JPH06245074A - 画像二値化方法及び装置 - Google Patents
画像二値化方法及び装置Info
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- JPH06245074A JPH06245074A JP5050158A JP5015893A JPH06245074A JP H06245074 A JPH06245074 A JP H06245074A JP 5050158 A JP5050158 A JP 5050158A JP 5015893 A JP5015893 A JP 5015893A JP H06245074 A JPH06245074 A JP H06245074A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、画像二値化方法において、設計デー
タに基づいて形成されたパターンに生じた位置ずれ欠陥
の検出感度を従来に比して一段と向上させる。 【構成】しきい値Ｓ３の値を設計データＳ５によつて与
えられる二値画像情報に基づいて異なる値に設定し、設
定されたしきい値Ｓ３と設計データに基づいて形成され
た画像パターンを撮像して得られる多値画像データＳ２
とを比較して多値画像データＳ２を二値データＳ４に変
換する。このようにしきい値Ｓ３の値をパターン形成の
元になる設計データＳ５に基づいて設定することによ
り、パターンに生じた位置ずれ欠陥の検出感度を従来に
比して細かく設定することができる。これにより従来方
式では検出できなかつた程度の微細な位置ずれも容易に
検出することができる。
タに基づいて形成されたパターンに生じた位置ずれ欠陥
の検出感度を従来に比して一段と向上させる。 【構成】しきい値Ｓ３の値を設計データＳ５によつて与
えられる二値画像情報に基づいて異なる値に設定し、設
定されたしきい値Ｓ３と設計データに基づいて形成され
た画像パターンを撮像して得られる多値画像データＳ２
とを比較して多値画像データＳ２を二値データＳ４に変
換する。このようにしきい値Ｓ３の値をパターン形成の
元になる設計データＳ５に基づいて設定することによ
り、パターンに生じた位置ずれ欠陥の検出感度を従来に
比して細かく設定することができる。これにより従来方
式では検出できなかつた程度の微細な位置ずれも容易に
検出することができる。
Description
【０００１】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題（図４及び図５） 課題を解決するための手段（図１） 作用（図２及び図３） 実施例（図１〜図３） 発明の効果
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は画像二値化方法及び画像
二値化装置に関し、例えば半導体の製造に用いられるレ
チクル、マスク等の各種基板に形成された幾何学パター
ンの欠陥検査に用いられる検査装置に使用される画像信
号の二値化に適用して好適なものである。
二値化装置に関し、例えば半導体の製造に用いられるレ
チクル、マスク等の各種基板に形成された幾何学パター
ンの欠陥検査に用いられる検査装置に使用される画像信
号の二値化に適用して好適なものである。
【０００３】
【従来の技術】従来、この種の検査装置では、設計デー
タ通りのパターンがレチクル上に形成されているか検査
するため、レチクル上に形成されたパターンを撮像装置
によつて撮像することにより得られたアナログビデオ信
号をＡ／Ｄ変換回路によつてＮビツト諧調のデイジタル
データに変換し、変換結果として得られた多値デイジタ
ルデータを一定のしきい値で単純に二値化、又は対象画
素の周辺に位置するパターン情報に基づいて設定された
しきい値によつて二値化し、さらに設計データによつて
与えられる二値画像情報と比較することにより、基板上
に形成された実際のパターンと設計データとの一致不一
致を検査するようになされている（特開平4-33471号公
報）。
タ通りのパターンがレチクル上に形成されているか検査
するため、レチクル上に形成されたパターンを撮像装置
によつて撮像することにより得られたアナログビデオ信
号をＡ／Ｄ変換回路によつてＮビツト諧調のデイジタル
データに変換し、変換結果として得られた多値デイジタ
ルデータを一定のしきい値で単純に二値化、又は対象画
素の周辺に位置するパターン情報に基づいて設定された
しきい値によつて二値化し、さらに設計データによつて
与えられる二値画像情報と比較することにより、基板上
に形成された実際のパターンと設計データとの一致不一
致を検査するようになされている（特開平4-33471号公
報）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところがこれらの装置
を用いて、パターンが形成されるべき位置と実際にパタ
ーンが形成された位置とのずれ、すなわち、位置ずれ欠
陥を検出する場合、従来の二値化方法で画像信号の二値
化を行うと、位置ずれ量が小さい位置ずれ欠陥を検出す
ることができないという問題があつた。例えばパターン
を構成する各画素Ａij（ｉ＝１、２、３……、ｊ＝１、
２、３……）について（図４）、二値画像が黒にあたる
部分を「０」とし、白に当たる部分を「１」として図５
（Ａ）に示すような二値画像情報が設計データに基づい
て作成されているとする。
を用いて、パターンが形成されるべき位置と実際にパタ
ーンが形成された位置とのずれ、すなわち、位置ずれ欠
陥を検出する場合、従来の二値化方法で画像信号の二値
化を行うと、位置ずれ量が小さい位置ずれ欠陥を検出す
ることができないという問題があつた。例えばパターン
を構成する各画素Ａij（ｉ＝１、２、３……、ｊ＝１、
２、３……）について（図４）、二値画像が黒にあたる
部分を「０」とし、白に当たる部分を「１」として図５
（Ａ）に示すような二値画像情報が設計データに基づい
て作成されているとする。
【０００５】このときレチクル上に形成されたパターン
（図５（Ｂ）において斜線で示す）に微細な位置ずれ欠
陥が生じているとすると、本来画素全体が黒であるべき
画素Ａ22、Ａ23、Ａ24に白い部分が含まれることになる
ため、４ビツト階調のデイジタルデータに変換された画
素Ａ22、Ａ23、Ａ24のデータ値は最小輝度レベル（値
「０」）よりやや高い値「４」になる（図５（Ｃ））。
従来の方式では、これらのデータを例えばデイジタルデ
ータの中間レベルに当たる値「７」によつて単純に二値
化していたが、このように二値化したのでは図５（Ｄ）
に示すように検出されたパターンデータと設計データの
値が同じとなり、この種の位置ずれ欠陥を検出すること
ができなかつた。
（図５（Ｂ）において斜線で示す）に微細な位置ずれ欠
陥が生じているとすると、本来画素全体が黒であるべき
画素Ａ22、Ａ23、Ａ24に白い部分が含まれることになる
ため、４ビツト階調のデイジタルデータに変換された画
素Ａ22、Ａ23、Ａ24のデータ値は最小輝度レベル（値
「０」）よりやや高い値「４」になる（図５（Ｃ））。
従来の方式では、これらのデータを例えばデイジタルデ
ータの中間レベルに当たる値「７」によつて単純に二値
化していたが、このように二値化したのでは図５（Ｄ）
に示すように検出されたパターンデータと設計データの
値が同じとなり、この種の位置ずれ欠陥を検出すること
ができなかつた。
【０００６】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、位置ずれ量の小さい位置ずれ欠陥を検出することが
できる画像二値化方法を提案しようとするものである。
さらに本発明は、そのような画像二値化方法を実施でき
る画像二値化装置を提案しようとするものである。
で、位置ずれ量の小さい位置ずれ欠陥を検出することが
できる画像二値化方法を提案しようとするものである。
さらに本発明は、そのような画像二値化方法を実施でき
る画像二値化装置を提案しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、設計データＳ５に基づいて形成さ
れた画像パターン３を撮像して得られる多値画像データ
Ｓ２をしきい値Ｓ３と比較し、多値画像データＳ２を二
値データＳ４に変換する画像二値化方法において、しき
い値Ｓ３として、設計データＳ５によつて与えられる二
値画像情報に基づいて異なつた値を画素ごとに設定する
ようにする。
め本発明においては、設計データＳ５に基づいて形成さ
れた画像パターン３を撮像して得られる多値画像データ
Ｓ２をしきい値Ｓ３と比較し、多値画像データＳ２を二
値データＳ４に変換する画像二値化方法において、しき
い値Ｓ３として、設計データＳ５によつて与えられる二
値画像情報に基づいて異なつた値を画素ごとに設定する
ようにする。
【０００８】また本発明においては、設計データＳ５に
基づいて形成された画像パターンＳ５を撮像して得られ
る多値画像データＳ２をしきい値Ｓ３と比較し、多値画
像データＳ２を二値データＳ４に変換する画像二値化装
置において、しきい値Ｓ３として、設計データＳ５によ
つて与えられる二値画像情報に基づいて異なる値を画素
ごとに設定するテーブル手段６と、多値画像データＳ２
としきい値Ｓ３を比較し、多値画像データＳ２を二値デ
ータＳ４に変換する比較手段５とを設けるようにする。
基づいて形成された画像パターンＳ５を撮像して得られ
る多値画像データＳ２をしきい値Ｓ３と比較し、多値画
像データＳ２を二値データＳ４に変換する画像二値化装
置において、しきい値Ｓ３として、設計データＳ５によ
つて与えられる二値画像情報に基づいて異なる値を画素
ごとに設定するテーブル手段６と、多値画像データＳ２
としきい値Ｓ３を比較し、多値画像データＳ２を二値デ
ータＳ４に変換する比較手段５とを設けるようにする。
【０００９】
【作用】設計データＳ５によつて与えられる二値画像情
報に基づいてしきい値Ｓ３の値を異なる値、例えば、設
計データに基づく二値画像情報が「０」の場合には
「３」に、設計データに基づく二値画像情報が「１」の
場合には「１３」に設定し、画素ごとに当該しきい値Ｓ
３と例えば４ビツトの多値画像データＳ２とを比較して
二値データＳ４に変換することにより、多値画像データ
Ｓ２の変化として現れる実際のパターンに生じた位置ず
れ欠陥を従来に比して一段と高い感度によつて検出する
ことができる。
報に基づいてしきい値Ｓ３の値を異なる値、例えば、設
計データに基づく二値画像情報が「０」の場合には
「３」に、設計データに基づく二値画像情報が「１」の
場合には「１３」に設定し、画素ごとに当該しきい値Ｓ
３と例えば４ビツトの多値画像データＳ２とを比較して
二値データＳ４に変換することにより、多値画像データ
Ｓ２の変化として現れる実際のパターンに生じた位置ず
れ欠陥を従来に比して一段と高い感度によつて検出する
ことができる。
【００１０】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【００１１】図１において、１は全体として画像二値化
装置を示し、カメラ２によつてレチクル３上に形成され
た幾何学パターンを撮像するようになされている。画像
二値化装置１は、カメラ２によつて撮像されたアナログ
ビデオ信号Ｓ１をアナログデイジタル変換回路４（以下
Ａ／Ｄ変換回路４という）に入力することにより、アナ
ログビデオ信号Ｓ１をＮビツト（Ｎは１より大きい自然
数であり、この実施例の場合、４ビツトに設定されてい
る）の階調によつてデイジタルデータに変換し、これを
多値画像データＳ２として比較回路５に与えるようにな
されている。
装置を示し、カメラ２によつてレチクル３上に形成され
た幾何学パターンを撮像するようになされている。画像
二値化装置１は、カメラ２によつて撮像されたアナログ
ビデオ信号Ｓ１をアナログデイジタル変換回路４（以下
Ａ／Ｄ変換回路４という）に入力することにより、アナ
ログビデオ信号Ｓ１をＮビツト（Ｎは１より大きい自然
数であり、この実施例の場合、４ビツトに設定されてい
る）の階調によつてデイジタルデータに変換し、これを
多値画像データＳ２として比較回路５に与えるようにな
されている。
【００１２】比較回路５は、ルツクアツプテーブル６よ
り各画素に対応するＮビツト（この実施例の場合、４ビ
ツト）のしきい値データＳ３を入力すると、しきい値デ
ータＳ３と多値画像データＳ２を比較し、比較結果を二
値化データＳ４として欠陥検出回路（図示せず）に出力
する。このルツクアツプテーブル６は、カメラ２に同期
したタイミングで設計データに基づいて形成された二値
画像情報から信号Ｓ５を取り込むようになされており、
設計データの情報（値「１」又は「０」）に応じて２つ
のしきい値を切り換え、しきい値データＳ３として出力
するようになされている。
り各画素に対応するＮビツト（この実施例の場合、４ビ
ツト）のしきい値データＳ３を入力すると、しきい値デ
ータＳ３と多値画像データＳ２を比較し、比較結果を二
値化データＳ４として欠陥検出回路（図示せず）に出力
する。このルツクアツプテーブル６は、カメラ２に同期
したタイミングで設計データに基づいて形成された二値
画像情報から信号Ｓ５を取り込むようになされており、
設計データの情報（値「１」又は「０」）に応じて２つ
のしきい値を切り換え、しきい値データＳ３として出力
するようになされている。
【００１３】ここで２つのしきい値は要求される感度に
応じた値に設定されている。この実施例の場合、値
「１」の設計データには高いしきい値「１３」が用意さ
れ、また値「０」の設計データには低いしきい値「３」
が用意されている。これにより位置ずれによつて、白で
あるべき画素部分（すなわち設計データが値「１」の画
素部分）に黒パターンがわずかにかかつても、また黒で
あるべき画素部分（すなわち設計データが値「０」の画
素部分）に白パターンがわずかにかかつても識別感度が
向上するようになされている。
応じた値に設定されている。この実施例の場合、値
「１」の設計データには高いしきい値「１３」が用意さ
れ、また値「０」の設計データには低いしきい値「３」
が用意されている。これにより位置ずれによつて、白で
あるべき画素部分（すなわち設計データが値「１」の画
素部分）に黒パターンがわずかにかかつても、また黒で
あるべき画素部分（すなわち設計データが値「０」の画
素部分）に白パターンがわずかにかかつても識別感度が
向上するようになされている。
【００１４】以上の構成において、例えば図２（Ａ）や
図３（Ａ）によつて与えられる設計データで形成された
レチクルパターンに、図２（Ｂ）に示すような位置ずれ
欠陥が生じた場合や図３（Ｂ）に示すような位置ずれ欠
陥が生じた場合における画像二値化装置１０による二値
化処理を説明する。
図３（Ａ）によつて与えられる設計データで形成された
レチクルパターンに、図２（Ｂ）に示すような位置ずれ
欠陥が生じた場合や図３（Ｂ）に示すような位置ずれ欠
陥が生じた場合における画像二値化装置１０による二値
化処理を説明する。
【００１５】まず図２（Ｂ）に示すように、本来黒であ
るべき画素Ａ22〜Ａ24にわずかに白いパターンがかかる
場合、これらの画素部分を撮像したアナログビデオ信号
Ｓ１より得られる多値画像データＳ２の値は「４」であ
る（図２（Ｃ））。因にこの値は、従来方式のしきい値
（すなわち値「７」）によつて二値化したのでは設計デ
ータと同じ値（すなわち値「０」）となつて位置ずれを
検出することはできない程度の値である。
るべき画素Ａ22〜Ａ24にわずかに白いパターンがかかる
場合、これらの画素部分を撮像したアナログビデオ信号
Ｓ１より得られる多値画像データＳ２の値は「４」であ
る（図２（Ｃ））。因にこの値は、従来方式のしきい値
（すなわち値「７」）によつて二値化したのでは設計デ
ータと同じ値（すなわち値「０」）となつて位置ずれを
検出することはできない程度の値である。
【００１６】しかし、この実施例のルツクアツプテーブ
ル６に設定されているしきい値のうち設計データ「０」
について設定されているしきい値は「３」であるため、
画素Ａ22〜Ａ24に当たる多値画像データＳ２を二値化し
た二値データは設計データと異なる値「１」となる（図
２（Ｄ））。これにより後段に配置された欠陥検出回路
において画素Ａ22〜Ａ24に生じたごく小さい位置ずれを
検出することができる。
ル６に設定されているしきい値のうち設計データ「０」
について設定されているしきい値は「３」であるため、
画素Ａ22〜Ａ24に当たる多値画像データＳ２を二値化し
た二値データは設計データと異なる値「１」となる（図
２（Ｄ））。これにより後段に配置された欠陥検出回路
において画素Ａ22〜Ａ24に生じたごく小さい位置ずれを
検出することができる。
【００１７】これとは逆に、図３（Ｂ）に示すように、
本来白であるべき画素Ａ32〜Ａ34にわずかに黒いパター
ンがかかる場合、これらの画素部分を撮像したアナログ
ビデオ信号Ｓ１より得られる多値画像データＳ２の値は
「１０」である（図３（Ｃ））。この値は、先に説明し
た場合と同様、従来方式のしきい値（すなわち値
「７」）によつて二値化したのでは設計データと同じ値
（すなわち値「１」）となつて位置ずれを検出すること
はできない程度の値である。
本来白であるべき画素Ａ32〜Ａ34にわずかに黒いパター
ンがかかる場合、これらの画素部分を撮像したアナログ
ビデオ信号Ｓ１より得られる多値画像データＳ２の値は
「１０」である（図３（Ｃ））。この値は、先に説明し
た場合と同様、従来方式のしきい値（すなわち値
「７」）によつて二値化したのでは設計データと同じ値
（すなわち値「１」）となつて位置ずれを検出すること
はできない程度の値である。
【００１８】しかし、この実施例においてルツクアツプ
テーブル６に設定されているしきい値のうち設計データ
「１」について設定されているしきい値は「１３」であ
るため、画素Ａ32〜Ａ34に当たる多値画像データＳ２を
二値化した二値データは設計データと異なる値「０」と
なる（図３（Ｄ））。この結果、本来白であるべき画素
部分に黒パターンがわずかに位置ずれしている場合に
も、後段に配置された欠陥検出回路においてこのごく小
さい位置ずれを大きな位置ずれが生じた場合と同じレベ
ルの感度によつて検出することができる。
テーブル６に設定されているしきい値のうち設計データ
「１」について設定されているしきい値は「１３」であ
るため、画素Ａ32〜Ａ34に当たる多値画像データＳ２を
二値化した二値データは設計データと異なる値「０」と
なる（図３（Ｄ））。この結果、本来白であるべき画素
部分に黒パターンがわずかに位置ずれしている場合に
も、後段に配置された欠陥検出回路においてこのごく小
さい位置ずれを大きな位置ずれが生じた場合と同じレベ
ルの感度によつて検出することができる。
【００１９】以上の構成によれば、撮像されたアナログ
ビデオ信号Ｓ１を二値化するしきい値の値を設計データ
の値に応じて切り換えることとし、設計データの値が
「１」（すなわち白）の場合にはしきい値を値「１３」
と高い値に設定し、かつ設計データの値が「０」（すな
わち黒）の場合にはしきい値を値「３」と低い値に設定
することにより、検査対象であるパターンの位置ずれ量
が画素の大きさに対して十分小さい場合にも従来に比し
て確実にこれらの位置ずれ欠陥を検出することができ
る。
ビデオ信号Ｓ１を二値化するしきい値の値を設計データ
の値に応じて切り換えることとし、設計データの値が
「１」（すなわち白）の場合にはしきい値を値「１３」
と高い値に設定し、かつ設計データの値が「０」（すな
わち黒）の場合にはしきい値を値「３」と低い値に設定
することにより、検査対象であるパターンの位置ずれ量
が画素の大きさに対して十分小さい場合にも従来に比し
て確実にこれらの位置ずれ欠陥を検出することができ
る。
【００２０】なお上述の実施例においては、４ビツトで
与えられる多値画像データＳ２を二値化するしきい値の
値として、値「１」の設計データについてはしきい値を
「１３」に設定し、値「０」の設計データについてはし
きい値を「３」に設定する場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、要求される感度に応じてしきい値の
値はそれぞれ他の値に設定し得る。
与えられる多値画像データＳ２を二値化するしきい値の
値として、値「１」の設計データについてはしきい値を
「１３」に設定し、値「０」の設計データについてはし
きい値を「３」に設定する場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、要求される感度に応じてしきい値の
値はそれぞれ他の値に設定し得る。
【００２１】例えば設計データの値に対する感度が等し
くなるようにしきい値を設定することもでき、またどち
らか一方の感度のみを上げたり、その逆に一方の感度の
みを下げるようにしきい値を設定することもできる。こ
れにより設計データによつて与えられる設計パターンに
対して生じた位置ずれ欠陥に対する感度を希望のレベル
に正確かつ細かく設定することができる。
くなるようにしきい値を設定することもでき、またどち
らか一方の感度のみを上げたり、その逆に一方の感度の
みを下げるようにしきい値を設定することもできる。こ
れにより設計データによつて与えられる設計パターンに
対して生じた位置ずれ欠陥に対する感度を希望のレベル
に正確かつ細かく設定することができる。
【００２２】また上述の実施例においては、設計データ
の値「１」及び「０」をそれぞれパターンの白部分及び
黒部分に対応させる場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、その逆に黒部分及び白部分に対応させるよ
うにしても良い。
の値「１」及び「０」をそれぞれパターンの白部分及び
黒部分に対応させる場合について述べたが、本発明はこ
れに限らず、その逆に黒部分及び白部分に対応させるよ
うにしても良い。
【００２３】さらに上述の実施例においては、ルツクア
ツプテーブル６に入力される設計データのビツト長を１
ビツトとする場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、複数ビツトによつて与える場合にも広く適用し得
る。例えば特開平4-33471 号において開示したように、
設計データをＮ×Ｎの二次元ウインドウ上に配列するこ
ととし、処理対象であるウインドウの中心画素に対応す
る設計データに加えてその周辺画素の設計データを用い
てしきい値を設定するようにしても良い。
ツプテーブル６に入力される設計データのビツト長を１
ビツトとする場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、複数ビツトによつて与える場合にも広く適用し得
る。例えば特開平4-33471 号において開示したように、
設計データをＮ×Ｎの二次元ウインドウ上に配列するこ
ととし、処理対象であるウインドウの中心画素に対応す
る設計データに加えてその周辺画素の設計データを用い
てしきい値を設定するようにしても良い。
【００２４】またこのときウインドウ内の画素を用いて
設計パターンのコーナー部等、設計パターンに含まれる
パターン上の特徴を予め認識させ、認識されたパターン
上の特徴に基づいて処理対象画素のしきい値を決定する
ようにしても良い。これにより検出感度を従来に比して
一段と正確かつ細かく設定することができる。
設計パターンのコーナー部等、設計パターンに含まれる
パターン上の特徴を予め認識させ、認識されたパターン
上の特徴に基づいて処理対象画素のしきい値を決定する
ようにしても良い。これにより検出感度を従来に比して
一段と正確かつ細かく設定することができる。
【００２５】さらに上述の実施例においては、多値画像
データＳ２及びしきい値データＳ３のビツト長を４ビツ
トとする場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、他のビツト長の多値画像データＳ２及びしきい値デ
ータＳ３を用いる場合にも広く適用し得る。これにより
位置ずれ欠陥に対する感度を自由に選択することができ
る。
データＳ２及びしきい値データＳ３のビツト長を４ビツ
トとする場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、他のビツト長の多値画像データＳ２及びしきい値デ
ータＳ３を用いる場合にも広く適用し得る。これにより
位置ずれ欠陥に対する感度を自由に選択することができ
る。
【００２６】さらに上述の実施例においては、試料上に
形成されたパターンのエツジが比較的矩形形状になつて
いる場合について述べたが、本発明はこれに限らず、エ
ツジが丸みをおび、パターンのエツジ付近より得られる
多値画像データＳ２の値がなだらかに変化する場合にも
適用し得る。このときにも位置ずれ欠陥の検出精度は従
来に比して一段と高くすることができる。
形成されたパターンのエツジが比較的矩形形状になつて
いる場合について述べたが、本発明はこれに限らず、エ
ツジが丸みをおび、パターンのエツジ付近より得られる
多値画像データＳ２の値がなだらかに変化する場合にも
適用し得る。このときにも位置ずれ欠陥の検出精度は従
来に比して一段と高くすることができる。
【００２７】さらに上述の実施例においては、画像二値
化装置１によつてレチクル３上に形成された幾何学パタ
ーンの欠陥検査に用いられる検査装置に用いる場合につ
いて述べたが、本発明はこれに限らず、半導体の製造に
用いられるマスクや半導体基板等に形成された幾何学パ
ターンの欠陥検査にも適用し得る。
化装置１によつてレチクル３上に形成された幾何学パタ
ーンの欠陥検査に用いられる検査装置に用いる場合につ
いて述べたが、本発明はこれに限らず、半導体の製造に
用いられるマスクや半導体基板等に形成された幾何学パ
ターンの欠陥検査にも適用し得る。
【００２８】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、しきい値
の値を設計データによつて与えられる二値画像情報に基
づいて異なる値に設定し、このように設定されたしきい
値と設計データに基づいて形成された画像パターンを撮
像して得られる多値画像データとを比較して多値画像デ
ータを二値データに変換することにより、設計データに
基づいて形成されたパターンの位置ずれに対する検出感
度を従来に比して一段と正確かつ細かく設定することが
できる。これにより従来方式では検出できなかつた微細
な位置ずれも容易に検出することができる。
の値を設計データによつて与えられる二値画像情報に基
づいて異なる値に設定し、このように設定されたしきい
値と設計データに基づいて形成された画像パターンを撮
像して得られる多値画像データとを比較して多値画像デ
ータを二値データに変換することにより、設計データに
基づいて形成されたパターンの位置ずれに対する検出感
度を従来に比して一段と正確かつ細かく設定することが
できる。これにより従来方式では検出できなかつた微細
な位置ずれも容易に検出することができる。
【図１】本発明による画像二値化装置の一実施例を示す
ブロツク図である。
ブロツク図である。
【図２】黒パターン部分に生じた位置ずれ欠陥検出の説
明に供する略線図である。
明に供する略線図である。
【図３】白パターン部分に生じた位置ずれ欠陥検出の説
明に供する略線図である。
明に供する略線図である。
【図４】画素配列の説明に供する略線図である。
【図５】従来方式による位置ずれ欠陥検出の説明に供す
る略線図である。
る略線図である。
１……画像二値化装置、２……カメラ、３……試料、４
……Ａ／Ｄ変換回路、５……比較回路、６……ルツクア
ツプテーブル。
……Ａ／Ｄ変換回路、５……比較回路、６……ルツクア
ツプテーブル。
Claims (2)
- 【請求項１】設計データに基づいて形成された画像パタ
ーンを撮像して得られる多値画像データをしきい値と比
較し、前記多値画像データを二値データに変換する画像
二値化方法において、 前記しきい値として、前記設計データによつて与えられ
る二値画像情報に基づいて異なつた値を画素ごとに設定
することを特徴とする画像二値化方法。 - 【請求項２】設計データに基づいて形成された画像パタ
ーンを撮像して得られる多値画像データをしきい値と比
較し、前記多値画像データを二値データに変換する画像
二値化装置において、 前記しきい値として、前記設計データによつて与えられ
る二値画像情報に基づいて異なる値を画素ごとに設定す
るテーブル手段と、 前記多値画像データと前記しきい値を比較し、前記多値
画像データを二値データに変換する比較手段とを具える
ことを特徴とする画像二値化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5050158A JPH06245074A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 画像二値化方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5050158A JPH06245074A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 画像二値化方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06245074A true JPH06245074A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12851393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5050158A Pending JPH06245074A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 画像二値化方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06245074A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11013922B2 (en) | 2014-09-26 | 2021-05-25 | Duke University | Systems and methods for spinal cord stimulation |
-
1993
- 1993-02-16 JP JP5050158A patent/JPH06245074A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11013922B2 (en) | 2014-09-26 | 2021-05-25 | Duke University | Systems and methods for spinal cord stimulation |
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