JPH06139566A - Production of substrate for magnetic disk - Google Patents
Production of substrate for magnetic diskInfo
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- JPH06139566A JPH06139566A JP31123092A JP31123092A JPH06139566A JP H06139566 A JPH06139566 A JP H06139566A JP 31123092 A JP31123092 A JP 31123092A JP 31123092 A JP31123092 A JP 31123092A JP H06139566 A JPH06139566 A JP H06139566A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク用基板の
製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic disk substrate.
【0002】[0002]
【従来の技術】溝を有する磁気ディスクの場合、溝内で
は磁気ヘッドからの距離が大きくなって分離損による減
磁が増大するため、隣接する記録トラックを溝にて分離
でき、トラック記録密度が高いときでもクロストークを
防止することができる。2. Description of the Related Art In the case of a magnetic disk having a groove, since the distance from the magnetic head in the groove increases and demagnetization due to separation loss increases, adjacent recording tracks can be separated by the groove and the track recording density can be increased. It is possible to prevent crosstalk even when it is high.
【0003】このような磁気ディスクは、溝を形成した
基板を用い、この基板上に磁性層を形成して得られてい
る。Such a magnetic disk is obtained by using a substrate having grooves formed therein and forming a magnetic layer on the substrate.
【0004】このような溝付きの磁気ディスク用基板に
おいて、溝を機械的に作成する方法としては、例えば特
開昭54−12806号に開示されているように、無変
調のカッタでラッカ板をオーバーカッティングし、この
ラッカ板を用いてこのラッカ板と同形のスタンパを形成
し、このスタンパにて磁気ディスク用基板を作成するも
のがある。In a magnetic disk substrate having such a groove, as a method for mechanically forming the groove, as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 54-12806, a racker plate is formed by a non-modulation cutter. There is a method in which overcutting is performed, a stamper having the same shape as this racker plate is formed using this racker plate, and a magnetic disk substrate is produced by this stamper.
【0005】しかし、このような方法では、1μm 程度
の超挟幅の溝の形成は不可能である。また、作成される
基板は1枚ずつの枚葉式となるため、生産効率を急激に
向上させることはできない。さらに、このような方法
は、フロッピーディスク用のように、100μm 以下の
比較的薄い基板から、ハードディスク用のように、1.
2mm程度の比較的リジッドな基板までは、同一方法で得
ることはできないという欠点を有する。However, with such a method, it is impossible to form a groove having a super narrow width of about 1 μm. Moreover, since the substrates to be produced are of the single-wafer type, the production efficiency cannot be rapidly improved. Further, such a method can be applied to a hard disk such as a floppy disk from a relatively thin substrate having a thickness of 100 μm or less.
It has a drawback that even a relatively rigid substrate of about 2 mm cannot be obtained by the same method.
【0006】このようなことから、本出願人は、先に、
「非磁性基体の表面を親水化処理して水に対する接触角
を低下させ、この親水化処理した基体上に、塩化ビニル
が80〜92モル%で、酢酸ビニルが8〜20モル%の
主骨格を有する塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーの層
を形成し、この層に溝付き原盤の溝を転写し、溝を形成
して得たことを特徴とする磁気ディスク用基板」を提案
している(特願平4−196292号)。From the above, the applicant has previously
"The surface of a non-magnetic substrate is hydrophilized to reduce the contact angle to water, and the main skeleton of which vinyl chloride is 80 to 92 mol% and vinyl acetate is 8 to 20 mol% on the hydrophilized substrate. Is formed by forming a layer of a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having, and transferring the groove of the grooved master to the layer, and forming the groove ". Japanese Patent Application No. 4-196292).
【0007】しかし、このような工程による場合、上記
欠点は解決されるものの、特にポリエチレンテレフタレ
ート(PET)のような可撓性の基体を用いるとき、溝
付き原盤の溝が全面転写されないことが確認された。こ
れは、溝付き原盤を前記のような塩化ビニル−酢酸ビニ
ルコポリマー層に加熱して接触させると、溝付き原盤が
平坦な状態で金型にセットされているため、溝付き原盤
とコポリマー層との間に一部空気が入ることによると考
えられる。However, it is confirmed that the groove of the grooved master is not entirely transferred, especially when a flexible substrate such as polyethylene terephthalate (PET) is used, though the above-mentioned drawbacks are solved by such a process. Was done. This is because when the grooved master is heated and brought into contact with the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer as described above, the grooved master is set in a mold in a flat state. It is thought that this is due to some air entering between.
【0008】このように溝が全面転写されないと、歩留
りが低下し、生産性が悪くなる。If the groove is not entirely transferred in this way, the yield is lowered and the productivity is deteriorated.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、歩留
りが向上し生産性に優れた磁気ディスク用基板の製造方
法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic disk substrate having an improved yield and excellent productivity.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(8)の本発明により達成される。 (1)非磁性基体上に形成した塩化ビニルが80〜92
モル%で、酢酸ビニルが8〜20モル%の主骨格を有す
る塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーの層に対し、溝付
き原盤を押圧して溝付原盤の溝を転写して溝を形成する
に際し、溝付き原盤と前記塩化ビニル−酢酸ビニルコポ
リマー層とが転写用溝形成面の中心部から接触し、次い
で徐々に周辺部が接触するように構成した磁気ディスク
用基板の製造方法。 (2)前記溝付き原盤はスタンパであり、スタンパを変
形させながら押圧する上記(1)の磁気ディスク用基板
の製造方法。 (3)前記スタンパは、転写用溝が形成された面の裏面
中心部に一端が接するバネを介して保持部材に保持され
ている上記(1)または(2)の磁気ディスク用基板の
製造方法。 (4)前記溝形成を加熱して行なう上記(1)ないし
(3)のいずれかの磁気ディスク用基板の製造方法。 (5)前記非磁性基体の少なくとも前記塩化ビニル−酢
酸ビニルコポリマー層形成側の面を親水化処理する上記
(1)ないし(4)のいずれかの磁気ディスク用基板の
製造方法。 (6)前記塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー層の乾燥
膜厚が3〜12μm である上記(1)ないし(5)のい
ずれかの磁気ディスク用基板の製造方法。 (7)前記非磁性基体は可撓性である上記(1)ないし
(6)のいずれかの磁気ディスク用基板の製造方法。 (8)前記溝形成面上に連続薄膜の磁性層を形成した磁
気ディスクを得るのに用いる上記(1)ないし(7)の
いずれかの磁気ディスク用基板の製造方法。These objects are achieved by the present invention described in (1) to (8) below. (1) The vinyl chloride formed on the non-magnetic substrate is 80 to 92.
When forming a groove by pressing the grooved master to the groove of the grooved master to a layer of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having a main skeleton of 8 to 20 mol% of vinyl acetate in mol%, A method for producing a magnetic disk substrate, wherein the grooved master and the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer are in contact with each other from a central portion of a transfer groove forming surface, and then gradually contact with a peripheral portion thereof. (2) The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to (1), wherein the grooved master is a stamper, and the stamper is pressed while being deformed. (3) The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to (1) or (2), wherein the stamper is held by a holding member via a spring having one end in contact with the center of the back surface of the surface on which the transfer groove is formed. . (4) The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to any one of (1) to (3), wherein the groove formation is performed by heating. (5) The method for producing a magnetic disk substrate according to any one of the above (1) to (4), wherein at least the surface of the non-magnetic substrate on the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer forming side is subjected to a hydrophilic treatment. (6) The method for producing a magnetic disk substrate according to any one of (1) to (5), wherein the dry film thickness of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer is 3 to 12 μm. (7) The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to any one of (1) to (6), wherein the non-magnetic substrate is flexible. (8) The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to any one of (1) to (7), which is used to obtain a magnetic disk having a continuous thin film magnetic layer formed on the groove formation surface.
【0011】[0011]
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.
【0012】本発明においては、非磁性基体上に塩化ビ
ニル−酢酸ビニルコポリマー層を形成し、このコポリマ
ー層に対し、溝付き原盤(好ましくはスタンパ)を用い
て溝を形成する。In the present invention, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer is formed on a non-magnetic substrate, and a grooved master (preferably a stamper) is used to form grooves on the copolymer layer.
【0013】図1には、この場合用いる溝形成装置の一
構成例が示されている。FIG. 1 shows a structural example of a groove forming device used in this case.
【0014】図示の装置1は、非磁性基体としてPET
等を用いたフロッピーディスク用基板を作製するもので
ある。The device 1 shown in the drawing has a PET as a non-magnetic substrate.
A substrate for a floppy disk using the above is manufactured.
【0015】装置1は、所定形状の溝を形成する溝形成
部2を有し、コポリマー層を形成した非磁性基体100
をロール状に収納し、かつこれを順次繰り出して供給す
る基体供給部3、および溝を形成した後の基板10を収
納する基板収納部4を有する。The device 1 has a groove forming portion 2 for forming a groove having a predetermined shape, and a non-magnetic substrate 100 having a copolymer layer formed thereon.
Is provided in the form of a roll, and a substrate supply unit 3 for supplying the substrate 10 after the groove is formed, and a substrate storage unit 4 for storing the substrate 10 after the groove is formed.
【0016】溝形成部2は所定形状の溝を有するスタン
パ部21と、スタンパ部21を所定温度に加熱する加熱
部23とを備え、スタンパ部21の下方には、溝形成に
際して、スタンパ部21と対をなして基体100を挟持
する下型25が設置されている。The groove forming portion 2 comprises a stamper portion 21 having a groove of a predetermined shape and a heating portion 23 for heating the stamper portion 21 to a predetermined temperature. Below the stamper portion 21, the stamper portion 21 is formed when forming the groove. A lower mold 25 that holds the base 100 in a pair is installed.
【0017】図1のスタンパ部21は、図2および図3
に示される構成を有する。The stamper portion 21 of FIG. 1 is the same as that of FIG. 2 and FIG.
It has the configuration shown in.
【0018】図2は未使用状態でのスタンパ部21を拡
大して示す部分断面図であり、図3は図2のA−A線断
面図である。FIG. 2 is an enlarged partial sectional view showing the stamper portion 21 in an unused state, and FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA of FIG.
【0019】これらの図に示されるように、スタンパ部
21転写は、転写溝が形成されたスタンパ211と、こ
れを保持する保持部材215とを有する。この保持部材
215内には、金型217が保持部材215内にて上下
に移動可能な状態で設置されている。また、金型217
のスタンパ211側端面中心部には、図示のように、バ
ネ213が設置されており、バネ213の一端は金型2
17に固定され、他端はスタンパ211の転写溝が形成
された面の裏面の中心部に接している。As shown in these figures, the stamper portion 21 transfer has a stamper 211 having a transfer groove formed therein and a holding member 215 for holding the stamper 211. A mold 217 is installed in the holding member 215 so as to be vertically movable in the holding member 215. Also, the mold 217
As shown in the drawing, a spring 213 is installed at the center of the end surface of the stamper 211 on the side of the mold 2
The other end is in contact with the center of the back surface of the surface of the stamper 211 where the transfer groove is formed.
【0020】すなわち、スタンパ211はバネ213を
介して保持部材215に保持されており、金型217は
バネ213を介してスタンパ211を押圧可能に設置さ
れている。That is, the stamper 211 is held by the holding member 215 via the spring 213, and the die 217 is installed so as to be able to press the stamper 211 via the spring 213.
【0021】図1において、下型25は常温下に設置し
てよく、また冷却してもよい。In FIG. 1, the lower mold 25 may be installed at room temperature or may be cooled.
【0022】図1の構成において、基体100は基体供
給部3から順次繰り出され、溝形成部2でスタンパ部2
1により、加熱下プレスされる。In the structure shown in FIG. 1, the base 100 is sequentially fed out from the base supply unit 3, and the stamper unit 2 is formed in the groove forming unit 2.
1 presses under heating.
【0023】この場合、非磁性基体100とのプレス開
始時には、図2に示されるように、スタンパ211の中
心部がバネ213によって押し出されて凸状となってい
る。このため、中心部のみが非磁性基体100と接触す
ることになる。その後、次第に金型217および下型2
5が移動すると、バネ213は弾性変形し、スタンパ2
11と非磁性基体100とが、除々に周辺部に亘って接
触するようになり、最終的には、図4に示されるよう
に、スタンパ211の押圧面は平坦となり、スタンパ2
11の全面が非磁性基体100と接触することになる。In this case, at the start of pressing with the non-magnetic substrate 100, as shown in FIG. 2, the center of the stamper 211 is pushed out by the spring 213 to form a convex shape. Therefore, only the central portion comes into contact with the nonmagnetic substrate 100. After that, gradually the mold 217 and the lower mold 2
When 5 moves, the spring 213 elastically deforms and the stamper 2
11 and the non-magnetic substrate 100 gradually come into contact with each other over the peripheral portion, and finally the pressing surface of the stamper 211 becomes flat as shown in FIG.
The entire surface of 11 comes into contact with the non-magnetic substrate 100.
【0024】その後、スタンパ部21と下型25とによ
る非磁性基体100の挟持状態が解放されて、溝形成の
一工程が終了する。After that, the state in which the non-magnetic substrate 100 is held by the stamper portion 21 and the lower die 25 is released, and one groove forming process is completed.
【0025】そして、非磁性基体100は繰り出されて
移動し、上記と同様の工程が順次繰り返される。このよ
うにして、連続的に溝を形成することが可能となる。Then, the non-magnetic substrate 100 is extended and moved, and the same steps as those described above are sequentially repeated. In this way, it becomes possible to continuously form the grooves.
【0026】このようにして溝が形成された後の基板1
0は巻き取られて基板収納部4に収納される。The substrate 1 after the grooves are formed in this way
0 is wound up and stored in the substrate storage unit 4.
【0027】本発明において、溝を形成する際、スタン
パ211と非磁性基体100とが、上記のように、中心
部から除々に周辺部へとむかって接触していくので、ス
タンパ211と基体100との間の空気を押し出すよう
に接触させることができる。このため、溝の全面転写が
確実となり、歩留りが向上し、本発明の効果が実現す
る。また、スタンパ211の剥離の際には周辺から剥離
していくので、スムーズに次の工程に移行できる。In the present invention, when the groove is formed, the stamper 211 and the non-magnetic substrate 100 gradually come into contact with each other from the central portion toward the peripheral portion as described above. The air between and can be pushed out. Therefore, the entire surface of the groove is reliably transferred, the yield is improved, and the effect of the present invention is realized. Further, when the stamper 211 is peeled off, the stamper 211 is peeled off from the periphery, so that the next process can be smoothly performed.
【0028】従来の平坦な状態で金型にセットされたス
タンパを用いて溝を形成すると、スタンパと基体との間
に一部空気が入り、全面転写しないことが問題となって
いたが、本発明はこれを解決するものである。特に、こ
のような問題はポリエチレンテレフタレート(PET)
のような可撓性基体を用い、加熱下プレスする場合に顕
著であった。When a groove is formed by using a stamper set in a metal mold in a conventional flat state, there is a problem that a part of air is introduced between the stamper and the substrate and the whole surface is not transferred. The invention solves this. In particular, such problems are caused by polyethylene terephthalate (PET).
It was remarkable when a flexible substrate like the above was used and pressed under heating.
【0029】なお、図示例では、バネによりスタンパ2
11を押圧するものとしているが、これに限定されるも
のではなく、バネのほか、プランジャ等の押圧部材で除
々に押圧してもよく、また場合によっては、基体の中心
からスタンパと基体とが接触するように基体をバネ等の
押圧手段で変形させ、平坦な押圧面のスタンパと接触さ
せるようにしてもよい。In the illustrated example, the stamper 2 is formed by a spring.
Although 11 is pressed, the present invention is not limited to this, and may be gradually pressed by a pressing member such as a spring in addition to a spring. In some cases, the stamper and the base may be separated from the center of the base. The base may be deformed by a pressing means such as a spring so that the base comes into contact with the stamper having a flat pressing surface.
【0030】本発明において、用いるスタンパの材質に
は特に制限はないが、バネ等による変形が可能なことな
どから、通常金属製のものとすればよく、なかでも、入
手のしやすさ、コスト面、メッキが可能なことなどの点
からNi製とすればよい。In the present invention, the material of the stamper to be used is not particularly limited, but since it can be deformed by a spring or the like, it may be normally made of metal, among which availability and cost are particularly preferable. It may be made of Ni in terms of surface and plating.
【0031】また、スタンパの厚さは、溝形成が可能
で、バネ等による変形が可能であればよく、通常0.3
〜1.0mmである。The stamper may have any thickness as long as it can form a groove and can be deformed by a spring or the like, and is usually 0.3.
~ 1.0 mm.
【0032】ただし、基体を変形させる態様では、これ
らの限定はなく、いずれのものを使用してもよい。However, in the embodiment in which the substrate is deformed, these are not limited, and any one may be used.
【0033】スタンパの溝は、通常、同心円状、スパイ
ラル状等に形成され、溝幅、深さ、溝のピッチ等は記録
密度、記録材料に合わせて適宜選択すればよい。The grooves of the stamper are usually formed in a concentric circle shape, a spiral shape, etc., and the groove width, depth, groove pitch, etc. may be appropriately selected according to the recording density and recording material.
【0034】また、プレスの際には加熱することが好ま
しが、加熱温度は140〜250℃、好ましくは170
〜200℃とすればよい。このような加熱温度とするこ
とによって、ポリマーが適度に移動する状態となり、プ
レスが容易となる。これに対し、温度があまり高くなる
と、変形が生じやすくなり、温度があまり低くなると溝
の転写を行なうことができなくなる。It is preferable to heat at the time of pressing, but the heating temperature is 140 to 250 ° C., preferably 170.
The temperature may be set to ˜200 ° C. By setting such a heating temperature, the polymer moves to an appropriate state, and the pressing becomes easy. On the other hand, if the temperature is too high, deformation is likely to occur, and if the temperature is too low, the groove cannot be transferred.
【0035】プレス圧力は、130〜250kg/cm2、好
ましくは140〜220kg/cm2とすればよい。The pressing pressure may be 130 to 250 kg / cm 2 , preferably 140 to 220 kg / cm 2 .
【0036】このようなプレス圧力とすることによっ
て、溝の転写を確実に、また精度よく行なうことができ
る。圧力があまり大きくなると、プレス機を大型化する
必要が出てきて高価になるとともに精度の面で劣るもの
となって好ましくなく、圧力が小さくなりすぎると、溝
の転写を確実に行なうことができない。By using such a pressing pressure, the groove can be transferred reliably and accurately. If the pressure becomes too large, it becomes necessary to upsize the press machine, which is expensive and inferior in terms of accuracy, which is not preferable. If the pressure becomes too small, groove transfer cannot be performed reliably. .
【0037】本発明において、塩化ビニル−酢酸ビニル
コポリマー層はこのコポリマーの塗布溶液を用いて非磁
性基体上に塗布により形成する。In the present invention, the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer is formed by coating on a non-magnetic substrate using a coating solution of this copolymer.
【0038】本発明において、フロッピーディスク用の
可撓性基板に用いる非磁性基体の材質に特に制限はな
く、強磁性金属薄膜成膜時の熱に耐える各種フィルム、
例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエ
チレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリ
エーテルエーテルケトン(PEEK)などを用いること
ができる。また特開昭63−10315号公報に記載の
各材料が使用可能である。In the present invention, the material of the non-magnetic substrate used for the flexible substrate for the floppy disk is not particularly limited, and various films that can withstand the heat at the time of forming the ferromagnetic metal thin film,
For example, polyester such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyether ether ketone (PEEK), and the like can be used. Further, each material described in JP-A-63-10315 can be used.
【0039】このときの樹脂製の非磁性基体の寸法は目
的に応じて選定すればよいが、通常、厚さ30〜100
μm 程度、直径60〜130mm程度である。The dimension of the resinous non-magnetic substrate at this time may be selected according to the purpose, but normally the thickness is 30 to 100.
The diameter is about μm and the diameter is about 60 to 130 mm.
【0040】このような非磁性基体を用いて、前述のコ
ポリマー層を形成するに当たり、非磁性基体表面を親水
化処理することが好ましい。親水化処理には特に制限は
なく、基体表面の水に対する接触角を低下させるような
処理のいずれをも用いることができる。In forming the above-mentioned copolymer layer using such a non-magnetic substrate, the surface of the non-magnetic substrate is preferably hydrophilized. The hydrophilic treatment is not particularly limited, and any treatment that reduces the contact angle of the substrate surface with water can be used.
【0041】このような処理によって、非磁性基体とコ
ポリマー層との接着性が向上し、溝の転写が確実とな
る。By such treatment, the adhesiveness between the non-magnetic substrate and the copolymer layer is improved, and the transfer of the groove is ensured.
【0042】この場合、基体表面の水に対する接触角は
40度以下、さらには30度以下、とすることが好まし
い。親水化という観点から接触角は小さいほど好まし
い。In this case, the contact angle of the surface of the substrate with water is preferably 40 degrees or less, more preferably 30 degrees or less. From the viewpoint of hydrophilicity, the smaller the contact angle, the more preferable.
【0043】このような親水化処理にはプラズマ処理、
コロナ処理等がある。For such hydrophilic treatment, plasma treatment,
Corona treatment etc.
【0044】このなかで、プラズマ処理の場合は、処理
ガスとして酸素、窒素等の無機ガスを用いて行なえばよ
い。また、プラズマ処理条件には特に制限はなく、電極
配置、印加電流、処理時間、動作圧力等は、通常のプラ
ズマ処理条件と同様とすればよい。通常、動作圧力は
0.01〜1Torr程度とする。また、処理ガスの流量は
5〜100SCCMとすればよい。Among these, in the case of plasma treatment, an inorganic gas such as oxygen or nitrogen may be used as a treatment gas. The plasma processing conditions are not particularly limited, and the electrode arrangement, applied current, processing time, operating pressure and the like may be the same as those under normal plasma processing conditions. Usually, the operating pressure is about 0.01 to 1 Torr. Further, the flow rate of the processing gas may be 5 to 100 SCCM.
【0045】プラズマ処理電源の周波数については、特
に制限はなく、直流〜マイクロ波までのいずれであって
もよい。The frequency of the plasma processing power source is not particularly limited and may be any of direct current to microwave.
【0046】また、コロナ処理を用いる場合も、通常の
方法に従えばよい。When the corona treatment is used, the usual method may be used.
【0047】本発明に用いる塩化ビニル−酢酸ビニルコ
ポリマーは、塩化ビニルが80〜92モル%、好ましく
は85〜90モル%で、酢酸ビニルが8〜20モル%、
好ましくは10〜15モル%の主骨格を有するものであ
る。The vinyl chloride-vinyl acetate copolymer used in the present invention has a vinyl chloride content of 80 to 92 mol%, preferably 85 to 90 mol%, and a vinyl acetate content of 8 to 20 mol%.
It preferably has a main skeleton of 10 to 15 mol%.
【0048】このものは塗布溶媒の選択の巾が広く、非
磁性基体上への塗布が容易で、製造上好ましい。また、
スタンパからの離型性もよい。This product has a wide selection of coating solvents, is easy to coat on a non-magnetic substrate, and is preferable in manufacturing. Also,
Good releasability from stamper.
【0049】また、このような成分構成のコポリマーを
用いることによって、非磁性基体とコポリマー層との接
着が強固になり、溝付き基板とする上で好ましい。さら
には、用いる溝付き原盤(スタンパ)の寿命が長くな
り、また、スタンパからの溝の転写を確実に行なうこと
ができ、1μm 程度の超狭幅の溝であっても精度よく形
成することができる。Further, by using the copolymer having such a component constitution, the adhesion between the non-magnetic substrate and the copolymer layer becomes strong, which is preferable for forming a grooved substrate. Further, the life of the grooved master (stamper) used is extended, the groove can be reliably transferred from the stamper, and even an extremely narrow groove of about 1 μm can be formed accurately. it can.
【0050】なお、上記のコポリマーは、上記の主骨格
を有するものであれば、一部変性したものであってもよ
い。The above copolymer may be partially modified as long as it has the above main skeleton.
【0051】さらには、上記成分のほかに、これとは異
なる第三成分を含むものであってもよく、第三成分とし
ては、ビニルアルコール、ブタジエン、ウレタン等から
誘導されるものが挙げられ、塩化ビニルと酢酸ビニルと
の合計を100モル%としたとき、これに対し1〜10
モル%の割合とするのがよい。さらには、ポリビニルア
ルコール、ポリブタジエン、ポリウレタン等のポリマー
をこのような割合で混合してもよい。Further, in addition to the above components, a third component different from the above may be contained, and examples of the third component include those derived from vinyl alcohol, butadiene, urethane and the like. When the total of vinyl chloride and vinyl acetate is 100 mol%, 1 to 10
It is good to set it as the ratio of mol%. Further, polymers such as polyvinyl alcohol, polybutadiene and polyurethane may be mixed in such a ratio.
【0052】本発明に用いる塗布溶媒としては、このよ
うなコポリマーを溶解するものであって非磁性基体を侵
さないものであれば特に制限はなく、メチルエチルケト
ン(MEK)、アセトン等の低沸点で低極性の溶媒を用
いることができ、なかでもメチルエチルケトン等を用い
ることが好ましい。The coating solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it dissolves such a copolymer and does not attack the non-magnetic substrate. Methyl ethyl ketone (MEK), acetone and the like have a low boiling point and a low solvent. A polar solvent can be used, and among them, methyl ethyl ketone or the like is preferably used.
【0053】また、塗布溶液の濃度は10〜30wt% 、
好ましくは15〜25wt% 程度とすればよい。The concentration of the coating solution is 10 to 30 wt%,
Preferably, it should be about 15 to 25 wt%.
【0054】塗布方法にも特に制限はなく、公知のいず
れの方法によってもよく、グラビアロールコート法、リ
バースロールコート法、スピンコート法等によることが
好ましい。この場合の塗布条件等も公知の方法によって
よい。The coating method is not particularly limited, and any known method may be used, and a gravure roll coating method, a reverse roll coating method, a spin coating method and the like are preferable. The coating conditions and the like in this case may also be according to known methods.
【0055】このようにして形成されるコポリマー層の
膜厚は、乾燥膜厚で、3〜12μmである。フロッピー
ディスク用の可撓性基板の場合3〜7μm 、好ましくは
4〜6μm とすればよい。膜厚をこのような範囲にする
ことによって、溝の転写を確実に行なうことができる。
これに対し、膜厚があまり大きくなると、プレス時に剥
離等が起こるなど製造上好ましくなく、膜厚が小さくな
りすぎると溝の転写を行なうことができない。The film thickness of the copolymer layer thus formed is 3 to 12 μm as a dry film thickness. In the case of a flexible substrate for a floppy disk, it may be 3 to 7 μm, preferably 4 to 6 μm. By setting the film thickness in such a range, it is possible to reliably transfer the groove.
On the other hand, if the film thickness is too large, peeling or the like may occur during pressing, which is not preferable in manufacturing, and if the film thickness is too small, groove transfer cannot be performed.
【0056】なお、膜厚は、マイクロメータ等により測
定すればよく、通常は、非磁性基体とコポリマー層とを
合計した全体厚から非磁性基体の厚さを引き算して算出
する。The film thickness may be measured with a micrometer or the like, and is usually calculated by subtracting the thickness of the nonmagnetic substrate from the total thickness of the nonmagnetic substrate and the copolymer layer.
【0057】本発明において、溝が形成された基板は、
フロッピーディスク用の可撓性基板として用いられる。
この場合、基板は、ディスク状に打ち抜いてから磁性層
を形成してもよく、磁性層等を形成し、全層を設層して
から打ち抜いてもよい。In the present invention, the substrate on which the groove is formed is
Used as a flexible substrate for floppy disks.
In this case, the substrate may be punched into a disc shape and then the magnetic layer may be formed. Alternatively, the magnetic layer and the like may be formed and all layers may be formed and then punched.
【0058】このようにして得られた基板を用いたフロ
ッピーディスクの一構成例が図5に示されている。An example of the structure of a floppy disk using the substrate thus obtained is shown in FIG.
【0059】図5に示すように、フロッピーディスク5
は、前記のようにして溝31が形成された基板10上
に、下地膜13および下地層14を介して磁性層15を
有する。そして、磁性層15上にはトップコート膜16
が設けられている。As shown in FIG. 5, the floppy disk 5
Has the magnetic layer 15 on the substrate 10 in which the groove 31 is formed as described above, with the underlying film 13 and the underlying layer 14 interposed therebetween. The top coat film 16 is formed on the magnetic layer 15.
Is provided.
【0060】必要に応じ、図5に示すように設けられる
下地層14の材質は、磁性層15に応じて、面内および
垂直方向に磁化容易軸が配向する金属、金属化合物、ま
たは合金を選択して用いればよい。具体的にはCr、M
o、パーマロイなどを挙げることができ、後述のハード
タイプの磁気ディスクの下地層と同様である。下地層1
4の膜厚は500〜10000A (0.05〜1μm )
程度とする。If necessary, as the material of the underlayer 14 provided as shown in FIG. 5, a metal, a metal compound, or an alloy in which the easy axis of magnetization is oriented in the in-plane and perpendicular directions is selected according to the magnetic layer 15. And use it. Specifically, Cr, M
o, permalloy, etc., which are the same as the underlayer of the hard type magnetic disk described later. Underlayer 1
The film thickness of 4 is 500-10000A (0.05-1μm)
The degree.
【0061】また、このような金属下地層14と基板1
0との間には、プラズマ重合膜の下地膜13を設けるこ
とが好ましい。このようなプラズマ重合膜の下地膜13
を設けることによって、磁性層15や下地層14と基板
10との接着性が良好となり、耐久性が向上する。ま
た、例えばスパッタ等により下地層14や磁性層15を
形成する場合、溝の形状が熱変形を受けることがないな
どの利点もある。Further, such a metal underlayer 14 and the substrate 1
It is preferable to provide a base film 13 of a plasma polymerized film between 0 and 0. Underlayer film 13 of such a plasma-polymerized film
By providing, the adhesion between the magnetic layer 15 and the underlayer 14 and the substrate 10 is improved, and the durability is improved. Further, when the underlayer 14 and the magnetic layer 15 are formed by, for example, sputtering, there is an advantage that the shape of the groove is not thermally deformed.
【0062】プラズマ重合膜の下地膜13の膜厚は50
〜300A 程度とする。The base film 13 of the plasma polymerized film has a thickness of 50.
Approximately 300A.
【0063】磁性層15は、連続薄膜型であれば特に制
限はなく、磁性層15を構成する各強磁性金属薄膜は、
例えば、Fe、CoおよびNiから選ばれる1種以上を
含有する連続薄膜、特にCo系の連続薄膜で構成すれば
よい。The magnetic layer 15 is not particularly limited as long as it is a continuous thin film type, and each ferromagnetic metal thin film forming the magnetic layer 15 is
For example, a continuous thin film containing one or more selected from Fe, Co and Ni, particularly a Co-based continuous thin film, may be used.
【0064】磁性層の組成の具体例としては、Co−N
i合金、Co−Ni−Cr合金、Co−V合金、Co−
Ni−P合金、Co−P合金、Co−Zn−P合金、C
o−Ni−Pt合金、Co−Pt合金、Co−Ni−M
n−Re−P合金等が挙げられる。A specific example of the composition of the magnetic layer is Co--N.
i alloy, Co-Ni-Cr alloy, Co-V alloy, Co-
Ni-P alloy, Co-P alloy, Co-Zn-P alloy, C
o-Ni-Pt alloy, Co-Pt alloy, Co-Ni-M
An n-Re-P alloy etc. are mentioned.
【0065】さらに、必要に応じて少量の酸素を各層の
表面層に含有させたり、この他非磁性層を介在させたり
して、耐食性等を向上させることができる。Further, if necessary, a small amount of oxygen may be contained in the surface layer of each layer, or a non-magnetic layer may be interposed therebetween to improve the corrosion resistance and the like.
【0066】磁性層15の厚さは、0.03〜0.2μ
m 程度であることが好ましい。このとき出力を十分に大
きくすることができる。The thickness of the magnetic layer 15 is 0.03 to 0.2 μm.
It is preferably about m 2. At this time, the output can be made sufficiently large.
【0067】磁性層15は、蒸着、スパッタ、イオンプ
レーティング、CVD等の各種気相成膜法にて成膜すれ
ばよいが、特にスパッタにて成膜することが好ましい。The magnetic layer 15 may be formed by various vapor phase film forming methods such as vapor deposition, sputtering, ion plating and CVD, but it is particularly preferable to form it by sputtering.
【0068】スパッタにて成膜する場合、スパッタの方
式、装置等には特に制限がなく、また諸条件もスパッタ
方式等に応じて適宜決定すればよい。When the film is formed by sputtering, there are no particular restrictions on the sputtering method, apparatus, etc., and the various conditions may be appropriately determined according to the sputtering method and the like.
【0069】例えば、DC−マグネトロンスパッタの場
合、動作圧力は、0.1〜10Pa程度とし、Ar等の不
活性ガス雰囲気下で行なえばよい。また、磁性層15の
表面を硬化する場合は、O2 を含むガス雰囲気とすれば
よい。For example, in the case of DC-magnetron sputtering, the operating pressure may be about 0.1 to 10 Pa and it may be performed in an atmosphere of an inert gas such as Ar. When the surface of the magnetic layer 15 is hardened, a gas atmosphere containing O 2 may be used.
【0070】また、磁性層15上に、図5に示すよう
に、必要に応じトップコート膜16が設けられるのが、
プラズマ重合膜であることが好ましい。このときのトッ
プコート膜16の膜厚はスペーシングロスの点から10
〜200A とするのがよい。このほか、潤滑保護膜を別
途設けてもよい。Further, as shown in FIG. 5, a top coat film 16 is provided on the magnetic layer 15 if necessary.
It is preferably a plasma polymerized film. At this time, the thickness of the top coat film 16 is 10 from the viewpoint of spacing loss.
~ 200A is recommended. In addition, a lubrication protective film may be separately provided.
【0071】この場合、前記基板10上の溝31によっ
て、ディスク最上面に凹凸が形成されるが、この凹凸に
よって、溝トラッキングによるトラック密度の向上、ヘ
ッドとの接触面積が減少することによる耐久性の向上等
の効果が得られる。In this case, the groove 31 on the substrate 10 forms unevenness on the uppermost surface of the disk. Due to the unevenness, the track density is improved by the groove tracking and the contact area with the head is reduced, so that the durability is improved. It is possible to obtain effects such as improvement of
【0072】以上においては、本発明において好ましく
得られるフロッピーディスク用の可撓性基板について述
べてきたが、本発明では非磁性基体に剛性のものを用い
ることによってハードタイプの磁気ディスクの剛性基板
とすることもできる。In the above, the flexible substrate for the floppy disk, which is preferably obtained in the present invention, has been described. In the present invention, a rigid substrate is used as the non-magnetic substrate to form a rigid substrate for a hard type magnetic disk. You can also do it.
【0073】ハードタイプの磁気ディスクとする場合、
ディスク状の非磁性基体を用いてスピンコート法により
前記コポリマー層を形成し、ベルトコンベアに下型をの
せ、その上にコポリマー層を形成した非磁性基体を置
き、上型(スタンパ部)の下に基体が位置したときプレ
スするなどして溝を形成することが好ましい。When a hard type magnetic disk is used,
The copolymer layer is formed by a spin coating method using a disk-shaped non-magnetic substrate, the lower mold is placed on a belt conveyor, and the non-magnetic substrate having the copolymer layer formed thereon is placed on the lower mold (stamper part). It is preferable to form a groove by pressing when the substrate is located in the.
【0074】この場合のプレス圧力は200〜300kg
/cm2、好ましくは230〜250kg/cm2とすればよい。The press pressure in this case is 200 to 300 kg.
/ cm 2 , preferably 230 to 250 kg / cm 2 .
【0075】また、コポリマー層の乾燥膜厚は3〜10
μm 、好ましくは5〜8μm とすればよい。The dry film thickness of the copolymer layer is 3 to 10
The thickness may be set to μm, preferably 5 to 8 μm.
【0076】このようなハードタイプの磁気ディスク用
の剛性基板とする時の非磁性基体は、ガラス、アルミニ
ウム、樹脂のいずれであってもよい。基板が剛性である
とは、基板のヤング率をE、厚さをtとしたとき、E・
t3 ≧1×107 dyn・cm、より好ましくはE・t3 ≧3
×107 dyn・cmであることをいう。The non-magnetic substrate used as the rigid substrate for such a hard type magnetic disk may be any of glass, aluminum and resin. A substrate is rigid when the Young's modulus of the substrate is E and the thickness is t.
t 3 ≧ 1 × 10 7 dyn · cm, more preferably E · t 3 ≧ 3
× 10 7 It means that it is dyn · cm.
【0077】従って、この場合には本発明のなかでもス
タンパを変形させる方法のみを適用する。Therefore, in this case, only the method of deforming the stamper is applied in the present invention.
【0078】このとき用いる樹脂には特に制限がなく、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂等いず
れの樹脂を使用してもよい。The resin used at this time is not particularly limited,
Any resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a radiation curable resin may be used.
【0079】この場合、非磁性基体をキャスティング法
で成型する場合は、例えば、ポリウレタン、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリアミド、シリコ
ーン樹脂、ポリエステルおよびこれらの変性体等が使用
できる。In this case, when the non-magnetic substrate is molded by the casting method, for example, polyurethane, epoxy resin, acrylic resin, polystyrene, polyamide, silicone resin, polyester and modified products thereof can be used.
【0080】インジェクション法で成型する場合は、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、ポリ
スチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アク
リロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリ
ル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、、ポリアセタ
ール、ポリエステル、ポリサルホン、ポリオキシベンジ
レン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリケトンサルファイド、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリアクリルイミド、ポリエーテルイミド、ポ
リオレフィン、アモルファスポリオレフィンおよびこれ
らの変性体等が使用できる。In the case of molding by the injection method, for example, polyethylene, polypropylene, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, vinylidene fluoride resin, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin , Polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyester, polysulfone, polyoxybenzylene, polyether sulfone, polyether ketone, polyether ether ketone, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, polyphenylene oxide, polyketone sulfide, polyimide, polyamideimide, polyacrylic Use of imide, polyetherimide, polyolefin, amorphous polyolefin and modified products of these Kill.
【0081】このときの樹脂製の非磁性基体の寸法は目
的に応じて選定すればよいが、通常、厚さ0.8〜1.
9mm程度、直径60〜130mm程度である。The dimension of the resinous non-magnetic substrate at this time may be selected according to the purpose, but normally the thickness is 0.8-1.
The diameter is about 9 mm and the diameter is about 60 to 130 mm.
【0082】ハードタイプの磁気ディスクとする場合、
その層構成等は図5と同様であり、前記のうち剛性基板
を用いる点で大きく異なるのみである。In the case of a hard type magnetic disk,
The layer configuration and the like are the same as those in FIG. 5, and only the point that a rigid substrate is used among them is largely different.
【0083】磁性層は、連続薄膜型であれば特に制限が
なく、この場合の磁性層は原則としてフロッピーディス
クと同様とすればよく、製法も同様とすればよい。The magnetic layer is not particularly limited as long as it is a continuous thin film type. In this case, the magnetic layer may be basically the same as that of the floppy disk, and the manufacturing method may be the same.
【0084】磁性層の膜厚は、再生出力および保磁力の
点から0.03〜0.2μm が好ましい。The thickness of the magnetic layer is preferably 0.03 to 0.2 μm from the viewpoint of reproduction output and coercive force.
【0085】基板と、磁性層との間には、必要に応じ
て、エピタキシャル成長を良好に行ない、磁気特性を向
上させる目的で下地層が設けられる。An underlayer is provided between the substrate and the magnetic layer for the purpose of favorably performing epitaxial growth and improving magnetic characteristics, if necessary.
【0086】下地層は、例えば、フロッピーディスクの
下地層と同様に、Cr、MoおよびWから選ばれる1種
以上を含有する連続薄膜にて構成すればよい。この場
合、用いる金属は単体でも合金でもよい。下地層の膜厚
は、磁性層の配向性および結晶性を良化する目的で0.
05〜0.5μm が好ましい。The underlayer may be composed of a continuous thin film containing at least one selected from Cr, Mo and W, like the underlayer of a floppy disk. In this case, the metal used may be a simple substance or an alloy. The thickness of the underlayer is set to 0. to improve the orientation and crystallinity of the magnetic layer.
05-0.5 μm is preferred.
【0087】なお、これら合金には、必要に応じ、O、
N、Si、Al、Mn、Ar、B、C等の他の元素が2
0重量%程度以下含有されていてもよい。If necessary, these alloys may contain O,
Other elements such as N, Si, Al, Mn, Ar, B and C are 2
You may contain about 0 weight% or less.
【0088】下地層は、前述した磁性層と同様、蒸着、
スパッタ、イオンプレーティング、CVD等の各種気相
成膜法にて成膜すればよく、特にスパッタにて成膜する
ことが好ましい。The underlayer is formed by vapor deposition, like the above-mentioned magnetic layer.
The film may be formed by various vapor phase film forming methods such as sputtering, ion plating, and CVD, and it is particularly preferable to form the film by sputtering.
【0089】磁性層上には、必要に応じて、さらに保護
層や図示しない有機系潤滑膜等を設けてもよい。また、
フロッピーディスクと同様に、基板と下地層や磁性層と
の間にプラズマ重合膜を介在させてもよく、同様の効果
が得られる。On the magnetic layer, a protective layer, an organic lubricant film (not shown) or the like may be further provided, if necessary. Also,
Similar to the floppy disk, a plasma polymerized film may be interposed between the substrate and the underlayer or magnetic layer, and the same effect can be obtained.
【0090】この場合、前記基板上のグルーブによっ
て、ディスク最上面に凹凸が形成され、磁気ディスクと
磁気ヘッド間の潤滑性がより一層向上し、このためCS
S耐久性が向上する。また、トラック密度が向上する。In this case, the grooves on the substrate form irregularities on the uppermost surface of the disk, which further improves the lubricity between the magnetic disk and the magnetic head.
S durability is improved. Also, the track density is improved.
【0091】保護層は、通常炭素あるいは炭素に他の元
素を5重量%程度以下添加したもので構成され、その膜
厚は、0.03〜0.1μm 程度とすればよい。The protective layer is usually composed of carbon or carbon with other elements added in an amount of about 5% by weight or less, and the thickness thereof may be about 0.03 to 0.1 μm.
【0092】また、潤滑膜は、通常フッ素系液体潤滑剤
等にて構成され、その膜厚は5〜20A 程度とすればよ
い。The lubricating film is usually composed of a fluorinated liquid lubricant or the like, and the film thickness may be about 5 to 20A.
【0093】なお、保護層等は、各種気相成膜法、特に
スパッタにて成膜すればよい。The protective layer and the like may be formed by various vapor phase film forming methods, particularly sputtering.
【0094】また、潤滑膜等は、ディップコート、スプ
レーコート、スピンコート等にて成膜すればよい。The lubricating film and the like may be formed by dip coating, spray coating, spin coating or the like.
【0095】以上では、図5に示すように、片面記録型
磁気ディスクを例に挙げて説明してきたが、本発明は、
両面記録型の磁気ディスクにも適用することができる。In the above, as shown in FIG. 5, the single-sided recording type magnetic disk has been described as an example, but the present invention is
It can also be applied to a double-sided recording type magnetic disk.
【0096】この場合、フロッピーディスク用の可撓性
基板では前記のようにして一方の面に溝を形成したの
ち、もう一方の面に同様の操作を繰り返し溝を形成して
もよい。In this case, in the flexible substrate for the floppy disk, the groove may be formed on one surface as described above, and then the same operation may be repeated to form the groove on the other surface.
【0097】一方、ハードタイプの磁気ディスク用の剛
性基板では、これと同様にして各面にそれぞれ溝を形成
することができる。On the other hand, in a rigid substrate for a hard type magnetic disk, grooves can be formed on each surface in the same manner as this.
【0098】[0098]
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。 実施例1 厚さ75μm のポリエチレンテレフタレート(PET)
フィルムを用い、これに下記の条件でプラズマ処理し
た。処理後の水に対する接触角は10°であった。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention. Example 1 Polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 75 μm
A film was used and plasma-treated under the following conditions. The contact angle with water after the treatment was 10 °.
【0099】プラズマ処理条件 使用ガス:酸素 流量:100SCCM RF:50W 圧力:0.05Torr Plasma processing conditions Gas used: oxygen Flow rate: 100 SCCM RF: 50 W Pressure: 0.05 Torr
【0100】次に、この処理後の非磁性基体上に、塩化
ビニル(85モル%)−酢酸ビニル(15モル%)コポ
リマーの20wt% メチルエチルケトン溶液を塗布し、5
μm膜厚(乾燥膜厚)の塗膜を形成した。塗布は、グラ
ビアロールコート法によった。Then, a 20 wt% methyl ethyl ketone solution of a vinyl chloride (85 mol%)-vinyl acetate (15 mol%) copolymer was applied onto the non-magnetic substrate after this treatment, and 5
A coating film having a thickness of μm (dry film thickness) was formed. The application was by a gravure roll coating method.
【0101】なお、ポリマー層の膜厚はマイクロメータ
により測定し、PETフィルムとポリマー層との合計厚
さからPETフィルムの厚さを引き算することによって
算出した。The film thickness of the polymer layer was measured by a micrometer and calculated by subtracting the thickness of the PET film from the total thickness of the PET film and the polymer layer.
【0102】次に、上記塗膜を形成したPETフィルム
をロール状に収納し、図1に示す装置を用いて溝を形成
した。Next, the PET film having the coating film formed thereon was housed in a roll form, and grooves were formed using the apparatus shown in FIG.
【0103】図1において、スタンパ部は図2〜図4に
示される構成とした。この場合スタンパはNi製とし、
スタンパの厚さは0.5mmとした。また溝は、幅0.4
μm、深さ0.5μm とし、溝間間隔は1.6μm と
し、同心円状に形成した。In FIG. 1, the stamper portion has the structure shown in FIGS. In this case, the stamper is made of Ni,
The thickness of the stamper was 0.5 mm. The groove has a width of 0.4
The grooves were formed in concentric circles with a groove spacing of 1.6 μm and a depth of 0.5 μm.
【0104】また、溝を形成する際のプレス圧力は15
0kg/cm2、加熱温度は180℃とした。The pressing pressure for forming the groove is 15
The heating temperature was 0 kg / cm 2 , and the heating temperature was 180 ° C.
【0105】このようにして、3.5インチのフロッピ
ーディスク(FD)用の基板サンプルを作製した。これ
を方法Aとする。In this way, a substrate sample for a 3.5-inch floppy disk (FD) was prepared. This is method A.
【0106】方法Aにおいて、スタンパ部にバネを有さ
ない従来の構成の装置を用いるほかは同様にして基板サ
ンプルを作製した。これを方法Bとする。A substrate sample was prepared in the same manner as in Method A, except that a conventional apparatus having no spring in the stamper portion was used. This is method B.
【0107】方法A、Bについて以下のようにして歩留
りを調べた。The yields of the methods A and B were examined as follows.
【0108】歩留り 光反射法により、1周にわたり、溝が転写しているかを
調べた。溝を転写した基板をクッキー状に打ち抜く。そ
のとき、中心をずらした形で打ち抜く。このものを反射
計にかけて、回転する。そうすると、入射した光は、溝
を横切るたびにデテクターに感知される。そうすると、
図6に示すように、全周溝が出てきているとサイン波が
現われる[(a)]が、全面に溝がないと途中でとぎれ
る[(b)]。途中に一部でも、(b)の状態があると
歩留り外として、カウントした。方法Aと方法Bの各々
で得られた各サンプル100枚について評価した。It was examined by the yield light reflection method whether the groove was transferred over one round. The substrate with the groove transferred is punched into a cookie shape. At that time, punch out with the center shifted. Put this thing on a reflectometer and rotate. Then, the incident light is detected by the detector each time it crosses the groove. Then,
As shown in FIG. 6, a sine wave appears when the entire circumferential groove is exposed [(a)], but is interrupted midway if there is no groove on the entire surface [(b)]. If there was a state of (b) even in part on the way, it was counted as out of yield. 100 sheets of each sample obtained by each of the method A and the method B were evaluated.
【0109】このようにして、歩留りを求めると、方法
Aでは95%であったが、方法Bでは20%であった。The yield thus obtained was 95% in Method A, but 20% in Method B.
【0110】さらに、方法Aによって得られた歩留り内
の基板サンプルを用い、膜厚0.1μm のCr下地層を
形成し、さらに、プラズマ重合膜の下地膜を形成したの
ち、膜厚0.05μm のCo−Ni−Cr磁性層を形成
した。さらに、磁性層上にプラズマ重合膜のトップコー
ト膜を形成した。下地層およびトップコート膜の膜厚
は、それぞれ200A 、50A とし、プラズマ重合条件
は以下のとおりとした。Further, by using the substrate sample in the yield obtained by the method A, a Cr underlayer having a film thickness of 0.1 μm was formed, and further an underlayer film of a plasma polymerization film was formed, and then a film thickness of 0.05 μm was formed. The Co-Ni-Cr magnetic layer of was formed. Further, a top coat film of a plasma polymerized film was formed on the magnetic layer. The film thicknesses of the underlayer and the top coat film were 200 A and 50 A, respectively, and the plasma polymerization conditions were as follows.
【0111】プラズマ重合条件 W/(F・M) : 1.05×109 Joule/kg CH4 の流量: 40SCCM 動作圧力: 0.1Torr プラズマ出力: 500W プラズマ周波数: 13.56MHz Plasma polymerization conditions W / (FM): 1.05 × 10 9 Joule / kg CH 4 flow rate: 40 SCCM Operating pressure: 0.1 Torr Plasma output: 500 W Plasma frequency: 13.56 MHz
【0112】また、下地層および磁性層の成膜は、それ
ぞれ、DC−マグネトロンスパッタにて行なった。The underlayer and the magnetic layer were each formed by DC-magnetron sputtering.
【0113】また、下地層および磁性層のスパッタ条件
は、動作圧力を1Paとし、Ar雰囲気中とした。The sputtering conditions for the underlayer and magnetic layer were such that the operating pressure was 1 Pa and the atmosphere was Ar.
【0114】ターゲットには、それぞれ、CrおよびC
o62.5Ni30Cr7.5 (at% )を用いた。The targets are Cr and C, respectively.
o 62.5 Ni 30 Cr 7.5 (at%) was used.
【0115】なお、ICP発光分析により磁性層の組成
を求めたところ、Co62.5Ni30Cr7.5 (at% )であ
った。When the composition of the magnetic layer was determined by ICP emission analysis, it was Co 62.5 Ni 30 Cr 7.5 (at%).
【0116】このようにして得られたFDサンプルを、
3.5インチフロッピーディスク駆動装置に組み込み、
耐久性を調べたところ、耐久性は十分であった。また、
電磁変換特性等も満足できるレベルにあった。The FD sample thus obtained was
Built in 3.5 inch floppy disk drive,
When the durability was examined, the durability was sufficient. Also,
The electromagnetic conversion characteristics were also at a satisfactory level.
【0117】[0117]
【発明の効果】本発明によれば、歩留りが向上し、生産
性に優れる。According to the present invention, the yield is improved and the productivity is excellent.
【図1】本発明に用いる溝を形成するための装置の概略
構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an apparatus for forming a groove used in the present invention.
【図2】図1のスタンパ部を説明するために、拡大して
示す部分断面図である。FIG. 2 is an enlarged partial cross-sectional view for explaining the stamper portion of FIG.
【図3】図2のA−A線断面図である。3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
【図4】図1のスタンパ部を説明するために、拡大して
示す部分断面図である。FIG. 4 is an enlarged partial sectional view for explaining the stamper portion of FIG.
【図5】本発明を適用した磁気ディスクの部分断面図で
ある。FIG. 5 is a partial cross-sectional view of a magnetic disk to which the present invention has been applied.
【図6】(a)、(b)ともに光反射法による溝転写の
評価を説明するためのグラフである。FIG. 6A and FIG. 6B are graphs for explaining the evaluation of groove transfer by the light reflection method.
1 装置 21 スタンパ部 211 スタンパ 213 バネ 10 基板 5 磁気ディスク 15 磁性層 31 溝 1 Device 21 Stamper Part 211 Stamper 213 Spring 10 Substrate 5 Magnetic Disk 15 Magnetic Layer 31 Groove
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳岡 保導 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasushi Tokuoka 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Corporation
Claims (8)
0〜92モル%で、酢酸ビニルが8〜20モル%の主骨
格を有する塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマーの層に対
し、溝付き原盤を押圧して溝付原盤の溝を転写して溝を
形成するに際し、 溝付き原盤と前記塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー層
とが転写用溝形成面の中心部から接触し、次いで徐々に
周辺部が接触するように構成した磁気ディスク用基板の
製造方法。1. Vinyl chloride formed on a non-magnetic substrate is 8
A grooved master is pressed against a layer of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having a main skeleton of 0 to 92 mol% and vinyl acetate of 8 to 20 mol% to form a groove by transferring the groove of the grooved master. In this case, the method for producing a magnetic disk substrate, wherein the grooved master and the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer are in contact with each other from the center of the transfer groove forming surface, and then gradually with the periphery.
ンパを変形させながら押圧する請求項1の磁気ディスク
用基板の製造方法。2. The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the grooved master is a stamper, and the stamper is pressed while being deformed.
面の裏面中心部に一端が接するバネを介して保持部材に
保持されている請求項1または2の磁気ディスク用基板
の製造方法。3. The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the stamper is held by a holding member via a spring whose one end is in contact with the center of the back surface of the surface on which the transfer groove is formed.
いし3のいずれかの磁気ディスク用基板の製造方法。4. The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the groove formation is performed by heating.
ニル−酢酸ビニルコポリマー層形成側の面を親水化処理
する請求項1ないし4のいずれかの磁気ディスク用基板
の製造方法。5. The method for producing a magnetic disk substrate according to claim 1, wherein at least the surface of the non-magnetic substrate on the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer forming side is subjected to a hydrophilic treatment.
層の乾燥膜厚が3〜12μm である請求項1ないし5の
いずれかの磁気ディスク用基板の製造方法。6. The method for manufacturing a magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the dry film thickness of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer layer is 3 to 12 μm.
ないし6のいずれかの磁気ディスク用基板の製造方法。7. The non-magnetic substrate is flexible.
7. A method for manufacturing a magnetic disk substrate according to any one of 1 to 6.
成した磁気ディスクを得るのに用いる請求項1ないし7
のいずれかの磁気ディスク用基板の製造方法。8. A magnetic disk in which a continuous thin film magnetic layer is formed on the groove forming surface to obtain a magnetic disk.
1. A method for manufacturing a magnetic disk substrate according to any one of 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31123092A JPH06139566A (en) | 1992-10-27 | 1992-10-27 | Production of substrate for magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31123092A JPH06139566A (en) | 1992-10-27 | 1992-10-27 | Production of substrate for magnetic disk |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06139566A true JPH06139566A (en) | 1994-05-20 |
Family
ID=18014663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP31123092A Pending JPH06139566A (en) | 1992-10-27 | 1992-10-27 | Production of substrate for magnetic disk |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06139566A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010021291A1 (en) * | 2008-08-22 | 2010-02-25 | コニカミノルタオプト株式会社 | Substrate manufacturing method, substrate manufactured by the substrate manufacturing method and magnetic recording medium using the substrate |
-
1992
- 1992-10-27 JP JP31123092A patent/JPH06139566A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010021291A1 (en) * | 2008-08-22 | 2010-02-25 | コニカミノルタオプト株式会社 | Substrate manufacturing method, substrate manufactured by the substrate manufacturing method and magnetic recording medium using the substrate |
JP4544372B2 (en) * | 2008-08-22 | 2010-09-15 | コニカミノルタオプト株式会社 | Substrate manufacturing method |
JPWO2010021291A1 (en) * | 2008-08-22 | 2012-01-26 | コニカミノルタオプト株式会社 | Substrate manufacturing method |
US8945454B2 (en) | 2008-08-22 | 2015-02-03 | Konica Minolta Opto, Inc. | Substrate manufacturing method, substrate manufactured by the substrate manufacturing method and magnetic recording medium using the substrate |
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