JPH06204660A - Manufacture of multilayer printed wiring board - Google Patents

Manufacture of multilayer printed wiring board

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Publication number
JPH06204660A
JPH06204660A JP34783492A JP34783492A JPH06204660A JP H06204660 A JPH06204660 A JP H06204660A JP 34783492 A JP34783492 A JP 34783492A JP 34783492 A JP34783492 A JP 34783492A JP H06204660 A JPH06204660 A JP H06204660A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inner layer
wiring board
treatment
multilayer printed
printed wiring
Prior art date
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Pending
Application number
JP34783492A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuji Takada
哲二 高田
Akira Matsuno
亮 松野
Yoshiyasu Nishikawa
嘉保 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP34783492A priority Critical patent/JPH06204660A/en
Publication of JPH06204660A publication Critical patent/JPH06204660A/en
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the manufacture of multilayer printed wiring board capable of giving excellent adhesion to a wiring board and of preventing the worsening of heat resistance. CONSTITUTION:A permanent resist 4 is formed on an insulating substrate 3 and an inner layer board 1 having a conductor pattern 2 is prepared by applying chemical copper plating. Degreasing treatment, acid treatment and silane coupling agent treatment are performed in this order for the surface of the conductor pattern 2 on the inner layer board 1. A prepreg 5 and the inner layer board 1 are adhered by thermocompression bonding by laminated forming process thereafter. According to this method using no soft etching treatment, no cracking occurs in the wiring board even at the time of exposing to a high temperature.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多層プリント配線板の
製造方法に係り、より詳しくは内層パターンをフルアデ
ィティブ法で形成する多層プリント配線板の製造方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, and more particularly to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which an inner layer pattern is formed by a full additive method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の多層プリント配線板の製造方法に
おいては、内層パターンをサブトラクティブ法により製
造していた。そして、近年においては、フルアディティ
ブ法により内層パターンを形成する多層プリント配線板
を製造する方法もいくつか提案されている。
2. Description of the Related Art In a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board, an inner layer pattern is manufactured by a subtractive method. In recent years, some methods for manufacturing a multilayer printed wiring board in which an inner layer pattern is formed by the full additive method have been proposed.

【0003】フルアディティブ法により内層パターンを
形成する従来の多層プリント配線板の製造方法では、図
2に示すように、まず内層となる導体パターン12を備
えた内層板11が製造される。この導体パターン12
は、例えば化学銅めっき等によって、永久レジスト14
の非形成部分に形成されるものである。この後、前記内
層板11はプリプレグ15等を介して積層・圧着され、
多層プリント配線板となる。そして、従来の製造方法に
おいて積層成形の前には、導体パターン12の表面を粗
化する工程が行われる。そして、この工程によって導体
パターン12−プリプレグ15間の結合力の向上が図ら
れる。
In a conventional method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which an inner layer pattern is formed by the full additive method, as shown in FIG. 2, first, an inner layer board 11 having a conductor pattern 12 serving as an inner layer is manufactured. This conductor pattern 12
Is a permanent resist 14 such as by chemical copper plating.
Is formed in the non-formed part. After that, the inner layer plate 11 is laminated and pressure-bonded through the prepreg 15 and the like,
It becomes a multilayer printed wiring board. Then, in the conventional manufacturing method, a step of roughening the surface of the conductor pattern 12 is performed before the lamination molding. Then, the bonding force between the conductor pattern 12 and the prepreg 15 is improved by this step.

【0004】前記導体パターン12表面の粗化工程は、
より詳細には次のような諸処理からなる。即ち、アルカ
リによる脱脂処理、水洗、ソフトエッチ処理、水洗、酸
化皮膜を取るための酸処理、水洗、高温・強アルカリに
よる黒化処理、水洗及び乾燥の諸工程である。そして、
これらの工程を経ることにより、パターン表面の銅層の
上には、新たに酸化銅の針状結晶層が析出形成される。
この針状結晶層は、プレプリグ15等が積層圧着された
場合に、物理的なアンカーとしての役割を果たす。
The roughening step of the surface of the conductor pattern 12
More specifically, it includes the following processes. That is, the steps are degreasing treatment with alkali, water washing, soft etching treatment, water washing, acid treatment for removing an oxide film, water washing, blackening treatment with high temperature and strong alkali, water washing and drying. And
Through these steps, a needle-shaped crystal layer of copper oxide is newly formed on the copper layer on the surface of the pattern.
The needle-shaped crystal layer functions as a physical anchor when the prepreg 15 and the like are laminated and pressure-bonded.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、フルアディ
ティブ法により形成された内層パターンでは、ソフトエ
ッチ処理により導体パターン12表面をソフトエッチす
る際に、永久レジスト14と接する界面がエッチングさ
れ易いという特徴がある(図2参照)。
However, the inner layer pattern formed by the full additive method is characterized in that the interface in contact with the permanent resist 14 is easily etched when the surface of the conductor pattern 12 is soft-etched by the soft etching process. Yes (see Figure 2).

【0006】そして、このように導体パターン12の側
壁がソフトエッチされると、永久レジスト14との間に
隙間Sが生じる場合がある。この隙間Sは、プリプレグ
15等の積層・圧着の際にプリプレグ15に含浸された
樹脂によって完全には充填されず、多層プリント配線板
内部に空洞が生じる場合がある。
When the side wall of the conductor pattern 12 is soft-etched in this manner, a gap S may be formed between the side wall of the conductor pattern 12 and the permanent resist 14. The gap S may not be completely filled with the resin impregnated in the prepreg 15 at the time of stacking and pressure bonding the prepreg 15 and the like, and a void may occur inside the multilayer printed wiring board.

【0007】そして、このような多層プリント配線板が
高温に遭遇したような場合には、前記空洞部分から亀裂
Cが生じ(図3参照)、絶縁層内または導体・絶縁層間
にデラミネーション等が発生し易くなる。
When such a multilayer printed wiring board encounters a high temperature, a crack C is generated from the hollow portion (see FIG. 3), and delamination or the like occurs in the insulating layer or between the conductor and the insulating layer. It tends to occur.

【0008】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、密着性を損なうことなく耐熱性の
悪化を防止することができる多層プリント配線板の製造
方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board capable of preventing deterioration of heat resistance without impairing adhesion. is there.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、第一の発明では、内層パターンをフルアディティ
ブ法で形成する多層プリント配線板の製造方法におい
て、内層パターン表面に対して、脱脂処理、酸処理及び
黒化処理を順次行った後、積層成形を行うことをその要
旨とする。
In order to solve the above problems, in the first invention, in a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which an inner layer pattern is formed by a full additive method, the inner layer pattern surface is degreased. The gist of the present invention is to carry out the lamination molding after sequentially performing the treatment, the acid treatment and the blackening treatment.

【0010】また、第二の発明では、内層パターンをフ
ルアディティブ法で形成する多層プリント配線板の製造
方法において、内層パターン表面に対して、脱脂処理、
酸処理及びシランカップリング剤処理を順次行った後、
積層成形を行うことをその要旨とする。ここで、シラン
カップリング剤とは、金属等の無機物と樹脂等の有機物
との界面において、両者間の結合力を改善するために使
用される薬剤をいう。
In the second invention, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which the inner layer pattern is formed by the full additive method, the inner layer pattern surface is degreased,
After sequentially performing acid treatment and silane coupling agent treatment,
It is the gist to perform laminate molding. Here, the silane coupling agent refers to a chemical agent used to improve the binding force between an inorganic substance such as a metal and an organic substance such as a resin at the interface.

【0011】[0011]

【作用】第一及び第二の発明では、何れも従来のような
ソフトエッチ処理が行われないため、導体パターン側壁
に隙間が生じることがなく、結果として積層成形後に配
線板が高温に遭遇したときでも、配線板の破壊を回避す
ることができる。
In the first and second aspects of the invention, since the conventional soft etching process is not carried out, no gap is formed on the side wall of the conductor pattern, and as a result, the wiring board encounters a high temperature after the lamination molding. Even at times, the destruction of the wiring board can be avoided.

【0012】従来の内層パターンをサブトラクティブ法
で形成した場合には、銅箔または電気銅で形成された銅
表面は非常に平滑なものとなる。よって、本発明のよう
なソフトエッチ処理をせずに配線板を製造すると、後の
黒化処理によって形成されるアンカーのみでは内層パタ
ーンと絶縁層との間に充分な密着性が確保されない。
When the conventional inner layer pattern is formed by the subtractive method, the copper surface made of copper foil or electrolytic copper becomes very smooth. Therefore, when a wiring board is manufactured without performing the soft etching process as in the present invention, sufficient adhesion between the inner layer pattern and the insulating layer cannot be secured only by the anchor formed by the subsequent blackening process.

【0013】それに対して、内層パターンをアディティ
ブ法で形成した場合には、化学銅で形成された銅表面は
非常にポーラスな結晶構造となる。このため、本発明の
ようにソフトエッチ処理をせずに配線板を製造したとし
ても、後の黒化処理によって形成されたアンカーが形成
により、内層パターンと絶縁層との間に充分な密着性が
確保されることになる。
On the other hand, when the inner layer pattern is formed by the additive method, the copper surface formed of chemical copper has a very porous crystal structure. Therefore, even if the wiring board is manufactured without soft etching as in the present invention, the anchor formed by the subsequent blackening treatment forms sufficient adhesion between the inner layer pattern and the insulating layer. Will be secured.

【0014】更に、第二の発明のシランカップリング剤
処理によれば、化学的な結合効果を得られるため、同様
に配線板には充分な密着性が確保される。
Further, according to the treatment of the silane coupling agent of the second invention, a chemical bonding effect can be obtained, and therefore sufficient adhesion can be secured to the wiring board as well.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明を具体化した実施例1,2及び
比較例1,2について図面に基づき詳細に説明する。こ
れらの製造方法は、主として内層板の製造工程と、導体
パターン表面を処理する工程と、積層成形工程とからな
る。そして、各製造方法においては、導体パターンの表
面粗化工程がそれぞれ若干異なる。 〔実施例1〕図1に示すように、まず内層の導体パター
ン2を備える内層板1を、以下のようなフルアディティ
ブ法の手順によって製造した。即ち、絶縁基板3の所定
の箇所に接着剤を塗布し、その接着剤層を粗化した。次
いで、その接着剤層表面に無電解めっき用の触媒核を付
与した。その上にめっきレジスト用フィルムをラミネー
トした後、露光、現像、熱処理等の方法に基づいて、め
っき層を形成すべき部分以外の部分に永久レジスト4を
形成した。その後、前記永久レジスト4の非形成部分に
化学銅めっきを施し、導体パターン2を形成した。この
ようにして得られる導体パターン2は、極めてポーラス
な結晶構造を有している。なお、本実施例1で用いた絶
縁基板3はガラスエポキシ(FR−4グレード)製であ
る。また、永久レジスト4は「ノプコキュアF701−
40」(商品名,サンノプコ株式会社製)である。
EXAMPLES Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 embodying the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. These manufacturing methods mainly include a manufacturing process of the inner layer plate, a process of treating the surface of the conductor pattern, and a lamination molding process. In each manufacturing method, the surface roughening step of the conductor pattern is slightly different. Example 1 As shown in FIG. 1, first, an inner layer plate 1 having an inner layer conductor pattern 2 was manufactured by the following procedure of the full additive method. That is, an adhesive was applied to a predetermined portion of the insulating substrate 3 to roughen the adhesive layer. Then, a catalyst nucleus for electroless plating was provided on the surface of the adhesive layer. After laminating a film for plating resist on it, a permanent resist 4 was formed on the portion other than the portion where the plating layer was to be formed based on a method such as exposure, development and heat treatment. After that, a portion of the permanent resist 4 not formed is subjected to chemical copper plating to form a conductor pattern 2. The conductor pattern 2 thus obtained has an extremely porous crystal structure. The insulating substrate 3 used in Example 1 is made of glass epoxy (FR-4 grade). In addition, the permanent resist 4 is "Nopco Cure F701-
40 "(trade name, manufactured by San Nopco Ltd.).

【0016】次に、導体パターン2の表面を粗化する工
程について説明する。まず、脱脂処理として、内層板1
をアルカリ性の水溶液「アルキレート」(商品名,シプ
レーファーイースト株式会社製)に浸漬し、導体パター
ン2の表面に付着している油脂分を除去した。処理条件
は50℃,5分である。
Next, the step of roughening the surface of the conductor pattern 2 will be described. First, as the degreasing treatment, the inner layer plate 1
Was immersed in an alkaline aqueous solution "Alchelate" (trade name, manufactured by Shipley Far East Co., Ltd.) to remove oil and fat adhering to the surface of the conductor pattern 2. The processing conditions are 50 ° C. and 5 minutes.

【0017】前記内層板1を水洗してアルカリ水溶液を
除去した後、導体パターン2の表面に形成された酸化銅
の皮膜を除去するための処理を行った。このとき、10
vol%の硫酸を処理液として選択し、25℃に調節し
た処理液に内層板1を2分間浸漬した。
After the inner layer plate 1 was washed with water to remove the alkaline aqueous solution, a treatment for removing the copper oxide film formed on the surface of the conductor pattern 2 was performed. At this time, 10
Vol% sulfuric acid was selected as the treatment liquid, and the inner layer plate 1 was immersed in the treatment liquid adjusted to 25 ° C. for 2 minutes.

【0018】前記内層板1を水洗して硫酸を除去した
後、次いで導体パターン2の表面に黒化処理を行った。
本実施例1では、処理液としてリン酸三ナトリウム、亜
塩酸ナトリウム及び水酸化ナトリウムを含む強アルカリ
(pH=13)の混合水溶液を約90℃に調節し、その
処理液に内層板1を浸漬した。この黒化処理により、導
体パターン2表面の銅の上に、新たに酸化銅の針状結晶
層を析出形成させた。この針状結晶層は、ガラスクロス
等の基材に樹脂を含浸させたプレプリグ5を積層した場
合、樹脂−銅間の結合力を高めるための物理的なアンカ
ーとして機能するものである。
The inner layer plate 1 was washed with water to remove sulfuric acid, and then the surface of the conductor pattern 2 was blackened.
In the present Example 1, a mixed aqueous solution of a strong alkali (pH = 13) containing trisodium phosphate, sodium sulfite and sodium hydroxide was adjusted to about 90 ° C. as the treatment liquid, and the inner layer plate 1 was immersed in the treatment liquid. did. By this blackening treatment, a needle-shaped crystal layer of copper oxide was newly deposited and formed on the copper on the surface of the conductor pattern 2. This needle-shaped crystal layer functions as a physical anchor for increasing the bonding force between the resin and copper when the resin-impregnated prepreg 5 is laminated on a substrate such as glass cloth.

【0019】更に、前記内層板1を水洗して前記黒化処
理液を除去した後、その内層板1を110℃で60分間
乾燥させた。そして、続く積層成形工程では、内層板1
にプリプレグ5を重ね合わせて、20kgf/cm2 のプレス
圧を付加することにより、内層板1とプリプレグ5とを
熱圧着させた。
Further, the inner layer plate 1 was washed with water to remove the blackening treatment solution, and then the inner layer plate 1 was dried at 110 ° C. for 60 minutes. Then, in the subsequent layer forming step, the inner layer plate 1
The prepreg 5 was superposed on and the press pressure of 20 kgf / cm 2 was applied, so that the inner layer plate 1 and the prepreg 5 were thermocompression bonded.

【0020】以上の各工程を経て製造された多層プリン
ト配線板を2時間煮沸した後、260℃のはんだに30
秒間浸漬し、その後に断面を観察する試験を行った。そ
の結果、導体パターン2の側壁に隙間は認められず、デ
ラミネーション等の発生も確認されなかった。また、内
層の導体パターン2と絶縁層との間に剥離が生じていな
かったことから、この配線板は各層の密着性にも優れて
いることが示唆された。 〔実施例2〕実施例2においても、フルアディティブ法
の手順に従って内層の導体パターンを備える内層板をま
ず製造した。材料及び方法については前記実施例1の工
程に準じている。但し、本実施例2では、前記実施例1
とは導体パターン表面を処理する工程が異なり、以下に
述べるような諸処理が内層板に施されている。
The multilayer printed wiring board manufactured through the above steps is boiled for 2 hours, and then soldered at 260 ° C. for 30 hours.
A test of immersing for a second and then observing the cross section was conducted. As a result, no gap was observed on the side wall of the conductor pattern 2 and delamination was not confirmed. Further, since there was no peeling between the conductor pattern 2 of the inner layer and the insulating layer, it was suggested that this wiring board is also excellent in the adhesiveness of each layer. [Example 2] In Example 2 as well, an inner layer plate having a conductor pattern of the inner layer was first manufactured in accordance with the procedure of the full additive method. The materials and methods are in accordance with the steps of Example 1 above. However, in the second embodiment, the first embodiment
The process for treating the surface of the conductor pattern is different from that of, and various treatments described below are applied to the inner layer plate.

【0021】まず、脱脂処理として、内層板をアルカリ
性の水溶液に浸漬し、導体パターンの表面に付着してい
る油脂分を除去した。次いで、前記内層板を水洗してア
ルカリ水溶液を除去した後、導体パターンの表面に形成
された酸化銅の皮膜を除去するために、10%の硫酸に
浸漬した。脱脂処理及び皮膜除去処理において、処理温
度及び処理時間は、前記実施例1と同一である。次い
で、前記内層板を水洗して硫酸を除去した後、シランカ
ップリング剤処理を行った。前記薬剤は、無機物である
導体パターンと有機物であるプリプレグの接着剤との界
面において、両者2,5を化学的に結合させる役割を果
たす。
First, as a degreasing treatment, the inner layer plate was immersed in an alkaline aqueous solution to remove the oil and fat adhering to the surface of the conductor pattern. Next, the inner layer plate was washed with water to remove the alkaline aqueous solution, and then immersed in 10% sulfuric acid in order to remove the copper oxide film formed on the surface of the conductor pattern. In the degreasing treatment and the film removing treatment, the treatment temperature and the treatment time are the same as those in the first embodiment. Then, the inner layer plate was washed with water to remove sulfuric acid, and then treated with a silane coupling agent. The chemical agent plays a role of chemically binding the two and 5 at the interface between the conductor pattern, which is an inorganic material, and the adhesive of the prepreg, which is an organic material.

【0022】本実施例2では、シランカップリング剤と
して、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
(信越シリコーン製,商品名:「KBM403」)を選
択し、前記物質を水に0.5重量%の割合で溶解させ
た。そして、常温においてこの水溶液に内層板を約2分
間浸漬した。更に、内層板を水洗して前記水溶液を除去
した後、その内層板を110℃で60分間乾燥させた。
In Example 2, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone, trade name: “KBM403”) was selected as the silane coupling agent, and 0.5% by weight of the substance was added to water. Was dissolved at a ratio of. Then, the inner layer plate was immersed in this aqueous solution at room temperature for about 2 minutes. Further, the inner layer plate was washed with water to remove the aqueous solution, and then the inner layer plate was dried at 110 ° C. for 60 minutes.

【0023】そして、実施例1と同様の積層成形工程を
行って、内層板とプリプレグとを熱圧着させた。以上の
各工程を経て製造された多層プリント配線板に対して、
同様の試験を行ったところ、特に異常は認められなかっ
た。この結果から、実施例2の配線板も前記実施例1と
同様に耐熱性に優れていることが実証された。また、内
層の導体パターンと絶縁層間に剥離が生じていなかった
ことから、実施例2の配線板は各層の密着性にも優れて
いることが示唆された。
Then, the same lamination molding process as in Example 1 was performed to thermocompress the inner layer plate and the prepreg. For the multilayer printed wiring board manufactured through the above steps,
When a similar test was conducted, no particular abnormality was found. From this result, it was demonstrated that the wiring board of Example 2 was also excellent in heat resistance as in Example 1. Further, it was suggested that the wiring board of Example 2 was also excellent in the adhesiveness of each layer because no peeling occurred between the conductor pattern of the inner layer and the insulating layer.

【0024】そして、実施例2の製造方法によると、黒
化処理等に必要な大掛かりな装置等が不要になるという
利点がある。このため、製造コストを削減することがで
き、極めて好適である。 〔比較例1,2〕比較例1では、実施例1にて行った導
体パターンに対する表面粗化工程において、更にソフト
エッチ処理を行った。
According to the manufacturing method of the second embodiment, there is an advantage that a large-scale device or the like required for the blackening process is unnecessary. Therefore, the manufacturing cost can be reduced, which is extremely preferable. [Comparative Examples 1 and 2] In Comparative Example 1, soft etching treatment was further performed in the surface roughening step for the conductor pattern performed in Example 1.

【0025】即ち、脱脂処理及び水洗を行った後、硫酸
と過酸化水素水とを含むソフトエッチ液に内層板を浸漬
した。処理条件は40℃,90秒とした。そして、水洗
して前記ソフトエッチ液を除去した後は、前記実施例1
の酸処理以降の手順に従った。
That is, after degreasing and washing with water, the inner layer plate was dipped in a soft etching solution containing sulfuric acid and hydrogen peroxide solution. The processing conditions were 40 ° C. and 90 seconds. Then, after washing with water to remove the soft etchant,
The procedure after the acid treatment was carried out.

【0026】また、比較例2では、内層板に対して実施
例1のような脱脂処理及び酸処理のみを行った後、黒化
処理もシランカップリング処理も施すことなく、内層板
を水洗しかつ乾燥させた。そして、実施例1の積層成形
工程に従って、プレプリグと内層板とを熱圧着させた。
In Comparative Example 2, after the inner layer plate was subjected to only the degreasing treatment and the acid treatment as in Example 1, the inner layer plate was washed with water without performing the blackening treatment or the silane coupling treatment. And dried. Then, according to the lamination molding process of Example 1, the prepreg and the inner layer plate were thermocompression bonded.

【0027】以上の各工程を経て製造された比較例1,
2の多層プリント配線板を260℃のはんだに30秒間
浸漬し、その後に断面を観察する試験を行った。その結
果、比較例1の配線板では内層の導体パターンの側壁と
永久レジストとの間に隙間が発生しているものがあり、
更にその隙間から亀裂が生じているものもあった。一
方、比較例2の配線板には、内層の導体パターンがプリ
プレグと接する界面に剥離が生じているものが確認され
た。即ち、これらの結果からも、前記各実施例1,2の
製造方法の優位性がわかる。
Comparative Example 1 manufactured through the above steps
A test of immersing the multilayer printed wiring board No. 2 in solder at 260 ° C. for 30 seconds and then observing a cross section was conducted. As a result, in the wiring board of Comparative Example 1, there is a case where a gap is generated between the side wall of the conductor pattern of the inner layer and the permanent resist,
Further, there were some cracks formed from the gaps. On the other hand, in the wiring board of Comparative Example 2, it was confirmed that the inner layer conductor pattern was peeled at the interface in contact with the prepreg. That is, these results also show the superiority of the manufacturing methods of Examples 1 and 2 above.

【0028】なお、本発明は上記実施例1,2のみに限
定されることはなく、以下のように変更することが可能
である。例えば、 (a)黒化処理液としては、前記処理剤(ブラックオキ
サイド(Black Oxide)化学処理液)のほかに、酢酸銅、
硫酸銅、硫化バリウム及び塩化アンモニウムを含む混合
水溶液(ブラウンオキサイド(Brown Oxide) 化学処理
液)等が使用可能である。
The present invention is not limited to the first and second embodiments, but can be modified as follows. For example, (a) the blackening treatment liquid, in addition to the treatment agent (black oxide chemical treatment liquid), copper acetate,
A mixed aqueous solution containing copper sulfate, barium sulfide and ammonium chloride (Brown Oxide chemical treatment liquid) or the like can be used.

【0029】(b)シランカップリング剤としては、前
記γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのほか
に、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシラン(信越シリコーン製,商品名:「KBM
−303」),N−β−(アミノエチル)γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン製,商品
名:「KBM−603」),N−フェニル−γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン製,商品
名:「KBM−573」)等が使用可能である。
(B) As the silane coupling agent, in addition to the above-mentioned γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone, trade name: “KBM
-303 "), N-β- (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone, trade name:" KBM-603 "), N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone) , Product name: “KBM-573”) and the like can be used.

【0030】(c)実施例1のように黒化処理をしてア
ンカーを形成した後に、更にシランカップリング剤を処
理しても良い。この方法によれば、それぞれ単独で処理
した場合よりも優れた密着性を配線板に付与することが
できるからである。
(C) After the blackening treatment as in Example 1 to form the anchor, the silane coupling agent may be further treated. This is because according to this method, it is possible to provide the wiring board with excellent adhesion as compared with the case where the wiring boards are treated alone.

【0031】(d)積層形成工程の際、プリプレグと内
層板とを熱圧着させるときの圧力は、実施例1の限りで
はない。
(D) The pressure at the time of thermocompression bonding the prepreg and the inner layer plate in the layer forming step is not limited to that in the first embodiment.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の多層プリ
ント配線板の製造方法によれば、フルアディティブ法に
よって形成された多層プリント配線板の有する優れた密
着性を損なうことがなく耐熱性の悪化を防止することが
できるという優れた効果を奏する。
As described in detail above, according to the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, the excellent adhesiveness of the multilayer printed wiring board formed by the full additive method is not impaired and the heat resistance is improved. It has an excellent effect that it is possible to prevent the deterioration of

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1の多層プリント配線板の製造方法を説
明するための要部拡大断面図である。
FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a main part for explaining a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to a first embodiment.

【図2】従来の多層プリント配線板の製造方法における
欠点を説明するための要部拡大断面図である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of an essential part for explaining a defect in a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board.

【図3】従来の多層プリント配線板の製造方法における
欠点を説明するための要部拡大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged sectional view of an essential part for explaining a defect in the conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 内層パターン。 2 Inner layer pattern.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】内層パターンをフルアディティブ法で形成
する多層プリント配線板の製造方法において、内層パタ
ーン表面に対して、脱脂処理、酸処理及び黒化処理を順
次行った後、積層成形を行うことを特徴とする多層プリ
ント配線板の製造方法。
1. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which an inner layer pattern is formed by a full additive method, wherein degreasing treatment, acid treatment and blackening treatment are sequentially performed on the surface of the inner layer pattern, and then lamination molding is performed. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising:
【請求項2】内層パターンをフルアディティブ法で形成
する多層プリント配線板の製造方法において、内層パタ
ーン表面に対して、脱脂処理、酸処理及びシランカップ
リング剤処理を順次行った後、積層成形を行うことを特
徴とする多層プリント配線板の製造方法。
2. In a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which an inner layer pattern is formed by a full additive method, a degreasing treatment, an acid treatment and a silane coupling agent treatment are sequentially performed on the inner layer pattern surface and then laminated molding is performed. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which is characterized in that it is performed.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012151161A (en) * 2011-01-17 2012-08-09 Ushio Inc Manufacturing method of circuit board
US8866022B2 (en) 2009-09-02 2014-10-21 Panasonic Corporation Printed wiring board, build-up multi-layer board, and production method therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8866022B2 (en) 2009-09-02 2014-10-21 Panasonic Corporation Printed wiring board, build-up multi-layer board, and production method therefor
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