JPH06232037A - 静電力による滴吸着装置 - Google Patents
静電力による滴吸着装置Info
- Publication number
- JPH06232037A JPH06232037A JP5015032A JP1503293A JPH06232037A JP H06232037 A JPH06232037 A JP H06232037A JP 5015032 A JP5015032 A JP 5015032A JP 1503293 A JP1503293 A JP 1503293A JP H06232037 A JPH06232037 A JP H06232037A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- drop
- arm
- droplet
- supply nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】液体塗布装置で用いる液垂れ防止装置におい
て、構造が簡単な低価格で普及機器として広く利用でき
る滴吸着装置を得る。 【構成】液体供給ノズル１、および先端２ａに球状を形
成しその材料にフッ素樹脂を用いた液体吸着アーム２か
らなり、かつこのアームの先端２ａから移動ポールへの
取り付け基部に向けこのアームの下縁を下向きに傾斜さ
せ、液垂れ不可領域を越えたその下部に滴切り端４を形
成されている。液体吸着アーム２を負帯電させこれを滴
３に近づけると、滴３は液体吸着アーム先端２ａから静
電力を受け液体供給ノズル１から液体吸着アーム２の先
端２ａに移動する。その後滴３は液体吸着アーム２の下
縁を下向きに傾斜させた面に沿って自然落下し、液垂れ
不可領域を越えた滴切り端４まで移動し、滴が自重で落
下する。
て、構造が簡単な低価格で普及機器として広く利用でき
る滴吸着装置を得る。 【構成】液体供給ノズル１、および先端２ａに球状を形
成しその材料にフッ素樹脂を用いた液体吸着アーム２か
らなり、かつこのアームの先端２ａから移動ポールへの
取り付け基部に向けこのアームの下縁を下向きに傾斜さ
せ、液垂れ不可領域を越えたその下部に滴切り端４を形
成されている。液体吸着アーム２を負帯電させこれを滴
３に近づけると、滴３は液体吸着アーム先端２ａから静
電力を受け液体供給ノズル１から液体吸着アーム２の先
端２ａに移動する。その後滴３は液体吸着アーム２の下
縁を下向きに傾斜させた面に沿って自然落下し、液垂れ
不可領域を越えた滴切り端４まで移動し、滴が自重で落
下する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液体を塗布する工程
において使用する液体塗布装置の液体供給ノズル先端に
残る滴除去の方法に関する。
において使用する液体塗布装置の液体供給ノズル先端に
残る滴除去の方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置のなかで液垂れがあって
はならない代表的なものとしてフォトレジスト塗布装置
がある。この装置は液垂れ防止のために一般的にサック
バック（滴後退）装置をもっている。このサックバック
装置はフォトレジスト供給ノズル内のレジストを吸引ポ
ンプで僅かに吸引して、レジストの滴をノズル内に引き
戻す方法をとっている。図２は従来例を示す概念図であ
る。サージタンク７を介した液体供給ノズル１０を通じ
て液体供給ポンプ８により液体が被加工物に供給され
る。液体供給ストップ後サージタンク７に接続された液
体吸引ポンプ９が作動しサージタンク７内を大気圧以下
とし、この作用により滴３ａが液体供給ノズル１０内に
引き込まれることになる。
はならない代表的なものとしてフォトレジスト塗布装置
がある。この装置は液垂れ防止のために一般的にサック
バック（滴後退）装置をもっている。このサックバック
装置はフォトレジスト供給ノズル内のレジストを吸引ポ
ンプで僅かに吸引して、レジストの滴をノズル内に引き
戻す方法をとっている。図２は従来例を示す概念図であ
る。サージタンク７を介した液体供給ノズル１０を通じ
て液体供給ポンプ８により液体が被加工物に供給され
る。液体供給ストップ後サージタンク７に接続された液
体吸引ポンプ９が作動しサージタンク７内を大気圧以下
とし、この作用により滴３ａが液体供給ノズル１０内に
引き込まれることになる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このサックバック装置
は、機構が複雑となりかつ高価格であり普及機器として
適当ではないという問題点がある。この発明は前記の問
題点に鑑みてなされたものであり、その目的は簡単な機
構でかつ低価格の装置を提供することにある。
は、機構が複雑となりかつ高価格であり普及機器として
適当ではないという問題点がある。この発明は前記の問
題点に鑑みてなされたものであり、その目的は簡単な機
構でかつ低価格の装置を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この目的は、液体を塗布
する工程において使用する液体塗布装置において、昇降
ポールに固定された液体供給ノズル、および移動ポール
に固定された液体吸着アームから構成される液体塗布装
置の液体供給ノズル口に対向する液体吸着アームの先端
を球状に形成しその材料にフッ素樹脂を用い、かつこの
アームの先端から移動ポールへの取り付け基部に向けこ
のアームの下縁を下向きに傾斜させ、液垂れ不可領域を
越えたその下部に滴切り端を形成し、液体供給ノズル口
に発生する滴を負帯電した液体吸着アームの先端に吸着
させた後、このアームの先端から移動ポールへの取り付
け基部に向けこのアームの下縁を下向きに傾斜させた面
に沿って滴を移動させ、液垂れ不可領域を越えた滴切り
端まで移動させた後、滴を滴下させることにより達成さ
れる。
する工程において使用する液体塗布装置において、昇降
ポールに固定された液体供給ノズル、および移動ポール
に固定された液体吸着アームから構成される液体塗布装
置の液体供給ノズル口に対向する液体吸着アームの先端
を球状に形成しその材料にフッ素樹脂を用い、かつこの
アームの先端から移動ポールへの取り付け基部に向けこ
のアームの下縁を下向きに傾斜させ、液垂れ不可領域を
越えたその下部に滴切り端を形成し、液体供給ノズル口
に発生する滴を負帯電した液体吸着アームの先端に吸着
させた後、このアームの先端から移動ポールへの取り付
け基部に向けこのアームの下縁を下向きに傾斜させた面
に沿って滴を移動させ、液垂れ不可領域を越えた滴切り
端まで移動させた後、滴を滴下させることにより達成さ
れる。
【０００５】
【作用】前記手段は静電誘導または静電力の相互作用で
結ばれる静電結合を利用することにより容易に実現され
る。即ち液体供給ノズルを零電位とし、高誘電体として
の特性を持つフッ素樹脂で加工された液体吸着アームを
負帯電させこれを滴に近づけると、滴は液体吸着アーム
先端から静電力を受け液体供給ノズル口から液体吸着ア
ームの先端に移動する。その後滴は液体の表面張力によ
り粒状を保ち、フッ素樹脂の表面摩擦係数が少ない性質
を利用し、液体吸着アームの下縁を下向きに傾斜させた
面に沿って自然落下し、液垂れ不可領域を越えた滴切り
端まで移動する。滴切り端は針先状となっているためこ
の時点で針先との密着力が低下し、滴が自重で落下する
ことになる。
結ばれる静電結合を利用することにより容易に実現され
る。即ち液体供給ノズルを零電位とし、高誘電体として
の特性を持つフッ素樹脂で加工された液体吸着アームを
負帯電させこれを滴に近づけると、滴は液体吸着アーム
先端から静電力を受け液体供給ノズル口から液体吸着ア
ームの先端に移動する。その後滴は液体の表面張力によ
り粒状を保ち、フッ素樹脂の表面摩擦係数が少ない性質
を利用し、液体吸着アームの下縁を下向きに傾斜させた
面に沿って自然落下し、液垂れ不可領域を越えた滴切り
端まで移動する。滴切り端は針先状となっているためこ
の時点で針先との密着力が低下し、滴が自重で落下する
ことになる。
【０００６】
【実施例】この実施例はフォトレジスト塗布装置にこの
発明の滴吸着装置を応用したものであり、図１はこの実
施例を示す概念図である。シリコンウエハーがセットさ
れた後昇降ポール５が作動し液体供給ノズル１を降下さ
せる。その後移動ポール６が作動し液体吸着アーム２の
先端２ａが液体供給ノズル１の排出口１ａに対向する位
置まで移動する。その間隔は１〜３ｍｍ程度がよい。排
出口１ａからフォトレジスト剤を決められた量滴下した
のち液体吸着アーム２が負帯電され、滴３（０〜 0.05
ｃｃ程度）が液体吸着アーム２の先端２ａに移動する。
その後滴３が液体吸着アームの下縁２ｂを下向きに傾斜
させた面に沿って自然落下し、液垂れ不可領域を越えた
滴切り端４まで移動し滴３が自重で落下する。滴切り端
４の形状は針先状である。
発明の滴吸着装置を応用したものであり、図１はこの実
施例を示す概念図である。シリコンウエハーがセットさ
れた後昇降ポール５が作動し液体供給ノズル１を降下さ
せる。その後移動ポール６が作動し液体吸着アーム２の
先端２ａが液体供給ノズル１の排出口１ａに対向する位
置まで移動する。その間隔は１〜３ｍｍ程度がよい。排
出口１ａからフォトレジスト剤を決められた量滴下した
のち液体吸着アーム２が負帯電され、滴３（０〜 0.05
ｃｃ程度）が液体吸着アーム２の先端２ａに移動する。
その後滴３が液体吸着アームの下縁２ｂを下向きに傾斜
させた面に沿って自然落下し、液垂れ不可領域を越えた
滴切り端４まで移動し滴３が自重で落下する。滴切り端
４の形状は針先状である。
【０００７】液体供給ノズル１の材質は導電性があり化
学薬品に対する耐久性のあるもので良い、また零電位を
保つため接地されている。液体吸着アーム２の形状は先
端２ａで直径換算で２〜３ｍｍ、液体吸着アームの下縁
２ｂの巾は２〜３ｍｍあれば良い。
学薬品に対する耐久性のあるもので良い、また零電位を
保つため接地されている。液体吸着アーム２の形状は先
端２ａで直径換算で２〜３ｍｍ、液体吸着アームの下縁
２ｂの巾は２〜３ｍｍあれば良い。
【０００８】
【発明の効果】この発明によれば吸引ポンプおよびサー
ジタンクを不要としたため構造も簡単となり、低価格で
製作可能となり、搭載できる機器の範囲が非常に広がる
ことになる。
ジタンクを不要としたため構造も簡単となり、低価格で
製作可能となり、搭載できる機器の範囲が非常に広がる
ことになる。
【図１】この発明の実施例を示す概念図である
【図２】従来例を示す概念図である
１ 液体供給ノズル １ａ 液体供給ノズル排出口 ２ 液体吸着アーム ２ａ 液体吸着アーム先端 ２ｂ 液体吸着アーム下縁 ３、３ａ 滴 ４ 滴切り端 ５ 昇降ポール ６ 移動ポール ７ サージタンク ８ 液体供給ポンプ ９ 液体吸引ポンプ １０ 液体供給ノズル
Claims (3)
- 【請求項１】液体供給ノズルから液体を供給して塗布す
る液体塗布装置において、帯電させた液体吸着アームの
先端を液体供給ノズルの液体排出口に対向させて設けた
ことを特徴とする液体塗布装置で用いる滴吸着装置。 - 【請求項２】請求項１記載の装置において、液体吸着ア
ームの下縁を先端から他側に向けて下向きに傾斜させ、
液垂れ不可領域を越えたその下部に滴切り端を形成する
ことを特徴とする滴吸着装置。 - 【請求項３】請求項１および２記載の滴吸着装置を具備
することを特徴とするフォトレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5015032A JPH06232037A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 静電力による滴吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5015032A JPH06232037A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 静電力による滴吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06232037A true JPH06232037A (ja) | 1994-08-19 |
Family
ID=11877500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5015032A Pending JPH06232037A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 静電力による滴吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06232037A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016136590A (ja) * | 2015-01-23 | 2016-07-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置、液体除去方法および記憶媒体 |
-
1993
- 1993-02-02 JP JP5015032A patent/JPH06232037A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016136590A (ja) * | 2015-01-23 | 2016-07-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置、液体除去方法および記憶媒体 |
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