JPH0620631A - プラズマ電子銃 - Google Patents

プラズマ電子銃

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JPH0620631A
JPH0620631A JP4174248A JP17424892A JPH0620631A JP H0620631 A JPH0620631 A JP H0620631A JP 4174248 A JP4174248 A JP 4174248A JP 17424892 A JP17424892 A JP 17424892A JP H0620631 A JPH0620631 A JP H0620631A
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Tadayoshi Otani
忠義 男谷
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 スクリーン電極へのイオンの衝突を著しく少
なくして電極がスパッタされることを防止した、高出力
のプラズマ電子銃を実現する。 【構成】 イオンは、電子ビームの取りだしの向きとは
逆の向きに加速されてスクリーン電極12とオリフィス
30に向かって進行する。このイオンは、スクリーン電
極12の前面に配置されたシールド電極33に衝突す
る。シールド電極33はイオンの衝突によってスパッタ
されるが、スパッタされたシールド電極物質粒子は、加
速部壁26の内面に付着する。しかし、シールド電極3
3の材料は、加速部壁26と同じ材料で形成されている
ので、放電部壁26内面を汚染することはない。また、
碍子32にはスパッタされた粒子が付着しないので、シ
ールド電極33や加速部壁26はスクリーン電極とは常
に絶縁され、電気的にフローティングの状態が維持され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルゴンガスなどを放
電部に供給し、更に、放電部に電子を供給し、該放電部
においてプラズマを生成するようにしたプラズマ生成装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】図2は、プラズマ生成装置からの電子を
用いた従来のイオンプレーティング装置を示しており、
1は真空チャンバーである。真空チャンバー1の下部に
は、ルツボ2が配置され、その中に被蒸発材料3が入れ
られている。4はフィラメント、5は高圧電源であり、
このフィラメント4から発生した電子ビームは、図示し
ていない磁石により270°偏向され、ルツボ2中の被
蒸発材料3に照射される。チャンバー1の上部には、イ
オン化された蒸発材料が付着させられる基板6が配置さ
れる。チャンバー1の底部には、図示していないターボ
モレキュラーポンプなどの真空ポンプに接続された排気
管7が設けられている。また、チャンバー1の内部に
は、後述するプラズマ電子銃からの電子を引き出すため
のアース電位の電極8が設けられている。チャンバー1
の一方の側部には、プラズマ電子銃9が設けられてい
る。このプラズマ電子銃9には、ランタニウムヘキサボ
ライドの如きフィラメント10、第1の電極である中間
電極11、第2の電極であるスクリーン電極12、第3
の電極である加速電極13、環状直流コイル14,1
5、ニードルバルブ16を有したアルゴンガス供給管1
7、フィラメント加熱電源18、放電安定化抵抗19、
放電電源20、中間電極負荷抵抗21、加速電源22よ
り構成されている。また、23は排気管であり、図示し
ていないターボモレキュラーポンプなどの真空ポンプに
接続されている。
【0003】上記した構成において、まず、チャンバー
1内部とプラズマ電子銃9の内部を、排気管7,23を
介して10-5Torr以下にまで排気する。その後、プラズ
マ電子銃9のアルゴンガス供給管17に設けられている
ニードルバルブ16を徐々に開け、アルゴンガスをプラ
ズマ電子銃9内に導入する。そして、フィラメント加熱
電源18をオンにし、フィラメント電流をフィラメント
定格温度にまで徐々に増加させ、フィラメント16から
電子を放出させる。次に、放電電源20をオンとし、放
電電圧を中間電極11とスクリーン電極12との間に印
加すると、両電極間に放電が発生し、放電電流が流れ
る。この放電による電子がアルゴンガス分子と衝突し、
アルゴンガス分子を電離し、この電離が進行することに
より電子励起のプラズマPが発生する。なお、この時の
アルゴンガスの流量と放電電圧とは、パッシニンの法則
に従った放電が開始される値に調整される。また、プラ
ズマ電子銃9内で発生したプラズマPは、環状の直流コ
イル14による磁場により発散が防止され、中心方向へ
集束される。
【0004】このプラズマP中で生成した電子は、加速
電源22から100V程度の加速電圧が印加された加速
電極13とチャンバー1内の電子引き出し電極8によっ
て引き出され、真空チャンバー1の内部に向け加速され
る。この時、電子は、直流コイル14,15による磁場
により中心方向に集束され、電子が加速電極13などに
衝突して消滅するのを防止している。真空チャンバー1
内では、フィラメント4を加熱させて電子を放出させ、
ルツボ2中の被蒸発材料3に電子が照射されている。材
料3は電子の照射によって加熱され、蒸発させられる。
この蒸発した材料は、真空チャンバー1内でプラズマ電
子銃9からの電子と衝突し、イオン化,活性化されプラ
ズマが生成される。このプラズマ中のイオン化された材
料は、基板6に引き寄せられて該基板6に付着しイオン
プレーティングが行われる。なお、ルツボ2内の材料3
の蒸発と同時に、チャンバー1内に反応ガスを供給すれ
ば、蒸発材料と反応ガスとの反応に基づく物質を基板に
付着させることができる。例えば、蒸発物質がシリコン
で、反応ガスが酸素ガスの場合、基板には、二酸化シリ
コン(SiO2 )がイオンプレーティングされる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記した構成で、チャ
ンバー1内でプラズマが発生するが、このプラズマ中の
正イオンがプラズマ電子銃内の負電位により電子ビーム
の引き出しとは逆の向きに加速され、スクリーン電極1
2に衝突する。また、電子ビームの出力を上げるため、
多量のガスをプラズマ電子銃9内に導入すると、スクリ
ーン電極12と加速電極13の間の圧力が上昇し、電極
12と13との間でグロー放電が発生し、この放電によ
り発生したイオンがスクリーン電極12に衝突する。図
2はスクリーン電極12の詳細を図示したもので、スク
リーン電極12は、それぞれステンレスで形成された筒
状の放電部壁25と加速部壁26との間に碍子27,2
8を介して取り付けられている。また、スクリーン電極
12の中心部分にはモリブデンなどの高融点金属のオリ
フィス29が設けられている。なお、放電部壁25とか
加速部壁26とは電気的にフローティングの状態とされ
ている。
【0006】このようなスクリーン電極12にイオンが
衝突すると、電極12やオリフィス29がイオンによっ
てスパッタされ、このスパッタ物質により加速部壁26
の内面が汚染される。また、碍子28の表面にスパッタ
された導電物質が付着し、碍子28がショートし、スク
リーン電極12に印加されている電圧が加速部壁26に
も印加され、その結果、加速部壁26にもイオンが衝突
し加速部壁26内面も激しくスパッタされてしまう。従
って、電子ビームの電流を大きくすることができず、イ
オンによるスパッタ現象は、プラズマ電子銃における電
子ビーム出力を制限する大きな要因となっている。
【0007】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、スクリーン電極へのイオンの衝突
を著しく少なくして電極がスパッタされることを防止し
た、高出力のプラズマ電子銃を実現するにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明に基づくプラズマ
電子銃は、第1の電極と第2の電極との間に形成される
放電部と、第2の電極と第3の電極との間に形成される
加速部と、該放電部に不活性ガスを導入する手段と、該
放電部に供給する電子を発生するフィラメントとを備
え、該放電部でプラズマを生成し、生成したプラズマか
ら加速部に電子ビームを取り出すように構成したプラズ
マ電子銃において、第2の電極の加速部側の面を覆うよ
うに加速部壁と同電位のシールド部材を設けたことを特
徴としている。
【0009】
【作用】本発明に基づくプラズマ電子銃は、イオンが向
かう第2電極(スクリーン電極)の加速部側の面を覆う
ようにシールド電極を設け、第2電極がスパッタされる
ことを防止する。
【0010】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図3は、本発明に基づくプラズマ電子銃の
要部を示しており、図1と図2の従来装置と同一部分は
同一番号が付されている。この実施例において、スクリ
ーン電極12の中心部分にはカーボンで形成されたオリ
フィス30が設けられている。また、スクリーン電極1
2は碍子31によって放電部壁25に接続され、碍子3
2によって加速部壁26に接続されている。加速部壁2
6には、スクリーン電極12の加速部側の面を覆うよう
に設けられたステンレス製のシールド電極33が取り付
けられている。シールド電極33の中心開口の径は、オ
リフィス30によって形成される電子ビームの通過開口
Eの径とほぼ同じか若干大きくされている。オリフィス
30の加速部側には、オリフィスカバー34が取り付け
られており、オリフィスカバー34には突起部35が設
けられ、後述するスパッタされた物質が碍子32の方向
に向かうことを阻止している。このような構成の動作を
次に説明する。
【0011】放電部で生成されたプラズマから引き出さ
れた電子ビームは、オリフィス30の中心開口Eを通っ
て加速部内に導入される。一方、加速部や図示していな
いイオンプレーティング装置のチャンバー内で発生した
イオンは、電子ビームの取りだしの向きとは逆の向きに
加速されてスクリーン電極12とオリフィス30に向か
って進行する。このイオンの一部は、スクリーン電極1
2の前面に配置されたシールド電極33に衝突する。シ
ールド電極33はイオンの衝突によってスパッタされる
が、スパッタされたシールド電極物質粒子は、加速部壁
26の内面に付着する。しかし、シールド電極33の材
料は、加速部壁26と同じ材料で形成されているので、
放電部壁26内面を汚染することはない。また、碍子3
2にはスパッタされた粒子が付着しないので、シールド
電極33や加速部壁26はスクリーン電極とは常に絶縁
され、電気的にフローティングの状態が維持される。ま
た、イオンは、オリフィス30にも衝突するが、オリフ
ィス30の材料としてカーボンを用いているので、オリ
フィスへのイオンの衝突によってスパッタされる粒子は
僅かである。さらに、スパッタされた僅かなオリフィス
物質粒子もオリフィスカバー34に設けられた突起部3
5によって碍子32方向への侵入が阻止されることか
ら、碍子32に導電性物質が付着することは完全に防止
される。なお、オリフィスカバー34にもイオンが衝突
することが考えられるため、オリフィスカバー34もカ
ーボンで形成し、スパッタの量を少なくすることが望ま
しい。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づくプ
ラズマ電子銃は、イオンが向かうスクリーン電極の加速
部側の面を覆うようにシールド電極を設け、スクリーン
電極がスパッタされることを防止するように構成したの
で、プラズマ電子銃における電子ビーム出力を大きくす
ることができる。また、加速部内の汚染も防止すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のプラズマ電子銃を用いたイオンプレーテ
ィング装置を示す図である。
【図2】図1の電子銃のスクリーン電極部の詳細を示す
図である。
【図3】本発明に基づくプラズマ電子銃の要部を示す図
である。
【符号の説明】
1 真空チャンバー 2 ルツボ 3 被蒸発材料 4 フィラメント 5,16,18,21 電源 6 基板 7 電極 8,23 排気管 9 プラズマ電子銃 10 フィラメント 11 中間電極 12 スクリーン電極 13 加速電極 14,15 環状直流コイル 16 ニードルバルブ 17 アルゴンガス供給管 25 放電部壁 26 加速部壁 30 オリフィス 31,32 碍子 34 オリフィスカバー

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の電極と第2の電極との間に形成さ
    れる放電部と、第2の電極と第3の電極との間に形成さ
    れる加速部と、該放電部に不活性ガスを導入する手段
    と、該放電部に供給する電子を発生するフィラメントと
    を備え、該放電部でプラズマを生成し、生成したプラズ
    マから加速部に電子ビームを取り出すように構成したプ
    ラズマ電子銃において、第2の電極の加速部側の面を覆
    うように加速部壁と同電位のシールド部材を設けたこと
    を特徴とするプラズマ電子銃。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002177765A (ja) * 2000-12-15 2002-06-25 Stanley Electric Co Ltd イオンプレーティング装置及び薄膜作製方法
JP2010225410A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Ulvac Japan Ltd 電子源及び処理装置

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