換する座標変換方法。
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|---|---|---|---|
| JP04840693A JP3254031B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 座標変換方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP04840693A JP3254031B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 座標変換方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06258240A true JPH06258240A (ja) | 1994-09-16 |
| JP3254031B2 JP3254031B2 (ja) | 2002-02-04 |
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ID=12802430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04840693A Expired - Lifetime JP3254031B2 (ja) | 1993-03-09 | 1993-03-09 | 座標変換方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3254031B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000058690A1 (fr) * | 1999-03-31 | 2000-10-05 | Sapporo Breweries Ltd. | Procede de transformation de coordonnees dans un moyen de reglage de position de dispositif d'observation, et dispositif d'observation equipe d'un moyen de transformation de coordonnees |
| JP2003086645A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-20 | Hitachi Ltd | 検査装置および検査システム並びに半導体デバイスの製造方法 |
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-
1993
- 1993-03-09 JP JP04840693A patent/JP3254031B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US9030546B2 (en) | 2009-06-02 | 2015-05-12 | Nikon Corporation | Image processor, image processing method, program and microscope |
Also Published As
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|---|---|
| JP3254031B2 (ja) | 2002-02-04 |
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