JPH06252196A - ボンディングワイヤー - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 キャピラリーとの摩擦抵抗が小さく、ループ
異常の発生のないボンディングワイヤーを提供する。 【構成】 ボンディングワイヤーを添加元素濃度の高い
芯材と、添加元素濃度の低い外周材との2重構造とし
た。
異常の発生のないボンディングワイヤーを提供する。 【構成】 ボンディングワイヤーを添加元素濃度の高い
芯材と、添加元素濃度の低い外周材との2重構造とし
た。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子上の電極と
外部リードとを接続するために用いるボンディングワイ
ヤーの改良に関する。
外部リードとを接続するために用いるボンディングワイ
ヤーの改良に関する。
【0002】
【従来の技術】IC,LSIなどの半導体素子の電極と
外部リードを接続するため、0.01〜0.1mmの直
径を有するボンディングワイヤーが用いられ、そのボン
ディングには熱圧着式または超音波熱圧着式ワイヤーボ
ンダーが用いられる。ワイヤーボンダーの基本的構成
は、ボンディング治具となるセラミック製キャピラリー
と、該キャピラリーを保持し、前後上下左右に移動可能
なヘッドとそのコントローラー及びボール形成のための
電気トーチからなり、加熱しつつボンディングする方式
を熱圧着式、その際超音波振動を付加する方式が超音波
熱圧着式となる。
外部リードを接続するため、0.01〜0.1mmの直
径を有するボンディングワイヤーが用いられ、そのボン
ディングには熱圧着式または超音波熱圧着式ワイヤーボ
ンダーが用いられる。ワイヤーボンダーの基本的構成
は、ボンディング治具となるセラミック製キャピラリー
と、該キャピラリーを保持し、前後上下左右に移動可能
なヘッドとそのコントローラー及びボール形成のための
電気トーチからなり、加熱しつつボンディングする方式
を熱圧着式、その際超音波振動を付加する方式が超音波
熱圧着式となる。
【0003】近年、ワイヤーボンダーはボンディング1
工程当りの所要時間が約0.2秒と極めて高速になって
おり、ボンディングワイヤーには次のような特性が要求
される。即ち、(イ)ワイヤーの先端を加熱溶解した際
酸化皮膜の無い真球状のボールが形成され、該ボールを
半導体素子上の電極に圧着する第一ボンディングにおい
て良好な接合状態が得られること、(ロ)キャピラリー
を上昇させると共に外部リード上に移動せしめ、該リー
ド上にワイヤーを圧着した後上方でワイヤーを切断する
第二ボンディングを行ったとき、両ボンディング部の間
のワイヤーのループが良好に形成されると共に良好な接
合状態が得られること、(ハ)樹脂モールディングの際
に樹脂の流動によってワイヤーが変形しにくく、隣合う
ワイヤー同士の接触が起らないこと、(ニ)上記のよう
にして得られるIC,LSIを長期間使用しても両ボン
ディング部の接合が劣化しないこと、等である。
工程当りの所要時間が約0.2秒と極めて高速になって
おり、ボンディングワイヤーには次のような特性が要求
される。即ち、(イ)ワイヤーの先端を加熱溶解した際
酸化皮膜の無い真球状のボールが形成され、該ボールを
半導体素子上の電極に圧着する第一ボンディングにおい
て良好な接合状態が得られること、(ロ)キャピラリー
を上昇させると共に外部リード上に移動せしめ、該リー
ド上にワイヤーを圧着した後上方でワイヤーを切断する
第二ボンディングを行ったとき、両ボンディング部の間
のワイヤーのループが良好に形成されると共に良好な接
合状態が得られること、(ハ)樹脂モールディングの際
に樹脂の流動によってワイヤーが変形しにくく、隣合う
ワイヤー同士の接触が起らないこと、(ニ)上記のよう
にして得られるIC,LSIを長期間使用しても両ボン
ディング部の接合が劣化しないこと、等である。
【0004】このような高速ボンディングに純金ワイヤ
ーでは耐えられず、純度99.99重量%以上の高純度
の金に、例えばCa,Be等の元素を0.0001〜
0.01重量%と微量に添加して硬度を高めた金合金線
材が用いられている。
ーでは耐えられず、純度99.99重量%以上の高純度
の金に、例えばCa,Be等の元素を0.0001〜
0.01重量%と微量に添加して硬度を高めた金合金線
材が用いられている。
【0005】しかるに近年、半導体素子の多機能化に伴
い電極数が増して狭ピッチとなり、該電極数に応じてリ
ードもより狭ピッチ化し、ワイヤー同士の間隔が狭くな
るためわずかのカールも許されず、又リード形状も技術
的限界があって、第1ボンディングと第2ボンディング
の距離が長くなる傾向にあり、ループ垂れが問題となっ
てきた。このような場合一般には金合金中の添加元素量
を増して機械的強度を上げることが考えられるが、強度
上昇は表面硬度の上昇にもなり、この表面硬度の上昇は
予想外の不都合を招くことが判明した。
い電極数が増して狭ピッチとなり、該電極数に応じてリ
ードもより狭ピッチ化し、ワイヤー同士の間隔が狭くな
るためわずかのカールも許されず、又リード形状も技術
的限界があって、第1ボンディングと第2ボンディング
の距離が長くなる傾向にあり、ループ垂れが問題となっ
てきた。このような場合一般には金合金中の添加元素量
を増して機械的強度を上げることが考えられるが、強度
上昇は表面硬度の上昇にもなり、この表面硬度の上昇は
予想外の不都合を招くことが判明した。
【0006】即ち、図1に示すように、半導体素子1上
の電極にワイヤー2の先端のボール部をボンディング
後、キャピラリ3が上方に引き上げられ、次いでリード
4上に移動する際に、キャピラリ3の先端内壁でワイヤ
ー2が摩擦を受け、ボールボンディング部直上における
ネック倒れが生じたり、不測のカールが生じる等、ルー
プ異常が発生し易いという問題があった。
の電極にワイヤー2の先端のボール部をボンディング
後、キャピラリ3が上方に引き上げられ、次いでリード
4上に移動する際に、キャピラリ3の先端内壁でワイヤ
ー2が摩擦を受け、ボールボンディング部直上における
ネック倒れが生じたり、不測のカールが生じる等、ルー
プ異常が発生し易いという問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、機械
的特性を損なわず、ボンディング時においてキャピラリ
ー内でのワイヤーの摩擦を小さくし、ループ異常の発生
を効果的に防止し得るボンディングワイヤーを提供する
ことにある。
的特性を損なわず、ボンディング時においてキャピラリ
ー内でのワイヤーの摩擦を小さくし、ループ異常の発生
を効果的に防止し得るボンディングワイヤーを提供する
ことにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のボンディングワイヤーは、高純度金にC
a,Be等の元素を微量に添加した金合金を芯材とし、
該芯材の外側が芯材より前記添加元素濃度の低い金合金
層で被覆されている点に特徴がある。
に、本発明のボンディングワイヤーは、高純度金にC
a,Be等の元素を微量に添加した金合金を芯材とし、
該芯材の外側が芯材より前記添加元素濃度の低い金合金
層で被覆されている点に特徴がある。
【0009】
【作用】芯材の金合金は高純度金にCa,Be等の元素
を、0.0001〜0.01重量%添加したものが適当
である。0.01重量%を超えると、ボールが真球状に
形成されず、0.0001%未満では機械的強度及び耐
熱強度が確保できず、ループ垂れ不良等が発生するから
である。
を、0.0001〜0.01重量%添加したものが適当
である。0.01重量%を超えると、ボールが真球状に
形成されず、0.0001%未満では機械的強度及び耐
熱強度が確保できず、ループ垂れ不良等が発生するから
である。
【0010】該芯材の外側を芯材より前記添加元素濃度
の低い金合金層で被覆するのは、芯材により機械的及び
耐熱強度を維持し、かつ前記添加元素濃度の低い表面層
によりワイヤー表面の硬度を低下するためであり、これ
によりキャピラリーとの摩擦か低減し、ループ異常の発
生が効果的に防止される。芯材と被覆材の添加元素は同
一とするのが良い。添加元素が異なると、ボールが真球
状に形成されない恐れがあるからである。
の低い金合金層で被覆するのは、芯材により機械的及び
耐熱強度を維持し、かつ前記添加元素濃度の低い表面層
によりワイヤー表面の硬度を低下するためであり、これ
によりキャピラリーとの摩擦か低減し、ループ異常の発
生が効果的に防止される。芯材と被覆材の添加元素は同
一とするのが良い。添加元素が異なると、ボールが真球
状に形成されない恐れがあるからである。
【0011】芯材の直径は全体の直径の50〜90%と
するのが好ましい。50%未満では芯材による強度維持
ができず、90%を超えると被覆層による硬度低下が期
待できないからである。又、被覆層の添加元素濃度が芯
材中微量元素濃度の2分の1を越えると硬度低下が不十
分となるので、被覆層の添加元素濃度が芯材中添加元素
濃度の2分の1を越えないことが望ましい。
するのが好ましい。50%未満では芯材による強度維持
ができず、90%を超えると被覆層による硬度低下が期
待できないからである。又、被覆層の添加元素濃度が芯
材中微量元素濃度の2分の1を越えると硬度低下が不十
分となるので、被覆層の添加元素濃度が芯材中添加元素
濃度の2分の1を越えないことが望ましい。
【0012】本発明のような2重構造のボンディングワ
イヤーを製造するには、予め高純度金に添加元素を加え
た金合金のインゴットを芯材として用意し、その外側に
芯材よりも添加元素濃度の低い金合金を流し込んででき
たインゴットを溝ロール加工、線引き加工等の通常の伸
線加工に供すればよい。尚前記被覆層の添加元素濃度
を、表面から深部に段階的に上昇せしめ、又は連続的に
上昇せしめる等、必要に応じて本発明の範囲内で変える
ことができる。
イヤーを製造するには、予め高純度金に添加元素を加え
た金合金のインゴットを芯材として用意し、その外側に
芯材よりも添加元素濃度の低い金合金を流し込んででき
たインゴットを溝ロール加工、線引き加工等の通常の伸
線加工に供すればよい。尚前記被覆層の添加元素濃度
を、表面から深部に段階的に上昇せしめ、又は連続的に
上昇せしめる等、必要に応じて本発明の範囲内で変える
ことができる。
【0013】
【実施例】純度99.999重量%の高純度金を原料と
し、これに、Be又はCaを添加して、表1に示す芯材
組成の金合金4種を溶解鋳造し、直径20mmのインゴ
ットを作成した。黒鉛坩堝の中央に前記インゴットを配
置し、その外側に表1に示す外周材組成の金合金を溶解
して流し込み、全体の直径25mmの2層構造インゴッ
トを得た。このインゴットに、溝ロール加工を施した
後、線引き加工で直径0.03mmまで伸線を行った。
このようにして作成されたワイヤーを室温における破断
伸び率が6%になるように熱処理した後、引張強度を測
定して摩擦抵抗測定機に供して、摩擦の程度を測定し
た。
し、これに、Be又はCaを添加して、表1に示す芯材
組成の金合金4種を溶解鋳造し、直径20mmのインゴ
ットを作成した。黒鉛坩堝の中央に前記インゴットを配
置し、その外側に表1に示す外周材組成の金合金を溶解
して流し込み、全体の直径25mmの2層構造インゴッ
トを得た。このインゴットに、溝ロール加工を施した
後、線引き加工で直径0.03mmまで伸線を行った。
このようにして作成されたワイヤーを室温における破断
伸び率が6%になるように熱処理した後、引張強度を測
定して摩擦抵抗測定機に供して、摩擦の程度を測定し
た。
【0014】この摩擦抵抗測定機はキャピラリーをワイ
ヤー引出し方向に対してある角度で傾け、キャピラリー
の管内面とワイヤーの表面の摩擦によって生ずる張力を
検出して摩擦抵抗として測定するようになっている。キ
ャピラリー角度を60°とし、アルミナ製キャピラリー
を使用して摩擦抵抗を測定した。また、この4種のワイ
ヤーを用いて、1000回のボンディングを行い、ルー
プ異常の発生回数を調査した。結果を表1にまとめて示
す。
ヤー引出し方向に対してある角度で傾け、キャピラリー
の管内面とワイヤーの表面の摩擦によって生ずる張力を
検出して摩擦抵抗として測定するようになっている。キ
ャピラリー角度を60°とし、アルミナ製キャピラリー
を使用して摩擦抵抗を測定した。また、この4種のワイ
ヤーを用いて、1000回のボンディングを行い、ルー
プ異常の発生回数を調査した。結果を表1にまとめて示
す。
【0015】
【表1】
【0016】表1から本発明品となる試料番号2と4は
摩擦抵抗が著るしく低下し、これによりループ異常の発
生が効果的に抑制できることが分る。
摩擦抵抗が著るしく低下し、これによりループ異常の発
生が効果的に抑制できることが分る。
【0017】
【発明の効果】本発明のボンディングワイヤーによれ
ば、半導体素子のボンディング時におけるキャピラリー
との摩擦抵抗が低く、ループ異常の発生が顕著に減少す
る。このため、ボンディング工程での歩留まり向上、及
び信頼性向上に大いに寄与することができる。
ば、半導体素子のボンディング時におけるキャピラリー
との摩擦抵抗が低く、ループ異常の発生が顕著に減少す
る。このため、ボンディング工程での歩留まり向上、及
び信頼性向上に大いに寄与することができる。
【図1】ボンディング工程の一部を概念的に示す図であ
る。
る。
Claims (3)
- 【請求項1】 高純度金にCa,Be等の元素を微量に
添加した金合金を芯材とし、該芯材の外側が芯材より前
記添加元素濃度の低い金合金層で被覆されていることを
特徴とするボンディングワイヤー。 - 【請求項2】 前記芯材の直径が全体の直径の50〜9
0%である請求項1記載のボンディングワイヤー。 - 【請求項3】 被覆部の前記添加元素濃度が芯材中添加
元素濃度の2分の1以下である請求項1記載のボンディ
ングワイヤー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5057974A JPH06252196A (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | ボンディングワイヤー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5057974A JPH06252196A (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | ボンディングワイヤー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06252196A true JPH06252196A (ja) | 1994-09-09 |
Family
ID=13070986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5057974A Pending JPH06252196A (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | ボンディングワイヤー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06252196A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009018049A1 (de) * | 2008-11-18 | 2010-05-27 | Geißler, Ute, Dipl.-Ing. | (Mono)Metall-Bonddraht bzw. Bändchen zum Drahtbonden mit Gradientenübergang der unterschiedlichen Material- und Gefügeeigenschaften zwischen Drahtkern und Drahtmantel zur Reduzierung der Heelschwächung und gleichzeitiger Verbesserung der Interfacefestigkeit |
US7969021B2 (en) | 2000-09-18 | 2011-06-28 | Nippon Steel Corporation | Bonding wire for semiconductor device and method for producing the same |
-
1993
- 1993-02-24 JP JP5057974A patent/JPH06252196A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7969021B2 (en) | 2000-09-18 | 2011-06-28 | Nippon Steel Corporation | Bonding wire for semiconductor device and method for producing the same |
DE102009018049A1 (de) * | 2008-11-18 | 2010-05-27 | Geißler, Ute, Dipl.-Ing. | (Mono)Metall-Bonddraht bzw. Bändchen zum Drahtbonden mit Gradientenübergang der unterschiedlichen Material- und Gefügeeigenschaften zwischen Drahtkern und Drahtmantel zur Reduzierung der Heelschwächung und gleichzeitiger Verbesserung der Interfacefestigkeit |
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