JPH05225559A - Substrate for magnetic disk and magnetic disk - Google Patents

Substrate for magnetic disk and magnetic disk

Info

Publication number
JPH05225559A
JPH05225559A JP7036992A JP7036992A JPH05225559A JP H05225559 A JPH05225559 A JP H05225559A JP 7036992 A JP7036992 A JP 7036992A JP 7036992 A JP7036992 A JP 7036992A JP H05225559 A JPH05225559 A JP H05225559A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
magnetic
magnetic disk
groove
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7036992A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kunihiro Ueda
国博 上田
Takanori Kobuke
隆敬 古武家
Jiro Yoshinari
次郎 吉成
Hitoshi Arai
均 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP7036992A priority Critical patent/JPH05225559A/en
Publication of JPH05225559A publication Critical patent/JPH05225559A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the substrate for a magnetic disk which assures the shape transfer from a stamper and is secure in the adhesion of a photopolymer and a nonmagnetic base body by subjecting the surface on the groove forming side of the nonmagnetic base body to a plasma treatment. CONSTITUTION:The surface 11 on the groove 31 forming side of the nonmagnetic base body 1 is subjected to the plasma treatment at the time of adopting a photopolymer method for the substrate for the magnetic disk formed with the photopolymer layer 3 on the base body 1 and the grooves 31 on the layer 3. The secure adhesion of the base body 1 and the layer 3 is attained by such plasma treatment and the shape transfer from the stamper 2 is assured. The magnetic disk constituted by using this substrate, therefore, has excellent durability and the high coercive force in the circumferential direction of the disk, prevents the modulation of the reproduced output and has a large recording capacity. The film thickness of the photopolymer layer is preferably 15 to 40mum.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク用基板と
これを用いた磁気ディスクに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk substrate and a magnetic disk using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、計算機等に用いられる磁気ディ
スク駆動装置には、剛性基板上に磁性層を設層したハー
ドタイプの磁気ディスクと浮上型磁気ヘッドとが用いら
れている。
2. Description of the Related Art For example, in a magnetic disk drive used in a computer or the like, a hard type magnetic disk having a magnetic layer formed on a rigid substrate and a floating magnetic head are used.

【0003】このような磁気ディスク駆動装置において
は従来、塗布型の磁気ディスクが用いられていたが、磁
気ディスクの大容量化に伴い、磁気特性、記録密度等の
点で有利なことから、スパッタ法等の気相成膜法等によ
り設層される連続薄膜型の磁性層を有する薄膜型磁気デ
ィスクが用いられるようになっている。
Conventionally, a coating type magnetic disk has been used in such a magnetic disk drive, but since the magnetic disk has a large capacity, it is advantageous in terms of magnetic characteristics, recording density, etc. A thin film magnetic disk having a continuous thin film type magnetic layer formed by a vapor phase film forming method such as a method has been used.

【0004】薄膜型磁気ディスクとしては、Al系のデ
ィスク状金属板にNi−P下地層をめっきにより設層す
るか、あるいはこの金属板表面を酸化してアルマイトを
形成したものを基板とし、この基板上にCr層、Co−
Ni等の金属磁性層、さらにC等の保護潤滑膜をスパッ
タ法により順次設層して構成されるものが一般的である
が、転送レートや記録密度の向上のための高速回転化
や、駆動装置の小型化の要請が大きく、磁気ディスクの
軽量化、さらには低コスト化が強く望まれている。
As the thin film magnetic disk, a Ni-P underlayer is formed by plating on an Al-based disk-shaped metal plate, or the surface of this metal plate is oxidized to form alumite. Cr layer, Co-
A metal magnetic layer of Ni or the like and a protective lubricating film of C or the like are generally formed sequentially by a sputtering method. However, high-speed rotation and driving for improving transfer rate and recording density are required. There is a great demand for downsizing of the device, and there is a strong demand for weight reduction and further cost reduction of the magnetic disk.

【0005】このため、金属製基板より軽く、しかも低
コストな樹脂製の剛性基板を用いた磁気ディスクが注目
されている。
For this reason, a magnetic disk using a rigid substrate made of resin, which is lighter than a metal substrate and is low in cost, is drawing attention.

【0006】しかし、平滑な表面の基板上に、連続薄膜
の金属磁性層を成膜すると、磁性層のディスク周方向の
保磁力が不十分なものとなる。
However, when a continuous thin metal magnetic layer is formed on a substrate having a smooth surface, the coercive force of the magnetic layer in the disk circumferential direction becomes insufficient.

【0007】そして、再生出力波形にモジュレーション
が生じてしまう。
Then, modulation occurs in the reproduced output waveform.

【0008】このような問題は、可撓性基板を用い、連
続薄膜の金属磁性層を成膜したフロッピーディスクにお
いても同様に生じるものである。
Such a problem similarly occurs in a floppy disk having a continuous thin metal magnetic layer formed on a flexible substrate.

【0009】ところで、磁気ディスク用基板としては、
例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエ
チレンナフタレート(PEN)に代表されるシート状の
樹脂フィルムやポリエーテルイミド(PEI)のような
成型品が主に用いられている。
By the way, as a magnetic disk substrate,
For example, sheet-shaped resin films typified by polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), and molded products such as polyetherimide (PEI) are mainly used.

【0010】しかし、このような樹脂製基板では、Al
のような金属製基板、ガラスないしセラミックス基板に
比べ、熱に対する寸法安定性が劣るため、平滑な面に磁
性層を形成した場合精度よくトラッキングを行なうこと
ができず、そのままトラック密度を向上させることはで
きない。このため、例えば3.5インチディスクで20
0Mバイト以上の記録容量の高記録密度を達成するに
は、その寸法安定性の悪さをカバーする必要がある。そ
して、この寸法安定性の悪さをカバーするには、樹脂製
基板表面にグルーブを形成し、トラッキングを行なう方
法が有力である。従って、このような樹脂製基板では、
射出成型法やフォトポリマー法(2P法)により磁性層
設層側面(基板表面)にグルーブを形成することが行な
われている。なかでも2P法はグルーブ形成の精度が高
いなどの理由から汎用されている。
However, in such a resin substrate, Al
Since the dimensional stability against heat is inferior to that of a metal substrate, such as a glass or ceramic substrate as described above, accurate tracking cannot be performed when a magnetic layer is formed on a smooth surface, and the track density can be improved as it is. I can't. Therefore, for example, with a 3.5-inch disc, 20
In order to achieve a high recording density with a recording capacity of 0 Mbytes or more, it is necessary to cover the poor dimensional stability. Then, in order to cover this poor dimensional stability, it is effective to form a groove on the surface of the resin substrate to perform tracking. Therefore, in such a resin substrate,
Grooves are formed on the side surface of the magnetic layer (substrate surface) by an injection molding method or a photopolymer method (2P method). Among them, the 2P method is widely used because of the high precision of groove formation.

【0011】しかし、これらの基板上に直接2P法を用
いてグルーブを形成しようとすると、フォトポリマー
(2P樹脂)がスタンパー側に残ってしまい、基板側に
転写されないという問題がある。
However, if the groove is formed directly on these substrates by the 2P method, the photopolymer (2P resin) remains on the stamper side and is not transferred to the substrate side.

【0012】また、フォトポリマーと基板との接着性が
十分でないという問題がある。
Further, there is a problem that the adhesiveness between the photopolymer and the substrate is not sufficient.

【0013】そのため、2P法を適用するに際し、樹脂
製基板表面をカップリング処理する方法が提案されてい
る。しかし、樹脂の場合、結合する官能基が必ずしも存
在するわけではなく、樹脂全般に一律に効果が得られる
わけではない。
Therefore, when applying the 2P method, a method of coupling the surface of a resin substrate has been proposed. However, in the case of a resin, the functional group to be bonded does not always exist, and the effect cannot be uniformly obtained for all resins.

【0014】また、紫外線(UV)処理して樹脂表面を
改質する方法も提案されているが十分ではない。
Also, a method of modifying the resin surface by ultraviolet (UV) treatment has been proposed, but it is not sufficient.

【0015】そして、グルーブの形成が確実に行なわれ
ないと、基板上に設層される磁性層における結晶粒子の
C軸方向を十分にディスク周方向に一致させることがで
きない。このため、磁性層のディスク周方向の保磁力が
不十分となり、しかも再生出力のモジュレーションを十
分に防止できない。
If the grooves are not formed reliably, the C-axis direction of the crystal grains in the magnetic layer provided on the substrate cannot be sufficiently aligned with the disk circumferential direction. For this reason, the coercive force of the magnetic layer in the disk circumferential direction becomes insufficient, and the modulation of the reproduction output cannot be sufficiently prevented.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】本発明の第1の目的
は、フォトポリマー法(2P法)を用いてグルーブを形
成する場合スタンパーからの形状転写が確実で、フォト
ポリマーと非磁性基体との接着が強固である磁気ディス
ク用基板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The first object of the present invention is to ensure the shape transfer from the stamper when the groove is formed by using the photopolymer method (2P method), and to provide the photopolymer and the non-magnetic substrate. It is to provide a substrate for a magnetic disk having strong adhesion.

【0017】また、第2の目的は、耐久性に優れ、かつ
ディスク周方向の保磁力が高く、しかも再生出力のモジ
ュレーションを防止し、トラック密度を向上することが
できる磁気ディスクを提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a magnetic disk which is excellent in durability, has a high coercive force in the disk circumferential direction, can prevent the modulation of the reproduction output, and can improve the track density. is there.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(7)の本発明により達成される。
These objects are achieved by the present invention described in (1) to (7) below.

【0019】(1)非磁性基体上にフォトポリマー層を
形成し、このフォトポリマー層にグルーブを形成した磁
気ディスク用基板において、前記非磁性基体の少なくと
もグルーブ形成側の面をプラズマ処理したことを特徴と
する磁気ディスク用基板。
(1) In a magnetic disk substrate in which a photopolymer layer is formed on a nonmagnetic substrate and grooves are formed in the photopolymer layer, at least the surface of the nonmagnetic substrate on which the groove is formed is subjected to plasma treatment. Characteristic magnetic disk substrate.

【0020】(2)前記フォトポリマー層の膜厚を15
〜40μm とした上記(1)に記載の磁気ディスク用基
板。
(2) The thickness of the photopolymer layer is 15
The magnetic disk substrate according to (1) above having a thickness of -40 μm.

【0021】(3)前記非磁性基体は樹脂製である上記
(1)または(2)に記載の磁気ディスク用基板。
(3) The magnetic disk substrate according to (1) or (2), wherein the non-magnetic substrate is made of resin.

【0022】(4)前記プラズマ処理に用いる処理ガス
は、酸素および窒素のうち少なくとも1種を含むガスま
たは酸素および窒素のうち少なくとも1種を含む化合物
のガスである上記(1)ないし(3)のいずれかに記載
の磁気ディスク用基板。
(4) The processing gas used for the plasma processing is a gas containing at least one of oxygen and nitrogen or a gas of a compound containing at least one of oxygen and nitrogen (1) to (3). The magnetic disk substrate according to any one of 1.

【0023】(5)前記非磁性基体のプラズマ処理した
面における水に対する接触角が30度以下である上記
(1)ないし(4)のいずれかに記載の磁気ディスク用
基板。
(5) The magnetic disk substrate according to any one of the above (1) to (4), wherein the contact angle of water on the plasma-treated surface of the non-magnetic substrate is 30 degrees or less.

【0024】(6)前記グルーブは、開口部幅が底部幅
より大であり、開口部幅および断面形状が実質的に均一
であり、基板周方向に形成された上記(1)ないし
(5)のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。
(6) In the groove, the opening width is larger than the bottom width, the opening width and the cross-sectional shape are substantially uniform, and the grooves are formed in the circumferential direction of the substrate (1) to (5). The magnetic disk substrate according to any one of 1.

【0025】(7)上記(1)ないし(6)のいずれか
に記載の磁気ディスク用基板のグルーブ形成面上に、連
続薄膜の磁性層を有する磁気ディスク。
(7) A magnetic disk having a continuous thin film magnetic layer on the groove forming surface of the magnetic disk substrate according to any one of the above (1) to (6).

【0026】[0026]

【作用】本発明では、非磁性基体表面をプラズマ処理し
た後、フォトポリマー法(2P法)によりグルーブを形
成しているので、スタンパーからの形状転写が確実とな
り、例えばV状のような開口部幅が底部幅より大であっ
て、開口部幅および断面形状が実質的に均一であるよう
なグルーブを基板周方向に確実に形成することができ
る。
In the present invention, since the groove is formed by the photopolymer method (2P method) after plasma-treating the surface of the non-magnetic substrate, the shape transfer from the stamper is ensured, and an opening such as a V-shape is formed. It is possible to reliably form a groove having a width larger than the bottom width and having a substantially uniform opening width and sectional shape in the substrate circumferential direction.

【0027】このため、このような基板上に連続薄膜型
の磁性層を成膜する場合、結晶粒子のC軸方向が面内か
つグルーブ方向すなわち周方向に拘束されて均一にエピ
タキシャル成長を行なう。特に、グルーブ内部でもエピ
タキシャル成長の方向を規制でき、C軸をディスク周方
向に揃えることができる。
Therefore, when a continuous thin film type magnetic layer is formed on such a substrate, the C-axis direction of the crystal grains is constrained to be in-plane and in the groove direction, that is, the circumferential direction, so that uniform epitaxial growth is performed. In particular, the direction of epitaxial growth can be restricted even inside the groove, and the C axis can be aligned in the disk circumferential direction.

【0028】このため、磁性層の磁化容易軸の方向がデ
ィスク周方向に揃い、磁気異方性が増大し、周方向の保
磁力や角形比が向上し、加えて、再生出力のモジュレー
ションを防止できる。
Therefore, the direction of the easy axis of magnetization of the magnetic layer is aligned with the disk circumferential direction, the magnetic anisotropy is increased, the coercive force in the circumferential direction and the squareness ratio are improved, and in addition, the modulation of the reproduction output is prevented. it can.

【0029】また、上記プラズマ処理により非磁性基体
とフォトポリマーとの接着が強固となり、耐久性が向上
する。
Further, the plasma treatment strengthens the adhesion between the non-magnetic substrate and the photopolymer and improves the durability.

【0030】さらに、グルーブを形成することによって
トラック密度が向上し、ディスク周方向の配向がよくな
り、磁性層との接着性が向上する。
Further, by forming the groove, the track density is improved, the orientation in the disk circumferential direction is improved, and the adhesiveness with the magnetic layer is improved.

【0031】そして、本発明では、さらに、フォトポリ
マー層の膜厚を15〜40μm としているので、膜中に
おける重合開始剤の量が十分となって紫外線照射による
硬化が十分に進行し、この点からも非磁性基体とフォト
ポリマー層との接着が強固となる。
Further, in the present invention, since the film thickness of the photopolymer layer is further set to 15 to 40 μm, the amount of the polymerization initiator in the film becomes sufficient, and the curing by the ultraviolet irradiation sufficiently proceeds. Also, the adhesion between the non-magnetic substrate and the photopolymer layer becomes strong.

【0032】このように非磁性基体とフォトポリマー層
との接着が強固になる結果、磁気ディスクとした場合耐
久性が十分となる。このため、エラーの発生等がなく、
ディスク特性に優れたものとなる。
As a result of the strong adhesion between the non-magnetic substrate and the photopolymer layer, the durability of the magnetic disk becomes sufficient. Therefore, there are no errors, etc.
It has excellent disc characteristics.

【0033】[0033]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
[Specific Structure] The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【0034】本発明の磁気ディスク用基板は、非磁性基
体上にフォトポリマー法(2P)層を形成し、このフォ
トポリマー層にグルーブを形成したものである。すなわ
ちフォトポリマー(2P)法によりグルーブを形成した
ものである。
The magnetic disk substrate of the present invention comprises a photopolymer method (2P) layer formed on a non-magnetic substrate, and a groove formed in the photopolymer layer. That is, the groove is formed by the photopolymer (2P) method.

【0035】2P法は、例えば、図1に示すように、非
磁性基体1とスタンパー2とを組合わせ、非磁性基体1
の上に、紫外線照射によって硬化するフォトポリマーを
注入してフォトポリマー層3を形成し、非磁性基体1側
から紫外線UVを照射し、フォトポリマー層3を硬化し
たのち、スタンパー2を剥離し、スタンパー2からの形
状転写を行なう成形方法であり、これによりグルーブ3
1が形成された磁気ディスク用基板10が得られる。
In the 2P method, for example, as shown in FIG. 1, a non-magnetic substrate 1 and a stamper 2 are combined to form a non-magnetic substrate 1.
Then, a photopolymer that is cured by ultraviolet irradiation is injected to form a photopolymer layer 3, and ultraviolet UV is irradiated from the nonmagnetic substrate 1 side to cure the photopolymer layer 3 and then the stamper 2 is peeled off. This is a molding method in which the shape is transferred from the stamper 2.
Thus, the magnetic disk substrate 10 on which 1 is formed is obtained.

【0036】そして、本発明においては、この2P法を
採用するに際し、非磁性基体1のグルーブ31形成側の
面11をプラズマ処理するものである。プラズマ処理に
より非磁性基体1とフォトポリマー層3との接着性が向
上し、確実な転写を行なうことができる。また、このよ
うな基板を用いて磁気ディスクとしたときの耐久性が向
上し、トラック密度が向上する。
In the present invention, when the 2P method is adopted, the surface 11 of the nonmagnetic substrate 1 on the side where the groove 31 is formed is subjected to plasma treatment. The plasma treatment improves the adhesiveness between the non-magnetic substrate 1 and the photopolymer layer 3 and ensures reliable transfer. Further, the durability of a magnetic disk using such a substrate is improved, and the track density is improved.

【0037】このような効果は、プラズマ処理をするこ
とによってはじめて得られるものであり、紫外線照射処
理(UV処理)やカップリング処理によって得られるも
のではない。
Such an effect is obtained only by performing the plasma treatment, and is not obtained by the ultraviolet irradiation treatment (UV treatment) or the coupling treatment.

【0038】さらに、本発明においては、上記のフォト
ポリマー層3の膜厚を、15〜40μm 、さらには20
〜40μm 、特には25〜35μm とすることが好まし
い。なお、この場合の膜厚はグルーブ31の厚さを含む
ものとし、硬化後におけるものである。
Further, in the present invention, the thickness of the photopolymer layer 3 is set to 15 to 40 μm, further 20
The thickness is preferably about 40 to 40 μm, and particularly preferably 25 to 35 μm. The film thickness in this case includes the thickness of the groove 31, and is after curing.

【0039】このような膜厚とすることにより、層中の
重合開始剤の量が十分となって紫外線照射による硬化が
十分に進行するため、非磁性基体1とフォトポリマー層
3との接着性を向上させる上で好ましい。この結果、磁
気ディスクとしたときの耐久性が向上し、エラー発生が
減少する。
With such a film thickness, the amount of the polymerization initiator in the layer becomes sufficient and the curing by ultraviolet irradiation sufficiently proceeds, so that the adhesion between the non-magnetic substrate 1 and the photopolymer layer 3 is improved. It is preferable in improving. As a result, the durability of the magnetic disk is improved and the occurrence of errors is reduced.

【0040】フォトポリマー層3の膜厚が小さくなる
と、紫外線を照射した時、重合開始剤の量が十分でない
ため、硬化が十分進行せず、接着強度が極端に低下す
る。そして、その上に磁性層を設けて磁気ディスクとし
ても、耐久性が得られず、磁性層が剥離して、エラーの
原因となったり磁性層を傷つけてしまう。
When the film thickness of the photopolymer layer 3 becomes small, the amount of the polymerization initiator is insufficient when irradiated with ultraviolet rays, so that the curing does not proceed sufficiently and the adhesive strength is extremely lowered. Even if a magnetic layer is provided on the magnetic disk, durability cannot be obtained, and the magnetic layer peels off, causing an error or damaging the magnetic layer.

【0041】これに対し、フォトポリマー層3の膜厚が
大きくなると、接着性等の点で効果の向上はみられず、
生産性やコスト面で不利になる。また、硬化時の収縮の
ため、かえってソリが大きくなってしまい、磁気ディス
クとしたとき耐久性やエラー発生等の点で特性が悪化し
てしまう。
On the other hand, when the thickness of the photopolymer layer 3 is increased, the effect is not improved in terms of adhesiveness,
It is disadvantageous in terms of productivity and cost. In addition, due to shrinkage during curing, the warp becomes rather large, and when used as a magnetic disk, the characteristics deteriorate in terms of durability and error occurrence.

【0042】なお、膜厚の測定は、段差計により行なう
ことができる。
The film thickness can be measured with a step gauge.

【0043】本発明におけるプラズマ処理は、酸素およ
び窒素のうちの少なくとも1種を含むガスを処理ガスと
して行なうことが好ましい。具体的には、酸素ガス、窒
素ガス、あるいはこれらの混合ガスであってもよい。さ
らには、酸素および窒素のうち少なくとも1種を含む化
合物のガスであってもよく、このようなものには、例え
ば、N2 O、NO2 、NH3 等がある。また、これらの
ガスに他のガスを混合したガスを用いてもよいが、これ
らのガスを30vol%以上含有するものとするのがよい。
このようなガスを用いて処理することにより、非磁性基
体1とフォトポリマー層3との接着性がさらに向上す
る。
The plasma treatment in the present invention is preferably performed using a gas containing at least one of oxygen and nitrogen as a treatment gas. Specifically, it may be oxygen gas, nitrogen gas, or a mixed gas thereof. Further, it may be a gas of a compound containing at least one of oxygen and nitrogen, and examples of such a gas include N 2 O, NO 2 and NH 3 . Further, a gas obtained by mixing these gases with another gas may be used, but it is preferable that these gases are contained in an amount of 30 vol% or more.
By treating with such a gas, the adhesiveness between the non-magnetic substrate 1 and the photopolymer layer 3 is further improved.

【0044】この接着性の向上は、非磁性基体表面11
がプラズマ処理によって親水性となるためと考えられ
る。
This improvement in adhesiveness is due to the non-magnetic substrate surface 11
Is considered to be hydrophilic by the plasma treatment.

【0045】このとき、非磁性基体表面11の水に対す
る接触角は30度以下、さらには10度以下とすること
が好ましい。親水性化という観点から、接触角は小さい
程好ましく、このときの下限値はほぼ0度となる。
At this time, the contact angle of the nonmagnetic substrate surface 11 with water is preferably 30 degrees or less, more preferably 10 degrees or less. From the viewpoint of hydrophilicity, the smaller the contact angle, the more preferable, and the lower limit value at this time is almost 0 degree.

【0046】このような効果は、上記のような処理ガス
を用いた時に特に顕著であり、他の処理ガス(例えば水
素ガス単独)では顕著に減少する。
Such an effect is particularly remarkable when the above processing gas is used, and is significantly decreased when other processing gas (for example, hydrogen gas alone) is used.

【0047】このときのプラズマ処理条件には特に制限
はなく、電極配置、印加電流、処理時間、動作圧力等
は、通常のプラズマ処理条件と同様とすればよい。通
常、動作圧力は0.01〜1Torr程度とする。また、処
理ガスの流量は5〜100SCCMとすればよい。
The plasma processing conditions at this time are not particularly limited, and the electrode arrangement, the applied current, the processing time, the operating pressure, etc. may be the same as the normal plasma processing conditions. Usually, the operating pressure is about 0.01 to 1 Torr. Further, the flow rate of the processing gas may be 5 to 100 SCCM.

【0048】プラズマ処理電源の周波数については、特
に制限はなく、直流〜マイクロ波までのいずれであって
もよい。
The frequency of the plasma processing power source is not particularly limited and may be any of direct current to microwave.

【0049】また、本発明に用いるフォトポリマーない
しその前駆体に特に制限はなく、通常の2P法に用いる
各種放射線硬化型化合物から選択することができる。
Further, the photopolymer or its precursor used in the present invention is not particularly limited and can be selected from various radiation-curable compounds used in the usual 2P method.

【0050】使用するモノマーとしては、1官能、2官
能、3官能あるいは多官能エステルアクリレート、ウレ
タンアクリレート、エポキシアクリレート等が好適であ
り、これらのなかから1種以上を用いればよい。
Monomers to be used are preferably monofunctional, bifunctional, trifunctional or polyfunctional ester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates and the like, and at least one of them may be used.

【0051】また、モノマーにかえて、あるいはモノマ
ーに加えて、オリゴマーを1種あるいは2種以上併用し
てもよい。
Further, one kind or two or more kinds of oligomers may be used together instead of the monomer or in addition to the monomer.

【0052】オリゴマーとしては、オリゴエステルアク
リレート等が好適である。
Suitable oligomers are oligoester acrylates and the like.

【0053】また、モノマーやオリゴマーに加え、通
常、光重合開始剤を添加してもよく、その添加量は全体
に対し、1〜10重量%、特に3〜5重量%が好まし
い。
In addition to the monomers and oligomers, a photopolymerization initiator may be usually added, and the addition amount thereof is preferably 1 to 10% by weight, particularly 3 to 5% by weight.

【0054】なお、非磁性基体1は、通常、紫外線UV
を透過する材質のものが多く、このようなものでは、図
1に示すように、非磁性基体1側から紫外線UVを照射
することが好ましい。しかし、場合によっては、スタン
パー2をガラス等の紫外線UVを透過する材質とし、ス
タンパー2側から紫外線UVを照射してもよい。このス
タンパー2側からの照射は、特に非磁性基体1が紫外線
UVを透過しない材質のものであるときに適用して有効
である。
The non-magnetic substrate 1 is usually ultraviolet UV
In many of these materials, it is preferable to irradiate ultraviolet rays UV from the side of the non-magnetic substrate 1 as shown in FIG. However, in some cases, the stamper 2 may be made of a material such as glass that transmits ultraviolet UV, and the ultraviolet UV may be irradiated from the stamper 2 side. The irradiation from the stamper 2 side is particularly effective when applied to the non-magnetic substrate 1 made of a material that does not transmit ultraviolet rays UV.

【0055】本発明の磁気ディスク用基板は、ハードタ
イプの磁気ディスク用の剛性基板あるいはフロッピーデ
ィスク用の可撓性基板として用いるものである。
The magnetic disk substrate of the present invention is used as a rigid substrate for a hard type magnetic disk or a flexible substrate for a floppy disk.

【0056】剛性基板とする時は、ガラスであってもよ
いが、樹脂製であることが好ましい。基板が剛性である
とは、基板のヤング率をE、厚さをtとしたとき、E・
3≧1×107 dyn・cm、より好ましくはE・t3 ≧3
×107 dyn・cmであることをいう。
The rigid substrate may be made of glass, but is preferably made of resin. A substrate is rigid when the Young's modulus of the substrate is E and the thickness is t.
t 3 ≧ 1 × 10 7 dyn · cm, more preferably E · t 3 ≧ 3
× 10 7 It means that it is dyn · cm.

【0057】このとき用いる樹脂には特に制限がなく、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂等いず
れの樹脂を使用してもよい。
The resin used at this time is not particularly limited,
Any resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a radiation curable resin may be used.

【0058】この場合、非磁性基体をキャスティング法
で成型する場合は、例えば、ポリウレタン、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリアミド、シリコ
ーン樹脂、ポリエステルおよびこれらの変性体等が使用
できる。
In this case, when the non-magnetic substrate is molded by the casting method, for example, polyurethane, epoxy resin, acrylic resin, polystyrene, polyamide, silicone resin, polyester and modified products thereof can be used.

【0059】インジェクション法で成型する場合は、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、ポリ
スチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アク
リロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリ
ル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、、ポリアセタ
ール、ポリエステル、ポリサルホン、ポリオキシベンジ
レン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリケトンサルファイド、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリアクリルイミド、ポリエーテルイミド、ポ
リオレフィン、アモルファスポリオレフィンおよびこれ
らの変性体等が使用できる。
In the case of molding by injection method, for example, polyethylene, polypropylene, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, vinylidene fluoride resin, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin , Polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyester, polysulfone, polyoxybenzylene, polyethersulfone, polyetherketone, polyetheretherketone, polyphenylenesulfide, polyphenyleneether, polyphenyleneoxide, polyketonesulfide, polyimide, polyamideimide, polyacrylic Use of imide, polyetherimide, polyolefin, amorphous polyolefin and modified products of these Kill.

【0060】このときの樹脂製の非磁性基体の寸法は目
的に応じて選定すればよいが、通常、厚さ0.8〜1.
9mm程度、直径60〜130mm程度である。
The dimension of the resinous non-magnetic substrate at this time may be selected according to the purpose, but normally the thickness is 0.8-1.
It has a diameter of about 9 mm and a diameter of about 60 to 130 mm.

【0061】一方、フロッピーディスク用の可撓性基板
に用いる非磁性基体の材質に特に制限はなく、強磁性金
属薄膜成膜時の熱に耐える各種フィルム、例えばポリエ
チレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタ
レート(PEN)等のポリエステル、ポリエーテルエー
テルケトン(PEEK)などを用いることができる。ま
た特開昭63−10315号公報に記載の各材料が使用
可能である。
On the other hand, the material of the non-magnetic substrate used for the flexible substrate for the floppy disk is not particularly limited, and various films that can withstand the heat at the time of forming the ferromagnetic metal thin film, such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate. Polyester such as (PEN) and polyether ether ketone (PEEK) can be used. Further, each material described in JP-A-63-10315 can be used.

【0062】このときの樹脂製の非磁性基体の寸法は目
的に応じて選定すればよいが、通常、厚さ30〜100
μm 程度、直径60〜130mm程度である。
The dimension of the resinous non-magnetic substrate at this time may be selected according to the purpose, but normally the thickness is 30 to 100.
The diameter is about μm and the diameter is about 60 to 130 mm.

【0063】本発明の磁気ディスク用基板は、前述のよ
うに、2P法により形成したグルーブを有するものであ
るが、グルーブは一方の主面あるいは両主面に開口部幅
が底部幅より広く、しかも開口部幅および断面形状が実
質的に均一であることが好ましい。
As described above, the magnetic disk substrate of the present invention has a groove formed by the 2P method. The groove has an opening width wider than the bottom width on one main surface or both main surfaces. Moreover, it is preferable that the opening width and the cross-sectional shape are substantially uniform.

【0064】この場合、グルーブが基板周方向に形成さ
れていれば、そのパターンには特に制限がないが、同心
円状または渦巻状が好ましく、グルーブパターンは多少
変形ないし偏心していてもよい。
In this case, if the groove is formed in the circumferential direction of the substrate, its pattern is not particularly limited, but it is preferably concentric or spiral, and the groove pattern may be slightly deformed or eccentric.

【0065】また、基板が両主面にグルーブを有する場
合、グルーブの形状、寸法、パターン等は、同一でも互
いに異なっていてもよい。
When the substrate has grooves on both main surfaces, the shapes, dimensions, patterns, etc. of the grooves may be the same or different.

【0066】このようなグルーブを形成した磁気ディス
ク用基板の好適例として図2に示すものが挙げられる。
A preferred example of the magnetic disk substrate having such a groove is shown in FIG.

【0067】図2に示すように、磁気ディスク用基板1
0には、断面台形状で、この断面形状と開口部幅aとが
実質的に均一であるグルーブ31が基板周方向に形成さ
れている。
As shown in FIG. 2, the magnetic disk substrate 1
At 0, a groove 31 having a trapezoidal cross section and having a substantially uniform cross sectional shape and opening width a is formed in the substrate circumferential direction.

【0068】図2には、開口部幅aと断面形状とが同一
のグルーブ31のみが形成されているが、完全同一のみ
の場合に限定されるものではなく、各グルーブ31の開
口部幅aには多少の差があってもよい。また、グルーブ
31の断面形状には相似形のものが含まれていても、多
少変形した形状のものが含まれていてもよい。
In FIG. 2, only the groove 31 having the same cross-sectional shape as the opening width a is formed, but the present invention is not limited to the case where the groove 31 has exactly the same shape, and the opening width a of each groove 31 is not limited thereto. May differ slightly. The cross-sectional shape of the groove 31 may include a similar shape or a slightly deformed shape.

【0069】定量的には、開口部幅aおよびグルーブ3
1の断面の面積を基板直径方向に測定した時、開口部幅
aおよびグルーブ31の断面の面積の変動係数が50%
以下、より好ましくは20%以下であることが好まし
い。
Quantitatively, the opening width a and the groove 3
When the area of the cross section of No. 1 was measured in the diameter direction of the substrate, the variation coefficient of the area of the opening width a and the cross section of the groove 31 was 50%.
It is preferably below 20%, more preferably below 20%.

【0070】このなかで、グルーブ31の断面の面積を
上記のようにするためには、グルーブ31の深さh、グ
ルーブ31間間隙bおよびグルーブ31の底部幅cのい
ずれかが、上記と同様に変動係数を用いた定義で均一で
あることが好ましく、なかでもhが均一であることが好
ましい。さらにはb、特にはhおよびbが均一であるこ
とが好ましい。
Among these, in order to make the cross-sectional area of the groove 31 as described above, one of the depth h of the groove 31, the gap b between the grooves 31 and the bottom width c of the groove 31 is the same as above. It is preferable that the definition is uniform using the coefficient of variation, and it is particularly preferable that h is uniform. Further, it is preferable that b, particularly h and b are uniform.

【0071】また、グルーブ31の径方向の間隔(上記
の間隙bと同じ)については、場合によっては、不規則
に変化するものであってもよいが、グルーブ31は、図
示のように、また上記したように、好ましくは変動係数
50%以下、特に20%以下の範囲にて等間隔に形成さ
れ、実質的に基板径方向に規則的に配置されていること
が好ましい。
The radial spacing of the grooves 31 (the same as the above-mentioned spacing b) may change irregularly in some cases, but the As described above, it is preferable that the variation coefficients are preferably 50% or less, particularly 20% or less, at equal intervals, and are substantially regularly arranged in the radial direction of the substrate.

【0072】また、グルーブ31の寸法は、底部幅cと
開口部幅aとの比c/aが9/10以下、特に5/10
以下であることが好ましい。
The size of the groove 31 is such that the ratio c / a of the bottom width c and the opening width a is 9/10 or less, particularly 5/10.
The following is preferable.

【0073】また、グルーブ31の開口部幅aは0.0
5〜10μm 、より好ましくは0.05〜5μm 、特に
好ましくは0.05〜1μm が好ましい。
The opening width a of the groove 31 is 0.0.
It is preferably 5 to 10 μm, more preferably 0.05 to 5 μm, and particularly preferably 0.05 to 1 μm.

【0074】グルーブ31の深さhは0.01〜0.5
μm 、より好ましくは0.01〜0.3μm 、特に好ま
しくは0.01〜0.15μm が好ましい。
The depth h of the groove 31 is 0.01 to 0.5.
μm, more preferably 0.01 to 0.3 μm, particularly preferably 0.01 to 0.15 μm.

【0075】また、グルーブ31間隙bは磁気ディスク
の容量に応じて適宜決定すればよい。
Further, the gap b between the grooves 31 may be appropriately determined according to the capacity of the magnetic disk.

【0076】ここに、グルーブ31の開口部幅aとは、
基板10の最高点間の距離、底部幅cとは、グルーブ3
1内の基板10の最低点が連続して存在する距離、グル
ーブ間隙bとは、隣接する一対のグルーブ間における基
板10の最高点が連続して存在する距離、深さhとは、
最高点と最低点間の距離である。
Here, the opening width a of the groove 31 is
The distance between the highest points of the substrate 10 and the bottom width c are the groove 3
The distance between the lowest points of the substrate 10 within 1 and the groove gap b is the distance between the highest points of the substrate 10 between a pair of adjacent grooves, and the depth h is
The distance between the highest and lowest points.

【0077】また、グルーブ31の寸法a、b、cおよ
びhは、それぞれ、2ビームの走査型電子顕微鏡(SE
M)や走査型トンネル電子顕微鏡(STM)によるプロ
フィールから解像度の範囲内で求めればよい。
Further, the dimensions a, b, c and h of the groove 31 are 2 beam scanning electron microscope (SE
M) or a scanning tunneling electron microscope (STM) profile may be used within the range of resolution.

【0078】なお、図2においてグルーブ31間間隙b
が零、すなわち台形状のグルーブ31が連続して形成さ
れていてもよい。
In FIG. 2, the gap b between the grooves 31 is
May be zero, that is, the trapezoidal groove 31 may be continuously formed.

【0079】上記のようにグルーブ31の形状等を規制
することによって、連続薄膜型の磁性層を成膜する場
合、結晶粒子のC軸方向が面内かつグルーブ方向すなわ
ち周方向に拘束されて均一にエピタキシャル成長を行な
う。特に、グルーブ内部でもエピタキシャル成長の方向
を規制でき、C軸をディスク周方向に揃えることができ
る。
When the continuous thin film type magnetic layer is formed by regulating the shape of the groove 31 as described above, the C-axis direction of the crystal grains is constrained in-plane and in the groove direction, that is, in the circumferential direction to be uniform. Epitaxial growth is performed. In particular, the direction of epitaxial growth can be restricted even inside the groove, and the C axis can be aligned in the disk circumferential direction.

【0080】このため、磁性層の磁化容易軸の方向がデ
ィスク周方向に揃い、磁気異方性が増大し、周方向の保
磁力や角形比が向上し、加えて、再生出力のモジュレー
ションを防止できる。
Therefore, the direction of the easy axis of magnetization of the magnetic layer is aligned with the disk circumferential direction, the magnetic anisotropy is increased, the coercive force in the circumferential direction and the squareness ratio are improved, and in addition, the modulation of the reproduction output is prevented. it can.

【0081】グルーブ31は、図2の台形状のほか種々
の形状であってよいが、特にV状および/またはU状で
であってもよく、このような形状であることは好まし
い。
The groove 31 may have various shapes other than the trapezoidal shape shown in FIG. 2, but may have a V shape and / or a U shape, and such a shape is preferable.

【0082】例えば、図3に示すようなV状のグルーブ
31であってもよい。また、このような対称のV形のみ
ならず、図4に示すような非対称なV形、さらには図5
に示すように、グルーブ31の壁面が曲率を有している
もの等、多少変形したものであってもよい。
For example, a V-shaped groove 31 as shown in FIG. 3 may be used. In addition to the symmetrical V-shape, an asymmetric V-shape as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the wall surface of the groove 31 may be slightly deformed, such as one having a curvature.

【0083】また、図6に示すように、Vと傾きが異な
る、例えば垂直直線部等が設けられ、グルーブ31の壁
面が折れ線状になってもよく、図7に示すように、グル
ーブ31の壁面には、段部や肩部があってもよい。
Further, as shown in FIG. 6, a vertical straight line portion having an inclination different from V, for example, may be provided, and the wall surface of the groove 31 may have a polygonal line shape. As shown in FIG. The wall may have steps or shoulders.

【0084】さらには、図8に示すように、1つのグル
ーブ31が、2以上のV形を有していてもよく、2以上
のV形は、それぞれ深さが異なっていてもよい。
Further, as shown in FIG. 8, one groove 31 may have two or more V-shapes, and the two or more V-shapes may have different depths.

【0085】また、図9に示すようなU状のグルーブ3
1であってもよく、この場合もV状のグルーブ31と同
様の種々の変形が可能である。
Further, the U-shaped groove 3 as shown in FIG.
The number may be 1, and in this case as well, various modifications similar to the V-shaped groove 31 are possible.

【0086】また、図示例に限らず、V状やU状等のグ
ルーブが連続して形成され、基板表面が、サイクロイド
状、サイン波状等になっていてもよい。
Further, the present invention is not limited to the illustrated example, and V-shaped or U-shaped grooves may be continuously formed, and the substrate surface may have a cycloidal shape, a sine wave shape or the like.

【0087】グルーブ31は、同一基板において、基板
周方向の配向性や保磁力、さらには再生出力のモジュレ
ーションの点で、1種であることが好ましいが、必要に
応じてその2種以上を好ましくは互いに所定の配置で、
ともに規則的に設けてもよい。
The groove 31 is preferably one kind on the same substrate in terms of the orientation in the substrate circumferential direction, the coercive force, and the modulation of the reproduction output, but if necessary, two or more kinds thereof are preferable. Are in a predetermined arrangement with each other,
Both may be provided regularly.

【0088】なお、基板表面は、平滑であっても、所定
の面粗さに仕上げられていてもよい。
The substrate surface may be smooth or may be finished to have a predetermined surface roughness.

【0089】以上、述べたような本発明において好まし
いとされるグルーブを形成する場合においても、2P法
を採用するに際し、本発明では非磁性基体表面をプラズ
マ処理し、好ましくはフォトポリマー層を前記の膜厚と
しているので、スタンパーからの転写が確実でフォトポ
リマーと非磁性基体との接着性が良好である。
Even in the case of forming the groove which is preferable in the present invention as described above, when the 2P method is adopted, in the present invention, the surface of the non-magnetic substrate is subjected to plasma treatment, and preferably the photopolymer layer is formed as described above. Since the thickness is set to, the transfer from the stamper is sure and the adhesion between the photopolymer and the non-magnetic substrate is good.

【0090】本発明の磁気ディスク用基板10は、磁気
ディスク、特に連続薄膜型の磁性層を有する磁気ディス
クに用いることが好ましい。
The magnetic disk substrate 10 of the present invention is preferably used for a magnetic disk, particularly a magnetic disk having a continuous thin film type magnetic layer.

【0091】このような磁性層のディスク周方向の角形
比をS1 、ディスク径方向の角形比をS2 としたとき、
本発明では、S1 とS2 との比S1 /S2 が1.10以
上のディスクが実現する。
When the squareness ratio of such a magnetic layer in the disk circumferential direction is S 1 and the squareness ratio in the disk radial direction is S 2 ,
In the present invention, the ratio S 1 / S 2 of S 1 and S 2 are realized 1.10 or more disks.

【0092】このようなものとしては、前述のように、
具体的には、ハードタイプの磁気ディスクおよびフロッ
ピーディスクが挙げられる。
As described above, as described above,
Specific examples include hard type magnetic disks and floppy disks.

【0093】図10には、ハードタイプの磁気ディスク
の好適例が示される。この場合、前記基板のうち剛性基
板を用いる。
FIG. 10 shows a preferred example of a hard type magnetic disk. In this case, a rigid substrate is used among the substrates.

【0094】磁気ディスク5は、基板10上に、磁性層
14を有する。
The magnetic disk 5 has a magnetic layer 14 on a substrate 10.

【0095】そして、必要に応じて、基板10と磁性層
14との間に、下地層13を有し、磁性層14の上に保
護層15等を有する。
If necessary, the underlayer 13 is provided between the substrate 10 and the magnetic layer 14, and the protective layer 15 and the like are provided on the magnetic layer 14.

【0096】この場合、V状のグルーブ31を有する基
板10を用いているが、グルーブ31の形状はこれに限
定されるものではない。
In this case, the substrate 10 having the V-shaped groove 31 is used, but the shape of the groove 31 is not limited to this.

【0097】磁性層14は、連続薄膜型であれば特に制
限がなく、例えば、Fe、CoおよびNiから選ばれる
1種以上を含有する連続薄膜、特にCo系の連続薄膜で
構成すればよい。
The magnetic layer 14 is not particularly limited as long as it is a continuous thin film type, and may be formed of, for example, a continuous thin film containing at least one selected from Fe, Co and Ni, particularly a Co-based continuous thin film.

【0098】磁性層14の組成の具体例としては、Co
−Ni合金、Co−Ni−Cr合金、Co−V合金、C
o−Ni−P合金、Co−P合金、Co−Zn−P合
金、Co−Ni−Pt合金、Co−Pt合金、Co−N
i−Mn−Re−P合金等が挙げられる。
Specific examples of the composition of the magnetic layer 14 include Co
-Ni alloy, Co-Ni-Cr alloy, Co-V alloy, C
o-Ni-P alloy, Co-P alloy, Co-Zn-P alloy, Co-Ni-Pt alloy, Co-Pt alloy, Co-N
Examples thereof include i-Mn-Re-P alloy.

【0099】基板10と、磁性層14との間には、必要
に応じて、エピタキシャル成長を良好に行ない、磁気特
性を向上させる目的で下地層13が設けられる。
An underlayer 13 is provided between the substrate 10 and the magnetic layer 14 for the purpose of favorably performing epitaxial growth and improving magnetic characteristics, if necessary.

【0100】下地層13は、例えば、Cr、Moおよび
Wから選ばれる1種以上を含有する連続薄膜にて構成す
ればよい。この場合、用いる金属は単体でも合金でもよ
い。下地層13の膜厚は、磁性層14の配向性および結
晶性を良化する目的で0.05〜0.5μm が好まし
い。
The underlayer 13 may be composed of, for example, a continuous thin film containing at least one selected from Cr, Mo and W. In this case, the metal used may be a simple substance or an alloy. The thickness of the underlayer 13 is preferably 0.05 to 0.5 μm for the purpose of improving the orientation and crystallinity of the magnetic layer 14.

【0101】なお、これら合金には、必要に応じ、O、
N、Si、Al、Mn、Ar、B、C等の他の元素が2
0重量%程度以下含有されていてもよい。磁性層14の
膜厚は、再生出力および保磁力の点から0.03〜0.
2μm が好ましい。
If necessary, these alloys may contain O,
Other elements such as N, Si, Al, Mn, Ar, B and C are 2
You may contain about 0 weight% or less. The film thickness of the magnetic layer 14 is 0.03 to 0.
2 μm is preferred.

【0102】磁性層14は、蒸着、スパッタリング、イ
オンプレーティング、CVD等の各種気相成膜法にて成
膜すればよいが、特にスパッタリングにて成膜すること
が好ましい。
The magnetic layer 14 may be formed by various vapor phase film forming methods such as vapor deposition, sputtering, ion plating and CVD, but it is particularly preferable to form it by sputtering.

【0103】スパッタリングにて成膜する場合、スパッ
タの方式、装置等には特に制限がなく、また諸条件もス
パッタ方式等に応じて適宜決定すればよい。
When the film is formed by sputtering, there are no particular restrictions on the sputtering method, apparatus, etc., and the various conditions may be appropriately determined according to the sputtering method and the like.

【0104】例えば、DC−マグネトロンスパッタの場
合、動作圧力は、0.1〜10Pa程度とし、Ar等の不
活性ガス雰囲気下で行なえばよい。また、磁性層の表面
を硬化する場合は、O2 を含むガス雰囲気とすればよ
い。
For example, in the case of DC-magnetron sputtering, the operating pressure may be about 0.1 to 10 Pa and it may be performed in an atmosphere of an inert gas such as Ar. When the surface of the magnetic layer is cured, a gas atmosphere containing O 2 may be used.

【0105】下地層13は、前述した磁性層14と同
様、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、C
VD等の各種気相成膜法にて成膜すればよく、特にスパ
ッタリングにて成膜することが好ましい。
The underlayer 13 is formed by vapor deposition, sputtering, ion plating, C as in the magnetic layer 14 described above.
The film may be formed by various vapor phase film forming methods such as VD, and it is particularly preferable to form the film by sputtering.

【0106】磁性層14上には、必要に応じて、さらに
保護層15や図示しない有機系潤滑膜等を設けてもよ
い。
On the magnetic layer 14, a protective layer 15 and an organic lubricant film (not shown) may be further provided, if necessary.

【0107】この場合、前記基板上のグルーブ31によ
って、ディスク最上面に凹凸が形成され、磁気ディスク
と磁気ヘッド間の潤滑性がより一層向上し、このためC
SS耐久性が向上する。
In this case, the groove 31 on the substrate forms unevenness on the uppermost surface of the disk, further improving the lubricity between the magnetic disk and the magnetic head.
SS durability is improved.

【0108】保護層15は、通常炭素あるいは炭素に他
の元素を5重量%程度以下添加したもので構成され、そ
の膜厚は、0.03〜0.1μm 程度とすればよい。
The protective layer 15 is usually composed of carbon or carbon to which another element is added in an amount of about 5% by weight or less, and its film thickness may be set to about 0.03 to 0.1 μm.

【0109】また、潤滑膜は、通常フッ素系液体潤滑剤
等にて構成され、その膜厚は5〜20A 程度とすればよ
い。
The lubricating film is usually made of a fluorine-based liquid lubricant or the like, and the film thickness may be about 5 to 20A.

【0110】なお、保護層15等は、各種気相成膜法、
特にスパッタリングにて成膜すればよい。
The protective layer 15 and the like are formed by various vapor deposition methods,
In particular, the film may be formed by sputtering.

【0111】また、潤滑膜等は、ディップコーティン
グ、スプレーコーティング、スピンコーティング等にて
成膜すればよい。
The lubricating film or the like may be formed by dip coating, spray coating, spin coating or the like.

【0112】一方、フロッピーディスクとする場合、そ
の層構成等は図10と同様であり、前記基板のうち可撓
性基板を用いる点で大きく異なるのみである。
On the other hand, in the case of a floppy disk, the layer structure and the like are the same as those in FIG. 10, and the only difference is that a flexible substrate is used among the above substrates.

【0113】また、下地層を設ける場合は、C、Hない
しSi等を含有するプラズマ重合膜あるいはSiOx
(1≦x≦2)等の酸化物蒸着膜とすることが好まし
い。下地膜の膜厚は50〜200A 程度とする。
When an underlayer is provided, a plasma polymerized film containing C, H or Si or SiOx.
It is preferable to use an oxide vapor deposition film such as (1 ≦ x ≦ 2). The thickness of the base film is about 50 to 200A.

【0114】磁性層を構成する各強磁性金属薄膜は、N
iを含有するCo−Ni合金であることが好ましく、特
にモル比でCoを約80%、Niを約20%含有する合
金が好適である。
Each ferromagnetic metal thin film forming the magnetic layer is N
A Co-Ni alloy containing i is preferable, and an alloy containing about 80% Co and about 20% Ni in molar ratio is particularly preferable.

【0115】また、必要に応じてCrを10%以下含有
していてもよく、特開昭63−10315号公報等に記
載されている各種金属やその他の金属成分を含有してい
てもよく、原則としてハードタイプの磁気ディスクと同
様とすればよく、製法も同様とすればよい。
If necessary, Cr may be contained in an amount of 10% or less, and various metals described in JP-A-63-10315 and other metal components may be contained. In principle, the hard disk type may be the same as the hard type magnetic disk, and the manufacturing method may be the same.

【0116】さらに、必要に応じて少量の酸素を各層の
表面層に含有させたり、この他非磁性層を介在させたり
して、耐食性等を向上させることができる。
Furthermore, if necessary, a small amount of oxygen may be contained in the surface layer of each layer, or a non-magnetic layer may be interposed therebetween to improve the corrosion resistance and the like.

【0117】磁性層の厚さは、0.03〜0.2μm 程
度であることが好ましい。このとき出力を十分に大きく
することができる。
The thickness of the magnetic layer is preferably about 0.03 to 0.2 μm. At this time, the output can be made sufficiently large.

【0118】また、磁性層上に、必要に応じトップコー
ト膜が設けられるのが、プラズマ重合膜であることが好
ましい。このときのトップコート膜の膜厚はスペーシン
グロスの点から10〜50A とするのがよい。このほ
か、潤滑保護膜を別途設けてもよい。
Further, it is preferable that the top coat film is provided on the magnetic layer, if necessary, and the plasma polymerization film is used. At this time, the thickness of the top coat film is preferably 10 to 50 A from the viewpoint of spacing loss. In addition, a lubrication protective film may be separately provided.

【0119】また、前記のハードタイプの磁気ディスク
同様、ディスク最上面に凹凸が形成されるが、この凹凸
によって、溝トラッキングによるトラック密度の向上、
ヘッドとの接触面積が減少することによる耐久性の向上
等の効果が得られる。
Further, similar to the hard type magnetic disk described above, unevenness is formed on the uppermost surface of the disk. Due to this unevenness, the track density is improved by groove tracking,
The contact area with the head is reduced, so that effects such as improvement in durability can be obtained.

【0120】以上では、図10に示すように、片面記録
型磁気ディスクを例に挙げて説明してきたが、本発明
は、両面記録型の磁気ディスクであってもよい。
Although the single-sided recording type magnetic disk has been described above as an example as shown in FIG. 10, the present invention may be a double-sided recording type magnetic disk.

【0121】[0121]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention.

【0122】実施例1 外径φ3.5インチ、厚さ1.2mmのポリエーテルイミ
ド製の非磁性基体を射出成形により製造し、一方の主面
に2P法(図1参照)により、基板の周方向に同心円状
に、断面V状のグルーブ作製を試みた。
Example 1 A non-magnetic base made of polyetherimide having an outer diameter of 3.5 inches and a thickness of 1.2 mm was manufactured by injection molding, and one main surface of the substrate was processed by the 2P method (see FIG. 1). An attempt was made to form a groove having a V-shaped cross section in a concentric circular shape in the circumferential direction.

【0123】フォトポリマーには、2種の紫外線硬化性
モノマーと2種の光重合開始剤とを以下のような割合で
混合したものを用いた。
The photopolymer used was a mixture of two kinds of UV-curable monomers and two kinds of photopolymerization initiators in the following proportions.

【0124】トリメチロールプロパントリアクリレー
ト:150重量部 ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリ
レート:50重量部 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン:4
重量部 2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モ
ルフォリノ−1−プロパノン:4重量部
Trimethylolpropane triacrylate: 150 parts by weight Hydroxipivalic acid neopentyl glycol diacrylate: 50 parts by weight 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone: 4
Parts by weight 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone: 4 parts by weight

【0125】フォトポリマーの硬化には高圧水銀灯を使
用し、硬化条件は下記のとおりとした。 紫外線照射量:1ジュール/cm2 最大放射束:0.1ワット/cm2 雰囲気:N2 ガス中
A high pressure mercury lamp was used for curing the photopolymer, and the curing conditions were as follows. Ultraviolet irradiation dose: 1 Joule / cm 2 Maximum radiant flux: 0.1 Watt / cm 2 Atmosphere: In N 2 gas

【0126】これをHD基板サンプルNo. 1とする。こ
の基板サンプルNo. 1においては、フォトポリマー層と
の接着性が得られず、事実上フォトポリマー層を形成す
ることができなかった。
This is designated as HD substrate sample No. 1. In this substrate sample No. 1, the adhesiveness with the photopolymer layer was not obtained, and the photopolymer layer could not be practically formed.

【0127】このHD基板サンプルNo. 1において、2
P法によりグルーブを形成する際、非磁性基体表面に表
1に示すように、プラズマ処理するほかは同様にしてH
D基板サンプルNo. 2〜No. 4、No. 7、No. 8を作製
した。なお、このときの処理ガスの流量は50SCCM
とした。また、非磁性基体表面を、UV処理、カップリ
ング処理するほかは同様にしてHD基板サンプルNo.
5、No. 6を作製した。この場合、フォトポリマー層の
膜厚は、いずれも、25μm とした。
In this HD substrate sample No. 1, 2
When the groove is formed by the P method, H is similarly applied to the surface of the non-magnetic substrate as shown in Table 1 except that plasma treatment is performed.
D substrate samples No. 2 to No. 4, No. 7 and No. 8 were produced. The processing gas flow rate at this time is 50 SCCM.
And In addition, the HD substrate sample No. is performed in the same manner except that the non-magnetic substrate surface is subjected to UV treatment and coupling treatment.
No. 5 and No. 6 were produced. In this case, the film thickness of each photopolymer layer was 25 μm.

【0128】フォトポリマー層の膜厚は段差計により測
定した。
The film thickness of the photopolymer layer was measured by a step gauge.

【0129】これらのHD基板サンプルNo. 1〜No. 8
について、以下のようにして接着強度および転写面積を
測定した。結果を表1に示す。なお、表1には水に対す
る接触角を併記する。
These HD substrate samples No. 1 to No. 8
For, the adhesive strength and the transfer area were measured as follows. The results are shown in Table 1. In addition, Table 1 also shows the contact angle to water.

【0130】(1)接着強度(ピールテスト) サンプルを1/2インチに切り出し、接着テープを張り
付け引き離した。そのときの加重をロードセルにて測定
した。
(1) Adhesive Strength (Peel Test) The sample was cut into 1/2 inch, and an adhesive tape was attached and pulled apart. The weight at that time was measured with a load cell.

【0131】(2)転写面積 基板をスタンパーより剥離した後、基板側の転写面積を
測定した。
(2) Transfer Area After the substrate was peeled from the stamper, the transfer area on the substrate side was measured.

【0132】[0132]

【表1】 [Table 1]

【0133】表1より本発明の効果は明らかである。The effect of the present invention is clear from Table 1.

【0134】これらのなかでHD基板サンプルNo. 2、
No. 3、No. 7、No. 8について、グルーブの開口部幅
a、グルーブの底部幅c、グルーブの深さhおよびグル
ーブ間間隙bを、それぞれ、基板径方向に測定し、各寸
法の平均値と、変動係数とを求めたところ下記のとおり
であった。なお、各寸法は、STMにて求めた。
Among these, HD substrate sample No. 2,
For No. 3, No. 7, and No. 8, the groove opening width a, the groove bottom width c, the groove depth h, and the inter-groove gap b were measured in the substrate radial direction. The average value and the coefficient of variation were calculated as follows. Each dimension was determined by STM.

【0135】開口部幅a:0.2μm 、変動係数13% 底部幅c:0μm 、変動係数0% 深さh:0.1μm 、変動係数15% グルーブ間間隙b:0.2μm 、変動係数13%Opening width a: 0.2 μm, coefficient of variation 13% Bottom width c: 0 μm, coefficient of variation 0% Depth h: 0.1 μm, coefficient of variation 15% Gap between grooves b: 0.2 μm, coefficient of variation 13 %

【0136】次いで、上記のHD基板サンプルNo. 2、
No. 3、No. 7、No. 8を用い、これに膜厚0.1μm
のCr下地層を成膜した後、膜厚0.05μm のCo−
Ni−Cr磁性層を成膜した。
Then, the above-mentioned HD substrate sample No. 2,
No. 3, No. 7, and No. 8 were used, and the film thickness was 0.1 μm.
After forming the Cr underlayer of
A Ni-Cr magnetic layer was formed.

【0137】そして、膜厚0.04μm のC保護層を成
膜した後、パーフルオロポリエーテルを塗布し、10A
の潤滑膜を成膜して、HDサンプルNo. 2、No. 3、N
o. 7、No. 8を得た。
Then, after forming a C protective layer having a film thickness of 0.04 μm, perfluoropolyether is applied and 10 A is applied.
HD sample No. 2, No. 3, N
o.7 and No.8 were obtained.

【0138】この場合、下地層および磁性層の成膜は、
それぞれ、DC−マグネトロンスパッタにて行ない、保
護層の成膜は、RF−マグネトロンスパッタにて行なっ
た。
In this case, the underlayer and the magnetic layer are formed by
Each was performed by DC-magnetron sputtering, and the protective layer was formed by RF-magnetron sputtering.

【0139】また、下地層、磁性層および保護層のスパ
ッタ条件は、動作圧力を1Paとし、Ar雰囲気中とし
た。
The sputtering conditions for the underlayer, magnetic layer and protective layer were an operating pressure of 1 Pa and an Ar atmosphere.

【0140】ターゲットには、それぞれ、Cr、Co70
Ni20Cr10(at% )およびCを用いた。
The targets are Cr and Co 70 , respectively.
Ni 20 Cr 10 (at%) and C were used.

【0141】なお、ICP発光分析により磁性層の組成
を求めたところ、Co70Ni20Cr10(at% )であっ
た。
When the composition of the magnetic layer was determined by ICP emission analysis, it was Co 70 Ni 20 Cr 10 (at%).

【0142】これらのHDサンプルNo. 2、No. 3、N
o. 7、No. 8について、磁性層のディスク周方向およ
び径方向の保磁力HcをVSMにより印加磁界強度10
kOe にて測定した。
These HD samples No. 2, No. 3, N
For No. 7 and No. 8, the coercive force Hc of the magnetic layer in the disk circumferential direction and the radial direction was applied by VSM to obtain a magnetic field strength of 10
It was measured at kOe.

【0143】この結果、特に周方向のHcが高く、十分
なHcを有することがわかった。
As a result, it was found that Hc was particularly high in the circumferential direction and had a sufficient Hc.

【0144】また、ディスク周方向の配向性を評価する
ため、前記と同様に測定をして、ディスク周方向の角形
比S1 と、ディスク径方向の角形比S2 と、S1 とS2
との比S1 /S2 を算出したところ、1.10以上であ
った。
[0144] In order to evaluate the disk circumferential direction of the orientation, the a and the measurement in the same manner, the squareness ratio S 1 of the disk circumferential direction, the radial direction of the disk squareness ratio S 2, S 1 and S 2
When the ratio S 1 / S 2 of the above was calculated, it was 1.10 or more.

【0145】なお、X線回折により、サンプルNo. 2、
No. 3、No. 7およびNo. 8は、それぞれ、磁性層の結
晶粒子のC軸が、ディスク周方向に配向していることが
確認された。
By X-ray diffraction, sample No. 2,
In No. 3, No. 7 and No. 8, it was confirmed that the C-axes of the crystal grains of the magnetic layer were oriented in the disk circumferential direction.

【0146】次に、各サンプルに対し、ディスク最内
周、内周と外周の中間周および最外周のそれぞれにおけ
る再生出力のモジュレーションMODiを下記のとおり
算出し、この平均値MODを求め、モジュレーションの
評価を行なった。
Next, for each sample, the modulation MODi of the reproduction output at the innermost circumference of the disc, the intermediate circumference of the inner circumference and the outer circumference, and the outermost circumference of the disk are calculated as follows, and the average value MOD is obtained to obtain the modulation value MOD. An evaluation was done.

【0147】MODi:ディスクに3.3MHz の単一波
長の信号を記録し、その1周分の出力波形エンベロープ
より、出力のP−P(peak to peak)値の最大値をA、最
小値をBとし下記式から算出した。 MODi = (A-B) / (A+B)× 100 (%)
MODi: A signal having a single wavelength of 3.3 MHz is recorded on the disc, and the maximum value of the output PP (peak to peak) value is A and the minimum value is the minimum value from the output waveform envelope for one round. B was calculated from the following formula. MOD i = (AB) / (A + B) × 100 (%)

【0148】この結果、MODが5%未満であり、満足
できるレベルであることがわかった。
As a result, it was found that the MOD was less than 5%, which was a satisfactory level.

【0149】実施例2 実施例1のHD基板サンプルNo. 1〜No. 6において、
非磁性基体としてポリエーテルイミド(PEI)のかわ
りにポリエチレンテレフタレート(PET)を用いるほ
かは同様にして、フロッピーディスク用の基板サンプル
を作製した。
Example 2 In the HD substrate sample Nos. 1 to 6 of Example 1,
A substrate sample for a floppy disk was prepared in the same manner except that polyethylene terephthalate (PET) was used as the nonmagnetic substrate instead of polyetherimide (PEI).

【0150】HD基板サンプルNo. 1〜No. 6に対応さ
せて、FD基板サンプルNo. 21〜No. 26とする(表
2)。
The FD substrate samples No. 21 to No. 26 are made to correspond to the HD substrate samples No. 1 to No. 6 (Table 2).

【0151】FD基板サンプルNo. 21は実施例1のH
D基板サンプルNo. 1と同様に、フォトポリマー層の形
成が事実上困難であった。また、フォトポリマー層の膜
厚はすべて25μm とした。
FD substrate sample No. 21 is H of Example 1
Similar to the D substrate sample No. 1, it was practically difficult to form the photopolymer layer. The film thickness of the photopolymer layer was all 25 μm.

【0152】また、プラズマ処理条件、非磁性基体材料
を表2のようにかえて、FD基板サンプルNo. 27〜N
o. 29を作製した。
Also, the FD substrate sample Nos. 27 to N were changed by changing the plasma processing conditions and the non-magnetic substrate material as shown in Table 2.
o.29 was prepared.

【0153】ただし、これらの非磁性基体の樹脂フィル
ム厚は75μm 程度とした。また、非磁性基体材料がP
ENであるときは、スタンパーをガラス製とし、スタン
パー側から紫外線(UV)を照射するものとした。
However, the resin film thickness of these non-magnetic substrates was set to about 75 μm. In addition, the non-magnetic substrate material is P
When it was EN, the stamper was made of glass, and ultraviolet rays (UV) were irradiated from the stamper side.

【0154】なお、プラズマ処理における処理ガスの流
量は100SCCMとした。
The flow rate of the processing gas in the plasma processing was 100 SCCM.

【0155】これらのFD基板サンプルNo. 21〜No.
29について、実施例1と同様にして接着強度および転
写面積を測定した。結果を表2に示す。
FD substrate sample Nos. 21 to No.
For No. 29, the adhesive strength and the transfer area were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0156】次に、これらのFD基板サンプルNo. 21
〜No. 29を用い、実施例1のHDサンプルNo. 2、N
o. 3、No. 7、No. 8と同様に磁性層を形成し、FD
サンプルNo. 21〜No. 29を作製した。
Next, these FD substrate sample No. 21
~ No. 29, HD sample No. 2, N of Example 1
o.3, No. 7 and No. 8 magnetic layer is formed and FD
Samples No. 21 to No. 29 were produced.

【0157】ただし、これらにおいては、下地膜、トッ
プコート膜はプラズマ重合膜とし、膜厚をそれぞれ20
0A 、50A とした。このときのプラズマ重合条件は以
下のようにした。
However, in these, the undercoat film and the top coat film were plasma polymerized films, and the film thicknesses thereof were 20 respectively.
It was set to 0A and 50A. The plasma polymerization conditions at this time were as follows.

【0158】プラズマ重合条件 W/(F・M) : 1.05×109 Joule/kg CH4 の流量: 40 SCCM 動作圧力: 0.1 Torr プラズマ出力: 500 W プラズマ周波数: 13.56 MHz 上記のFDサンプルNo. 21〜No. 29について、3.
5インチフロッピーディスク駆動装置に組み込み、常温
で走行させ、FDサンプルに傷が入るまでのパス回数を
測定し、耐久性を調べた。ただし、上限は1000万パ
スとした。
Plasma polymerization conditions W / (F · M): 1.05 × 10 9 Joule / kg CH 4 flow rate: 40 SCCM Operating pressure: 0.1 Torr Plasma output: 500 W Plasma frequency: 13.56 MHz Above FD sample No. 21 to No. 29 of 3.
It was incorporated into a 5-inch floppy disk drive and allowed to run at room temperature, and the number of passes until the FD sample was scratched was measured to examine the durability. However, the upper limit was set to 10 million passes.

【0159】以上の測定結果を表2に示す。なお、表2
には水に対する接触角も併記する。
Table 2 shows the above measurement results. Table 2
In addition, the contact angle with water is also shown.

【0160】[0160]

【表2】 [Table 2]

【0161】表2より、本発明の効果は明らかである。From Table 2, the effects of the present invention are clear.

【0162】なお、FDサンプルNo. 22、23、27
〜29について、実施例1と同様にして、Hc、S1
2 、MODを求めたところ、実施例1と同様に良好な
結果が得られた。
FD sample Nos. 22, 23, 27
~ 29, in the same manner as in Example 1, Hc, S 1 /
When S 2 and MOD were determined, good results were obtained as in Example 1.

【0163】また、X線回折の測定結果も同様であり、
磁性層の結晶粒子のC軸が、ディスク周方向に配向して
いることがわかった。
The same applies to the measurement results of X-ray diffraction,
It was found that the C axis of the crystal grains of the magnetic layer was oriented in the disc circumferential direction.

【0164】なお、FD基板サンプルNo. 22、23、
27〜29におけるグルーブは、実施例1のHD基板サ
ンプルNo. 2、No. 3、No. 7、No. 8と同様のもので
あった。
FD substrate sample Nos. 22, 23,
The grooves in Nos. 27 to 29 were similar to the HD substrate sample No. 2, No. 3, No. 7, and No. 8 of Example 1.

【0165】実施例3 実施例2と同様に、外径φ3.5インチ、厚さ75μm
のポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム製の
非磁性基体の、一方の主面に2P法(図1参照)によ
り、基板の周方向に同心円状に、断面V状のグループ作
製を行なった。
Example 3 As in Example 2, the outer diameter was 3.5 inches and the thickness was 75 μm.
A non-magnetic substrate made of a polyethylene terephthalate (PET) film was manufactured by a 2P method (see FIG. 1) on one main surface of the non-magnetic substrate to form a group having a V-shaped cross section in a concentric pattern in the circumferential direction of the substrate.

【0166】フォトポリマーは実施例1、2と同様のも
のを用い、グルーブを形成する際、非磁性基体表面に下
記の条件でプラズマ処理し、フォトポリマー層の硬化後
の膜厚を表3に示すようにかえてフォトポリマー層を設
ける他は、同様にしてFD基板サンプルNo. 32〜No.
37を作製した。膜厚は、フォトポリマーの注入量をか
えることによった。
The same photopolymer as in Examples 1 and 2 was used, and when forming the groove, the surface of the non-magnetic substrate was plasma-treated under the following conditions, and the thickness of the photopolymer layer after curing is shown in Table 3. FD substrate sample Nos. 32 to No. 32 are similarly provided, except that a photopolymer layer is provided instead.
37 was produced. The film thickness was determined by changing the injection amount of photopolymer.

【0167】プラズマ処理条件 使用ガス:酸素 流量:100 SCCM RF:50W 圧力:0.05Torr Plasma processing conditions Gas used: oxygen Flow rate: 100 SCCM RF: 50 W Pressure: 0.05 Torr

【0168】次に、FD基板サンプルNo. 32〜37を
用い、実施例2と同様にしてFDサンプルNo. 32〜N
o. 37を作製した。基板サンプルNo. 32〜37に応
じてFDサンプルNo. 32〜No. 37とする。
Next, using FD substrate sample Nos. 32 to 37, FD sample Nos. 32 to N were obtained in the same manner as in Example 2.
o. 37 was prepared. FD sample No. 32 to No. 37 according to the substrate sample No. 32 to 37.

【0169】上記のFD基板サンプルNo. 32〜No. 3
7について、実施例1と同様にして接着強度を測定し
た。また、FDサンプルNo. 32〜No. 37について、
実施例2と同様にして、ディスクの耐久性を調べた。ま
た下記のようにして、エラー測定を行なった。結果を表
3に示す。なお、表3には基板での水に対する接触角も
併記する。
FD substrate sample No. 32 to No. 3 above
For 7, the adhesive strength was measured in the same manner as in Example 1. For FD sample No. 32 to No. 37,
The durability of the disk was examined in the same manner as in Example 2. In addition, error measurement was performed as follows. The results are shown in Table 3. Table 3 also shows the contact angle of the substrate with water.

【0170】エラー測定 1MB用サーティファイヤーにサンプルを100枚投入
にて、記録再生出力の比が不可である数を示している。
Error measurement This shows the number of recording / reproducing output ratios when 100 samples were put into a 1 MB certifier.

【0171】[0171]

【表3】 [Table 3]

【0172】表3より本発明の効果は明らかである。From Table 3, the effects of the present invention are clear.

【0173】なお、FDサンプルNo. 34、No. 35、
No. 36について、実施例1と同様にして、Hc、S1
/S2 、MODを求めたところ、実施例1と同様にし
て、Hc、S1 /S2 、MODを求めたところ、実施例
1と同様に良好な結果が得られた。
FD sample No. 34, No. 35,
Regarding No. 36, in the same manner as in Example 1, Hc, S 1
When / S 2 and MOD were obtained, Hc, S 1 / S 2 and MOD were obtained in the same manner as in Example 1, and good results were obtained as in Example 1.

【0174】また、X線回折の測定結果も同様であり、
磁性槽のC軸が、ディスク周方向に配向していることが
わかった。
The same applies to the measurement results of X-ray diffraction,
It was found that the C axis of the magnetic tank was oriented in the disk circumferential direction.

【0175】なお、FD基板サンプルNo. 34、No. 3
5、No. 36におけるグルーブは、実施例1のHD基板
サンプルNo. 2、3、7、8および実施例2のFD基板
サンプルNo. 22、23、27〜29におけるグルーブ
と同様のものであった。
FD substrate samples No. 34 and No. 3
The grooves in No. 5 and No. 36 are similar to the grooves in HD substrate sample Nos. 2, 3, 7, 8 of Example 1 and FD substrate sample Nos. 22, 23, 27 to 29 of Example 2. It was

【0176】実施例4 実施例3のFD基板サンプルNo. 32〜No. 37におい
て、非磁性基体としてポリエチレンテレフタレート(P
ET)のかわりにポリエチレンナフタレート(PEN)
を用いるほかは同様にして、フロッピーディスク用の基
板サンプルを作製した。なお、このとき、スタンパーは
ガラス製とし、スタンパー側から紫外線(UV)を照射
した。
Example 4 In the FD substrate samples No. 32 to No. 37 of Example 3, polyethylene terephthalate (P
Polyethylene naphthalate (PEN) instead of ET)
A substrate sample for a floppy disk was prepared in the same manner except that was used. At this time, the stamper was made of glass and irradiated with ultraviolet rays (UV) from the stamper side.

【0177】FD基板サンプルNo. 32〜No. 37に対
応させて、FD基板サンプルNo. 42〜No. 47とす
る。
FD substrate sample Nos. 42 to 47 are made to correspond to FD substrate sample Nos. 32 to 37.

【0178】これらの基板サンプルNo. 42〜No. 47
を用い、実施例3と同様にして、これらの基板サンプル
に対応させて、それぞれ、FDサンプルNo. 42〜No.
47を作製した。
These substrate samples No. 42 to No. 47
In the same manner as in Example 3, corresponding to these substrate samples, and FD sample Nos. 42 to No. 4, respectively.
47 was produced.

【0179】実施例3と同様にして、基板サンプルNo.
42〜No. 47について接着強度を測定し、またFDサ
ンプルNo. 42〜No. 47については耐久性を調べ、エ
ラー測定を行なった。結果を表4に示す。なお、表4に
は基板での水に対する接触角を併記する。
In the same manner as in Example 3, the substrate sample No.
The adhesive strength of Nos. 42 to No. 47 was measured, and the durability of FD sample Nos. 42 to No. 47 was examined, and the error was measured. The results are shown in Table 4. Table 4 also shows the contact angle of the substrate with water.

【0180】[0180]

【表4】 [Table 4]

【0181】表4より、本発明の効果は明らかである。From Table 4, the effect of the present invention is clear.

【0182】なお、FDサンプルNo. 44、No. 45、
No. 46について、実施例1と同様にして、Hc、S1
/S2 、MODを求めたところ、実施例1と同様に良好
な結果が得られた。
FD sample No. 44, No. 45,
Regarding No. 46, in the same manner as in Example 1, Hc, S 1
When / S 2 and MOD were determined, good results were obtained as in Example 1.

【0183】また、X線回折の測定結果も同様であり、
磁性層の結晶粒子のC軸が、ディスク周方向に配向して
いることがわかった。
The same applies to the measurement results of X-ray diffraction,
It was found that the C axis of the crystal grains of the magnetic layer was oriented in the disc circumferential direction.

【0184】なお、FD基板サンプルNo. 44、No. 4
5、No. 46におけるグルーブは、実施例3のFD基板
サンプルNo. 34、No. 35、No. 36と同様のもので
あった。
FD substrate sample No. 44, No. 4
The grooves in No. 5 and No. 46 were the same as those in FD substrate samples No. 34, No. 35, and No. 36 of Example 3.

【0185】実施例5 実施例3のFD基板サンプルNo. 32〜No. 37におい
て、非磁性基体として外径φ3.5インチ、厚さ1.2
mmのポリエーテルイミド製の非磁性基体を用いるほかは
同様にして、ハードディスク用の基板サンプルを作製し
た。
Example 5 In the FD substrate samples No. 32 to No. 37 of Example 3, the non-magnetic substrate had an outer diameter of 3.5 inches and a thickness of 1.2.
A hard disk substrate sample was prepared in the same manner except that a non-magnetic substrate made of polyetherimide having a size of mm was used.

【0186】FD基板サンプルNo. 32〜No. 37に対
応させて、HD基板サンプルNo. 52〜No. 57とす
る。
The HD substrate samples No. 52 to No. 57 are made to correspond to the FD substrate sample Nos. 32 to 37.

【0187】これらのHD基板サンプルNo. 52〜No.
57について、実施例3と同様にして、接着強度を測定
した。結果を表5に示す。なお、表5には水に対する接
触角を併記する。
[0187] These HD substrate samples No. 52 to No.
For 57, the adhesive strength was measured in the same manner as in Example 3. The results are shown in Table 5. In Table 5, the contact angle with water is also shown.

【0188】次いで、上記のHD基板サンプルNo. 5
4、No. 55、No. 56を用い、実施例1と同様にし
て、HDサンプルを作製した。基板サンプルNo. 54、
No. 55、No. 56に対応させてHDサンプルNo. 5
4、No. 55、No. 56とする。
Next, the above HD substrate sample No. 5
HD samples were prepared in the same manner as in Example 1 using No. 4, No. 55 and No. 56. Substrate sample No. 54,
HD sample No. 5 corresponding to No. 55 and No. 56
No. 4, No. 55, and No. 56.

【0189】なお、HD基板サンプルNo. 54、No. 5
5、No. 56について、実施例1と同様にして、Hc、
1 /S2 、MODを求めたところ、実施例1と同様に
良好な結果が得られた。
HD substrate sample No. 54, No. 5
5, No. 56, in the same manner as in Example 1, Hc,
When S 1 / S 2 and MOD were determined, good results were obtained as in Example 1.

【0190】また、X線回折の測定結果も同様であり、
磁性層の結晶粒子のC軸が、ディスク周方向に配向して
いることがわかった。
The same applies to the measurement results of X-ray diffraction,
It was found that the C axis of the crystal grains of the magnetic layer was oriented in the disc circumferential direction.

【0191】なお、HD基板サンプルNo. 54、No. 5
5、No. 56におけるグルーブは、実施例3のFD基板
サンプルNo. 34、No. 35、No. 36と同様のもので
あった。
In addition, HD substrate sample No. 54, No. 5
The grooves in No. 5 and No. 56 were the same as those in FD substrate samples No. 34, No. 35 and No. 36 of Example 3.

【0192】また、HD基板サンプルNo. 52、No. 5
3、No. 57についても、上記と同様にしてHDサンプ
ルNo. 52、53、57を作製した。
Also, HD substrate sample No. 52, No. 5
HD Sample Nos. 52, 53, and 57 were prepared in the same manner as described above for No. 3 and No. 57.

【0193】これらも含めHDサンプルNo. 52〜57
について、下記のようにして、ディスクの耐久性および
エラーレートを調べた。結果を表5に示す。
HD sample Nos. 52 to 57 including these
For, the durability and error rate of the disk were examined as follows. The results are shown in Table 5.

【0194】耐久性 HDサンプルをハードディスク駆動装置に組み込み、常
温で走行させ、HDサンプルに傷が入るまでのパス回数
を測定し、耐久性を調べた。ただし、上限は1000万
パスとした。
Durability The HD sample was incorporated in a hard disk drive, run at room temperature, the number of passes until the HD sample was scratched was measured, and the durability was examined. However, the upper limit was set to 10 million passes.

【0195】エラーレート 記録周波数3.3MHz 、トラック送りピッチ15μm で
ディスク全面についてサーティファイを行ない、ミッシ
ングパルスエラーとエキストラパルスエラーとの合計個
数を信号欠陥の個数として評価した。
Error rate Recording frequency was 3.3 MHz, track feed pitch was 15 μm, and certification was performed on the entire surface of the disk, and the total number of missing pulse errors and extra pulse errors was evaluated as the number of signal defects.

【0196】なお、ミッシングパルスエラーは信号をデ
ィスクに記録し、その再生信号の出力が全周の平均出力
の65%以下まで低下したときのエラーである。
The missing pulse error is an error when a signal is recorded on a disk and the output of the reproduced signal is reduced to 65% or less of the average output of the entire circumference.

【0197】エキストラパルスエラーは信号をディスク
に書き込んだ後、直流消去を行ない、その消え残りの信
号が全周の平均出力の25%以上になったときのエラー
である。
The extra pulse error is an error when the signal is written on the disk and then the DC signal is erased, and the remaining signal becomes 25% or more of the average output of the entire circumference.

【0198】[0198]

【表5】 [Table 5]

【0199】表5より、本発明の効果は明らかである。From Table 5, the effects of the present invention are clear.

【0200】[0200]

【発明の効果】本発明によれば、2P法よりグルーブを
形成する場合、スタンパーからの形状転写が確実で、フ
ォトポリマーと非磁性基体との接着が強固な磁気ディス
ク用基板となる。このため、これを用いた磁気ディスク
は、耐久性に優れ、またグルーブの形状等を規制するこ
とによりディスク周方向の保磁力が高く、しかも再生出
力のモジュレーションを防止したものとなる。また、ト
ラック密度が向上し、エラーも減少する。
According to the present invention, when the groove is formed by the 2P method, the shape transfer from the stamper is surely performed, and the bond between the photopolymer and the non-magnetic substrate is strong, and the magnetic disk substrate is strong. Therefore, the magnetic disk using this is excellent in durability, has a high coercive force in the circumferential direction of the disk by regulating the shape of the groove, and prevents the modulation of the reproduction output. Also, the track density is improved and the errors are reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】フォトポリマー法を模式的に説明する工程図で
ある。
FIG. 1 is a process diagram schematically illustrating a photopolymer method.

【図2】本発明の磁気ディスク用基板の1例が示される
部分断面図である。
FIG. 2 is a partial sectional view showing an example of a magnetic disk substrate of the present invention.

【図3】本発明の磁気ディスク用基板の1例が示される
部分断面図である。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic disk substrate of the present invention.

【図4】本発明の磁気ディスク用基板の1例が示される
部分断面図である。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic disk substrate of the present invention.

【図5】本発明の磁気ディスク用基板の1例が示される
部分断面図である。
FIG. 5 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic disk substrate of the present invention.

【図6】本発明の磁気ディスク用基板の1例が示される
部分断面図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic disk substrate of the present invention.

【図7】本発明の磁気ディスク用基板の1例が示される
部分断面図である。
FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic disk substrate of the present invention.

【図8】本発明の磁気ディスク用基板の1例が示される
部分断面図である。
FIG. 8 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic disk substrate of the present invention.

【図9】本発明の磁気ディスク用基板の1例が示される
部分断面図である。
FIG. 9 is a partial sectional view showing an example of a magnetic disk substrate of the present invention.

【図10】本発明の磁気ディスクの1例が示される部分
断面図である。
FIG. 10 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic disk of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 非磁性基体 2 スタンパー 3 フォトポリマー層 31 グルーブ 10 磁気ディスク用基板 5 磁気ディスク 14 磁性層 1 Non-Magnetic Substrate 2 Stamper 3 Photopolymer Layer 31 Groove 10 Substrate for Magnetic Disk 5 Magnetic Disk 14 Magnetic Layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新井 均 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hitoshi Arai, 13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Corporation

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基体上にフォトポリマー層を形成
し、このフォトポリマー層にグルーブを形成した磁気デ
ィスク用基板において、 前記非磁性基体の少なくともグルーブ形成側の面をプラ
ズマ処理したことを特徴とする磁気ディスク用基板。
1. A magnetic disk substrate having a photopolymer layer formed on a non-magnetic substrate and grooves formed in the photopolymer layer, wherein at least a surface of the non-magnetic substrate on the side where the groove is formed is subjected to plasma treatment. Substrate for magnetic disk.
【請求項2】 前記フォトポリマー層の膜厚を15〜4
0μm とした請求項1に記載の磁気ディスク用基板。
2. The thickness of the photopolymer layer is 15 to 4
The magnetic disk substrate according to claim 1, which has a thickness of 0 μm.
【請求項3】 前記非磁性基体は樹脂製である請求項1
または2に記載の磁気ディスク用基板。
3. The non-magnetic substrate is made of resin.
Alternatively, the magnetic disk substrate described in 2.
【請求項4】 前記プラズマ処理に用いる処理ガスは、
酸素および窒素のうち少なくとも1種を含むガスまたは
酸素および窒素のうち少なくとも1種を含む化合物のガ
スである請求項1ないし3のいずれかに記載の磁気ディ
スク用基板。
4. The processing gas used for the plasma processing is
4. The magnetic disk substrate according to claim 1, which is a gas containing at least one of oxygen and nitrogen or a gas of a compound containing at least one of oxygen and nitrogen.
【請求項5】 前記非磁性基体のプラズマ処理した面に
おける水に対する接触角が30度以下である請求項1な
いし4のいずれかに記載の磁気ディスク用基板。
5. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the plasma-treated surface of the non-magnetic substrate has a contact angle with water of 30 degrees or less.
【請求項6】 前記グルーブは、開口部幅が底部幅より
大であり、開口部幅および断面形状が実質的に均一であ
り、基板周方向に形成された請求項1ないし5のいずれ
かに記載の磁気ディスク用基板。
6. The groove according to claim 1, wherein the groove has an opening width larger than a bottom width, the opening width and the cross-sectional shape are substantially uniform, and the groove is formed in the substrate circumferential direction. A magnetic disk substrate as described above.
【請求項7】 請求項1ないし6のいずれかに記載の磁
気ディスク用基板のグルーブ形成面上に、連続薄膜の磁
性層を有する磁気ディスク。
7. A magnetic disk having a continuous thin film magnetic layer on the groove forming surface of the magnetic disk substrate according to claim 1. Description:
JP7036992A 1991-12-20 1992-02-20 Substrate for magnetic disk and magnetic disk Pending JPH05225559A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7036992A JPH05225559A (en) 1991-12-20 1992-02-20 Substrate for magnetic disk and magnetic disk

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35530691 1991-12-20
JP3-355306 1991-12-20
JP7036992A JPH05225559A (en) 1991-12-20 1992-02-20 Substrate for magnetic disk and magnetic disk

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05225559A true JPH05225559A (en) 1993-09-03

Family

ID=26411530

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7036992A Pending JPH05225559A (en) 1991-12-20 1992-02-20 Substrate for magnetic disk and magnetic disk

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05225559A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010021291A1 (en) * 2008-08-22 2010-02-25 コニカミノルタオプト株式会社 Substrate manufacturing method, substrate manufactured by the substrate manufacturing method and magnetic recording medium using the substrate

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010021291A1 (en) * 2008-08-22 2010-02-25 コニカミノルタオプト株式会社 Substrate manufacturing method, substrate manufactured by the substrate manufacturing method and magnetic recording medium using the substrate
JP4544372B2 (en) * 2008-08-22 2010-09-15 コニカミノルタオプト株式会社 Substrate manufacturing method
JPWO2010021291A1 (en) * 2008-08-22 2012-01-26 コニカミノルタオプト株式会社 Substrate manufacturing method
US8945454B2 (en) 2008-08-22 2015-02-03 Konica Minolta Opto, Inc. Substrate manufacturing method, substrate manufactured by the substrate manufacturing method and magnetic recording medium using the substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1365389A2 (en) Perpendicular magnetic recording medium
US4737415A (en) Magnetic recording medium and production thereof
KR940002327B1 (en) Metallic thin film magnetic recording medium having a hard protective layer
JPH0435809B2 (en)
US4869797A (en) Method for preparing a magnetic recording medium
JPH05225559A (en) Substrate for magnetic disk and magnetic disk
US4803130A (en) Reactive sputtering process for recording media
US20050064243A1 (en) Magnetic recording medium
JPH0636263A (en) Substrate for magnetic disc
JP2004039082A (en) Perpendicular magnetic recording medium and its manufacturing method, patterned medium and its manufacturing method
JP3451079B2 (en) Magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic storage device
JPH05334666A (en) Production of magnetic disk and magnetic disk
JP2006066057A (en) Manufacturing method of magnetic recording medium, magnetic recording medium, and magnetic storage device
JPS62236116A (en) Magnetic recording medium
JPH05334667A (en) Production of magnetic disk and magnetic disk
JPS6292119A (en) Vertical magnetic recording medium and its production
JPH0620266A (en) Board for magnetic disc
JPS62219225A (en) Magnetic recording medium
JPH0377575B2 (en)
JPS61208621A (en) Magnetic disk
JP2626051B2 (en) Magnetic recording media
JPH0827928B2 (en) Information signal recording medium and manufacturing method thereof
JP2004272942A (en) Flexible magnetic disk shaped recording medium
JPS6350915A (en) Perpendicular magnetic recording medium
JPH06139566A (en) Production of substrate for magnetic disk

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20000627