JPH06203141A - Wiring pattern inspecting device - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、プリント基板やホトマスク等におけ る配線パターンの不良を検査するための配線のパタ ーン検査装置に関するものである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring pattern inspection device for inspecting a defective wiring pattern on a printed circuit board, a photomask or the like.
従来の技術 プリント基板への電子部品実装の高密度化に伴 い、配線パターンの細密化が進んでいる。従来、 プリント基板等の不良検査は人間による目視検査 が行われてきたが、配線パターンの細密化により 検査精度を維持しつつ長時間検査作業を続けるこ とが困難になってきており、検査の自動化が要望 されている。 2. Description of the Related Art As electronic components are mounted on printed boards with higher density, wiring patterns are becoming finer. Conventionally, visual inspections by humans have been performed to inspect defective printed circuit boards, but it is becoming difficult to maintain inspection accuracy for a long time while maintaining inspection accuracy due to fine wiring patterns. Automation is required.
配線パターンの欠陥検査方式として、ジェー. エル.シー.サンツやエー.ケー.ジェイン(J. L.C.Sanz and A.K.jain,"Machine vision techniques for inspection of printed wiring boards and thinck-film circuits,"J.Opt.Soc. Amer.,vo13,no.9,pp.1465-1482,Sept.1986)らに より多くの方式が紹介されており、特にデザイン ルール法あるいは比較法に分類される方式が数多 く提案されている。これらの方式は長短があるが、 中でも将来有望な興味深い方式として、ジェー・ アール・マンデビル(J.R.Mandeville,"Novel Method for analysis of printed circuit image s,"IBM J.Res.Develop.,vol.29,no.1,pp. 73-86,Jan.1985)があり、2値画像データを収縮 あるいは膨張させた後細線化し、配線パターンの 欠陥を検出する方式で、以下に従来例として説明 する。第10図に、欠陥検出処理の手順を示す。同 図(a)〜(d)は欠落性欠陥の検出手順、同図(e)〜(h)は 突出性欠陥の検出手順を示している。 As a defect inspection method for wiring patterns, J. Elle. C. Sants and A. K. Jane (JLCSanz and AKjain, "Machine vision techniques for inspection of printed wiring boards and thinck-film circuits," J.Opt.Soc. Amer., Vo13, no.9, pp.1465-1482, Sept.1986) Many other methods have been introduced, and many methods classified as the design rule method or the comparative method have been proposed. Although these methods have merits and demerits, one of the most promising interesting methods in the future is JR Mandeville, "Novel Method for analysis of printed circuit image s," IBM J.Res.Develop., Vol.29, No. 1, pp. 73-86, Jan. 1985), which is a method of contracting or expanding binary image data and then thinning it to detect defects in a wiring pattern, which will be described below as a conventional example. FIG. 10 shows the procedure of defect detection processing. The figure (a)-(d) shows the detection procedure of a missing defect, and the figure (e)-(h) shows the detection procedure of a protruding defect.
先ず欠落性欠陥の検出方法について図を参照し ながら説明する。(a)は欠陥画像を示しており、b 点及びc点は線幅不足及び断線で致命的欠陥とし て検出し、a点は欠陥として検出しないものとす る。第1の手順として(b)では、画像を所定サイズ 収縮(侵食)することよりb点の連結を遮断する。 First, a method for detecting missing defects will be described with reference to the drawings. (a) shows a defect image. Points b and c are detected as fatal defects due to insufficient line width and disconnection, and point a is not detected as a defect. In the first step (b), the image is contracted (eroded) by a predetermined size to cut off the connection of points b.
第2の手順として(c)では1画素幅までパターンを 細線化する。第3の手順として(d)では3×3局所 領域(図中□で示される位置)において細線化画 像の連結性を判定し、b点及びc点を断線として 検出する。なお前記3×3局所領域の連結判定に より端子部と配線パターンの接合部(図中○で示 される位置)も特徴点として検出できることを示 している。As the second procedure, in (c), the pattern is thinned to a width of 1 pixel. As the third procedure, in (d), the connectivity of the thinned image is determined in the 3 × 3 local area (the position indicated by □ in the figure), and the points b and c are detected as broken lines. It is shown that the joint portion of the terminal portion and the wiring pattern (the position indicated by a circle in the figure) can also be detected as a feature point by the connection determination of the 3 × 3 local region.
次に突出性欠陥の検出方法について図を参照し ながら説明する。(e)は欠陥画像を示しており、b 点及びc点を線幅異常及びショートで致命的欠陥 として検出し、a点は欠陥として検出しないもの とする。第1の手順として(f)では、画像を所定サ イズ膨張することによりb点に新たな連結を発生 させる。第2の手順として(g)では1画素幅までパ ターンを細線化する。第3の手順として(h)では3 ×3局所領域(図中□で示される位置)において 細線化画像の連結性を判定し、b点及びc点を分 岐点すなわちショートとして検出する。以上の手 順によって線幅太り、断線及びショートが検出で きる。 Next, a method for detecting a protruding defect will be described with reference to the drawings. (e) shows a defect image. Points b and c are detected as fatal defects due to abnormal line width and short circuit, and point a is not detected as a defect. In the first step (f), a new connection is generated at the point b by expanding the image by a predetermined size. As the second procedure, in (g), the pattern is thinned to 1 pixel width. As the third procedure, in (h), the connectivity of the thinned image is determined in the 3 × 3 local region (the position indicated by □ in the figure), and the points b and c are detected as branch points, that is, shorts. Line width thickening, wire breakage and short circuit can be detected by the above procedure.
発明が解決しようとする課題 2値画像を収縮及び膨張することにより、欠陥 の特徴を助長した後細線化し、3×3局所領域に おける連結判定により欠陥を検出する方式につい て説明した。この方式は配線パターンの設計ルー ルを巧妙に利用し、確実に欠陥を検出できるもの で有望な方式といえよう。 Problems to be Solved by the Invention The method of detecting defects by shrinking and expanding a binary image to enhance the features of defects and then thinning the lines to determine connection by 3 × 3 local regions has been described. This method can be said to be a promising method because it can detect defects surely by skillfully utilizing the design rule of the wiring pattern.
しかし、収縮や膨張処理で欠陥の特徴を助長す るために、線幅不足と断線あるいは線幅太りとシ ョートの分類ができない。また、違反線幅の設定 が複数の場合、画像の収縮、膨張及び細線化処理 プロセスが複数必要となり、装置化する際にハー ドウェアの負担が大きくなるなどの課題がある。 However, it is not possible to classify short lines and broken lines or thick lines and shorts because the features of defects are promoted by shrinkage and expansion processes. In addition, when there are multiple violation line width settings, multiple image contraction, expansion, and thinning processing processes are required, which poses a problem that the burden on the hardware increases when implementing the device.
本発明は上記課題に鑑み、同一プリント基板に 複数種の線幅の配線パターンが存在しても誤報の ない検査を行なうとともに、線幅検査だけでなく 断線、ショート等の欠陥を認識することができ、 多様な欠陥検査ができる配線パターン検査装置を 提供するものである。 In view of the above-mentioned problems, the present invention can perform an error-free inspection even when wiring patterns having a plurality of line widths exist on the same printed circuit board, and can detect defects such as disconnection and short circuit as well as line width inspection. It is possible to provide a wiring pattern inspection device capable of performing various defect inspections.
課題を解決するための手段 上記課題を解決するため本発明の技術的解決手 段は、プリント基板上に形成された配線パターン を光学的に検知し光電変換する画像入力手段と、 前記画像入力手段からの濃淡画像信号を2値画像 信号に変換する2値化手段と、パターンを背景側 から1画素ずつ消去する第1から第nの細線化手 段と、前記第1から第nの細線化手段において消 去する画素の位置を各細線化手段に対し指定する 第1から第nの消去位置判定手段と、細線化によ り消去した画素位置に距離ラベルを与える第1か ら第nの距離ラベル付け手段と、前記第nの細線 化手段より得られる細線化画像の芯線に沿って、 前記第nの距離ラベル付け手段から得られる距離 ラベルを参照し配線パターンの線幅を測る測長手 段と、細線化画像の芯線と前記測長手段による測 長値からパターンの端点を検出する端点検出手段 と、細線化画像の芯線から配線パターンの分岐を 検出する分岐検出手段とから構成したものである。 Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the technical solution means of the present invention is to provide an image input means for optically detecting and photoelectrically converting a wiring pattern formed on a printed circuit board, and the image input means. Means for converting the grayscale image signal from the image into a binary image signal, first to nth thinning means for erasing the pattern pixel by pixel from the background side, and the first to nth thinning means The first to n-th erase position determining means for designating the position of the pixel to be erased in the means to each thinning means, and the first to nth erase position determining means for giving a distance label to the pixel position erased by the thinning. A distance measuring unit that measures the line width of the wiring pattern by referring to the distance label obtained from the nth distance labeling unit along the core line of the thinned image obtained by the distance labeling unit and the nth thinning unit. Steps and thinned images And endpoint detection means for detecting the end point of the pattern from the measured values according to the line and the measuring means, which is constituted from a branch detection means for detecting the branch of the wiring pattern from the core of the thinned image.
作用 本発明は、第1にプリント基板上に形成された 配線パターンを光電変換して得られる濃淡画像を 2値化し、2値化画像に対し、細線化及び距離ラ ベル付けを行い細線化画像と距離画像に変換し、 細線化画像の芯線に沿って距離ラベルを参照して 測長値を得るため、特定の線幅の検査に限らず複 数の配線パターンの線幅を容易に検査できる。 Function The present invention firstly binarizes a grayscale image obtained by photoelectrically converting a wiring pattern formed on a printed circuit board, and thins and distance labels the binarized image to perform a thinned image. And the distance image is converted and the length measurement value is obtained by referring to the distance label along the core line of the thinned image, so that it is possible to easily inspect the line widths of multiple wiring patterns without being limited to the inspection of a specific line width. .
第2に細線化により消去する画素の位置として パターンの4連結エッジまたは8連結エッジ位置 を指定し、細線化の反復毎にエッジの連結を所定 の順序で切り替えるため、消去した位置に距離ラ ベルを与えることにより、簡易な構成で誤差の小 さい距離画像を得ることができる。 Secondly, the 4-connected edge or 8-connected edge position of the pattern is specified as the position of the pixel to be erased by thinning, and the edge connection is switched in a predetermined order each time thinning is performed. By providing, it is possible to obtain a range image with a small error with a simple configuration.
第3に所定の細線化の反復において、消去する 画素の位置を前記4連結エッジまたは8連結エッ ジと異なる位置に変更して指定するため、消去し た画素位置に対してさらに誤差の小さい距離値を 与えることができ、配線パターンの芯線位置で正 確なパターン幅の測定が行える。 Thirdly, in the predetermined thinning repetition, the position of the pixel to be erased is specified by changing it to a position different from the 4-connected edge or 8-connected edge. A value can be given, and the accurate pattern width can be measured at the core position of the wiring pattern.
第4に、細線化画像の分岐や端点等の特徴を抽 出し、配線パターンの線幅異常と断線やショート とを識別するため多様な検査が可能となる。 Fourthly, various inspections can be performed in order to extract features such as branches and end points of the thinned image and to distinguish between abnormal wiring width of the wiring pattern and disconnection or short circuit.
実施例 以下、第1図を参照しながら本発明の一実施例 について説明する。 Embodiment One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
第1図は本発明の一実施例における配線パター ン検査装置のブロック構成図である。第1図にお いて、101はプリント基板、102は104のリング 状のライトガイドなどの拡散照明装置と103のC CDカメラのような撮像装置を備えた画像入力手 段、105は濃淡画像を2値画像に変換する2値化 手段、106、107及びは配線パターンの構成画素 を外側から1画素ずつ消去する細線化手段、108 及び109は前記細線化手段の画素の消去位置を検 出する消去位置判定手段、110及び111は前記消 去位置判定で消去位置と判定された画素がその回 の細線化によって消去されたか否かを検出し、注 目画素位置に距離ラベルを与える距離ラベル付け 手段、112は第nの細線化手段107からの細線化 画像と第nの距離ラベル付け手段111からの距離 画像を用いて配線パターンの欠陥を検出する欠陥 検出手段、113は細線化画像の芯線に沿って距離 ラベルを参照し配線パターンの線幅を測定する測 長手段、114は細線化画像の芯線と前記測長手段 による測長値からパターンの端点を検出する端点 検出手段、115は細線化画像の芯線から配線パタ ーンの分岐を検出する分岐検出手段を示す。 FIG. 1 is a block diagram of a wiring pattern inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 101 is a printed circuit board, 102 is an image inputting means equipped with a diffused illumination device such as a ring-shaped light guide of 104 and an image pickup device such as a CCD camera, and 105 is a grayscale image. Binarization means for converting into a binary image, 106, 107 and thinning means for erasing the constituent pixels of the wiring pattern one by one from the outside, 108 and 109 for detecting the erasing position of the pixels of the thinning means. The erasing position determining means, 110 and 111 detect whether or not the pixel determined to be the erasing position in the erasing position determination has been erased by the thinning of that time, and give a distance label to the attention pixel position. Means, 112 is a defect detecting means for detecting a defect of the wiring pattern using the thinned image from the nth thinning means 107 and the distance image from the nth distance labeling means 111, and 113 is a core line of the thinned image. Along the distance label Length measuring means for measuring the line width of the line pattern, 114 is an end point detecting means for detecting the end point of the pattern from the core line of the thinned image and the length measurement value by the length measuring means, 115 is a wiring pattern from the core line of the thinned image The branch detection means for detecting the branch of the network is shown.
上記構成において、以下その動作について説明 する。プリント基板101上に形成された配線パタ ーンを、リング状ライトガイドなどの拡散照明装 置104で照明し、CCDカメラなどの撮像装置103 を備えた画像入力手段102で濃淡画像として入力 する。本実施例では撮像装置として1次元のCC Dセンサカメラを用いた例を示す。2値化手段 102では、画像入力手段102で得られた濃淡画像 を所定の閾値と比較し、配線パターン部を1、基 材部を0とする2値画像に変換する。第1から第 nの細線化手段106〜107は、2値化手段105か らの2値画像を用いて、配線パターンを背景側か ら1画素ずつ消去する(1から0に変換する)処 理をn回繰り返し、細線化画像に変換する。この とき第1から第nの消去位置判定手段108〜109 は対応する第1から第nの細線化手段において消 去すべき画素位置を検出し、n回の細線化でパタ ーンを削っていく位置と順序を制御する。第1か ら第nの距離ラベル付け手段110〜111は、前記 消去位置判定手段の判定結果と、注目画素をその 回の細線化で消去したか否かを検出し、後述する 手順にしたがって注目画素位置に距離ラベルを与 える。欠陥検出手段112は、測長手段113と端点 検出手段画像114と分岐検出手段115で構成し、 前記細線化画像と距離画像を用いて、線幅違反、 断線、ショート等の欠陥の特徴を抽出するもので ある。測長手段113は細線化画像の芯線に沿って 距離画像を参照し、配線パターンの線幅を測長し 規定の線幅に違反する位置を検出する。また端点 検出手段114は細線化画像の芯線の終端位置を検 出し、その位置の線幅の測長値を参照し配線パタ ーンの断線を検出する。さらに分岐検出手段115 は細線化画像の芯線の分岐位置を検出する。上記 構成において第1から第nの消去位置判定手段 108、109を設けたのは、第1から第nの距離ラ ベル付け手段によって得られる距離画像の性質を 制御するためである。すなわち第1から第nの距 離ラベル付け手段110、111は、第1から第nの 細線化と同時に画素を消去した位置に細線化の反 復番号nを与えるものであり、細線化による画素 消去の順番によって得られる距離画像の性質が決 定される。例えば第1から第nの消去位置判定手 段において、画素の消去位置としてパターンの4 連結エッジ位置を指定すれば、得られる距離画像 は8近傍距離(chess-bord distance)画像となり、 画素の消去位置としてパターンの8連結エッジ位 置を指定すれば、得られる距離画像は4近傍距離 (city-block distance)画像となる。第1から第 nの消去位置判定手段は画素の消去位置を細線化 の反復毎に、所定の順序にしたがってエッジの連 結状態を4連結と8連結で切り替えて、ユークリ ッド距離との誤差を抑制することを目的とする。 The operation of the above configuration will be described below. A wiring pattern formed on the printed circuit board 101 is illuminated by a diffused illumination device 104 such as a ring-shaped light guide, and is input as a grayscale image by an image input means 102 including an image pickup device 103 such as a CCD camera. In this embodiment, an example in which a one-dimensional CCD sensor camera is used as the image pickup device will be shown. The binarizing means 102 compares the grayscale image obtained by the image inputting means 102 with a predetermined threshold value and converts it into a binary image in which the wiring pattern portion is 1 and the base material portion is 0. The first to n-th thinning means 106 to 107 use the binary image from the binarizing means 105 to erase the wiring pattern pixel by pixel from the background side (convert from 1 to 0). The process is repeated n times to convert to a thinned image. At this time, the first to n-th erasing position judging means 108 to 109 detect the pixel positions to be erased by the corresponding first to n-th thinning means, and delete the pattern by thinning n times. Control where and how you go. The first to n-th distance labeling means 110 to 111 detect the judgment result of the erasing position judging means and whether or not the pixel of interest has been erased by the thinning of that time, and the attention is performed according to the procedure described later. Give a distance label to the pixel position. The defect detecting unit 112 is composed of a length measuring unit 113, an end point detecting unit image 114, and a branch detecting unit 115, and uses the thinning image and the distance image to extract the characteristics of defects such as line width violation, disconnection, and short circuit. It is something to do. The length measuring unit 113 refers to the distance image along the core line of the thinned image, measures the line width of the wiring pattern, and detects a position that violates the specified line width. Further, the end point detecting means 114 detects the end position of the core line of the thinned image and refers to the length measurement value of the line width at that position to detect the disconnection of the wiring pattern. Further, the branch detection unit 115 detects the branch position of the core line of the thinned image. In the above configuration, the first to n-th erasing position determining means 108 and 109 are provided in order to control the property of the range image obtained by the first to n-th distance labeling means. That is, the 1st to n-th distance labeling means 110, 111 give a thinning reproduction number n to a position where a pixel is erased at the same time as the 1st-nth thinning, and The property of the range image obtained by the erasing order is determined. For example, in the first to n-th erasure position determination procedures, if the 4-connected edge position of the pattern is specified as the pixel erasure position, the obtained distance image becomes an 8-neighbor distance (chess-bord distance) image, and the pixel erasure is performed. If you specify the 8-connected edge position of the pattern as the position, the obtained distance image will be a city-block distance image. The 1st to n-th erasure position determination means switches the edge connection state between 4 connection and 8 connection in accordance with a predetermined order for each repetition of thinning of the pixel, and an error from the Euclidean distance. The purpose is to suppress.
さらに前記第1から第nの消去位置判定手段のう ち、特定の消去位置判定手段において、消去すべ き位置を前記4連結エッジ位置または8連結エッ ジと異なる位置に変更して指定し、得られる距離 値をパターン境界からのミニマルパスとなるよう にしたものである。Further, among the first to n-th erasing position determining means, the specific erasing position determining means changes and specifies the erasing slip position to a position different from the 4th connection edge position or the 8th connection edge position, and The distance value to be used is a minimal path from the pattern boundary.
次に第1から第nの細線化手段106〜107及び 第1から第nの消去位置判定手段108〜109にお ける画信号処理について第2図、第3図、第4図 及び第5図を参照しながら説明する。 Next, the image signal processing in the first to n-th thinning means 106 to 107 and the first to n-th erase position determining means 108 to 109 will be described with reference to FIGS. 2, 3, 4, and 5. Will be described with reference to.
第2図は1回の細線化手段の画信号処理の一実 施例を示す図である。第2図において、220は前 段の細線化手段からの2値画像の入力端子、221 は細線化画像の出力端子、222は画素消去位置の 判定信号の出力端子、201は細線化回路、240は 消去位置判定回路、202はエッジ検出回路、203 は消去位置補正回路、231、232、233及び234 は細線化処理の3×3走査窓、203及び204は消 去位置の補正判定を行なうための3×3走査窓、 206、207、208、及び209は3×3領域の画素 の値と消去位置判定回路240からの判定信号を用 いて注目画素の消去判定を行なうためのルックア ップテーブル(以下LUTと略記する)、223は エッジ検出回路の注目画素、210、211、212及 び213は細線化処理206〜209において消去する 画素を制御する消去判定信号を示す。 FIG. 2 is a diagram showing an example of the image signal processing of the thinning means performed once. In FIG. 2, 220 is a binary image input terminal from the preceding thinning means, 221 is a thinned image output terminal, 222 is a pixel erase position determination signal output terminal, 201 is a thinning circuit, and 240 is a thinning circuit. Is an erase position determination circuit, 202 is an edge detection circuit, 203 is an erase position correction circuit, 231, 232, 233 and 234 are 3 × 3 scanning windows for thinning processing, and 203 and 204 are for erase position correction determination. 3 × 3 scanning windows, 206, 207, 208, and 209 are look-up tables (hereinafter referred to as “look-up tables” for performing the erase determination of the pixel of interest using the pixel values in the 3 × 3 area and the determination signal from the erase position determination circuit 240. LUT), 223 is the pixel of interest of the edge detection circuit, and 210, 211, 212 and 213 are erase determination signals for controlling the pixels to be erased in the thinning processing 206 to 209.
以下第2図における信号処理の動作について説 明する。端子220からの入力画像は、まず注目位 置223及びその8近傍のレジスタで構成される3 ×3走査窓により走査され、消去位置判定回路 240に入力される。消去位置判定回路240におい ては、まずエッジ検出回路202により注目位置が パターンの境界点である場合1、境界点でない場 合0のエッジ画像に変換する。第3図を用いてエ ッジ検出回路202の動作を説明する。第3図は前 記3×3走査窓のデータの配置を示す図である。 The operation of signal processing in FIG. 2 will be described below. The input image from the terminal 220 is first scanned by a 3 × 3 scanning window composed of the position of interest 223 and the registers in the vicinity of the position 223, and is input to the erase position determination circuit 240. In the erasure position determination circuit 240, the edge detection circuit 202 first converts the edge image into 1 when the target position is the boundary point of the pattern and 0 when it is not the boundary point. The operation of the edge detection circuit 202 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram showing the arrangement of data in the 3 × 3 scanning window described above.
同図に示すように注目画素223のデータをd0、 その8近傍のデータをd1〜d8とすると、4連 結エッジは d0・(d1・d2・d3・d4・d5・d6・d7・d8) 8連結エッジは dg・(d1・d3・d5・d7) の論理でエッジ画像に変換できる。ただし・は論 理積を、 は否定を示す。消去位置補正回路203 は、前記エッジ画像と入力画像を用いて、細線化 で消去する画素位置を前記4連結エッジまたは8 連結エッジ位置から補正するが、先ず消去判定を 行わずにn回の細線化によって8角形距離画像を 得る方法について説明する。第1から第nの消去 位置判定手段において、4連結エッジの消去と8 連結エッジの消去を交互に繰り返し、画素を消去 した位置に細線化の反復番号nを与えると8角形 距離画像が得られる。これにより4近傍距離や8 近傍に比べて、正方格子空間とユークリッド空間 との距離の歪を緩和することができる。8角形距 離は特定の方向(例えば水平、垂直、45度方向) については比較的正確な値となるが、その間の方 向の距離はユークリッド空間で定義された距離に 比べ誤差が発生する。消去位置補正回路203はこ の誤差を抑制することを目的としており、第1か ら第nまでの間の細線化の特定の反復において前 記4連結エッジあるいは8連結エッジで指定した 消去位置を変更する。以下に消去位置補正回路 203の動作について第2図及び第4図を参照しな がら説明する。第2図においてエッジ検出回路 202で検出したエッジ画像を3×3走査窓205に よって走査する。同時に入力画像の同じ位置を3 ×3走査窓204によって走査する。そして前記2 つの走査窓204及び205の2つの3×3パターン を参照し、注目位置を消去する位置かどうかを判 定する。第4図は消去位置を4連結エッジまたは 8連結エッジから変更して指定する場合の入力画 像とエッジ画像の組合せを示す図である。消去す る位置を変更する第1の例は、4連結エッジを消 去する反復において、入力画像が同図(a)に示すパ ターンであり、かつ同じ位置のエッジ画像が同図 (b)に示すいずれかのパターンであるとき、注目位 置は消去しないため、エッジ画像の注目位置(3 ×3窓の中央)を0に変更し消去候補から取り下 げる。消去する位置を変更する第2の例は、8連 結エッジを消去する反復において、入力画像が同 図(a)に示すパターンであり、かつ同じ位置のエッ ジ画像が同図(c)に示すいずれかのパターンである とき、注目位置は消去する必要があるため、エッ ジ画像の注目位置(3×3窓の中央)を1に変更 し消去候補として取り上げる。説明の都合都合上 図示は省略したが、第4図のパターン以外に3と おりの回転対称パターンについても同様の消去位 置の変更を施すものである。消去位置判定手段に おける判定手段の具体例を以下に示す。例えば第 1から第10までの消去位置判定の順序は、 上記手順において、検出するエッジの連結が4の 場合は4連結エッジ、8の場合は8連結エッジを 示す。また消去位置の補正について、○の場合エ ッジ位置から変更し、×の場合はエッジ位置をそ のまま消去候補位置とすることを示している。As shown in the figure, assuming that the data of the pixel of interest 223 is d0 and the data in its 8 neighborhoods is d1 to d8 , the four connected edges are d0 ・ ( d1 ・ d2 ・ d3 ・ d4 ・ d5 ・ d6 ・ d7 ・ d8 ) An 8-connected edge can be converted into an edge image by the logic of dg · ( d1 · d3 · d5 · d7 ). However, · is the logical product, Indicates negation. The erasure position correction circuit 203 corrects the pixel position to be erased by thinning from the 4th connection edge or the 8th connection edge position using the edge image and the input image. A method of obtaining an octagonal range image by conversion will be described. In the first to n-th erasure position determining means, erasure of 4-connected edges and erasure of 8-connected edges are alternately repeated, and an octagonal range image is obtained by giving a thinning repetition number n to a position where a pixel is erased. . As a result, the distortion of the distance between the square lattice space and the Euclidean space can be relaxed as compared with the 4-neighborhood distance or the 8-neighborhood distance. The octagonal distance is a relatively accurate value in a specific direction (eg, horizontal, vertical, 45 ° direction), but the distance in the direction between them has an error compared to the distance defined in Euclidean space. The erasure position correction circuit 203 aims to suppress this error, and in the specific iteration of the thinning from the 1st to the n-th, the erasure position specified by the 4 or 8 connection edges is specified. change. The operation of the erase position correction circuit 203 will be described below with reference to FIGS. 2 and 4. In FIG. 2, the edge image detected by the edge detection circuit 202 is scanned by the 3 × 3 scanning window 205. At the same time, the same position of the input image is scanned by the 3 × 3 scanning window 204. Then, by referring to the two 3 × 3 patterns of the two scanning windows 204 and 205, it is determined whether or not the target position is the position to be erased. FIG. 4 is a diagram showing a combination of an input image and an edge image when the erasing position is changed and designated from 4 connected edges or 8 connected edges. The first example of changing the erasing position is the iteration in which four connected edges are erased. In any of the patterns shown in (1), since the attention position is not erased, the attention position of the edge image (the center of the 3 × 3 window) is changed to 0 and withdrawn from the erasure candidate. In the second example of changing the erase position, the input image has the pattern shown in Fig. 6 (a) and the edge image at the same position is shown in Fig. 3 (c) in the repetition of deleting the 8-connected edges. If any of the patterns is shown, the target position needs to be erased, so the target position of the edge image (center of the 3 × 3 window) is changed to 1 and taken as a candidate for deletion. Although illustration is omitted for convenience of explanation, the same erase position is changed for the rotationally symmetric patterns 3 and 3 other than the pattern shown in FIG. A specific example of the determining means in the erase position determining means is shown below. For example, the order of the erase position determination from the 1st to the 10th is In the above procedure, if the edge to be detected is 4 connected, it means 4 connected edge, and if it is 8, it means 8 connected edge. Regarding the correction of the erasing position, the case of ◯ indicates that the edge position is changed, and the case of × indicates that the edge position remains the erasure candidate position.
消去判定信号210は、細線化の走査窓231の画 信号と同時に細線化のLUT206に入力され、L UTにおいては消去判定信号がオンで、かつ注目 位置を消去してもパターンの連結性が保存される 場合に、注目画素を消去する。消去判定信号210 は、タイミングを合わせるためにラインメモリと シフトレジスタを用いて遅延され、消去判定信号 211、212及び213が走査窓232〜234のデータ と同時にLUT207〜209へ入力され、LUT206 と同様の判定が行われる。これら一連の処理は図 示しないCCDセンサの画素クロックに同期して 1画素ずつシフトしながら行われる。以下にLU T206〜209における画素の消去判定について説 明する。LUT206〜209は消去判定信号210〜 213がオンのとき3×3走査窓231〜234におけ るビットパターンから注目位置を消去するかどう かを判定する。注目画素を消去する場合には0を 出力し、注目画素を保存する場合には1を出力す る。第1から第nの細線化手段は、第2図の細線 化回路をn段カスケード接続し、パターンの連結 性を保持しながら背景側から1画素ずつパターン を細めていく。細線化における画素の消去判定は、 3×3窓の注目画素を消去してもパターンが切断 されず連結性が保存される場合に注目を消去する ものである。しかし2画素幅のパターンに対して は、連結性の判定だけでは1回の窓走査によって パターンが消滅してしまうため、1回の細線化に おける画素消去を通常複数回のサブサイクルにわ けて、1つのサブサイクルでは削る方向を限定す ることによりパターンの消滅をふせぐ。このよう な手法は並列型細線化処理とよばれ、「細線化法 についての諸考案」、信学会PRL研資、PRL75- 66(1975-12)に詳しく記載されているので詳細な 説明は省略する。本実施例は、1回の細線化を上 下左右4方向から削るサブサイクルに分けた例で、 第5図にLUT206〜209に登録するパターンの 一例を示す。第5図はLUT206〜209に登録す る消去可能なパターンの例である。消去判定信号 と3×3窓のデータをアドレスとして同図(a)〜(d) の順に、LUT206〜209に判定結果を登録して おく。判定結果は注目画素を消去する場合に0、 注目画素を保存する場合に1を登録する。 The erasure determination signal 210 is input to the thinning LUT 206 at the same time as the image signal of the thinning scanning window 231, and the erasure determination signal is ON in the LUT, and the pattern connectivity is preserved even if the target position is erased. If so, the pixel of interest is erased. The erase determination signal 210 is delayed by using a line memory and a shift register to match the timing, and the erase determination signals 211, 212, and 213 are input to the LUTs 207 to 209 at the same time as the data of the scanning windows 232 to 234, and the same as the LUT 206. Is determined. These series of processes are performed by shifting pixel by pixel in synchronization with the pixel clock of the CCD sensor (not shown). The pixel erasure determination in LUTs 206 to 209 will be described below. The LUTs 206 to 209 determine whether to erase the target position from the bit patterns in the 3 × 3 scanning windows 231 to 234 when the erase determination signals 210 to 213 are on. When the target pixel is erased, 0 is output, and when the target pixel is saved, 1 is output. The first to nth thinning means cascade-connect the thinning circuits of FIG. 2 in n stages, and thin the pattern one pixel at a time from the background side while maintaining the connectivity of the patterns. Pixel erasure judgment in thinning is to erase attention when the pattern is not cut and connectivity is preserved even if the pixel of interest in the 3 × 3 window is erased. However, for a pattern with a width of 2 pixels, the pattern disappears by one window scan only by determining the connectivity, so pixel erasing in one thinning is usually performed in multiple subcycles. Therefore, in one sub-cycle, the pattern disappears by limiting the cutting direction. Such a method is called parallel thinning processing, and it is described in detail in "Contributions to thinning method", PRL Research Institute of Shinkai, PRL 75-66 (1975-12), and detailed explanation is omitted. To do. The present embodiment is an example in which one thinning is divided into four sub-cycles for cutting from the upper, lower, left and right directions, and FIG. 5 shows an example of patterns registered in the LUTs 206 to 209. FIG. 5 shows an example of erasable patterns registered in the LUTs 206 to 209. The determination results are registered in the LUTs 206 to 209 in the order of (a) to (d) in the figure using the erase determination signal and the data of the 3 × 3 window as addresses. As the determination result, 0 is registered when the pixel of interest is erased, and 1 is registered when the pixel of interest is saved.
次に第1から第nの距離ラベル付け、110、111 の処理手順を説明する。距離ラベル付け手段は、 端子221からの細線化画信号と端子222からの消 去判定信号及び前段までの距離画像から、注目位 置に付与する距離ラベルの値を判定する。以下第 6図を参照しながら、距離ラベル付けの判定動作 を説明する。第6図は第nの距離ラベル付けの判 定動作を示すフローチャートである。なお第1の 距離ラベル付け手段に入力される距離画像は、2 値化手段105からの2値画信号が0の場合に距離 ラベル0、1の場合に距離ラベル1とする距離画 像が入力されるものとする。まずステップ601の 判定で注目位置が消去候補位置である場合すなわ ち消去判定信号がオンの場合、ステップ603の処 理へ進み、距離ラベルの更新は行わず、注目位置 の距離ラベルの値をそのまま保存する。これに対 し601の判定において、注目位置が消去候補位置 でない場合すなわち消去判定信号がオフの場合、 さらにステップ602の判定へ進む。ステップ602 においては、第(n−1)までの距離ラベル付け により、注目位置に値nの距離ラベルが付いてい るかどうかを判定し、距離ラベルがnの場合にス テップ604の処理へ進みその値を(n+1)に更 新し、距離ラベルがn以外の値の場合、603の処 理へ進みその値を保存する。以上の手順により、 入力2値画像が値1から(n+1)までの距離ラ ベルの付いた距離画像に変換される。上記手順に おいてステップ604において距離ラベル(n+1) を与えるのは細線化の芯線位置に距離ラベルを与 えるためである。 Next, the procedure of the first to nth distance labeling, 110 and 111 will be described. The distance labeling means determines the value of the distance label given to the position of interest from the thinned image signal from the terminal 221, the erase determination signal from the terminal 222, and the distance image to the preceding stage. The determination operation of distance labeling will be described below with reference to FIG. FIG. 6 is a flowchart showing the determination operation of the nth distance labeling. The distance image input to the first distance labeling means is a distance image whose distance label is 0 when the binary image signal from the binarization means 105 is 0 and which is distance label 1 when the binary image signal is 1. Shall be done. First, if it is determined in step 601 that the position of interest is an erasure candidate position, that is, if the erasure judgment signal is on, the process proceeds to step 603, the distance label is not updated, and the value of the distance label of the position of interest is set. Save as is. On the other hand, in the determination of 601, when the position of interest is not the erasure candidate position, that is, when the erasure determination signal is off, the process proceeds to the determination of step 602. In step 602, it is determined whether or not the distance label having the value n is attached to the position of interest by labeling the distances up to the (n−1) th distance. If the distance label is n, the process proceeds to step 604. The value is updated to (n + 1), and if the distance label is a value other than n, proceed to the processing of 603 and save the value. By the above procedure, the input binary image is converted into a range image with a range label from the value 1 to (n + 1). In the above procedure, the distance label (n + 1) is given in step 604 in order to give the distance label to the core line position of the thinning.
第7図に上記処理によって得られる距離画像を 示す。第7図において○印で示す位置は細線化画 像の芯線位置である。測長手段113はこの芯線位 置に沿ってパターンの幅を測定する処理である。 FIG. 7 shows a range image obtained by the above processing. In FIG. 7, the position marked with a circle is the position of the core line of the thinned image. The length measuring unit 113 is a process for measuring the width of the pattern along this core line position.
以下第7図を用いて測長手段113の具体的処理に ついて説明する。第7図に示す距離画像の各画素 の距離ラベルは、その位置から最も近いエッジ位 置までの距離を示す。したがって、細線化の芯線 位置の距離値とその近傍画素の距離値の和が、そ の芯線位置の配線パターンの線幅を示す。本実施 例では次の演算式によって線幅の測長値Wを決定 する。注目位置の距離値をD0、注目位置の近傍 8画素の距離値をDi(i=1〜8)、画像入力 の分解能をσとすると、 ただしint[*]は、*の小数以下を切り捨て ることを示す。例えば第7図の画素位置701にお いては測長値W=5σとなる。測長手段113にお いては前記測長値Wと、プリント基板の設計上決 められた最小の線幅W0とを比較し、W<W0と なる位置を最小線幅違反として検出する。なお測 長値Wと比較する基準値として、線幅の上限値W 1も設定し、W0≦W<W1に違反する位置を線 幅違反として検出してもよい。さらに第2の線幅 の下限値W2及び上限値W3を設定し(ただしW 2>w1)、W2≦W<W3に違反する位置も線 幅違反として検出することにより複数種類の線幅 の検査も可能となる。いま最小線幅W0=6σと 設定すると第7図の画素位置701は線幅違反位置 として検出される。The specific processing of the length measuring means 113 will be described below with reference to FIG. The distance label of each pixel in the distance image shown in FIG. 7 indicates the distance from that position to the nearest edge position. Therefore, the sum of the distance value at the core line position for thinning and the distance value for the neighboring pixels indicates the line width of the wiring pattern at that core line position. In the present embodiment, the line width measurement value W is determined by the following arithmetic expression. Let D0 be the distance value of the position of interest, Di (i = 1 to 8) the distance value of 8 pixels near the position of interest, and σ be the resolution of the image input. However, int [*] indicates that the fractional part of * is truncated. For example, at the pixel position 701 in FIG. 7, the length measurement value W = 5σ. In the length measuring means 113, the length measurement value W is compared with the minimum line width W0 determined by the design of the printed circuit board, and a position where W <W0 is detected as a minimum line width violation. The upper limit value W 1 of the line width may be set as a reference value to be compared with the length measurement value W, and a position violating W0 ≦ W <W1 may be detected as a line width violation. Furthermore, the lower limit value W2 and the upper limit value W3 of the second line width are set (however, W2> w1), and the position where W2 ≦ W <W3 is violated is also detected as a line width violation. Will also be possible. If the minimum line width W0 = 6σ is set, the pixel position 701 in FIG. 7 is detected as a line width violation position.
次に端点検出手段114の具体的処理について第 8図を用いて説明する。第8図は細線化による芯 線の端点を検出する際の検出パターンを示す。同 図(a)〜(c)において回転対称及び鏡面対称は図示を 省略した。端点検出の判定は以下の手順で行なう。 Next, the specific processing of the end point detection means 114 will be described with reference to FIG. FIG. 8 shows a detection pattern when detecting the end points of the core line by thinning. Illustrations of rotational symmetry and mirror symmetry are omitted in FIGS. The determination of the end point detection is performed according to the following procedure.
第nの細線化手段107からの細線化画像を3×3 窓で走査し、窓菜のビットパターンが第8図(a)〜 (d)のいずれかのパターンに一致するとき、断線候 補位置とする。これらの処理は第2図に示した窓 走査処理、LUTと同様の構成で実現できる。い ま注目位置が断線候補位置の場合、その位置の線 幅の測長値とプリント配線パターンの端子幅とを 比較する。前記端子幅の最小値をWtとすると、 測長手段113からの測長値WがW<Wtのとき断 線位置として検出する。The thinned image from the nth thinning means 107 is scanned with a 3 × 3 window, and when the bit pattern of the window dish matches any of the patterns shown in FIGS. Position. These processes can be realized by the same structure as the window scanning process and LUT shown in FIG. If the position of interest is a disconnection candidate position, the line width measurement value at that position is compared with the terminal width of the printed wiring pattern. When the minimum value of the terminal width is Wt, when the length measurement value W from the length measurement means 113 is W <Wt, it is detected as a disconnection position.
次に分岐検出手段115の具体的処理について第 8図を参照しながら説明する。第9図は細線化に よる芯線の分岐点を検出する際の検出パターンを 示す。同図において回転対称及び鏡面対称は図示 を省略した。分岐検出は前記端点検出手段114の 処理構成と同様に第nの細線化手段107からの細 線化画像を3×3窓で走査し、窓内のビットパタ ーンが第9図(a)〜(m)のいずれかのパターンに一致 するとき、分岐位置として検出する。配線パター ンの芯線の分岐はショートの欠陥特徴を表わすも ので、欠陥位置として検出する。 Next, the specific processing of the branch detection means 115 will be described with reference to FIG. FIG. 9 shows a detection pattern when detecting a branch point of a core line due to thinning. In the figure, illustration of rotational symmetry and mirror symmetry is omitted. In the branch detection, the thinned image from the nth thinning means 107 is scanned by a 3 × 3 window in the same manner as the processing configuration of the end point detecting means 114, and the bit pattern in the window is shown in FIG. If it matches any of the patterns in (m), it is detected as a branch position. The branch of the core wire of the wiring pattern represents the defect feature of short circuit, so it is detected as the defect position.
発明の効果 本発明の効果としては、プリント基板の2値画 像データに対し、細線化の消去候補画素を検出し、 各回の細線化で消去する画素を細線化の反復毎に 4連結エッジ及び8連結エッジと切り替えること により、細線化と同時に距離ラベルを与える結果、 8角形距離画像を得ることができ、簡易な構成で 水平、垂直、斜め方向の配線パターンの線幅を精 度よく検査できる。また前記消去候補画素の位置 を細線化の特定の反復時に4連結または8連結エ ッジ位置から変更することにより、パターンのエ ッジからの距離を正確に反映した距離画像が得ら れ、パターンの全方向に正確な測長が行える。ま た欠陥検出手段において、細線化画像の芯線位置 の距離値に基づく線幅測長値と任意の線幅しきい 値とを直接比較でき、容易に線幅検査が行える。 EFFECTS OF THE INVENTION As an effect of the present invention, with respect to the binary image data of the printed circuit board, thinning erasure candidate pixels are detected, and the pixels to be erased in each thinning are 4 connected edges for each thinning iteration. By switching to 8-connected edges, a distance label can be given at the same time as thinning, so that an octagonal distance image can be obtained, and the line width of horizontal, vertical, and diagonal wiring patterns can be accurately inspected with a simple configuration. . Further, by changing the position of the erasure candidate pixel from the 4-connected or 8-connected edge position at a specific iteration of thinning, a distance image accurately reflecting the distance from the edge of the pattern can be obtained. Accurate length measurement can be performed in all directions of the pattern. Further, in the defect detection means, the line width measurement value based on the distance value at the core line position of the thinned image and an arbitrary line width threshold value can be directly compared, and the line width inspection can be easily performed.
また欠陥検出手段において、芯線位置の線測長値 に対し比較する線幅しきい値を複数設けることに より、同一プリント基板に複種類の線幅の配線パ ターンが存在しても誤報のない検査が行える。さ らに欠陥検査手段において細線化画像の芯線の端 点、分岐検出を行うため、線幅検査だけでなく断 線、ショート等の欠陥を認識することができ多様 な欠陥検査が可能となる。Also, by providing a plurality of line width thresholds for comparison with the line length measurement value at the core position in the defect detection means, there is no false alarm even if there are wiring patterns of different line widths on the same printed circuit board. Can be inspected. Moreover, since the defect inspection means detects the end point and branch of the core line of the thinned image, not only line width inspection but also defects such as disconnection and short circuit can be recognized, and various defect inspections are possible.
第1図は本発明の一実施例における配線パター ン検査装置のブロック結線図、第2図は同装置の 要部である細線化手段及び消去位置判定手段の信 号処理のブロック結線図、第3図は同3×3走査 窓の画素配置を示す図、第4図は同消去位置の変 更を施すパターンを示す図、第5図は同細線化L UTにおいて消去するパターンを示す図、第6図 は同距離ラベル付け手順を示すフロー図、第7図 は同距離画像を示す図、第8図は同端点検出のビ ットパターンを示す図、第9図は同分岐検出のビ ットパターンを示す図、第10図は従来の配線パタ ーン検査装置における欠陥検出手順を示す図であ る。 102……画像入力手段、103……撮像装置、 104……照明装置、105……2値化手段、106… …第1の細線化手段、107……第nの細線化手段、 108……第1の消去位置判定手段、109……第n の消去位置判定手段、110……第1の距離ラベル 付け手段、111……第nの距離ラベル付け手段、 112……欠陥検出手段、113……測長手段、114 ……端点検出手段、115……分岐検出手段。 FIG. 1 is a block connection diagram of a wiring pattern inspection device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a block connection diagram of signal processing of thinning means and erase position determination means, which are essential parts of the device. FIG. 3 is a diagram showing a pixel arrangement of the same 3 × 3 scanning window, FIG. 4 is a diagram showing a pattern for changing the erase position, and FIG. 5 is a diagram showing a pattern to be erased in the thinned LUT. FIG. 6 is a flow chart showing the same distance labeling procedure, FIG. 7 is a view showing the same distance image, FIG. 8 is a view showing a bit pattern for detecting the same end point, and FIG. 9 is a bit pattern for detecting the same branch. FIG. 10 is a diagram showing a defect detection procedure in the conventional wiring pattern inspection apparatus. 102 ... Image input means, 103 ... Imaging device, 104 ... Illumination device, 105 ... Binarization means, 106 ... First thinning means, 107 ... Nth thinning means, 108 ... First erasing position determining means, 109 ... Nth erasing position determining means, 110 ... First distance labeling means, 111 ... Nth distance labeling means, 112 ... Defect detecting means, 113 ... … Length measuring means, 114 …… End point detecting means, 115 …… Branch detecting means.
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平5.3.15 (1)明細書の特許請求の範囲の欄を別紙の通り補正しま
す。 (2)明細書第9頁第2行目乃至第4行目の「画素が〜与
える」を「画素の距離値を参照し、注目画素位置に新た
な距離ラベルを与える」に補正します。 (3)同第10頁第13行目乃至第16行目の「注目画素
を〜与える。」を「注目画素の距離値を参照し、後述す
る手順にしたがって注目画素の距離ラベルを更新す
る。」に補正します。 (4)同第12頁第10行目の「ミニマルパス」を「最小
値」に補正します。[Submission date] Hei 5.3.15 (1) Amend the column for claims in the specification as attached. (2) Correct "Pixel is given" on the second to fourth lines on page 9 of the specification to "Give a new distance label to the pixel position of interest by referring to the distance value of the pixel." (3) In the 13th line to the 16th line on the 10th page, "Give a target pixel ~" is given, "the distance value of the target pixel is referred to, and the distance label of the target pixel is updated according to the procedure described later. Will be corrected to (4) Correct "Minimal path" on page 12, line 10 of the same to "Minimum value".
【特許請求の範囲】[Claims]
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川上 秀彦 神奈川県川崎市多摩区東三田3丁目10番1 号 松下技研株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Hidehiko Kawakami 3-10-1 Higashisanda, Tama-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Matsushita Giken Co., Ltd.
Claims (2)
ンを 光学的に検知し、光電変換する画像入力手段と、 前記画像入力手段からの濃淡画像を2値画像に変 換する2値化手段と、配線パターンを構成する画 素を背景側から1画素ずつ消去する第1から第n の細線化手段と、パターンの4連結エッジまたは 8連結エッジを検出し前記第1から第1nの細線 化により消去する画素の位置として4連結エッジ または8連結エッジを指定する第1から第nの消 去位置判定手段と、前記細線化による画素消去と 同時に消去位置に距離ラベルを与える第1から第 nの距離ラベル付け手段と、前記第1から第nの 細線化手段により得られる細線化画像の芯線に沿 って、前記距離ラベルを参照し配線パターンの線 幅を測定する測長手段と、細線化画像の芯線と前 記測長手段による測長値からパターンの端点を検 出する端点検出手段と、細線化画像の芯線から配 線パターンの分岐を検出する分岐検出手段を具備 する配線パターン検査装置。1. An image input means for optically detecting a wiring pattern formed on a printed circuit board and performing photoelectric conversion, and a binarizing means for converting a grayscale image from the image input means into a binary image. By the first to nth thinning means for erasing the pixels forming the wiring pattern pixel by pixel from the background side, and by detecting the 4th connecting edge or the 8th connecting edge of the pattern, the 1st to 1nth thinning means The first to n-th erase position determining means for designating a 4-connected edge or an 8-connected edge as the position of the pixel to be erased, and the first to n-th erased pixel erasing means and at the same time giving a distance label to the erased position. Distance labeling means, length measuring means for measuring the line width of the wiring pattern by referring to the distance label along the core line of the thinned image obtained by the first to n-th thinning means, and thinning Picture The core wire before SL and end point detection means for detect the end point of the pattern from the measured values by the measuring means, the wiring pattern inspecting apparatus having a branch detection means for detecting a branch wiring pattern from the core of the thinned image.
定の 消去位置判定手段において細線化により消去すべ き画素の位置を、4連結エッジまたは8連結エッ ジと異なる位置に変更して指定することを特徴と する請求項1記載の配線パターン検査装置。2. The first to n-th erase position determining means changes the position of the pixel to be erased to a position different from the 4-connected edge or 8-connected edge by thinning in the predetermined erase position determining means. The wiring pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the wiring pattern inspection apparatus is specified.
Priority Applications (2)
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US07/936,324 US5272763A (en) | 1990-03-02 | 1992-08-28 | Apparatus for inspecting wiring pattern formed on a board |
Applications Claiming Priority (3)
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JP17344890 | 1990-06-29 | ||
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Publications (2)
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Family
ID=26495417
Family Applications (1)
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Country | Link |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5608816A (en) * | 1993-12-24 | 1997-03-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for inspecting a wiring pattern according to a micro-inspection and a macro-inspection performed in parallel |
JP2009128201A (en) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Mitsubishi Electric Corp | Position and attitude recognition device |
JP2013174599A (en) * | 2013-04-01 | 2013-09-05 | Hitachi Ltd | Device and method for surface inspection |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP2334009A patent/JP2523989B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5608816A (en) * | 1993-12-24 | 1997-03-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus for inspecting a wiring pattern according to a micro-inspection and a macro-inspection performed in parallel |
JP2009128201A (en) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Mitsubishi Electric Corp | Position and attitude recognition device |
JP2013174599A (en) * | 2013-04-01 | 2013-09-05 | Hitachi Ltd | Device and method for surface inspection |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2523989B2 (en) | 1996-08-14 |
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