JPH0625075A - オキソカルボン酸誘導体の製造法 - Google Patents

オキソカルボン酸誘導体の製造法

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JPH0625075A
JPH0625075A JP20702292A JP20702292A JPH0625075A JP H0625075 A JPH0625075 A JP H0625075A JP 20702292 A JP20702292 A JP 20702292A JP 20702292 A JP20702292 A JP 20702292A JP H0625075 A JPH0625075 A JP H0625075A
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JP
Japan
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acid
acid derivative
hydrogen
formula
alkyl
Prior art date
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Pending
Application number
JP20702292A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinobu Iriuchijima
忍 入内島
Takehito Ino
勇仁 井野
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Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
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Publication date
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 一般式1のシクロヘキセンカルボン酸誘導体
にルイス酸を作用させることを特徴とする一般式2のオ
キソシクロヘキサンカルボン酸誘導体の製造法。 (式中、Rは水素、アルキル、置換アルキル又はアリー
ル基であり、Xは水素又はメチル基である。) 【効果】 液晶や高分子化合物などの合成に有用な4−
オキソシクロヘキサン−1−カルボン酸エステルを容易
に製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明の方法によって得られる4
−オキソシクロヘキサン−1−カルボン酸エステルは、
液晶や高分子化合物[化学, 40, 760(1985)]ならびに
芳香剤[Chem.Abstr., 104, 148376p(1986)]などの合
成に用いられる有用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】従来、4−オキソシクロヘキサン−1−
カルボン酸エステルを合成する方法として、(1)p−
ヒドロキシ安息香酸エチルをロジウム・アルミナを触媒
として水素下で還元して4−ヒドロキシシクロヘキサン
−1−カルボン酸エチルとした後、クロム酸で酸化する
方法[J.Org.Chem., 30, 4145(1965) ]。(2)マロン
酸ジエチルと過剰のアクリル酸エチルを水素化ナトリウ
ムで縮合させてシクロヘキサノン−2,4,4−トリカ
ルボン酸トリエチルとした後、脱炭酸する方法[化学,
40, 760(1985) ]等が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法は、(1)
ロジウムのような高価な触媒やクロム酸のような重金属
を用いたり、(2)水素化ナトリウムのような高価な塩
基を用いて無水条件で行わなければならないなどの欠点
を有していた。これに対し、本発明の方法はクロロプレ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの反
応で容易に得られる化合物を原料として採用し、酸処理
によって目的化合物を得るものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、一
般式〔I〕
【化3】 (Rは水素、アルキル、置換アルキル又はアリール基で
あり、Xは水素又はメチル基である。)で表されるシク
ロヘキセンカルボン酸誘導体にルイス酸を作用させるこ
とを特徴とする、一般式〔II〕
【化4】 (Rは水素、アルキル、置換アルキル又はアリール基で
あり、Xは水素又はメチル基である。)で表されるオキ
ソカルボン酸誘導体の製造法に関する。
【0005】以下、更に本発明について詳しく説明す
る。本発明で用いられるシクロヘキセンカルボン酸誘導
体〔I〕は、クロロプレンとアクリル酸エステル又はメ
タクリル酸エステルのディールス・アルダー反応で合成
できる[J.Org.Chem., 36, 924(1971); Bull.soc.chim.
France,610(1954)]。アクリル酸エステルの場合には、
3−及び4−クロロシクロヘキス−3−エン−1−カル
ボン酸エステルの混合物(4−クロロ体が主生成物)が
得られ、メタクリル酸エステルの場合には、3−および
4−クロロ−1−メチルシクロヘキス−3−エン−1−
カルボン酸エステルの混合物が得られる。シクロヘキセ
ンカルボン酸誘導体〔I〕のRは、水素、メチル、エチ
ル、ブチルなどのアルキル基、ベンジルなどの置換アル
キル基、フェニル、o−,m−,p−メチルフェニル、
p−クロロフェニル等のアリール基である。
【0006】本発明で用いられるルイス酸としては、硫
酸、クロロスルホン酸、りん酸等の強酸、塩化水銀、塩
化アルミニウムなどの金属ハロゲン化物等を挙げること
ができるが、価格、安全性、収率などの点から濃硫酸が
好ましい。
【0007】本発明の方法は無溶媒でも行い得るが、ヘ
キサン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶
媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化
水素系溶媒を用い得る。シクロヘキセンカルボン酸誘導
体〔I〕が固体の場合には溶媒を用いた方が結果が良い
ことが多い。ルイス酸の量は、一般的にシクロヘキセン
カルボン酸誘導体〔I〕に対し等モル以上が良い結果を
あたえるが、例えば濃硫酸の場合は、シクロヘキセンカ
ルボン酸誘導体〔I〕に対し2〜10モル、好ましくは
3〜5モルである。反応温度は0〜50℃、好ましくは
0〜30℃であり、反応時間は温度に依存し、0.2〜
2時間、好ましくは0.2〜1時間である。反応後、水
と混合してオキソカルボン酸誘導体〔II〕を得る。
【0008】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。
【0009】実施例1 水冷下、撹拌しながら、4−クロロシクロヘキス−3−
エン−1−カルボン酸メチル(2.0g,11.5ミリ
モル)に、濃硫酸(3.0ml,5.5g,56ミリモ
ル)を滴下した。30分撹拌した後、氷水冷下で反応液
を水にゆっくり加えた後、一緒にした。酢酸エチルで2
回抽出し、抽出液を1M−NaHCO3水溶液で洗浄し
た。洗液を酢酸エチルで抽出し、先の抽出液とあわせて
硫酸ナトリウムで脱水、濃縮、蒸留(bp74℃/2T
orr)し、4−オキソシクロヘキサン−1−カルボン
酸メチル(0.97g,収率54%)を得た。 NMR(60MHz,CDCl3 )δ:1.7〜3.0
(9H,m),3.67(3H,s)。
【0010】実施例2 水冷下、撹拌しながら、4−クロロシクロヘキス−3−
エン−1−カルボン酸ブチル(2.0g,9.2ミリモ
ル)に、水冷下で濃硫酸(2.0ml,3.7g,38
ミリモル)を滴下した。1時間撹拌した後、氷水冷下で
反応液を水にゆっくり滴下した。酢酸エチルで2回抽出
し、抽出液を1M−NaHCO3 水溶液で洗浄した。洗
液を酢酸エチルで抽出し、先の抽出液とあわせて硫酸ナ
トリウムで脱水、濃縮、蒸留(bp104℃/0.8T
orr)した。4−オキソシクロヘキサン−1−カルボ
ン酸ブチル(0.9g,49%)を得た。NMR(60
MHz,CDCl3 )δ:0.93(3H,unsy
m.t,J=6Hz),1.1〜1.8(4H),1.
8〜2.6(8H),2.75(1H,m),4.1
(2H,t,J=6Hz)。IR(film):296
0,2875,1720,1170,1210cm-1
【0011】
【発明の効果】本発明の方法により、液晶や高分子化合
物などの合成に有用な4−オキソシクロヘキサン−1−
カルボン酸エステルを容易に製造することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式〔I〕 【化1】 (Rは水素、アルキル、置換アルキル又はアリール基で
    あり、Xは水素又はメチル基である。)で表されるシク
    ロヘキセンカルボン酸誘導体にルイス酸を作用させるこ
    とを特徴とする、一般式〔II〕 【化2】 (Rは水素、アルキル、置換アルキル又はアリール基で
    あり、Xは水素又はメチル基である。)で表されるオキ
    ソカルボン酸誘導体の製造法。
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