JPH0620266A - Board for magnetic disc - Google Patents

Board for magnetic disc

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JPH0620266A
JPH0620266A JP19629292A JP19629292A JPH0620266A JP H0620266 A JPH0620266 A JP H0620266A JP 19629292 A JP19629292 A JP 19629292A JP 19629292 A JP19629292 A JP 19629292A JP H0620266 A JPH0620266 A JP H0620266A
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JP
Japan
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substrate
magnetic
groove
layer
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP19629292A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kunihiro Ueda
国博 上田
Akimasa Kaizu
明政 海津
Takanori Kobuke
隆敬 古武家
Yasumichi Tokuoka
保導 徳岡
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Priority to JP19629292A priority Critical patent/JPH0620266A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a board for magnetic disc which is excellent in productivity and groove forming accuracy. CONSTITUTION:When a flexible board 10 for floppy disc is produced, a nonmagnetic basic material 100 of PET, for example, having surface subjected to hydrophilic treatment, onto which a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer having main skeleton of 80-92mol% vinyl chloride and 8-20mol% vinlyl sequentially. A stamper 21 is then pressed while heating to transfer the grooves therefrom to the copolymer layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク用基板に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】溝を有する磁気ディスクの場合、溝内で
は磁気ヘッドからの距離が大きくなって分離損による減
磁が増大するため、隣接する記録トラックを溝にて分離
でき、トラック記録密度が高いときでもクロストークを
防止することができる。
2. Description of the Related Art In the case of a magnetic disk having a groove, since the distance from the magnetic head in the groove increases and demagnetization due to separation loss increases, adjacent recording tracks can be separated by the groove and the track recording density can be increased. It is possible to prevent crosstalk even when it is high.

【0003】このような磁気ディスクは、溝を形成した
基板を用い、この基板上に磁性層を形成して得られてい
る。
Such a magnetic disk is obtained by using a substrate having grooves formed therein and forming a magnetic layer on the substrate.

【0004】このような溝付きの磁気ディスク用基板に
おいて、溝を機械的に作成する方法としては、例えば特
開昭54−12806号に開示されているように、無変
調のカッタでラッカ板をオーバーカッティングし、この
ラッカ板を用いてこのラッカ板と同形のスタンパを形成
し、このスタンパにて磁気ディスク用基板を作成するも
のがある。
In a magnetic disk substrate having such a groove, as a method for mechanically forming the groove, as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 54-12806, a racker plate is formed by a non-modulation cutter. There is a method in which overcutting is performed, a stamper having the same shape as this racker plate is formed using this racker plate, and a magnetic disk substrate is produced by this stamper.

【0005】しかし、このような方法では、1μm 程度
の超挟幅の溝の形成は不可能である。また、作成される
基板は1枚ずつの枚葉式となるため、生産効率を急激に
向上させることはできない。さらに、このような方法
は、フロッピーディスク用のように、100μm 以下の
比較的薄い基板から、ハードディスク用のように、1.
2mm程度の比較的リジッドな基板までは、同一方法で得
ることはできないという欠点を有する。
However, with such a method, it is impossible to form a groove having a super narrow width of about 1 μm. Moreover, since the substrates to be produced are of the single-wafer type, the production efficiency cannot be rapidly improved. Further, such a method can be applied to a hard disk such as a floppy disk from a relatively thin substrate having a thickness of 100 μm or less.
It has a drawback that even a relatively rigid substrate of about 2 mm cannot be obtained by the same method.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、生産
性に優れ、溝の加工精度がよい磁気ディスク用基板を提
供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a magnetic disk substrate having excellent productivity and good groove processing accuracy.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(5)の本発明により達成される。
These objects are achieved by the present invention described in (1) to (5) below.

【0008】(1)非磁性基体の表面を親水化処理して
水に対する接触角を低下させ、この親水化処理した基体
上に、塩化ビニルが80〜92モル%で、酢酸ビニルが
8〜20モル%の主骨格を有する塩化ビニル−酢酸ビニ
ルコポリマーの層を形成し、この層に溝付き原盤の溝を
転写し、溝を形成して得たことを特徴とする磁気ディス
ク用基板。
(1) The surface of a non-magnetic substrate is hydrophilized to reduce the contact angle to water, and vinyl chloride is contained in an amount of 80 to 92 mol% and vinyl acetate is contained in an amount of 8 to 20 on the hydrophilized substrate. A substrate for a magnetic disk, which is obtained by forming a layer of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having a main skeleton of mol%, transferring a groove of a grooved master to the layer, and forming the groove.

【0009】(2)前記塩化ビニル−酢酸ビニルコポリ
マー層の乾燥膜厚が3〜12μm である上記(1)に記
載の磁気ディスク用基板。
(2) The magnetic disk substrate according to (1) above, wherein the dry film thickness of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer is 3 to 12 μm.

【0010】(3)前記親水化処理により非磁性基体表
面の水に対する接触角が40度以下となる上記(1)ま
たは(2)に記載の磁気ディスク用基板。
(3) The magnetic disk substrate according to the above (1) or (2), wherein the contact angle of water on the surface of the non-magnetic substrate becomes 40 degrees or less by the hydrophilic treatment.

【0011】(4)前記溝形成面上に連続薄膜の磁性層
を形成した磁気ディスクを得るのに用いる上記(1)な
いし(3)のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。
(4) The magnetic disk substrate according to any one of the above (1) to (3), which is used for obtaining a magnetic disk having a continuous thin film magnetic layer formed on the groove forming surface.

【0012】(5)前記連続薄膜の磁性層を形成するに
際し、前記溝形成後、前記塩化ビニル−酢酸ビニルコポ
リマー層上にプラズマ重合膜を設ける上記(4)に記載
の磁気ディスク用基板。
(5) The magnetic disk substrate according to the above (4), wherein a plasma polymerized film is provided on the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer after forming the groove when forming the continuous thin film magnetic layer.

【0013】[0013]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【0014】本発明の磁気ディスク用基板を得るには、
まず、非磁性基体上に塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマ
ー層を形成する。
To obtain the magnetic disk substrate of the present invention,
First, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer is formed on a non-magnetic substrate.

【0015】この場合、非磁性基体の塩化ビニル−酢酸
ビニルコポリマー層形成面の親水化処理する。
In this case, the surface of the non-magnetic substrate on which the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer is formed is hydrophilized.

【0016】そして、このような非磁性基体上にコポリ
マー層を形成した後、所定の溝を有する溝付き磁気記録
ディスク用基板を得る。
After forming a copolymer layer on such a non-magnetic substrate, a grooved magnetic recording disk substrate having predetermined grooves is obtained.

【0017】このような工程を経ることによって、所定
の溝を形成することができる。すなわち、1μm 程度の
超挟幅の溝の形成も可能となる。また、コポリマー層を
形成した非磁性基体を連続的に搬送させて原盤による溝
形成を連続的に行なうことができ、量産可能となる。
A predetermined groove can be formed by passing through such steps. That is, it is possible to form a groove having an ultra narrow width of about 1 μm. Further, the non-magnetic base material on which the copolymer layer is formed can be continuously conveyed to continuously form the grooves on the master plate, which enables mass production.

【0018】さらに、このような同一の方法により、フ
ロッピーディスクのような比較的薄い基板からハードデ
ィスクのような比較的リジッッドな基板まで、いずれに
おいても溝の形成が可能となり、本発明の適用範囲は広
範である。
Further, by the same method as described above, it is possible to form a groove on any substrate from a relatively thin substrate such as a floppy disk to a relatively rigid substrate such as a hard disk. Extensive.

【0019】本発明に用いる塩化ビニル−酢酸ビニルコ
ポリマーは、塩化ビニルが80〜92モル%、好ましく
は85〜90モル%で、酢酸ビニルが8〜20モル%、
好ましくは10〜15モル%の主骨格を有するものであ
る。
The vinyl chloride-vinyl acetate copolymer used in the present invention has a vinyl chloride content of 80 to 92 mol%, preferably 85 to 90 mol%, and a vinyl acetate content of 8 to 20 mol%.
It preferably has a main skeleton of 10 to 15 mol%.

【0020】このものは塗布溶媒の選択の巾が広く、非
磁性基体上への塗布が容易で、製造上好ましい。
This product has a wide selection of coating solvents, is easy to coat on a non-magnetic substrate, and is preferable in manufacturing.

【0021】また、このような成分構成のコポリマーを
用いることによって、非磁性基体とコポリマー層との接
着が強固になり、溝付き基板とする上で好ましい。さら
には、用いる溝付き原盤(スタンパ)の寿命が長くな
り、また、スタンパからの溝の転写を確実に行なうこと
ができる。
Further, by using the copolymer having such a component constitution, the adhesion between the non-magnetic substrate and the copolymer layer becomes strong, which is preferable for forming a grooved substrate. Furthermore, the life of the grooved master (stamper) used is extended, and the grooves can be reliably transferred from the stamper.

【0022】なお、上記のコポリマーは、上記の主骨格
を有するものであれば、一部変性したものであってもよ
い。
The above copolymer may be partially modified as long as it has the above main skeleton.

【0023】さらには、上記成分のほかに、これとは異
なる第三成分を含むものであってもよく、第三成分とし
ては、ビニルアルコール、ブタジエン、ウレタン等から
誘導されるものが挙げられ、塩化ビニルと酢酸ビニルと
の合計を100モル%としたとき、これに対し1〜10
モル%の割合とするのがよい。さらには、ポリビニルア
ルコール、ポリブタジエン、ポリウレタン等のポリマー
をこのような割合で混合してもよい。
Further, in addition to the above components, a third component different from the above may be contained, and examples of the third component include those derived from vinyl alcohol, butadiene, urethane and the like, When the total of vinyl chloride and vinyl acetate is 100 mol%, 1 to 10
It is good to set it as the ratio of mol%. Further, polymers such as polyvinyl alcohol, polybutadiene and polyurethane may be mixed in such a ratio.

【0024】本発明の磁気ディスク用基板は、フロッピ
ーディスク用の可撓性基板あるいはハードタイプの磁気
ディスク用の剛性基板として用いるものである。
The magnetic disk substrate of the present invention is used as a flexible substrate for a floppy disk or a rigid substrate for a hard type magnetic disk.

【0025】フロッピーディスク用の可撓性基板に用い
る非磁性基体の材質に特に制限はなく、強磁性金属薄膜
成膜時の熱に耐える各種フィルム、例えばポリエチレン
テレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート
(PEN)等のポリエステル、ポリエーテルエーテルケ
トン(PEEK)などを用いることができる。また特開
昭63−10315号公報に記載の各材料が使用可能で
ある。
The material of the non-magnetic substrate used for the flexible substrate for the floppy disk is not particularly limited, and various films such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) can withstand the heat of forming the ferromagnetic metal thin film. ) And other polyesters, polyether ether ketone (PEEK), and the like can be used. Further, each material described in JP-A-63-10315 can be used.

【0026】このときの樹脂製の非磁性基体の寸法は目
的に応じて選定すればよいが、通常、厚さ30〜100
μm 程度、直径60〜130mm程度である。
The size of the resinous non-magnetic substrate at this time may be selected according to the purpose, but normally the thickness is 30 to 100.
The diameter is about μm and the diameter is about 60 to 130 mm.

【0027】一方、ハードタイプの磁気ディスク用の剛
性基板とする時は、ガラス、アルミニウム、樹脂のいず
れであってもよい。基板が剛性であるとは、基板のヤン
グ率をE、厚さをtとしたとき、E・t3 ≧1×107
dyn・cm、より好ましくはE・t3 ≧3×107 dyn・cmで
あることをいう。
On the other hand, when a rigid substrate for a hard type magnetic disk is used, it may be made of glass, aluminum or resin. A substrate is rigid when E · t 3 ≧ 1 × 10 7 where E is the Young's modulus and t is the thickness of the substrate.
dyn · cm, more preferably E · t 3 ≧ 3 × 10 7 dyn · cm.

【0028】このとき用いる樹脂には特に制限がなく、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂等いず
れの樹脂を使用してもよい。
The resin used at this time is not particularly limited,
Any resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a radiation curable resin may be used.

【0029】この場合、非磁性基体をキャスティング法
で成型する場合は、例えば、ポリウレタン、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリアミド、シリコ
ーン樹脂、ポリエステルおよびこれらの変性体等が使用
できる。
In this case, when the non-magnetic substrate is molded by the casting method, for example, polyurethane, epoxy resin, acrylic resin, polystyrene, polyamide, silicone resin, polyester and modified products thereof can be used.

【0030】インジェクション法で成型する場合は、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、ポリ
スチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アク
リロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリ
ル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、、ポリアセタ
ール、ポリエステル、ポリサルホン、ポリオキシベンジ
レン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリケトンサルファイド、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリアクリルイミド、ポリエーテルイミド、ポ
リオレフィン、アモルファスポリオレフィンおよびこれ
らの変性体等が使用できる。
In the case of molding by injection method, for example, polyethylene, polypropylene, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, vinylidene fluoride resin, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin , Polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyester, polysulfone, polyoxybenzylene, polyether sulfone, polyether ketone, polyether ether ketone, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, polyphenylene oxide, polyketone sulfide, polyimide, polyamideimide, polyacrylic Use of imide, polyetherimide, polyolefin, amorphous polyolefin and modified products of these Kill.

【0031】このときの樹脂製の非磁性基体の寸法は目
的に応じて選定すればよいが、通常、厚さ0.8〜1.
9mm程度、直径60〜130mm程度である。
The size of the resinous non-magnetic substrate at this time may be selected according to the purpose, but normally the thickness is 0.8-1.
The diameter is about 9 mm and the diameter is about 60 to 130 mm.

【0032】このような非磁性基体を用いて、前述のコ
ポリマー層を形成するに当たり、非磁性基体表面を親水
化処理するが、親水化処理には特に制限はなく、基体表
面の水に対する接触角を低下させるような処理のいずれ
をも用いることができる。
In forming the above-mentioned copolymer layer using such a non-magnetic substrate, the surface of the non-magnetic substrate is hydrophilized, but the hydrophilization treatment is not particularly limited, and the contact angle of water on the substrate surface is not limited. Any of the treatments that reduce the can be used.

【0033】このような処理によって、非磁性基体とコ
ポリマー層との接着性が向上し、溝の転写が確実とな
る。
By such a treatment, the adhesiveness between the non-magnetic substrate and the copolymer layer is improved and the transfer of the groove is ensured.

【0034】この場合、基体表面の水に対する接触角は
40度以下、さらには30度以下、とすることが好まし
い。親水化という観点から接触角は小さいほど好まし
い。
In this case, the contact angle of the surface of the substrate with water is preferably 40 degrees or less, more preferably 30 degrees or less. From the viewpoint of hydrophilicity, the smaller the contact angle, the more preferable.

【0035】このような親水化処理にはプラズマ処理、
コロナ処理等がある。
Plasma treatment is used for such hydrophilic treatment.
Corona treatment etc.

【0036】このなかで、プラズマ処理の場合は、処理
ガスとして酸素、窒素等の無機ガスを用いて行なえばよ
い。また、プラズマ処理条件には特に制限はなく、電極
配置、印加電流、処理時間、動作圧力等は、通常のプラ
ズマ処理条件と同様とすればよい。通常、動作圧力は
0.01〜1Torr程度とする。また、処理ガスの流量は
5〜100SCCMとすればよい。
Of these, in the case of plasma treatment, an inorganic gas such as oxygen or nitrogen may be used as a treatment gas. The plasma processing conditions are not particularly limited, and the electrode arrangement, applied current, processing time, operating pressure and the like may be the same as those under normal plasma processing conditions. Usually, the operating pressure is about 0.01 to 1 Torr. Further, the flow rate of the processing gas may be 5 to 100 SCCM.

【0037】プラズマ処理電源の周波数については、特
に制限はなく、直流〜マイクロ波までのいずれであって
もよい。
The frequency of the plasma processing power source is not particularly limited and may be any of direct current to microwave.

【0038】また、コロナ処理を用いる場合も、通常の
方法に従えばよい。
Also, when the corona treatment is used, a usual method may be used.

【0039】コポリマー層は、前記の塩化ビニル−酢酸
ビニルコポリマーの塗布液を用いて形成する。
The copolymer layer is formed by using the above coating solution of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer.

【0040】このときの塗布溶媒としては、このような
コポリマーを溶解するものであって非磁性基体を侵さな
いものであれば特に制限はなく、メチルエチルケトン
(MEK)、アセトン等の低沸点で低極性の溶媒を用い
ることができ、なかでもメチルエチルケトン等を用いる
ことが好ましい。
The coating solvent at this time is not particularly limited as long as it dissolves such a copolymer and does not attack the non-magnetic substrate, and it has a low boiling point and low polarity such as methyl ethyl ketone (MEK) and acetone. The solvent can be used, and it is preferable to use methyl ethyl ketone or the like.

【0041】また、塗布溶液の濃度は10〜30wt% 、
好ましくは15〜25wt% 程度とすればよい。
The concentration of the coating solution is 10 to 30 wt%,
Preferably, it should be about 15 to 25 wt%.

【0042】塗布方法にも特に制限はなく、公知のいず
れの方法によってもよく、グラビアロールコート法、リ
バースロールコート法、スピンコート法等によることが
好ましい。この場合の塗布条件等も公知の方法によって
よい。
The coating method is not particularly limited, and any known method may be used, and preferably, a gravure roll coating method, a reverse roll coating method, a spin coating method, or the like. The coating conditions and the like in this case may also be according to known methods.

【0043】このようにして形成されるコポリマー層の
膜厚は、乾燥膜厚で、3〜12μmである。フロッピー
ディスク用の可撓性基板の場合3〜7μm 、好ましくは
4〜6μm とすればよく、ハードタイプの磁気ディスク
用の剛性基板の場合3〜10μm 、好ましくは5〜8μ
m とすればよい。膜厚をこのような範囲にすることによ
って、溝の転写を確実に行なうことができる。これに対
し、膜厚があまり大きくなると、プレス時に剥離等が起
こるなど製造上好ましくなく、膜厚が小さくなりすぎる
と溝の転写を行なうことができない。
The film thickness of the copolymer layer thus formed is 3 to 12 μm as a dry film thickness. In the case of a flexible substrate for a floppy disk, the thickness is 3 to 7 μm, preferably 4 to 6 μm, and in the case of a rigid substrate for a hard type magnetic disk, 3 to 10 μm, preferably 5 to 8 μm.
You can use m. By setting the film thickness in such a range, it is possible to reliably transfer the groove. On the other hand, if the film thickness is too large, peeling or the like may occur during pressing, which is not preferable in manufacturing, and if the film thickness is too small, groove transfer cannot be performed.

【0044】なお、膜厚は、マイクロメータ等により測
定すればよく、通常は、非磁性基体とコポリマー層とを
合計した全体厚から非磁性基体の厚さを引き算して算出
する。
The film thickness may be measured with a micrometer or the like, and is usually calculated by subtracting the thickness of the nonmagnetic substrate from the total thickness of the nonmagnetic substrate and the copolymer layer.

【0045】次に、前記コポリマー層を形成した非磁性
基体に対し、溝付き原盤(スタンパ)を用い、溝付き原
盤をコポリマー層にプレスすることによって溝を形成す
る。
Next, a grooved master disk (stamper) is used to press the grooved master disk on the copolymer layer to form grooves on the non-magnetic substrate on which the copolymer layer has been formed.

【0046】このときの原盤の材質には特に制限はない
が、通常金属製のものとすればよく、なかでも、入手の
しやすさ、コスト面、メッキが可能なことなどの点から
Ni製とすればよい。
The material of the master plate at this time is not particularly limited, but it may be usually made of metal, and among them, it is made of Ni in view of availability, cost, and plating capability. And it is sufficient.

【0047】また、プレスの際には加熱することが好ま
しい。
Further, it is preferable to heat during pressing.

【0048】プレス圧力は、フロッピーディスク用可撓
性基板の場合130〜250kg/cm2、好ましくは140
〜220kg/cm2、ハードタイプの磁気ディスク用の剛性
基板の場合200〜300kg/cm2、好ましくは230〜
250kg/cm2とすればよい。
The pressing pressure is 130 to 250 kg / cm 2 , preferably 140 in the case of a flexible substrate for a floppy disk.
~220kg / cm 2, when the rigid substrate 200~300kg / cm 2 for a hard type of magnetic disk, preferably 230 to
It should be 250 kg / cm 2 .

【0049】このようなプレス圧力とすることによっ
て、溝の転写を確実に、また精度よく行なうことができ
る。圧力があまり大きくなると、プレス機を大型化する
必要が出てきて高価になるとともに精度の面で劣るもの
となって好ましくなく、圧力が小さくなりすぎると、溝
の転写を確実に行なうことができない。
By using such a pressing pressure, the groove can be transferred reliably and accurately. If the pressure becomes too large, it becomes necessary to upsize the press machine, which is expensive and inferior in terms of accuracy, which is not preferable. If the pressure becomes too small, groove transfer cannot be performed reliably. .

【0050】加熱温度は140〜250℃、好ましくは
170〜200℃とすればよい。このような加熱温度と
することによって、ポリマーが適度に移動する状態とな
り、プレスが容易となる。
The heating temperature may be 140 to 250 ° C, preferably 170 to 200 ° C. By setting such a heating temperature, the polymer moves to an appropriate state, and the pressing becomes easy.

【0051】温度があまり高くなると、変形が生じやす
くなり、温度があまり低くなると溝の転写を行なうこと
ができなくなる。
If the temperature is too high, deformation is likely to occur, and if the temperature is too low, the groove cannot be transferred.

【0052】また、溝の形状は、スタンパの溝の形状を
選択することにより、これに応じて、所定のものとする
ことができる。
The shape of the groove can be made predetermined by selecting the shape of the groove of the stamper.

【0053】通常、溝は同心形状、スパイラル状等に形
成され、溝幅、深さ、溝のピッチ等は記録密度、記録材
料に合わせて適宜選択すればよい。
Usually, the grooves are formed in a concentric shape, a spiral shape, etc., and the groove width, depth, groove pitch, etc. may be appropriately selected according to the recording density and the recording material.

【0054】本発明では、1μm 程度の超狭幅の溝であ
っても精度よく形成することができ、溝幅、深さの両方
とも、スタンパの溝との比較において、±10%未満と
することができ、不良品の発生が少なくなり、歩留りが
向上する。
In the present invention, even a groove having an ultra-narrow width of about 1 μm can be accurately formed, and both the groove width and the depth are less than ± 10% as compared with the groove of the stamper. Therefore, the number of defective products is reduced, and the yield is improved.

【0055】本発明において、コポリマー層を形成した
非磁性基体に対し、溝を形成する装置の一構成例が図1
に示されている。
In the present invention, an example of the constitution of an apparatus for forming a groove in a non-magnetic substrate on which a copolymer layer is formed is shown in FIG.
Is shown in.

【0056】図示の装置1は、非磁性基体としてPET
等を用いたフロッピーディスク用基板を作製するもので
ある。
The illustrated apparatus 1 has a PET as a non-magnetic substrate.
A substrate for a floppy disk using the above is manufactured.

【0057】装置1は、所定形状の溝を形成するスタン
パ部2を有し、コポリマー層を形成した非磁性基体10
0をロール状に収納し、かつこれを順次繰り出して供給
する基体供給部3、および溝を形成した後の基板10を
収納する基板収納部4を有する。
The apparatus 1 has a stamper portion 2 for forming a groove having a predetermined shape, and a non-magnetic substrate 10 having a copolymer layer formed thereon.
It has a substrate supply part 3 for storing 0 in a roll shape and sequentially feeding the same, and a substrate storage part 4 for storing the substrate 10 after the groove is formed.

【0058】スタンパ部2は所定形状の溝を有するスタ
ンパ21と、スタンパ21を所定温度に加熱する加熱部
23とを備え、スタンパ21の下方には、溝形成に際し
て、スタンパ21と対をなして基体100を挟持する下
型25が設置されている。
The stamper portion 2 includes a stamper 21 having a groove of a predetermined shape and a heating portion 23 for heating the stamper 21 to a predetermined temperature. Below the stamper 21, a pair of the stamper 21 is formed at the time of forming the groove. A lower mold 25 that holds the base 100 is installed.

【0059】下型25は常温下に設置してよく、また冷
却してもよい。
The lower mold 25 may be installed at room temperature or may be cooled.

【0060】図1の構成において、基体100は基体供
給部3から順次繰り出され、スタンパ部2でスタンパ−
21により、加熱下プレスされる。これにより、連続的
に溝を形成することが可能となる。
In the structure shown in FIG. 1, the substrate 100 is sequentially fed out from the substrate supply section 3, and the stamper section 2 stamps the stamper.
21. Pressing with heating. This makes it possible to continuously form the grooves.

【0061】このようにして溝が形成された後の基板1
0は巻き取られて基板収納部4に収納される。
Substrate 1 after the grooves are formed in this way
0 is wound up and stored in the substrate storage unit 4.

【0062】このようにして溝が形成された基板10
は、フロッピーディスク用の可塑性基板として用いられ
る。この場合、基板は、ディスク状に打ち抜いてから磁
性層を形成してもよく、磁性層等を形成し、全層を設層
してから打ち抜いてもよい。
The substrate 10 having the groove formed in this way
Is used as a plastic substrate for floppy disks. In this case, the substrate may be punched into a disc shape and then the magnetic layer may be formed. Alternatively, the magnetic layer and the like may be formed and all layers may be formed and then punched.

【0063】前者のプレスと同時に打ち抜く方法を採る
場合、枚葉式スパッタ装置を用いて両面同時に磁性層を
成膜することができ、打ち抜く際の位置合わせの手間を
省くことができる。
When the punching method is adopted at the same time as the former press, the magnetic layers can be simultaneously formed on both surfaces by using a single-wafer sputtering apparatus, and the labor for aligning the punching can be omitted.

【0064】後者の全層を設層してから打ち抜く方法を
採る場合、予めスタンパ21に位置合わせガイド用溝を
形成しておき、図2に示すように、基板10の磁性層形
成区域の記録・再生部10A 外の区域10Bに、スタン
パ21に対応して位置合わせガイド用溝105を形成す
ることが好ましい。すなわち、このような溝105は、
図示のように、ディスク状のものおいて120°間隔で
3か所に設けることが好ましい。このような方法では溝
および磁性層等の形成を連続的に行なうことができ、有
利である。
When the latter method of punching after forming all the layers is adopted, an alignment guide groove is formed in the stamper 21 in advance, and recording of the magnetic layer forming area of the substrate 10 is performed as shown in FIG. -It is preferable to form the alignment guide groove 105 corresponding to the stamper 21 in the area 10B outside the reproducing portion 10A. That is, such a groove 105 is
As shown in the figure, it is preferable to provide the disk-shaped object at three positions at 120 ° intervals. This method is advantageous because it is possible to continuously form the groove and the magnetic layer.

【0065】このような方法によって得られるフロッピ
ーディスクの一構成例が図3に示されている。
An example of the structure of a floppy disk obtained by such a method is shown in FIG.

【0066】図3に示すように、フロッピーディスク5
は、前記のようにして溝31が形成された基板10上
に、下地膜13および下地層14を介して磁性層15を
有する。そして、磁性層15上にはトップコート膜16
が設けられている。
As shown in FIG. 3, the floppy disk 5
Has the magnetic layer 15 on the substrate 10 in which the groove 31 is formed as described above, with the underlying film 13 and the underlying layer 14 interposed therebetween. The top coat film 16 is formed on the magnetic layer 15.
Is provided.

【0067】必要に応じ、図3に示すように設けられる
下地層14の材質は、磁性層15に応じて、面内および
垂直方向に磁化容易軸が配向する金属、金属化合物、ま
たは合金を選択して用いればよい。具体的にはCr、M
o、パーマロイなどを挙げることができ、後述のハード
タイプの磁気ディスクの下地層と同様である。下地層1
4の膜厚は500〜10000A (0.05〜1μm )
程度とする。
If necessary, as the material of the underlayer 14 provided as shown in FIG. 3, a metal, a metal compound, or an alloy in which the easy axis of magnetization is oriented in the in-plane and perpendicular directions is selected according to the magnetic layer 15. And use it. Specifically, Cr, M
o, permalloy, etc., which are the same as the underlayer of the hard type magnetic disk described later. Underlayer 1
The film thickness of 4 is 500-10000A (0.05-1μm)
The degree.

【0068】また、このような金属下地層14と基板1
0との間には、プラズマ重合膜の下地膜13を設けるこ
とが好ましい。このようなプラズマ重合膜の下地膜13
を設けることによって、磁性層15や下地層14と基板
10との接着性が良好となり、耐久性が向上する。ま
た、例えばスパッタ等により下地層14や磁性層15を
形成する場合、溝の形状が熱変形を受けることがないな
どの利点もある。
Further, such a metal underlayer 14 and the substrate 1
It is preferable to provide a base film 13 of a plasma polymerized film between 0 and 0. Underlayer film 13 of such a plasma-polymerized film
By providing, the adhesion between the magnetic layer 15 and the underlayer 14 and the substrate 10 is improved, and the durability is improved. Further, when the underlayer 14 and the magnetic layer 15 are formed by, for example, sputtering, there is an advantage that the shape of the groove is not thermally deformed.

【0069】プラズマ重合膜の下地膜13の膜厚は50
〜300A 程度とする。
The base film 13 of the plasma polymerized film has a thickness of 50.
Approximately 300A.

【0070】磁性層15は、連続薄膜型であれば特に制
限はなく、磁性層15を構成する各強磁性金属薄膜は、
例えば、Fe、CoおよびNiから選ばれる1種以上を
含有する連続薄膜、特にCo系の連続薄膜で構成すれば
よい。
The magnetic layer 15 is not particularly limited as long as it is a continuous thin film type, and each ferromagnetic metal thin film forming the magnetic layer 15 is
For example, a continuous thin film containing one or more selected from Fe, Co and Ni, particularly a Co-based continuous thin film, may be used.

【0071】磁性層の組成の具体例としては、Co−N
i合金、Co−Ni−Cr合金、Co−V合金、Co−
Ni−P合金、Co−P合金、Co−Zn−P合金、C
o−Ni−Pt合金、Co−Pt合金、Co−Ni−M
n−Re−P合金等が挙げられる。
A specific example of the composition of the magnetic layer is Co--N.
i alloy, Co-Ni-Cr alloy, Co-V alloy, Co-
Ni-P alloy, Co-P alloy, Co-Zn-P alloy, C
o-Ni-Pt alloy, Co-Pt alloy, Co-Ni-M
An n-Re-P alloy etc. are mentioned.

【0072】さらに、必要に応じて少量の酸素を各層の
表面層に含有させたり、この他非磁性層を介在させたり
して、耐食性等を向上させることができる。
Further, if necessary, a small amount of oxygen may be contained in the surface layer of each layer, or a non-magnetic layer may be interposed therebetween to improve the corrosion resistance and the like.

【0073】磁性層15の厚さは、0.03〜0.2μ
m 程度であることが好ましい。このとき出力を十分に大
きくすることができる。
The thickness of the magnetic layer 15 is 0.03 to 0.2 μm.
It is preferably about m 2. At this time, the output can be made sufficiently large.

【0074】磁性層15は、蒸着、スパッタ、イオンプ
レーティング、CVD等の各種気相成膜法にて成膜すれ
ばよいが、特にスパッタにて成膜することが好ましい。
The magnetic layer 15 may be formed by various vapor phase film forming methods such as vapor deposition, sputtering, ion plating and CVD, but it is particularly preferable to form it by sputtering.

【0075】スパッタにて成膜する場合、スパッタの方
式、装置等には特に制限がなく、また諸条件もスパッタ
方式等に応じて適宜決定すればよい。
When the film is formed by sputtering, there are no particular restrictions on the sputtering method, apparatus, etc., and the various conditions may be appropriately determined according to the sputtering method and the like.

【0076】例えば、DC−マグネトロンスパッタの場
合、動作圧力は、0.1〜10Pa程度とし、Ar等の不
活性ガス雰囲気下で行なえばよい。また、磁性層15の
表面を硬化する場合は、O2 を含むガス雰囲気とすれば
よい。
For example, in the case of DC-magnetron sputtering, the operating pressure may be about 0.1 to 10 Pa and it may be performed in an atmosphere of an inert gas such as Ar. When the surface of the magnetic layer 15 is hardened, a gas atmosphere containing O 2 may be used.

【0077】また、磁性層15上に、図3に示すよう
に、必要に応じトップコート膜16が設けられるのが、
プラズマ重合膜であることが好ましい。このときのトッ
プコート膜16の膜厚はスペーシングロスの点から10
〜200A とするのがよい。このほか、潤滑保護膜を別
途設けてもよい。
Further, as shown in FIG. 3, a top coat film 16 is provided on the magnetic layer 15 if necessary.
It is preferably a plasma polymerized film. At this time, the thickness of the top coat film 16 is 10 from the viewpoint of spacing loss.
~ 200A is recommended. In addition, a lubrication protective film may be separately provided.

【0078】この場合、前記基板10上の溝31によっ
て、ディスク最上面に凹凸が形成されるが、この凹凸に
よって、溝トラッキングによるトラック密度の向上、ヘ
ッドとの接触面積が減少することによる耐久性の向上等
の効果が得られる。
In this case, the groove 31 on the substrate 10 forms unevenness on the uppermost surface of the disk. Due to the unevenness, the track density is improved by groove tracking and the contact area with the head is reduced, so that the durability is improved. It is possible to obtain effects such as improvement of

【0079】以上においては、本発明を、フロッピーデ
ィスク用の可撓性基板として用いる好ましい場合につい
て説明してきたが、ハードタイプの磁気ディスクの剛性
基板に用いることができる。
In the above, the present invention has been described for the case where it is preferably used as a flexible substrate for a floppy disk, but it can be used for a rigid substrate of a hard type magnetic disk.

【0080】この場合、ディスク状の非磁性基体を用い
てスピンコート法により前記コポリマー層を形成し、ベ
ルトコンベアに下型をのせ、その上にコポリマー層を形
成した非磁性基体を置き、上型の下に基体が位置したと
きプレスするなどして溝を形成することが好ましい。
In this case, the copolymer layer is formed by a spin coating method using a disk-shaped non-magnetic substrate, the lower mold is placed on the belt conveyor, and the non-magnetic substrate having the copolymer layer formed thereon is placed on the upper mold. It is preferable to form a groove by pressing, for example, when the base body is located under.

【0081】ハードタイプの磁気ディスクとする場合、
その層構成等は図3と同様であり、前記のうち剛性基板
を用いる点で大きく異なるのみである。
When a hard type magnetic disk is used,
The layer structure and the like are the same as those in FIG. 3, and the only difference is that a rigid substrate is used among the above.

【0082】磁性層は、連続薄膜型であれば特に制限が
なく、この場合の磁性層は原則としてフロッピーディス
クと同様とすればよく、製法も同様とすればよい。
The magnetic layer is not particularly limited as long as it is a continuous thin film type. In this case, the magnetic layer may be basically the same as that of the floppy disk, and the manufacturing method may be the same.

【0083】磁性層の膜厚は、再生出力および保磁力の
点から0.03〜0.2μm が好ましい。
The thickness of the magnetic layer is preferably 0.03 to 0.2 μm from the viewpoint of reproduction output and coercive force.

【0084】基板と、磁性層との間には、必要に応じ
て、エピタキシャル成長を良好に行ない、磁気特性を向
上させる目的で下地層が設けられる。
If necessary, an underlayer is provided between the substrate and the magnetic layer for the purpose of favoring epitaxial growth and improving magnetic characteristics.

【0085】下地層は、例えば、フロッピーディスクの
下地層と同様に、Cr、MoおよびWから選ばれる1種
以上を含有する連続薄膜にて構成すればよい。この場
合、用いる金属は単体でも合金でもよい。下地層の膜厚
は、磁性層の配向性および結晶性を良化する目的で0.
05〜0.5μm が好ましい。
The underlayer may be composed of a continuous thin film containing at least one selected from Cr, Mo and W, like the underlayer of a floppy disk. In this case, the metal used may be a simple substance or an alloy. The thickness of the underlayer is set to 0. to improve the orientation and crystallinity of the magnetic layer.
05-0.5 μm is preferred.

【0086】なお、これら合金には、必要に応じ、O、
N、Si、Al、Mn、Ar、B、C等の他の元素が2
0重量%程度以下含有されていてもよい。
If necessary, these alloys may contain O,
Other elements such as N, Si, Al, Mn, Ar, B and C are 2
You may contain about 0 weight% or less.

【0087】下地層は、前述した磁性層と同様、蒸着、
スパッタ、イオンプレーティング、CVD等の各種気相
成膜法にて成膜すればよく、特にスパッタにて成膜する
ことが好ましい。
The underlayer is formed by vapor deposition, like the magnetic layer described above.
The film may be formed by various vapor phase film forming methods such as sputtering, ion plating, and CVD, and it is particularly preferable to form the film by sputtering.

【0088】磁性層上には、必要に応じて、さらに保護
層や図示しない有機系潤滑膜等を設けてもよい。また、
フロッピーディスクと同様に、基板と下地層や磁性層と
の間にプラズマ重合膜を介在させてもよく、同様の効果
が得られる。
On the magnetic layer, a protective layer, an organic lubricant film (not shown) or the like may be further provided, if necessary. Also,
Similar to the floppy disk, a plasma polymerized film may be interposed between the substrate and the underlayer or magnetic layer, and the same effect can be obtained.

【0089】この場合、前記基板上のグルーブによっ
て、ディスク最上面に凹凸が形成され、磁気ディスクと
磁気ヘッド間の潤滑性がより一層向上し、このためCS
S耐久性が向上する。また、トラック密度が向上する。
In this case, the groove on the substrate forms unevenness on the uppermost surface of the disk, which further improves the lubricity between the magnetic disk and the magnetic head.
S durability is improved. Also, the track density is improved.

【0090】保護層は、通常炭素あるいは炭素に他の元
素を5重量%程度以下添加したもので構成され、その膜
厚は、0.03〜0.1μm 程度とすればよい。
The protective layer is usually composed of carbon or carbon containing another element in an amount of about 5% by weight or less, and the film thickness thereof may be about 0.03 to 0.1 μm.

【0091】また、潤滑膜は、通常フッ素系液体潤滑剤
等にて構成され、その膜厚は5〜20A 程度とすればよ
い。
The lubricating film is usually composed of a fluorinated liquid lubricant or the like, and the film thickness may be about 5 to 20A.

【0092】なお、保護層等は、各種気相成膜法、特に
スパッタにて成膜すればよい。
The protective layer and the like may be formed by various vapor phase film forming methods, particularly sputtering.

【0093】また、潤滑膜等は、ディップコート、スプ
レーコート、スピンコート等にて成膜すればよい。
The lubricating film or the like may be formed by dip coating, spray coating, spin coating or the like.

【0094】以上では、図3に示すように、片面記録型
磁気ディスクを例に挙げて説明してきたが、本発明は、
両面記録型の磁気ディスクにも適用することができる。
In the above, as shown in FIG. 3, a single-sided recording type magnetic disk has been described as an example.
It can also be applied to a double-sided recording type magnetic disk.

【0095】この場合、フロッピーディスク用の可撓性
基板では前記のようにして一方の面に溝を形成したの
ち、もう一方の面に同様の操作を繰り返し溝を形成して
もよい。
In this case, in the flexible substrate for the floppy disk, the groove may be formed on one surface as described above, and then the same operation may be repeated to form the groove on the other surface.

【0096】一方、ハードタイプの磁気ディスク用の剛
性基板では、これと同様にして各面にそれぞれ溝を形成
することができる。
On the other hand, in a rigid substrate for a hard type magnetic disk, grooves can be formed on each surface in the same manner as this.

【0097】[0097]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention.

【0098】実施例1 厚さ75μm のポリエチレンテレフタレート(PET)
フィルムを用い、これに表1に示す組成のポリ塩化ビニ
ルまたは塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーをそれぞれ
用い、このポリマーの20wt% メチルエチルケトン溶液
を塗布し、表1に示す膜厚(乾燥膜厚)の塗膜を形成し
た。塗布は、グラビアロールコート法によった。
Example 1 Polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 75 μm
Using a film, polyvinyl chloride or a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having the composition shown in Table 1 was used, and a 20 wt% methyl ethyl ketone solution of this polymer was applied, and the film thickness (dry film thickness) shown in Table 1 was applied. A film was formed. The application was by a gravure roll coating method.

【0099】なお、ポリマー層の設層に際しては、表1
で示すように、非処理の非磁性基体と、下記の条件でプ
ラズマ処理した非磁性基体とをそれぞれ使用するものと
した。
In addition, when forming the polymer layer,
As shown in, a non-treated non-magnetic substrate and a plasma-treated non-magnetic substrate under the following conditions were used.

【0100】プラズマ処理条件 使用ガス:酸素 流量:100 SCCM RF:50W 圧力:0.05Torr Plasma processing conditions Gas used: oxygen Flow rate: 100 SCCM RF: 50 W Pressure: 0.05 Torr

【0101】なお、ポリマー層の膜厚はマイクロメータ
により測定し、PETフィルムとポリマー層との合計厚
さからPETフィルムの厚さを引き算することによって
算出した。
The film thickness of the polymer layer was measured by a micrometer and calculated by subtracting the thickness of the PET film from the total thickness of the PET film and the polymer layer.

【0102】次に、上記塗膜を形成したPETフィルム
をロール状に収納し、図1に示す装置を用いて溝を形成
した。
Next, the PET film having the coating film formed thereon was housed in a roll form, and grooves were formed using the apparatus shown in FIG.

【0103】スタンパはNi製とし、このときの溝は、
幅0.4μm 、深さ0.5μm とし、溝間間隔は1.6
μm とし、同心円状に形成した。また、図2に示すよう
に、位置合わせのガイド用溝も形成した。
The stamper is made of Ni, and the groove at this time is
The width is 0.4 μm and the depth is 0.5 μm, and the gap between the grooves is 1.6.
μm, and formed in concentric circles. Further, as shown in FIG. 2, alignment guide grooves were also formed.

【0104】また、溝を形成する際のプレス圧力は15
0kg/cm2、加熱温度は180℃とした。
The pressing pressure for forming the groove is 15
The heating temperature was 0 kg / cm 2 , and the heating temperature was 180 ° C.

【0105】このようにして得られた基板サンプルの各
々について、PETとポリマー層との接着強度、スタン
パ寿命および歩留りを以下のようにして調べた。
For each of the thus obtained substrate samples, the adhesive strength between PET and the polymer layer, the stamper life and the yield were examined as follows.

【0106】(1)接着強度 幅1/2インチに切り出した基板サンプルに、スコッチ
テープ(3M社製)を貼りつけ、PETフィルムからポ
リマー層を引き剥がすのに必要な力(g )を求めた。
(1) Adhesive Strength A scotch tape (manufactured by 3M) was attached to a substrate sample cut into a width of 1/2 inch, and the force (g) required for peeling the polymer layer from the PET film was determined. .

【0107】(2)スタンパ寿命 スタンパからポリマー層へ全面転写しなくなるまでの基
板サンプルの枚数で評価した。
(2) Life of Stamper The evaluation was made by the number of substrate samples until the entire transfer from the stamper to the polymer layer was stopped.

【0108】(3)歩留り 基板サンプル数1000枚について、溝の溝幅および深
さを、走査型トンネル顕微鏡(STM)により測定し、
溝幅および深さのうちいずれか一方でもスタンパの溝か
ら±10%以上ずれているものを歩留り外と判断し、両
方とも±10%未満であるものの割合を歩留り(%)と
して求めた。
(3) Yield With respect to 1000 substrate samples, the groove width and depth of the groove were measured by a scanning tunneling microscope (STM),
If the deviation from the groove of the stamper by ± 10% or more in either one of the groove width and the depth was judged to be outside the yield, the ratio of those both less than ± 10% was calculated as the yield (%).

【0109】結果を表1に示す。表1には非磁性基体表
面の水に対する接触角を併記する。
The results are shown in Table 1. Table 1 also shows the contact angle of water on the surface of the non-magnetic substrate.

【0110】[0110]

【表1】 [Table 1]

【0111】表1より本発明の効果は明らかである。The effect of the present invention is clear from Table 1.

【0112】上記基板サンプルNo. 3、No. 5、No. 7
を用い、膜厚0.1μm のCr下地層を形成し、さら
に、プラズマ重合膜の下地膜を形成したのち、膜厚0.
05μm のCo−Ni−Cr磁性層を形成した。さら
に、磁性層上にプラズマ重合膜のトップコート膜を形成
した。下地層およびトップコート膜の膜厚は、それぞれ
200A 、50A とし、プラズマ重合条件は以下のとお
りとした。
The above substrate samples No. 3, No. 5, No. 7
Was used to form a Cr underlayer having a thickness of 0.1 μm, and a plasma polymerized underlayer was further formed.
A 05 μm Co-Ni-Cr magnetic layer was formed. Further, a top coat film of a plasma polymerized film was formed on the magnetic layer. The film thicknesses of the underlayer and the top coat film were 200 A and 50 A, respectively, and the plasma polymerization conditions were as follows.

【0113】プラズマ重合条件 W/(F・M) : 1.05×109 Joule/kg CH4 の流量: 40 SCCM 動作圧力: 0.1 Torr プラズマ出力: 500 W プラズマ周波数: 13.56 MHz Plasma polymerization conditions W / (F · M): 1.05 × 10 9 Joule / kg CH 4 flow rate: 40 SCCM Operating pressure: 0.1 Torr Plasma output: 500 W Plasma frequency: 13.56 MHz

【0114】また、下地層および磁性層の成膜は、それ
ぞれ、DC−マグネトロンスパッタにて行なった。
The underlayer and the magnetic layer were formed by DC-magnetron sputtering.

【0115】また、下地層および磁性層のスパッタ条件
は、動作圧力を1Paとし、Ar雰囲気中とした。
The sputtering conditions for the underlayer and the magnetic layer were an operating pressure of 1 Pa and an Ar atmosphere.

【0116】ターゲットには、それぞれ、CrおよびC
62.5Ni30Cr7.5 (at% )を用いた。
The targets are Cr and C, respectively.
o 62.5 Ni 30 Cr 7.5 (at%) was used.

【0117】なお、ICP発光分析により磁性層の組成
を求めたところ、Co62.5Ni30Cr7.5 (at% )であ
った。
When the composition of the magnetic layer was determined by ICP emission analysis, it was Co 62.5 Ni 30 Cr 7.5 (at%).

【0118】この後、位置合わせのガイド用溝を利用し
て打ち抜き、3.5インチのフロッピーディスク(F
D)サンプルを得た。用いた基板サンプルに応じてFD
サンプルNo. 3、No. 5、No. 7とする。
After that, a 3.5 inch floppy disk (F
D) A sample was obtained. FD depending on the substrate sample used
Sample No. 3, No. 5, and No. 7

【0119】FDサンプルNo. 3、No. 5、No. 7を、
3.5インチフロッピーディスク駆動装置に組み込み、
耐久性を調べたところ、耐久性は十分であった。また、
電磁変換特性等も満足できるレベルにあった。
FD sample No. 3, No. 5, No. 7
Built in 3.5 inch floppy disk drive,
When the durability was examined, the durability was sufficient. Also,
The electromagnetic conversion characteristics were also at a satisfactory level.

【0120】また、上記のFDサンプルの断面をTEM
により観察し、溝の半値巾(WG )を求め、スタンパの
半値巾(WS )と比べたところ、WG /WS はほぼ1で
あり、溝の転写が確実で、かつスパッタ等による熱変形
等をうけることなく、溝の形状が良好に維持されている
ことが確認された。
Further, a cross section of the above FD sample was taken by TEM.
The full width at half maximum (W G ) of the groove was determined by observing with, and compared with the full width at half maximum (W S ) of the stamper, W G / W S was almost 1, and the transfer of the groove was reliable and spattering etc. It was confirmed that the shape of the groove was maintained well without being subjected to thermal deformation or the like.

【0121】なお、上記のFDサンプルにおいて、プラ
ズマ重合膜の下地膜を形成しないほかは同様の構成のF
Dサンプルを得、上記のFDサンプルと比較したとこ
ろ、プラズマ重合膜の下地膜を有するFDサンプルの方
が耐久性に優れることがわかった。これは、プラズマ重
合膜により磁性層や下地層と基板との接着性が増したた
めと考えられる。
In the FD sample described above, an F film having the same structure except that the base film of the plasma-polymerized film was not formed.
When the D sample was obtained and compared with the above FD sample, it was found that the FD sample having the underlayer film of the plasma polymerized film was superior in durability. It is considered that this is because the plasma polymerized film increased the adhesiveness between the magnetic layer or the underlayer and the substrate.

【0122】また、FDサンプルの断面をTEMにより
観察したところ、プラズマ重合膜の下地膜を有する方が
溝の形状を維持する点で優れていた。ただし、プラズマ
重合膜の下地膜を有さないものであっても、実用上問題
を生じないレベルであった。これは、プラズマ重合膜の
下地膜により下地層や磁性層形成の際のスパッタ熱によ
る溝の変形が緩和されるためと考えられる。
Further, when the cross section of the FD sample was observed by a TEM, it was found that the one having the underlayer film of the plasma polymerized film was excellent in maintaining the shape of the groove. However, even if it did not have the underlayer film of the plasma polymerized film, it was at a level where practically no problem occurred. It is considered that this is because the base film of the plasma-polymerized film alleviates the deformation of the groove due to the sputtering heat when forming the base layer and the magnetic layer.

【0123】[0123]

【発明の効果】本発明によれば、生産性に優れ、溝の加
工精度が良好である。
According to the present invention, the productivity is excellent and the groove processing accuracy is good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に用いる溝を形成するための装置の概略
構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an apparatus for forming a groove used in the present invention.

【図2】位置合わせのガイド用溝を説明するための模式
図である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a guide groove for alignment.

【図3】本発明を適用した磁気ディスクの部分断面図で
ある。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a magnetic disk to which the present invention has been applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 装置 2 スタンパ部 10 基板 5 磁気ディスク 15 磁性層 31 溝 1 Device 2 Stamper Section 10 Substrate 5 Magnetic Disk 15 Magnetic Layer 31 Groove

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳岡 保導 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasushi Tokuoka 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Corporation

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基体の表面を親水化処理して水に
対する接触角を低下させ、この親水化処理した基体上
に、塩化ビニルが80〜92モル%で、酢酸ビニルが8
〜20モル%の主骨格を有する塩化ビニル−酢酸ビニル
コポリマーの層を形成し、 この層に溝付き原盤の溝を転写し、溝を形成して得たこ
とを特徴とする磁気ディスク用基板。
1. A surface of a non-magnetic substrate is hydrophilized to reduce the contact angle to water, and 80 to 92 mol% vinyl chloride and 8 vinyl acetate are added to the hydrophilized substrate.
A substrate for a magnetic disk obtained by forming a layer of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having a main skeleton of ˜20 mol%, transferring the groove of a grooved master to this layer, and forming the groove.
【請求項2】 前記塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー
層の乾燥膜厚が3〜12μm である請求項1に記載の磁
気ディスク用基板。
2. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the dry film thickness of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer is 3 to 12 μm.
【請求項3】 前記親水化処理により非磁性基体表面の
水に対する接触角が40度以下となる請求項1または2
に記載の磁気ディスク用基板。
3. The contact angle of water on the surface of the non-magnetic substrate to 40 degrees or less by the hydrophilic treatment.
The magnetic disk substrate as described in.
【請求項4】 前記溝形成面上に連続薄膜の磁性層を形
成した磁気ディスクを得るのに用いる請求項1ないし3
のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。
4. A magnetic disk having a continuous thin film magnetic layer formed on the groove formation surface.
The magnetic disk substrate according to any one of 1.
【請求項5】 前記連続薄膜の磁性層を形成するに際
し、前記溝形成後、前記塩化ビニル−酢酸ビニルコポリ
マー層上にプラズマ重合膜を設ける請求項4に記載の磁
気ディスク用基板。
5. The magnetic disk substrate according to claim 4, wherein a plasma polymerized film is provided on the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer after forming the groove when forming the continuous thin film magnetic layer.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008176843A (en) * 2007-01-17 2008-07-31 Konica Minolta Opto Inc Substrate for magnetic recording medium and method for manufacturing substrate for magnetic recording medium

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