JPH06254748A - 工作機械の変位測定装置 - Google Patents
工作機械の変位測定装置Info
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- JPH06254748A JPH06254748A JP4413293A JP4413293A JPH06254748A JP H06254748 A JPH06254748 A JP H06254748A JP 4413293 A JP4413293 A JP 4413293A JP 4413293 A JP4413293 A JP 4413293A JP H06254748 A JPH06254748 A JP H06254748A
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- Japan
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- machine tool
- light source
- axis
- position sensor
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 工作機械の主要素の変位を精度よく測定す
る。 【構成】 テーブル2にステー8を取付け、ステー8の
両側に、位置センサS1,S2 をそれぞれ取付ける。サ
ドル1に、光源O、ハーフミラーM1 、および3枚の反
射鏡M2 ,M3 ,M4 をそれぞれ固定する。光源Oから
出力された平行光線の光ビームBL は、その一部がハー
フミラーM1 を透過して位置センサS1 で受光される。
ハーフミラーM1 で反射した反射光は、反射鏡M2 ,M
3 ,M4 で順次反射されて位置センサS2 で受光され
る。
る。 【構成】 テーブル2にステー8を取付け、ステー8の
両側に、位置センサS1,S2 をそれぞれ取付ける。サ
ドル1に、光源O、ハーフミラーM1 、および3枚の反
射鏡M2 ,M3 ,M4 をそれぞれ固定する。光源Oから
出力された平行光線の光ビームBL は、その一部がハー
フミラーM1 を透過して位置センサS1 で受光される。
ハーフミラーM1 で反射した反射光は、反射鏡M2 ,M
3 ,M4 で順次反射されて位置センサS2 で受光され
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、工作機械のコラムある
いはベッド等の主要素の変形を測定するための変位測定
装置に係り、特に光の直進性を利用した工作機械の変位
測定装置に関する。
いはベッド等の主要素の変形を測定するための変位測定
装置に係り、特に光の直進性を利用した工作機械の変位
測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、光を用いた変位測定装置として
は、例えば特公昭51−15267号公報に示されてい
るように、単一のレーザ干渉計を用いるとともに、照射
レーザを反射光(復光)と干渉させるために、光軸上に
反転反射器を配設したもの、あるいは特開昭62−21
3945号公報に示されているように、移動体に光源を
取付けるとともに、途中に集光レンズを配置し、この集
光レンズにより、光を位置検出器上に集光して変位を測
定するようにしたものが知られている。
は、例えば特公昭51−15267号公報に示されてい
るように、単一のレーザ干渉計を用いるとともに、照射
レーザを反射光(復光)と干渉させるために、光軸上に
反転反射器を配設したもの、あるいは特開昭62−21
3945号公報に示されているように、移動体に光源を
取付けるとともに、途中に集光レンズを配置し、この集
光レンズにより、光を位置検出器上に集光して変位を測
定するようにしたものが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の変位測定装
置において、単一のレーザ干渉計を用いる前者は、光軸
に平行な変位を測定しているため、光軸に対し直角方向
の変位は検出できないとともに、干渉計や反転反射器等
を必要とするため、構造が複雑になるという問題があ
る。また、往光と復光との2本の光軸があり、その2本
で干渉作用を行わせるのに高精度な光軸合せが必要なた
め、光軸の調整が容易でないという問題もある。
置において、単一のレーザ干渉計を用いる前者は、光軸
に平行な変位を測定しているため、光軸に対し直角方向
の変位は検出できないとともに、干渉計や反転反射器等
を必要とするため、構造が複雑になるという問題があ
る。また、往光と復光との2本の光軸があり、その2本
で干渉作用を行わせるのに高精度な光軸合せが必要なた
め、光軸の調整が容易でないという問題もある。
【0004】一方、途中に結像用の集光レンズを配置す
る後者は、拡散光源を用い受光側に集光レンズを配置し
ているため、集光後の焦点位置が変わって位置検出器上
のスポット光エリアが変化し、これが誤差、不安定さの
要因となるという問題がある。また、光源が移動するた
め、焦点位置が変化するとともに、位置検出器の受光量
が変化し、測定精度が低下するという問題もある。
る後者は、拡散光源を用い受光側に集光レンズを配置し
ているため、集光後の焦点位置が変わって位置検出器上
のスポット光エリアが変化し、これが誤差、不安定さの
要因となるという問題がある。また、光源が移動するた
め、焦点位置が変化するとともに、位置検出器の受光量
が変化し、測定精度が低下するという問題もある。
【0005】本発明は、このような点を考慮してなされ
たもので、工作機械の主要素の変位を、簡単な構造で精
度よく、しかも安定して測定することができる工作機械
の変位測定装置を提供することを目的とする。
たもので、工作機械の主要素の変位を、簡単な構造で精
度よく、しかも安定して測定することができる工作機械
の変位測定装置を提供することを目的とする。
【0006】本発明の他の目的は、少ない光源数でX
軸,Y軸およびZ軸の各変位を検出することができる工
作機械の変位測定装置を提供するにある。
軸,Y軸およびZ軸の各変位を検出することができる工
作機械の変位測定装置を提供するにある。
【0007】本発明のさらに他の目的は、光路上の空気
の温度斑による屈折率のばらつきに伴なう検出誤差を低
減することができる工作機械の変位測定装置を提供する
にある。
の温度斑による屈折率のばらつきに伴なう検出誤差を低
減することができる工作機械の変位測定装置を提供する
にある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成する手段として、工作機械の固定部に取付けられ、平
行光線ビームを送出する光源と;工作機械の移動部に取
付けられ、前記光源からの光線ビームを法線として受光
する位置センサと;をそれぞれ設けるようにしたことを
特徴とする。
成する手段として、工作機械の固定部に取付けられ、平
行光線ビームを送出する光源と;工作機械の移動部に取
付けられ、前記光源からの光線ビームを法線として受光
する位置センサと;をそれぞれ設けるようにしたことを
特徴とする。
【0009】そして、本発明においては、位置センサ
を、工作機械のX軸,Y軸およびZ軸の各方向位置にそ
れぞれ配設することが好ましく、また光源と位置センサ
とを結ぶ光軸上に、この光軸に対し45度傾斜するハー
フミラーを配置するとともに、このハーフミラーからの
射光を受光する位置センサを設けることがより好まし
い。
を、工作機械のX軸,Y軸およびZ軸の各方向位置にそ
れぞれ配設することが好ましく、また光源と位置センサ
とを結ぶ光軸上に、この光軸に対し45度傾斜するハー
フミラーを配置するとともに、このハーフミラーからの
射光を受光する位置センサを設けることがより好まし
い。
【0010】また、光源と位置センサとを結ぶ光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光の光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡を配置し、こ
の反射鏡からの反射光を、別途配置された光学系を用い
て前記位置センサと同一光軸上に受光面を前記位置セン
サとは180°反対方向に向けて配置された他の位置セ
ンサで受光するようにすることが好ましい。
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光の光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡を配置し、こ
の反射鏡からの反射光を、別途配置された光学系を用い
て前記位置センサと同一光軸上に受光面を前記位置セン
サとは180°反対方向に向けて配置された他の位置セ
ンサで受光するようにすることが好ましい。
【0011】また、光源と位置センサとの間を、筒状の
遮蔽体で遮蔽することが好ましく、遮蔽体を、入れ子状
に組合わされる複数の筒状体で構成することがより好ま
しい。そして、遮蔽体は、少なくとも一部を網状体で構
成したり、あるいは内部を真空室にすることがさらに好
ましい。
遮蔽体で遮蔽することが好ましく、遮蔽体を、入れ子状
に組合わされる複数の筒状体で構成することがより好ま
しい。そして、遮蔽体は、少なくとも一部を網状体で構
成したり、あるいは内部を真空室にすることがさらに好
ましい。
【0012】
【作用】本発明に係る工作機械の変位測定装置において
は、工作機械の固定部に光源が取付けられ、この光源か
らの平行光線ビームは、工作機械の移動部に取付けられ
た位置センサで受光される。そして、光軸に直角な変位
が測定される。このため、変位を、簡単な構造で精度よ
く、しかも安定して測定することが可能となる。
は、工作機械の固定部に光源が取付けられ、この光源か
らの平行光線ビームは、工作機械の移動部に取付けられ
た位置センサで受光される。そして、光軸に直角な変位
が測定される。このため、変位を、簡単な構造で精度よ
く、しかも安定して測定することが可能となる。
【0013】そして、本発明において、位置センサを、
工作機械のX軸,Y軸およびZ軸の各方向位置にそれぞ
れ配設することにより、すべて方向の変位を測定するこ
とが可能となる。
工作機械のX軸,Y軸およびZ軸の各方向位置にそれぞ
れ配設することにより、すべて方向の変位を測定するこ
とが可能となる。
【0014】また、光源と位置センサとを結ぶ光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光を受光す
る位置センサを設けることにより、少ない光源数でX
軸,Y軸およびZ軸の各変位を検出することが可能とな
る。
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光を受光す
る位置センサを設けることにより、少ない光源数でX
軸,Y軸およびZ軸の各変位を検出することが可能とな
る。
【0015】また、光源と位置センサとを結ぶ光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光の光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡を配置し、こ
の反射鏡からの反射光を、前記位置センサとは別の位置
センサで受光するようにすることにより、光源が熱の蓄
積等によって回転、平行移動した場合であっても、これ
を補正して誤差を少なくすることが可能となる。
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光の光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡を配置し、こ
の反射鏡からの反射光を、前記位置センサとは別の位置
センサで受光するようにすることにより、光源が熱の蓄
積等によって回転、平行移動した場合であっても、これ
を補正して誤差を少なくすることが可能となる。
【0016】また光源と位置センサとの間を、筒状の遮
蔽体で遮蔽することにより、空気の温度斑(密度斑)に
よる屈折率の乱れを緩和することが可能になる。
蔽体で遮蔽することにより、空気の温度斑(密度斑)に
よる屈折率の乱れを緩和することが可能になる。
【0017】また遮蔽体を、入れ子状に組合わされる複
数の筒状で構成することにより、工作機械の移動部とと
もに移動する位置センサの全移動範囲に亘って遮蔽する
ことが可能となる。
数の筒状で構成することにより、工作機械の移動部とと
もに移動する位置センサの全移動範囲に亘って遮蔽する
ことが可能となる。
【0018】そしてこの際、遮蔽体の少なくとも一部を
網状体で構成することにより、遮蔽体内部の均温化をよ
り向上させることができるとともに、内部空気の乱流に
伴なう光線ビームの乱れも防止することが可能となる。
網状体で構成することにより、遮蔽体内部の均温化をよ
り向上させることができるとともに、内部空気の乱流に
伴なう光線ビームの乱れも防止することが可能となる。
【0019】また、遮蔽体の内部を真空室にすることに
より、内部空気によって光線ビームが乱されることがな
くなり、より精度を向上させることが可能となる。
より、内部空気によって光線ビームが乱されることがな
くなり、より精度を向上させることが可能となる。
【0020】
【実施例】以下、本発明を図面を参照して説明する。図
1は、本発明の第1実施例に係る工作機械の変位測定装
置を示すもので、図中、符号1はベッド3上にZ軸方向
に移動可能に搭載されたサドルであり、このサドル1上
にテーブル2がX軸方向に摺動可能に搭載されている。
1は、本発明の第1実施例に係る工作機械の変位測定装
置を示すもので、図中、符号1はベッド3上にZ軸方向
に移動可能に搭載されたサドルであり、このサドル1上
にテーブル2がX軸方向に摺動可能に搭載されている。
【0021】ベッド3の一端部には、図2に示すように
Y軸方向にコラム4が立設されており、このコラム4に
は、図示しない主軸頭がY軸方向に移動可能に装着され
ている。
Y軸方向にコラム4が立設されており、このコラム4に
は、図示しない主軸頭がY軸方向に移動可能に装着され
ている。
【0022】サドル1とテーブル2との間には、X軸用
変位測定装置5が設けられ、またサドル1とコラム4と
の間には、Z軸用変位測定装置6が設けられ、さらにコ
ラム4と図示しない主軸頭との間には、Y軸用変位測定
装置7が設けられている。
変位測定装置5が設けられ、またサドル1とコラム4と
の間には、Z軸用変位測定装置6が設けられ、さらにコ
ラム4と図示しない主軸頭との間には、Y軸用変位測定
装置7が設けられている。
【0023】X軸用変位測定装置5は、図1に示すよう
に、固定部としてのサドル1に取付けられる光源O、ハ
ーフミラーM1 、3枚の反射鏡M2 、M3 、M4 と、移
動部としてのテーブル2にステー8を介してその両側面
に取付けられた一対の位置センサS1 、S2 とを備えて
おり、これらは、光源Oとステー8およびミラーM3、
M4 との間をそれぞれ遮蔽する遮蔽体9および10とに
よって遮蔽されている。
に、固定部としてのサドル1に取付けられる光源O、ハ
ーフミラーM1 、3枚の反射鏡M2 、M3 、M4 と、移
動部としてのテーブル2にステー8を介してその両側面
に取付けられた一対の位置センサS1 、S2 とを備えて
おり、これらは、光源Oとステー8およびミラーM3、
M4 との間をそれぞれ遮蔽する遮蔽体9および10とに
よって遮蔽されている。
【0024】光源Oは、レーザ発振器やLEDチップ等
で構成され、平行光線ビームを位置センサS1 に向けて
出力するようになっており、位置センサS1 は、この光
線ビームを法線として受光する位置に取付けられてい
る。
で構成され、平行光線ビームを位置センサS1 に向けて
出力するようになっており、位置センサS1 は、この光
線ビームを法線として受光する位置に取付けられてい
る。
【0025】光源Oと位置センサS1 とを結ぶ光軸上に
は、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーM1 が
配置されており、このハーフミラーM1 からの反射光の
光軸上には、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡M2
が配置されている。そして、この反射鏡M2 からの反射
光の光軸上には、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡
M3 が配置され、さらにこの反射鏡M3 からの反射光の
光軸上には、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡M4
が配置されている。そして、この反射鏡M4 からの反射
光は、この反射光を法線として受光する位置センサS2
に照射されるようになっている。
は、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーM1 が
配置されており、このハーフミラーM1 からの反射光の
光軸上には、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡M2
が配置されている。そして、この反射鏡M2 からの反射
光の光軸上には、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡
M3 が配置され、さらにこの反射鏡M3 からの反射光の
光軸上には、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡M4
が配置されている。そして、この反射鏡M4 からの反射
光は、この反射光を法線として受光する位置センサS2
に照射されるようになっている。
【0026】前記各位置センサS1 、S2 は、例えばP
SD(Position Sensing Device)が用いられ、光点の位
置検出分解能は最小0.1μmに設定されている。この
PSDは、一次元位置検出用と二次元位置検出用とがあ
り、使用目的に合わせ適宜選択されるようになってい
る。
SD(Position Sensing Device)が用いられ、光点の位
置検出分解能は最小0.1μmに設定されている。この
PSDは、一次元位置検出用と二次元位置検出用とがあ
り、使用目的に合わせ適宜選択されるようになってい
る。
【0027】一方、各遮蔽体9,10は図1および図2
に示すように、入れ子状に組合わされて多段伸縮状をな
す複数本の筒状体9a,10aでそれぞれ構成されてい
る。この多段伸縮構造により、テーブル2の移動全範囲
に亘って光線ビームBL の外周部が完全に覆われ、光路
の安定化が図られる。
に示すように、入れ子状に組合わされて多段伸縮状をな
す複数本の筒状体9a,10aでそれぞれ構成されてい
る。この多段伸縮構造により、テーブル2の移動全範囲
に亘って光線ビームBL の外周部が完全に覆われ、光路
の安定化が図られる。
【0028】Z軸用変位測定装置6は、図2に示すよう
に、光源Oの近傍位置に設置されたZ軸用の位置センサ
SZ とZ軸用の光源OZ と、これらの間を外部から遮蔽
する遮蔽板11とを備えている。位置センサSZ は、ベ
ッド3の光源OZ からの平行光線ビームを法線として受
光する位置に固定されている。
に、光源Oの近傍位置に設置されたZ軸用の位置センサ
SZ とZ軸用の光源OZ と、これらの間を外部から遮蔽
する遮蔽板11とを備えている。位置センサSZ は、ベ
ッド3の光源OZ からの平行光線ビームを法線として受
光する位置に固定されている。
【0029】この光源OZ および位置センサSZ は、前
記X軸用の光源Oおよび位置センサS1 ,S2 と同一構
成をなしており、また遮蔽体11は、入れ子状に組合わ
されて多段伸縮状をなす複数本の筒状体11aで構成さ
れ、その先端は、遮蔽体9に連結固定されている。
記X軸用の光源Oおよび位置センサS1 ,S2 と同一構
成をなしており、また遮蔽体11は、入れ子状に組合わ
されて多段伸縮状をなす複数本の筒状体11aで構成さ
れ、その先端は、遮蔽体9に連結固定されている。
【0030】また、Y軸用変位測定装置7は、図2に示
すように、光源OZ の近傍位置に設置されたY軸用の光
源Oy と、コラム4にそってY軸方向に移動する主軸頭
に固定されたY軸用の位置センサ(いずれも図示せず)
と、これらの間を外部から遮蔽する遮蔽体12とを備え
ており、図示しない位置センサは、光源Oy からの平行
光源ビームを法線として受光する位置に配設されてい
る。この光源Oy および位置センサは、X軸用の光源O
および位置センサS1 、S2 と同一構成をなしており、
また遮蔽板12は、入れ子状に組合わされて多段伸縮状
をなす複数本の筒状体12aで構成され、その先端は、
前記遮蔽板11に連結固定されている。
すように、光源OZ の近傍位置に設置されたY軸用の光
源Oy と、コラム4にそってY軸方向に移動する主軸頭
に固定されたY軸用の位置センサ(いずれも図示せず)
と、これらの間を外部から遮蔽する遮蔽体12とを備え
ており、図示しない位置センサは、光源Oy からの平行
光源ビームを法線として受光する位置に配設されてい
る。この光源Oy および位置センサは、X軸用の光源O
および位置センサS1 、S2 と同一構成をなしており、
また遮蔽板12は、入れ子状に組合わされて多段伸縮状
をなす複数本の筒状体12aで構成され、その先端は、
前記遮蔽板11に連結固定されている。
【0031】次に、本実施例の作用について説明する。
X軸用変位測定装置5の光源Oから出力された平行光線
ビームは、2つの位置センサS1 、S2 で受光され、ま
たZ軸用変位測定装置6の光源OZ から出力された平行
光線ビームは、位置センサSZ で受光され、さらにY軸
用変位測定装置の光源Oy から出力された平行光線ビー
ムは、図示しないY軸用の位置センサで受光される。し
たがって、これらの平行光線ビームを基とする直交3光
軸を設定し、各光軸の相対関係を測定して誤差を明確に
しておけば、これら3光軸を基準軸として変位を正確に
測定することができる。
X軸用変位測定装置5の光源Oから出力された平行光線
ビームは、2つの位置センサS1 、S2 で受光され、ま
たZ軸用変位測定装置6の光源OZ から出力された平行
光線ビームは、位置センサSZ で受光され、さらにY軸
用変位測定装置の光源Oy から出力された平行光線ビー
ムは、図示しないY軸用の位置センサで受光される。し
たがって、これらの平行光線ビームを基とする直交3光
軸を設定し、各光軸の相対関係を測定して誤差を明確に
しておけば、これら3光軸を基準軸として変位を正確に
測定することができる。
【0032】ところで、X軸用変位測定装置5は、テー
ブル2とサドル1との間に設けられているが、テーブル
2のサドル1に対する移動距離は極めて長いため、光源
Oが熱の蓄積等によりわずかでも移動すると誤差が大き
くなり、工作機械の基準軸として用いることが困難とな
る。
ブル2とサドル1との間に設けられているが、テーブル
2のサドル1に対する移動距離は極めて長いため、光源
Oが熱の蓄積等によりわずかでも移動すると誤差が大き
くなり、工作機械の基準軸として用いることが困難とな
る。
【0033】そこで、本実施例においては、光源Oから
の平行光線ビームを2つの位置センサS1 、S2 で受光
し、光源Oの回転や平行移動に伴なう誤差を補正できる
ようにしている。
の平行光線ビームを2つの位置センサS1 、S2 で受光
し、光源Oの回転や平行移動に伴なう誤差を補正できる
ようにしている。
【0034】以下、この誤差補正方法を、図3ないし図
6を参照して説明する。図3において、光源Oから出力
されたビームは、ハーフミラーM1 と光点M11で交わる
とともに、位置センサS1 に光点P1 を照射する。ま
た、ハーフミラーM1 で反射した光は、反射鏡M2 、M
3 、M4 の各光点M21、M31、M41で順次反射し、位置
センサS2 に光点P2 を照射する。
6を参照して説明する。図3において、光源Oから出力
されたビームは、ハーフミラーM1 と光点M11で交わる
とともに、位置センサS1 に光点P1 を照射する。ま
た、ハーフミラーM1 で反射した光は、反射鏡M2 、M
3 、M4 の各光点M21、M31、M41で順次反射し、位置
センサS2 に光点P2 を照射する。
【0035】ここで、光源Oが△θだけ回転したとする
と、位置センサS1 上の光点P1 は、光点P′1 の位置
までδ1 移動するとともに、ハーフミラーM1 の交点M
11が交点M12に、また各反射鏡M2 、M3 、M4 の交点
M21、M31、M41が交点M22、M32、M42にそれぞれ移
動し、位置センサS2 上の光点P2 が光点P′2 の位置
までδ2 だけ移動することになる。
と、位置センサS1 上の光点P1 は、光点P′1 の位置
までδ1 移動するとともに、ハーフミラーM1 の交点M
11が交点M12に、また各反射鏡M2 、M3 、M4 の交点
M21、M31、M41が交点M22、M32、M42にそれぞれ移
動し、位置センサS2 上の光点P2 が光点P′2 の位置
までδ2 だけ移動することになる。
【0036】光源OからハーフミラーM1 までの距離を
a、ハーフミラーM1 から位置センサS1 までの距離を
l、ハーフミラーM1 から反射鏡M2 までの距離をb、
反射鏡M2 、M3 間の距離をc、反射鏡M3 、M4 間の
距離をd、反射鏡M4 から位置センサS2 までの距離を
eとすると、図3は図4のように書替えることができ
る。 るため、
a、ハーフミラーM1 から位置センサS1 までの距離を
l、ハーフミラーM1 から反射鏡M2 までの距離をb、
反射鏡M2 、M3 間の距離をc、反射鏡M3 、M4 間の
距離をd、反射鏡M4 から位置センサS2 までの距離を
eとすると、図3は図4のように書替えることができ
る。 るため、
【0037】
【数1】 となる。 なくても、△OP1 P1 ′と△OP2 P2 ′とは近似的
に相似と見做すことができる。
に相似と見做すことができる。
【0038】ところで、実際にテーブル2が上下動して
検出される値をδ1 、δ2 とすると、図3からも明らか
なように、光源Oが回転したときの光点P1 、P2 の移
動方向は逆になっているため、テーブル2が上にkだけ
変位したときには、 δ1 ′=δ1 +k δ2 ′=δ2 −k …(2) となる。したがって、 となる。前記数1に上記の計算式(3) を入れて整理する
と、 となり式(2) より となり、テーブル2の移動量kは式(5) から求められ
る。
検出される値をδ1 、δ2 とすると、図3からも明らか
なように、光源Oが回転したときの光点P1 、P2 の移
動方向は逆になっているため、テーブル2が上にkだけ
変位したときには、 δ1 ′=δ1 +k δ2 ′=δ2 −k …(2) となる。したがって、 となる。前記数1に上記の計算式(3) を入れて整理する
と、 となり式(2) より となり、テーブル2の移動量kは式(5) から求められ
る。
【0039】なお、工作機械の摺動面の真直度による傾
斜は通常数秒以内であり、悪くてもそれを少し越える程
度なので、位置センサS1 、S2 が取付けられているス
テー8の傾斜による上下方向の微少変化は、実際上無視
できる程度に小さい。
斜は通常数秒以内であり、悪くてもそれを少し越える程
度なので、位置センサS1 、S2 が取付けられているス
テー8の傾斜による上下方向の微少変化は、実際上無視
できる程度に小さい。
【0040】次に、光源Oが回転および平行移動した場
合について説明する。位置センサS1 、S2 で受光する
総変位および回転変位を、各々δ1 ″、δ1、δ″2 、
δ2 とすると、光ビームの平行移動による変位は、回転
変位方向に同相で、かつ両位置センサS1 、S2 ともに
同じ値をとるので、 δ1 ″=δ1 +i+k δ2 ″=δ2 +i−k …(6) ただしi:光ビームの平行移動変位となる。
合について説明する。位置センサS1 、S2 で受光する
総変位および回転変位を、各々δ1 ″、δ1、δ″2 、
δ2 とすると、光ビームの平行移動による変位は、回転
変位方向に同相で、かつ両位置センサS1 、S2 ともに
同じ値をとるので、 δ1 ″=δ1 +i+k δ2 ″=δ2 +i−k …(6) ただしi:光ビームの平行移動変位となる。
【0041】ところで、図3に示す構成では、δ1 ある
いはδ2 とiとの分離が式(6) のδ1 あるいはδ2 とi
との分離が式(6) のδ1 ″およびδ2 ″(センサによる
検出値)だけからはテーブル2の変位kを求めることが
できない。このため、次の2つの方法のいずれかによっ
て、光源Oの光ビームに垂直な方向の変位を検出する必
要がある。
いはδ2 とiとの分離が式(6) のδ1 あるいはδ2 とi
との分離が式(6) のδ1 ″およびδ2 ″(センサによる
検出値)だけからはテーブル2の変位kを求めることが
できない。このため、次の2つの方法のいずれかによっ
て、光源Oの光ビームに垂直な方向の変位を検出する必
要がある。
【0042】その第1番目は、図3に示すように、光源
Oに変位検出器Tを設け、この変位検出器Tによって光
源Oの光ビームに垂直な方向の変位を検出する方法であ
る。この変位検出器Tは、光源Oの形体によって、接触
式(例えば電気マイクロ等)と非接触式(例えば静電容
量式変位計、光反射式変位計等)とを使い分ける。
Oに変位検出器Tを設け、この変位検出器Tによって光
源Oの光ビームに垂直な方向の変位を検出する方法であ
る。この変位検出器Tは、光源Oの形体によって、接触
式(例えば電気マイクロ等)と非接触式(例えば静電容
量式変位計、光反射式変位計等)とを使い分ける。
【0043】また、第2番目は計算によって求める方法
である。計算で求めるには、未知数が1つ多いのでもう
1つ変位を測定する必要がある。このため、図5のよう
な構成を考える。
である。計算で求めるには、未知数が1つ多いのでもう
1つ変位を測定する必要がある。このため、図5のよう
な構成を考える。
【0044】すなわち、図5に示す構成は、図3に示す
構成において、反射鏡M2 をハーフミラーM2 ′に偏光
し、ハーフミラーM2 ′の透過光の光軸上に直角に位置
センサS3 を設置した構成となっており、その変位量と
光源Oからの距離との関係を図4のように書替えたもの
が図6である。なお、図5、図6において、符号nはハ
ーフミラーM1 から位置センサS3 までの距離である。
構成において、反射鏡M2 をハーフミラーM2 ′に偏光
し、ハーフミラーM2 ′の透過光の光軸上に直角に位置
センサS3 を設置した構成となっており、その変位量と
光源Oからの距離との関係を図4のように書替えたもの
が図6である。なお、図5、図6において、符号nはハ
ーフミラーM1 から位置センサS3 までの距離である。
【0045】図5および図6を用いた式の解法は、説明
を省略するが、式(1) 、式(2) と同様にして、δ、Sを
消去し、テーブル2の変位kを求めることができる。
を省略するが、式(1) 、式(2) と同様にして、δ、Sを
消去し、テーブル2の変位kを求めることができる。
【0046】なお、前記両方法により、平行変位を検出
することができるが、光源Oの回転は、距離が長くなる
ため誤差が極端に大きくなるのに対し、平行変位誤差
は、誤差値そのものが検出誤差となるため、その値が小
さいとき(例えば機械の種類や大きさにもよるが2〜3
μm以下程度の平行変位)には、特に問題にする必要は
ない。
することができるが、光源Oの回転は、距離が長くなる
ため誤差が極端に大きくなるのに対し、平行変位誤差
は、誤差値そのものが検出誤差となるため、その値が小
さいとき(例えば機械の種類や大きさにもよるが2〜3
μm以下程度の平行変位)には、特に問題にする必要は
ない。
【0047】このように、テーブル2等の工作機械の移
動部の変位を、簡単な構造で精度よく、しかも安定して
測定することができる。
動部の変位を、簡単な構造で精度よく、しかも安定して
測定することができる。
【0048】図7は、本発明の第2の実施例を示すもの
で、前記第1実施例における各遮蔽体9,10,11,
12の筒状体9a,10a,11a,12aの一部を、
熱伝導率のよい素材で形成される網状体20で構成する
ようにしたものである。
で、前記第1実施例における各遮蔽体9,10,11,
12の筒状体9a,10a,11a,12aの一部を、
熱伝導率のよい素材で形成される網状体20で構成する
ようにしたものである。
【0049】なお、その他の点については、前記第1実
施例と同一構成となっており、作用も同一である。
施例と同一構成となっており、作用も同一である。
【0050】このように、網状体20を用いることによ
り、遮蔽体9,10,11,12の内部の均温化を促進
することができるとともに、均圧化を図って乱流を防止
することができる。すなわち、遮蔽体9,10,11,
12が伸縮した際に、網状体20内部の空気は、網目か
らほとんど出入りするため、網目を通過する空気の流路
抵抗により均圧化が期待でき、網状体内部の乱流を防止
することができる。また網状体20の熱容量による熱伝
達のため、網状体20内の均温化を促進することができ
る。さらに、網状体の外部空気の流れに対しても抵抗と
なり、網状体の内部の空気の安定化を図ることができ
る。
り、遮蔽体9,10,11,12の内部の均温化を促進
することができるとともに、均圧化を図って乱流を防止
することができる。すなわち、遮蔽体9,10,11,
12が伸縮した際に、網状体20内部の空気は、網目か
らほとんど出入りするため、網目を通過する空気の流路
抵抗により均圧化が期待でき、網状体内部の乱流を防止
することができる。また網状体20の熱容量による熱伝
達のため、網状体20内の均温化を促進することができ
る。さらに、網状体の外部空気の流れに対しても抵抗と
なり、網状体の内部の空気の安定化を図ることができ
る。
【0051】図8は、本発明の第3実施例を示すもの
で、遮蔽体9,10,11,12の内部を真空室30と
して形成したものである。
で、遮蔽体9,10,11,12の内部を真空室30と
して形成したものである。
【0052】すなわち、各遮蔽体9,10,11,12
を構成する各筒状体9a,10a,11a,12aの間
は、シール剤31でシールされ、筒状体9a,10,1
1a,12aの開口部32には、真空度測定用の真空計
33、バルブ34,35、および油回転ベーンポンプ等
の真空ポンプ36がそれぞれ設けられている。そして、
真空ポンプ36の駆動により、真空室30が1/100
気圧程度にまで真空引きされる。なお、バルブ35は、
真空ポンプ36が油回転ベーンポンプのような湿式タイ
プの場合、バルブ34だけでは液が真空配管に逆流して
しまうため、大気に開放して逆流を防止するためのもの
である。
を構成する各筒状体9a,10a,11a,12aの間
は、シール剤31でシールされ、筒状体9a,10,1
1a,12aの開口部32には、真空度測定用の真空計
33、バルブ34,35、および油回転ベーンポンプ等
の真空ポンプ36がそれぞれ設けられている。そして、
真空ポンプ36の駆動により、真空室30が1/100
気圧程度にまで真空引きされる。なお、バルブ35は、
真空ポンプ36が油回転ベーンポンプのような湿式タイ
プの場合、バルブ34だけでは液が真空配管に逆流して
しまうため、大気に開放して逆流を防止するためのもの
である。
【0053】なお、その他の点については、前記第1実
施例と同一構成となっており、作用も同一である。
施例と同一構成となっており、作用も同一である。
【0054】このように、遮蔽体9,10,11,12
の内部を真空室30とすることにより、空気による光ビ
ームへの影響がなくなり、測定精度をより向上させるこ
とができる。
の内部を真空室30とすることにより、空気による光ビ
ームへの影響がなくなり、測定精度をより向上させるこ
とができる。
【0055】図9および図10は、本発明の第4実施例
を示すもので、各変位測定装置5,6,7を完全に独立
して設置するようにしたものである。
を示すもので、各変位測定装置5,6,7を完全に独立
して設置するようにしたものである。
【0056】すなわち、図9および図10において、符
号41は、工作機械(横中ぐり盤)のサドルであり、こ
のサドル41上には、X軸方向に移動するテーブル42
が搭載されているとともに、サドル41はベッド43上
にZ軸方向に移動可能に搭載されている。ベッド43の
一端部には、Y軸方向にコラム44が立設され、このコ
ラム44には、工具46を保持する主軸頭45がY軸方
向に移動可能に装着されている。
号41は、工作機械(横中ぐり盤)のサドルであり、こ
のサドル41上には、X軸方向に移動するテーブル42
が搭載されているとともに、サドル41はベッド43上
にZ軸方向に移動可能に搭載されている。ベッド43の
一端部には、Y軸方向にコラム44が立設され、このコ
ラム44には、工具46を保持する主軸頭45がY軸方
向に移動可能に装着されている。
【0057】サドル41とテーブル42との間には、図
9に示すように、X軸用変位測定装置5を構成するレー
ザ光源47およびPSD48が設置されているととも
に、サドル41とベッド43との間には、図10に示す
ように、Z軸用変位測定装置6を構成するレーザ光源4
9およびPSD50が設置されており、またコラム44
と主軸頭45との間には、Y軸用変位測定装置7を構成
するレーザ光源51およびPSD52が設置されてい
る。
9に示すように、X軸用変位測定装置5を構成するレー
ザ光源47およびPSD48が設置されているととも
に、サドル41とベッド43との間には、図10に示す
ように、Z軸用変位測定装置6を構成するレーザ光源4
9およびPSD50が設置されており、またコラム44
と主軸頭45との間には、Y軸用変位測定装置7を構成
するレーザ光源51およびPSD52が設置されてい
る。
【0058】このように、各光源47,49,51から
出力される光ビームBL を基とする直交3光軸を設定
し、各光軸の相対関係を測定して誤差を明確にしておけ
ば、各光軸を基準軸として法線方向の変位を測定するこ
とができる。
出力される光ビームBL を基とする直交3光軸を設定
し、各光軸の相対関係を測定して誤差を明確にしておけ
ば、各光軸を基準軸として法線方向の変位を測定するこ
とができる。
【0059】図11は、本発明の第5実施例を示すもの
で、レーザ光源の数を低減できるようにしたものであ
る。
で、レーザ光源の数を低減できるようにしたものであ
る。
【0060】すなわち、前記第4実施例におけるレーザ
光源49とPSD50とを結ぶ光軸上には、図11に示
すように、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラー
61が設置されており、このハーフミラー61からの反
射光をPSD52で受光するようになっており、図10
における光源51を光源49として共用した構成となっ
ている。
光源49とPSD50とを結ぶ光軸上には、図11に示
すように、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラー
61が設置されており、このハーフミラー61からの反
射光をPSD52で受光するようになっており、図10
における光源51を光源49として共用した構成となっ
ている。
【0061】なお、その他の点については、前記第4実
施例と同一構成となっており、作用も同一である。
施例と同一構成となっており、作用も同一である。
【0062】このように、ハーフミラー61を用いるこ
とにより、Y軸用のレーザ光源51(図10参照)を省
略し、光源数を削減することができる。ハーフミラー6
1に代えて、反射鏡やプリブムを用いても、同様の効果
が得られる。
とにより、Y軸用のレーザ光源51(図10参照)を省
略し、光源数を削減することができる。ハーフミラー6
1に代えて、反射鏡やプリブムを用いても、同様の効果
が得られる。
【0063】ところで、前記第4実施例および第5実施
例においては、主軸頭45の変位検出を1つのPSD5
2で行なっているため、2次元用のものを用いても、コ
ラム44のX,Z各軸方向の倒れ変位しか検出できな
い。したがって、コラム44の捩れや倒れ角の値が必要
な工具46先端の位置補正を行なうには、捩れ検出セン
サや傾斜角センサが必要となる。
例においては、主軸頭45の変位検出を1つのPSD5
2で行なっているため、2次元用のものを用いても、コ
ラム44のX,Z各軸方向の倒れ変位しか検出できな
い。したがって、コラム44の捩れや倒れ角の値が必要
な工具46先端の位置補正を行なうには、捩れ検出セン
サや傾斜角センサが必要となる。
【0064】図12は、このような場合に通用される本
発明の第6実施例を示すもので、以下これについて説明
する。
発明の第6実施例を示すもので、以下これについて説明
する。
【0065】コラム44の下端部には、基準光源71お
よび補助光源72がそれぞれ設置されており、基準光源
71から出力される光ビーム73は、主軸頭45に取付
けた位置検出用センサ74で受光され、補助光源72か
ら出力される光ビーム75は、主軸頭45に取付けた捩
り検出用センサ76で受光されるようになっている。
よび補助光源72がそれぞれ設置されており、基準光源
71から出力される光ビーム73は、主軸頭45に取付
けた位置検出用センサ74で受光され、補助光源72か
ら出力される光ビーム75は、主軸頭45に取付けた捩
り検出用センサ76で受光されるようになっている。
【0066】基準光源71と位置検出用センサ74とを
結ぶ光軸上の基準光源71側の位置には、この光軸に対
し45度傾斜するハーフミラー77が配設されており、
このハーフミラー77で直角方向に反射される反射光7
8は、主軸頭45に取付けた傾斜検出用センサ79で受
光されるようになっている。これにより、コラム44の
前後方向(Z軸方向)の曲げ変位は位置検出用センサ7
4により検出されるとともに、コラム44の捩れ変位
は、捩り検出用センサ76および傾斜検出用センサ79
により、X軸方向の変位として検出される。
結ぶ光軸上の基準光源71側の位置には、この光軸に対
し45度傾斜するハーフミラー77が配設されており、
このハーフミラー77で直角方向に反射される反射光7
8は、主軸頭45に取付けた傾斜検出用センサ79で受
光されるようになっている。これにより、コラム44の
前後方向(Z軸方向)の曲げ変位は位置検出用センサ7
4により検出されるとともに、コラム44の捩れ変位
は、捩り検出用センサ76および傾斜検出用センサ79
により、X軸方向の変位として検出される。
【0067】すなわち、位置検出用センサ74は、2次
元用PSDで形成されてX軸およびZ軸双方向の検出を
行なうようになっているとともに、捩り検出用センサ7
6は、1次元用PSDで形成されてX軸方向の検出を行
なうようになっており、また傾斜検出用センサ79は、
1次元用PSDで形成され、ハーフミラー77の反射光
78の位置変位を検出することにより、コラム44の前
後方向(Z軸方向)の傾きを検出するようになってい
る。
元用PSDで形成されてX軸およびZ軸双方向の検出を
行なうようになっているとともに、捩り検出用センサ7
6は、1次元用PSDで形成されてX軸方向の検出を行
なうようになっており、また傾斜検出用センサ79は、
1次元用PSDで形成され、ハーフミラー77の反射光
78の位置変位を検出することにより、コラム44の前
後方向(Z軸方向)の傾きを検出するようになってい
る。
【0068】次に、本実施例の作用について説明する。
まず、主軸頭45の傾斜による工具46刃先の傾斜補正
(Y軸方向補正)について説明する。なお、簡単化のた
め、ハーフミラー77、傾斜検出用センサ、および光ビ
ーム73の初期アライメントを、光ビーム73のハーフ
ミラー77へのの入射角を45度、傾斜検出用センサ7
9の向きを光ビーム73と平行とし、主軸頭45が光ビ
ーム73に対し変化した際のY軸方向の傾斜角を求める
場合につき、以下説明する。
まず、主軸頭45の傾斜による工具46刃先の傾斜補正
(Y軸方向補正)について説明する。なお、簡単化のた
め、ハーフミラー77、傾斜検出用センサ、および光ビ
ーム73の初期アライメントを、光ビーム73のハーフ
ミラー77へのの入射角を45度、傾斜検出用センサ7
9の向きを光ビーム73と平行とし、主軸頭45が光ビ
ーム73に対し変化した際のY軸方向の傾斜角を求める
場合につき、以下説明する。
【0069】ハーフミラー77と傾斜検出用センサ79
とは、その間隔を保ったまま光ビーム73に対して変化
するが、これはZ軸方向の変化と回転(傾斜)の変化と
の合成として表現できる。これにつき、図13を参照し
て説明する。
とは、その間隔を保ったまま光ビーム73に対して変化
するが、これはZ軸方向の変化と回転(傾斜)の変化と
の合成として表現できる。これにつき、図13を参照し
て説明する。
【0070】最初入射した光ビーム73は、ハーフミラ
ー77の表面で反射して傾斜検出用センサ791 の落射
点O1 に落射している。この状態から、主軸頭45がZ
軸方向に水平に移動したとすると、ハーフミラー77は
符号77´で示す位置まで、また傾斜検出用センサ79
1 は符号792 に示す位置まで移動する。一方、光ビー
ム73の位置は不変であるため、ハーフミラー77上の
光ビーム73の反射点は、P1 からP2 になり、落射点
はO1 からO2 となる。
ー77の表面で反射して傾斜検出用センサ791 の落射
点O1 に落射している。この状態から、主軸頭45がZ
軸方向に水平に移動したとすると、ハーフミラー77は
符号77´で示す位置まで、また傾斜検出用センサ79
1 は符号792 に示す位置まで移動する。一方、光ビー
ム73の位置は不変であるため、ハーフミラー77上の
光ビーム73の反射点は、P1 からP2 になり、落射点
はO1 からO2 となる。
【0071】ここで、ハーフミラー77´が、反射点P
2 を支点として△θだけ回転して符号77″で示すよう
になったとすると、傾斜検出用センサ792 も、ハーフ
ミラー77″と一体的に回転して符号793 で示す位置
となり、したがって、光ビーム73は、ハーフミラー7
7″の反射点P2 で反射した後、傾斜検出用センサ79
3 上の落射点O3 に落射する。
2 を支点として△θだけ回転して符号77″で示すよう
になったとすると、傾斜検出用センサ792 も、ハーフ
ミラー77″と一体的に回転して符号793 で示す位置
となり、したがって、光ビーム73は、ハーフミラー7
7″の反射点P2 で反射した後、傾斜検出用センサ79
3 上の落射点O3 に落射する。
【0072】ところで、光の反射の法則から、ハーフミ
ラー77´が△θ回転したのであるから、反射光78の
為す角O2 P2 O3 は 角O2 P2 O3 =2△θ となる。しかし、ハーフミラー792 も反射点P2 を中
心に△θ回転しているのであるから、落射点O2 からO
3 までは、 2△θ−△θ=△θ となって、△θだけの回転となる。これを、傾斜検出用
センサ792 上で示すと、
ラー77´が△θ回転したのであるから、反射光78の
為す角O2 P2 O3 は 角O2 P2 O3 =2△θ となる。しかし、ハーフミラー792 も反射点P2 を中
心に△θ回転しているのであるから、落射点O2 からO
3 までは、 2△θ−△θ=△θ となって、△θだけの回転となる。これを、傾斜検出用
センサ792 上で示すと、
【0073】
【数2】 となる落射点O3 ′となる。
【0074】ここで、最初の入射角を45度としている
ので、傾斜検出用センサ791 上の点O1 も、それを延
長して傾斜検出センサ792 と交わった落射点O1 ′と
なる。
ので、傾斜検出用センサ791 上の点O1 も、それを延
長して傾斜検出センサ792 と交わった落射点O1 ′と
なる。
【0075】以上のことから、主軸頭45がZ軸方向に
ζ移動し、さらに△θ回転して傾斜したとすると、傾斜
検出センサ79上の落射点は傾斜検出用センサ792 上
のO1 ′,O2 ,O3 ′と移動することになる。 サ74で検出できるので、
ζ移動し、さらに△θ回転して傾斜したとすると、傾斜
検出センサ79上の落射点は傾斜検出用センサ792 上
のO1 ′,O2 ,O3 ′と移動することになる。 サ74で検出できるので、
【0076】
【数3】 ただし、ζ:傾斜検出用センサ79での検出量 ζ:位置検出用センサ74での検出量 m:初期状態での反射距離(=P1 O1 ) となる。したがって、工具46先端の傾斜によるY軸補
正量△Yは、
正量△Yは、
【0077】
【数4】 となる。
【0078】次に、コラム44の捩れによるX軸方向補
正について説明する。図14には、図12の位置検出用
センサ74および捩り検出用センサ76を主軸頭45の
上方から見た概略図であり、図中点X1 ′,X2 ′およ
び点X1 ″,X2 ″は、各センサ74,76に投射され
た光点で、添字1は初期位置、添字2は変化後の位置を
それぞれ示している。
正について説明する。図14には、図12の位置検出用
センサ74および捩り検出用センサ76を主軸頭45の
上方から見た概略図であり、図中点X1 ′,X2 ′およ
び点X1 ″,X2 ″は、各センサ74,76に投射され
た光点で、添字1は初期位置、添字2は変化後の位置を
それぞれ示している。
【0079】ここで、光点X1 ′,X2 ′の差を△
χ′、光点X1 ″,X2 ″の差を△χ″とすると、△
χ′はコラム44の倒れであるので、コラム44の捩れ
角△ηは、
χ′、光点X1 ″,X2 ″の差を△χ″とすると、△
χ′はコラム44の倒れであるので、コラム44の捩れ
角△ηは、
【0080】
【数5】 となり、補正量△χは、
【0081】
【数6】 となる。なお、式(11)において捩れ部が“−”となるの
は、図14からも明らかなように、点X2 ′を中心に点
X2 ″とは±が逆になるからである。
は、図14からも明らかなように、点X2 ′を中心に点
X2 ″とは±が逆になるからである。
【0082】このように、捩り検出用センサ76および
傾斜検出用センサ79を用いることにより、コラム44
の捩れ倒れ角を検出することができ、この値に基づき工
具46先端の位置補正を行なうことができる。
傾斜検出用センサ79を用いることにより、コラム44
の捩れ倒れ角を検出することができ、この値に基づき工
具46先端の位置補正を行なうことができる。
【0083】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、平行光線
ビームを送出する光源を工作機械の固定部に取付けると
ともに、この光源からの光線ビームを法線として受光す
る位置センサを工作機械の移動部に取付けるようにして
いるので、基準の光線位置が変わらず、変位測定を高精
度に行なうことができる。また、平行光線ビームを用い
ているので、センサまでの距離が変化しても減衰がな
く、またセンサ上のスポット光径が変わらないので、ス
ポット光径の差による光量分布の重みが変わらず、誤差
を少なくすることができる。また、センサ側に結像レン
ズがないので、センサ上の像の不安定さも皆無である。
ビームを送出する光源を工作機械の固定部に取付けると
ともに、この光源からの光線ビームを法線として受光す
る位置センサを工作機械の移動部に取付けるようにして
いるので、基準の光線位置が変わらず、変位測定を高精
度に行なうことができる。また、平行光線ビームを用い
ているので、センサまでの距離が変化しても減衰がな
く、またセンサ上のスポット光径が変わらないので、ス
ポット光径の差による光量分布の重みが変わらず、誤差
を少なくすることができる。また、センサ側に結像レン
ズがないので、センサ上の像の不安定さも皆無である。
【0084】そして、本発明において、光源および位置
センサを、工作機械のX軸,Y軸およびZ軸の各方向位
置にそれぞれ配設することにより、すべての方向の変位
の変化を測定することができる。
センサを、工作機械のX軸,Y軸およびZ軸の各方向位
置にそれぞれ配設することにより、すべての方向の変位
の変化を測定することができる。
【0085】また、光源と位置センサとを結ぶ光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光を受光す
る位置センサを設けることにより、少ない光源数でX
軸,Y軸およびZ軸の各変位を検出することができる。
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光を受光す
る位置センサを設けることにより、少ない光源数でX
軸,Y軸およびZ軸の各変位を検出することができる。
【0086】また、光源と位置センサとを結ぶ光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光の光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡を配置し、こ
の反射鏡からの反射光を、前記位置センサとは別の位置
センサで受光するようにすることにより、光源が熱の蓄
積等によって回転、平行移動した場合であっても、これ
を補正して誤差を少なくすることができる。
に、この光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置
するとともに、このハーフミラーからの反射光の光軸上
に、この光軸に対し45度傾斜する反射鏡を配置し、こ
の反射鏡からの反射光を、前記位置センサとは別の位置
センサで受光するようにすることにより、光源が熱の蓄
積等によって回転、平行移動した場合であっても、これ
を補正して誤差を少なくすることができる。
【0087】また、光源と位置センサとの間を、筒状の
遮蔽体で遮蔽することにより、周辺光を防止してセンサ
感度(S/N比)を上げることができるとともに、遮蔽
体内部の均温化を図り、空気の温度斑(密度斑)による
屈折率の乱れを緩和することができる。
遮蔽体で遮蔽することにより、周辺光を防止してセンサ
感度(S/N比)を上げることができるとともに、遮蔽
体内部の均温化を図り、空気の温度斑(密度斑)による
屈折率の乱れを緩和することができる。
【0088】また、遮蔽体を、入れ子状に組合わされる
複数の筒体で構成することにより、位置センサの移動全
範囲に亘って遮蔽することができる。
複数の筒体で構成することにより、位置センサの移動全
範囲に亘って遮蔽することができる。
【0089】そしてこの際、遮蔽体の少なくとも一部を
網状体で構成することにより、遮蔽体内部の均温化をよ
り向上させることができるとともに、内部空気の乱流に
伴なう光線ビームの乱れも防止することができる。
網状体で構成することにより、遮蔽体内部の均温化をよ
り向上させることができるとともに、内部空気の乱流に
伴なう光線ビームの乱れも防止することができる。
【0090】また、遮蔽体の内部を真空室にすることに
より、内部空気によって光線ビームが乱れることがなく
なり、精度をより向上させることができる。
より、内部空気によって光線ビームが乱れることがなく
なり、精度をより向上させることができる。
【図1】本発明の第1実施例に係る工作機械の変位測定
装置を示す要部断面図。
装置を示す要部断面図。
【図2】本発明の第1実施例の主要部を示す外観図。
【図3】光源が回転した場合の誤差補正方法を示す説明
図。
図。
【図4】図3を簡略化して示した説明図。
【図5】光源が回転および平行移動した場合の誤差補正
方法を示す説明図。
方法を示す説明図。
【図6】図5を簡略化して示した説明図。
【図7】本発明の第2実施例を示す概略側面図。
【図8】本発明の第3実施例を示す概略側断面図。
【図9】本発明の第4実施例を適用した工作機械の正面
図。
図。
【図10】図9の右側面図。
【図11】本発明の第5実施例を示す概略構成図。
【図12】本発明の第6実施例の適用例を示す工作機械
の側面図。
の側面図。
【図13】図12において、主軸頭が傾斜した際の工具
刃先のY軸方向の補正方法を示す説明図。
刃先のY軸方向の補正方法を示す説明図。
【図14】図12において、コラムの捩れによるX軸方
向の補正方法を示す説明図。
向の補正方法を示す説明図。
1,41 サドル 2,42 テーブル 3,43 ベッド 4,44 コラム 5 X軸用変位測定装置 6 Z軸用変位測定装置 7 Y軸用変位測定装置 9,10,11,12 遮蔽体 9a,10a,11a,12a 筒状体 20 網状体 30 真空室 45 主軸頭 46 工具 47,49,51 レーザ光源 48,50,52 PSD 61,77,M1 ,M′ ハーフミラー 71 基準光源 72 補助光源 74 位置検出用センサ 76 捩り検出用センサ 79 傾斜検出用センサ O,OZ ,OY 光源 M2 ,M3 ,M4 反射鏡 S1 ,S2 ,S3 ,SZ 位置センサ
Claims (8)
- 【請求項1】工作機械の固定部に取付けられ、平行光線
ビームを送出する光源と;工作機械の移動部に取付けら
れ、前記光源からの光線ビームを法線として受光する位
置センサと;を具備することを特徴とする工作機械の変
位測定装置。 - 【請求項2】光源および位置センサは、工作機械のX
軸,Y軸およびZ軸の各方向位置にそれぞれ配設されて
いることを特徴とする請求項1記載の工作機械の変位測
定装置。 - 【請求項3】光源と位置センサとを結ぶ光軸上に、この
光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置するとと
もに、このハーフミラーからの反射光を受光する位置セ
ンサを設けたことを特徴とする請求項1記載の工作機械
の変位測定装置。 - 【請求項4】光源と位置センサとを結ぶ光軸上に、この
光軸に対し45度傾斜するハーフミラーを配置するとと
もに、このハーフミラーからの反射光の光軸上に、この
光軸に対し45度傾斜する反射鏡を配置し、この反射鏡
からの反射光を別途配置された光学系を用いて、前記位
置センサと同一光軸上に受光面を前記位置センサとは1
80°反対方向に向けて配置された他の位置センサで受
光することを特徴とする請求項1記載の工作機械の変位
測定装置。 - 【請求項5】光線と位置センサとの間を、筒状の遮蔽体
で遮蔽したことを特徴とする請求項1,2,3または4
記載の工作機械の変位測定装置。 - 【請求項6】遮蔽体は、入れ子状に組合わされる複数の
筒状体で構成されていることを特徴とする請求項5記載
の工作機械の変位測定装置。 - 【請求項7】遮蔽体は、その少なくとも一部が網状体で
構成されていることを特徴とする請求項5または6記載
の工作機械の変位測定装置。 - 【請求項8】遮蔽体は、その内部が真空室となっている
ことを特徴とする請求項5または6記載の工作機械の変
位測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4413293A JPH06254748A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 工作機械の変位測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4413293A JPH06254748A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 工作機械の変位測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06254748A true JPH06254748A (ja) | 1994-09-13 |
Family
ID=12683100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4413293A Pending JPH06254748A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | 工作機械の変位測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06254748A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010149245A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Canon Inc | 位置決め装置 |
JP2015203527A (ja) * | 2014-04-14 | 2015-11-16 | 三菱電機株式会社 | 空気調和機 |
US9329025B2 (en) | 2013-05-28 | 2016-05-03 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Measuring device |
JP2016117151A (ja) * | 2014-12-18 | 2016-06-30 | ビアメカニクス株式会社 | 基板穴明け装置及びその制御方法 |
-
1993
- 1993-03-04 JP JP4413293A patent/JPH06254748A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010149245A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Canon Inc | 位置決め装置 |
US9329025B2 (en) | 2013-05-28 | 2016-05-03 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Measuring device |
JP2015203527A (ja) * | 2014-04-14 | 2015-11-16 | 三菱電機株式会社 | 空気調和機 |
JP2016117151A (ja) * | 2014-12-18 | 2016-06-30 | ビアメカニクス株式会社 | 基板穴明け装置及びその制御方法 |
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