JPH05334667A - Production of magnetic disk and magnetic disk - Google Patents

Production of magnetic disk and magnetic disk

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JPH05334667A
JPH05334667A JP36032091A JP36032091A JPH05334667A JP H05334667 A JPH05334667 A JP H05334667A JP 36032091 A JP36032091 A JP 36032091A JP 36032091 A JP36032091 A JP 36032091A JP H05334667 A JPH05334667 A JP H05334667A
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
disk
magnetic layer
substrate
disc
Prior art date
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Application number
JP36032091A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsuneo Komoritani
恒男 籠谷
Keiji Koga
啓治 古賀
Yasumichi Tokuoka
保導 徳岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form a magnetic layer having prescribed rugged patterns on a disk substrate and to improve the flatness of the magnetic disk by decreasing the waving and distortion of the disk, and to improve mass productivity at the time of producing the magnetic disk. CONSTITUTION:The magnetic layer is formed on the rigid disk base body made of a resin and a disk body 5 is obtd. from the base body. The disk body 50 is held between a pair of pressurizing means 1 and 2 having the rugged patterns and is pressed nearly simultaneously with the obtaining of the disk body 50 or after the disk body 50 is obtd. The disk body 50 is heated before or during the pressing in such a case.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、樹脂製の剛性基板上に
磁性層を有する、いわゆるハードタイプの磁気ディスク
の製造方法と、磁気ディスクとに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a so-called hard type magnetic disk having a magnetic layer on a rigid substrate made of resin, and a magnetic disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】計算機等に用いられる磁気ディスク駆動
装置には、剛性基板上に磁性層を設層したハードタイプ
の磁気ディスクが用いられている。ハードタイプの磁気
ディスクに記録再生を行なう磁気ヘッドとしては、各種
浮上型磁気ヘッドが用いられている。
2. Description of the Related Art A magnetic disk drive used in a computer or the like uses a hard type magnetic disk in which a magnetic layer is formed on a rigid substrate. As a magnetic head for recording / reproducing on / from a hard type magnetic disk, various flying magnetic heads are used.

【0003】近年、これらの磁気ディスク装置は大容量
化、小型化にともない高記録密度化が急速に進展してい
る。そのため、磁気ディスクでは高密度化に対応するた
めに磁性層の高保磁力化、薄層化、平滑化が進められて
おり、磁気ヘッドではギャップ部の狭間隙化、高飽和磁
束密度化、およびスライダーの低浮上化が行なわれてい
る。
In recent years, the recording density of these magnetic disk devices has rapidly increased with the increase in capacity and size. Therefore, in the magnetic disk, the coercive force of the magnetic layer has been made higher, the layer has been made thinner, and the surface has been made smoother in order to cope with higher density. Is being reduced.

【0004】また、剛性基板には、通常、ディスク状の
Al系の金属製基板が用いられているが、転送レートや
記録密度の向上のための高速回転化や、駆動装置の小型
化の要請が大きく、磁気ディスクの軽量化、さらには低
コスト化が強く望まれている。このため、金属製基板よ
り軽く、しかも低コストな樹脂性の剛性基板を用いた磁
気ディスクが注目されている。
As the rigid substrate, a disc-shaped Al-based metal substrate is usually used. However, there is a demand for high-speed rotation for improving the transfer rate and recording density and miniaturization of the driving device. However, there is a strong demand for weight reduction and cost reduction of magnetic disks. Therefore, a magnetic disk using a resin-made rigid substrate, which is lighter than a metal substrate and is low in cost, is drawing attention.

【0005】しかしながら、樹脂製基板は、アルミ合金
やガラス製のディスク基板と比較し平面度が悪く、基板
回転中の面ぶれが大きいためにヘッドの浮上量を小さく
することが困難であり、高密度な媒体には向かないとさ
れていた。これらを解決する手段として特開平1−23
7932号公報には、樹脂製基板を成形した後、基板を
平板間に挟み、加熱し、平板間に圧力を加えて基板の平
面性を向上させる磁気ディスク基板の製造方法が提案さ
れているが、磁性層を形成する工程における熱歪や磁性
層の内部応力により、最終的にはディスクの平面性が悪
化してしまう。
However, the resin substrate has a poorer flatness than the disk substrate made of an aluminum alloy or glass, and it is difficult to reduce the flying height of the head because the surface deviation is large during the rotation of the substrate. It was said that it was not suitable for dense media. As means for solving these problems, Japanese Patent Laid-Open No. 1-23
Japanese Patent Laid-Open No. 7932 proposes a method for manufacturing a magnetic disk substrate in which a resin substrate is molded, the substrates are sandwiched between flat plates, heated, and pressure is applied between the flat plates to improve the flatness of the substrates. Finally, due to thermal strain in the process of forming the magnetic layer and internal stress of the magnetic layer, the flatness of the disk is finally deteriorated.

【0006】また、ハードタイプの磁気ディスクには、
スパッタリング等の気相成膜法により形成される連続薄
膜型磁性層を有する薄膜型磁気ディスクと、磁性微粒子
とバインダとを含有する磁性塗料を塗布した後、配向、
硬化等を行なって形成される塗布型磁性層を有する塗布
型磁気ディスクとがある。
Further, a hard type magnetic disk is
A thin-film magnetic disk having a continuous thin-film magnetic layer formed by a vapor phase film forming method such as sputtering, and a magnetic coating material containing magnetic fine particles and a binder is applied, and then oriented.
There is a coating type magnetic disk having a coating type magnetic layer formed by curing or the like.

【0007】塗布型磁気ディスクは、通常、下記のよう
に製造される。
The coated magnetic disk is usually manufactured as follows.

【0008】まず、磁性塗料をディスク基板上に塗布
し、配向を行なう。次いで、塗膜を少し硬化した後、研
磨テープ等を作用させて、塗膜の表面を研磨し、所望の
膜厚に規制すると同時に表面を平滑化する。次いで、デ
ィスクを洗浄した後、塗膜を完全に硬化させる。そし
て、磁性層に潤滑剤を塗布した後、さらに表面平滑化処
理等を行なって磁気ディスクが得られる。
First, a magnetic paint is applied on a disk substrate to orient it. Next, after the coating film is slightly cured, a polishing tape or the like is caused to act on the surface of the coating film to regulate the film thickness to a desired value and at the same time smooth the surface. Then, after cleaning the disc, the coating is completely cured. Then, after applying a lubricant to the magnetic layer, a surface smoothing treatment or the like is further performed to obtain a magnetic disk.

【0009】この工程において、樹脂製基板は熱膨張率
が大きく、かつ半径方向の膨張率の異方性をなくすこと
がきわめて困難である。このため、樹脂製基板は、トラ
ックピッチを小さくして面記録密度を大きくした高密度
媒体には適さないとされていた。
In this step, the resin substrate has a large coefficient of thermal expansion, and it is extremely difficult to eliminate the anisotropy of the coefficient of thermal expansion in the radial direction. For this reason, it has been considered that the resin substrate is not suitable for a high density medium having a small track pitch and a large areal recording density.

【0010】また、特開昭61−24021号公報に
は、ディスク基板51の主面に、溝を同心円状のパター
ンに形成し、このディスク基板上に、磁性層を形成し、
その表面形状を溝と同じパターンの凹凸形状とし、溝間
のランド部にて記録・再生を行なう磁気ディスクが提案
されている。
In Japanese Patent Laid-Open No. 61-24021, a groove is formed in a concentric pattern on the main surface of a disk substrate 51, and a magnetic layer is formed on the disk substrate.
A magnetic disk has been proposed in which the surface shape is an uneven shape having the same pattern as a groove, and recording / reproducing is performed in a land portion between the grooves.

【0011】このような溝57を有する磁気ディスクの
場合、溝内では磁気ヘッドからの距離が大きくなって分
離損による減磁が増大するため、隣接する記録トラック
を溝にて分離できる。このため、線記録密度が高い場合
でもクロストークを防止できる。
In the case of a magnetic disk having such a groove 57, since the distance from the magnetic head in the groove increases and demagnetization due to separation loss increases, adjacent recording tracks can be separated by the groove. Therefore, crosstalk can be prevented even when the linear recording density is high.

【0012】しかし塗布型の磁性層の場合、磁性塗料を
ディスク基板上に塗布した際、溝が磁性塗料でうまって
しまうため、特に溝のピッチや寸法が小さいと磁性層の
表面を溝のパターンどおりの凹凸とすることはきわめて
難しい。
However, in the case of the coating type magnetic layer, when the magnetic coating material is applied to the disk substrate, the grooves are filled with the magnetic coating material. Therefore, especially when the pitch or size of the grooves is small, the surface of the magnetic layer is formed into a groove pattern. It is extremely difficult to make the unevenness as it is.

【0013】また、薄膜型磁気ディスクの場合、溝を有
する凹凸パターンをもつディスク基板上に、例えば、ス
パッタリング等により磁性層を形成すれば、磁性層55
の表面を溝のパターンどおりの凹凸とすることができる
が、スパッタリング時の熱や磁性層55の収縮等により
ディスク基板51が変形してしまう。
In the case of a thin film magnetic disk, if a magnetic layer is formed on the disk substrate having an uneven pattern having grooves by, for example, sputtering, the magnetic layer 55.
However, the disk substrate 51 is deformed by heat during sputtering, contraction of the magnetic layer 55, or the like.

【0014】この場合、磁気ディスクを矯正するために
加熱プレスすると、溝が変形ないし壊れることがある。
また、磁気ディスクの製造工程では一般に、ディスク基
板を作製した後、ディスク基板1枚ごとに磁性層を形成
しているため、生産の能率が悪く、量産上非常に不利で
ある。
In this case, the groove may be deformed or broken when heated and pressed to straighten the magnetic disk.
Further, in the manufacturing process of a magnetic disk, generally, after the disk substrate is manufactured, the magnetic layer is formed on each disk substrate, so that the production efficiency is poor and it is very disadvantageous in mass production.

【0015】また、特開昭58−175138号公報に
は、微細鏡面加工を施した金属板の間に、熱可塑性樹脂
基板上に磁性層を施したシートを装入し、前記基板の軟
化点以上の温度にて前記金属板を加熱プレスし、その後
冷却プレスして磁性層表面を鏡面化した後、シートを円
形に打ち抜く磁気ディスクの製造方法が開示されてい
る。
Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-175138, a sheet having a magnetic layer on a thermoplastic resin substrate is inserted between metal plates which have been subjected to fine mirror surface processing, and the temperature above the softening point of the substrate is set. A method for manufacturing a magnetic disk is disclosed in which the metal plate is hot-pressed at a temperature, then cold-pressed to make the surface of the magnetic layer mirror-finished, and then the sheet is punched into a circular shape.

【0016】そして、具体例として、厚さ500μmの
塩化ビニル製フィルムを基板として使用した磁気ディス
クと、厚さ500μmのアクリル樹脂板を基板として使
用した磁気ディスクとが開示されている。前記公報に記
載されている磁気ディスクの製造方法によれば、生産の
能率を向上できる。
As specific examples, a magnetic disk using a 500 μm thick vinyl chloride film as a substrate and a magnetic disk using a 500 μm thick acrylic resin plate as a substrate are disclosed. According to the magnetic disk manufacturing method described in the above publication, production efficiency can be improved.

【0017】しかし、基板上に磁性層を形成したシート
を加熱プレスした後、シートを円形に打ち抜くと、加熱
プレスによって矯正した基板が、微妙に変形することが
あり、しかもシート上にグルーブを形成した場合、円形
に打ち抜く際の位置決めが困難である。
However, if a sheet having a magnetic layer formed on a substrate is hot-pressed and then punched into a circular shape, the substrate straightened by the hot-press may be slightly deformed, and a groove is formed on the sheet. In such a case, it is difficult to perform positioning when punching into a circle.

【0018】また、前記公報に示される、厚さ500μ
mの樹脂製の基板を外径65〜130mm程度の磁気ディ
スクに用いると、剛性が不十分であり、磁気ディスクの
回転始動時に、磁気ディスクのたわみによってヘッドク
ラッシュが生じることがある。
Further, the thickness of 500 μm shown in the above publication.
When a resin substrate having a diameter of m is used for a magnetic disk having an outer diameter of about 65 to 130 mm, the rigidity is insufficient, and a head crash may occur due to the bending of the magnetic disk when the magnetic disk starts rotating.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】本発明の主たる目的
は、磁気ディスクに溝、例えばトラッキング用のグルー
ブなどの連続あるいは不連続のパターンを高精度に形成
でき、平面性が優れ、しかも量産上有利な磁気ディスク
の製造方法と、樹脂製基板を用いた剛性が高く、かつ軽
量な高密度の磁気ディスクとを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION A main object of the present invention is to form a groove, for example, a continuous or discontinuous pattern such as a groove for tracking, on a magnetic disk with high accuracy, excellent flatness, and advantageous in mass production. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic disk, and a high-density, lightweight, high-density magnetic disk using a resin substrate.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(7)の本発明によって達成される。
These objects are achieved by the present invention described in (1) to (7) below.

【0021】(1) 樹脂製の剛性の基体上に磁性層を
形成し、前記磁性層が形成された基体からディスク体を
得、前記ディスク体を、加熱した後、および/または、
前記ディスク体を加熱しながら、表面に凸部を有する一
対の加圧手段を用いて、前記ディスク体の両主面のほぼ
全体を同時にディスク厚さ方向に加圧し、前記ディスク
体表面のディスク周方向に連続または不連続溝を形成す
ることを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
(1) A magnetic layer is formed on a resin-made rigid substrate, a disc body is obtained from the substrate on which the magnetic layer is formed, and the disc body is heated, and / or
While heating the disc body, a pair of pressurizing means having a convex portion on the surface is used to apply pressure to almost the entire major surfaces of the disc body in the disc thickness direction at the same time. 1. A method for manufacturing a magnetic disk, comprising forming continuous or discontinuous grooves in a predetermined direction.

【0022】(2) 樹脂製の剛性の基体上に磁性層を
形成し、前記磁性層が形成された基体からディスク体を
得るのとほぼ同時に、前記ディスク体を加熱しながら、
表面に凸部を有する一対の加圧手段を用いて、前記ディ
スク体の両主面のほぼ全体を同時にディスク厚さ方向に
加圧し、前記ディスク体表面のディスク周方向に連続ま
たは不連続溝を形成することを特徴とする磁気ディスク
の製造方法。
(2) A magnetic layer is formed on a rigid substrate made of resin, and at the same time as obtaining a disc body from the substrate on which the magnetic layer is formed, while heating the disc body,
Using a pair of pressurizing means having a convex portion on the surface, almost the entire main surfaces of the disc body are simultaneously pressed in the disc thickness direction to form continuous or discontinuous grooves in the disc circumferential direction on the disc body surface. A method of manufacturing a magnetic disk, which comprises forming the magnetic disk.

【0023】(3) 前記加熱時の加熱温度が40〜3
00℃であり、前記加圧時のプレス圧力が1〜500kg
f/cm2 である上記(1)または(2)に記載の磁気ディ
スクの製造方法。
(3) The heating temperature during the heating is 40 to 3
The press pressure at the time of pressurization is 1 to 500 kg.
The method for producing a magnetic disk according to (1) or (2) above, wherein the magnetic disk has f / cm 2 .

【0024】(4) 前記溝を、磁気ディスクの表面に
連続または不連続同心円状またはスパイラル状に形成す
る上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の磁気ディ
スクの製造方法。
(4) The method of manufacturing a magnetic disk according to any one of (1) to (3) above, wherein the groove is formed in a continuous or discontinuous concentric circle shape or a spiral shape on the surface of the magnetic disk.

【0025】(5) 前記溝の幅が20μm以下、前記
溝の深さが3μm以下、溝間間隙のランド部の幅が10
0μm以下である上記(1)ないし(4)のいずれかに
記載の磁気ディスクの製造方法。
(5) The width of the groove is 20 μm or less, the depth of the groove is 3 μm or less, and the width of the land portion of the inter-groove is 10
The method for producing a magnetic disk according to any one of (1) to (4) above, which has a thickness of 0 μm or less.

【0026】(6) 上記(1)ないし(5)のいずれ
かに記載の方法にて製造され、樹脂製の剛性のディスク
基板上に、磁性微粒子を含有する塗布型の磁性層を有す
ることを特徴とする磁気ディスク。
(6) A coating type magnetic layer containing magnetic fine particles is provided on a rigid disk substrate made of resin, which is manufactured by the method described in any one of (1) to (5) above. Characteristic magnetic disk.

【0027】(7) 前記磁性微粒子が強磁性金属微粒
子または六方晶系酸化物微粒子である上記(6)に記載
の磁気ディスク。
(7) The magnetic disk according to the above (6), wherein the magnetic fine particles are ferromagnetic metal fine particles or hexagonal oxide fine particles.

【0028】[0028]

【作用】本発明の磁気ディスクの製造方法では、まず、
樹脂製の剛性の基体上に磁性塗料を塗布して磁性塗膜を
形成し、または連続磁性薄膜を形成する。次いで、磁性
層が形成された基体から複数のディスク体を打ち抜き加
工等により得る。そして、ディスク体を加熱した後、お
よび/または加熱しながら、表面に連続あるいは不連続
の同心円状、スパイラル状等の所定のパターンの凸部を
有する加圧手段を用いてディスク体をディスク厚さ方向
に加圧する。あるいは、磁性層が形成された基板から複
数のディスク体を得る工程において、1枚のディスク体
を得るとほぼ同時に、そのディスク体を加熱しながら表
面に連続あるいは不連続の同心円状、スパイラル状等の
所定のパターンの凸部を有する加圧手段を用いてディス
ク体をディスク厚さ方向に加圧する。
In the magnetic disk manufacturing method of the present invention, first,
A magnetic paint is applied on a rigid base made of resin to form a magnetic coating film, or a continuous magnetic thin film is formed. Next, a plurality of disk bodies are obtained by punching or the like from the base body on which the magnetic layer is formed. Then, after heating the disk body and / or while heating the disk body, the disk body is made to have a disk thickness by using a pressing means having a convex pattern of a predetermined pattern, such as continuous or discontinuous concentric circles or spirals, on the surface. Press in the direction. Alternatively, in the step of obtaining a plurality of disc bodies from the substrate on which the magnetic layer is formed, almost simultaneously with obtaining one disc body, the disc bodies are heated while the surface is continuous or discontinuous, such as concentric circles and spirals. The disk body is pressed in the disk thickness direction by using the pressing means having the projections of the predetermined pattern.

【0029】この加圧および加熱処理により、ディスク
体、すなわちディスク基板および磁性塗膜や連続磁性薄
膜が変形し、磁気ディスクの表面に所定のパターンの
溝、例えば高精度のトラッキング用のグルーブなどの連
続あるいは不連続の凹凸パターンを形成できる。
By this pressurization and heat treatment, the disk body, that is, the disk substrate, the magnetic coating film and the continuous magnetic thin film are deformed, and a groove of a predetermined pattern, for example, a groove for high precision tracking, is formed on the surface of the magnetic disk. A continuous or discontinuous uneven pattern can be formed.

【0030】そして、このようにして形成された溝には
情報が記録されないため、連続あるいは不連続な溝は磁
気ヘッドの位置に関係なくガードバンドとして機能す
る。このため、磁気ディスクに、溝を設ければ、サーボ
信号を電気的に書き込む必要がなく、しかもトラッキン
グサーボの精度を向上できる。また、隣接トラックから
のクロストークが著しく減少する。この際、レーザ光を
利用したトラッキングサーボを用いることもできる。
Since no information is recorded in the groove thus formed, the continuous or discontinuous groove functions as a guard band regardless of the position of the magnetic head. Therefore, if the magnetic disk is provided with the groove, it is not necessary to electrically write the servo signal, and the accuracy of the tracking servo can be improved. Also, crosstalk from adjacent tracks is significantly reduced. At this time, it is also possible to use tracking servo using laser light.

【0031】また、本発明では、基体上に磁性層を形成
した後、この基体から複数のディスク体を得るため、デ
ィスク基板1枚ごとに磁性層を形成していた従来の製造
方法に比べ、量産上非常に有利である。
Further, according to the present invention, since a magnetic layer is formed on a substrate and then a plurality of disk bodies are obtained from this substrate, a magnetic layer is formed for each disk substrate as compared with the conventional manufacturing method. Very advantageous for mass production.

【0032】そして、基体からディスク体を打ちぬく際
等に、ディスク体にうねりや歪等が生じても、凹凸パタ
ーンを有する一対の平板状の加圧手段を用いてディスク
体全体を同時に加圧するため、溝の形状を保持したまま
ディスク体を矯正することができる。
When the disk body is punched from the base body or the like, even if the disk body is undulated or distorted, the entire disk body is simultaneously pressed by using a pair of flat plate-shaped pressing means having an uneven pattern. Therefore, the disc body can be corrected while maintaining the shape of the groove.

【0033】加えて、特に塗布型の磁気ディスクを製造
する場合には、前記の加圧および加熱処理により、溝に
よる凹凸は別として塗膜表面が平滑化し、ディスク基板
上に均一な表面粗さを有し、均一な膜厚の磁性層を形成
できる。
In addition, particularly in the case of manufacturing a coating type magnetic disk, the pressure and heat treatment described above smoothes the surface of the coating film, apart from the irregularities due to the grooves, and provides a uniform surface roughness on the disk substrate. And a magnetic layer having a uniform thickness can be formed.

【0034】このため、面ブレや面ブレ加速度が減少
し、再生出力のモジュレーションを低減でき、さらにS
/Nが向上し、良好な記録・再生を行なうことができ
る。しかも、加圧および/または加熱処理により磁性層
の空孔率が減少し、残留磁束密度Brが増加する。
As a result, the surface wobbling and surface wobbling acceleration are reduced, and the modulation of the reproduction output can be reduced.
/ N is improved, and good recording and reproduction can be performed. Moreover, the pressure and / or heat treatment reduces the porosity of the magnetic layer and increases the residual magnetic flux density Br.

【0035】[0035]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
[Specific Structure] The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【0036】本発明の磁気ディスクは、樹脂製の剛性の
ディスク基板上に、磁性層を有する。この場合、ディス
ク基板のいずれか一方の主面上に磁性層を有する片面記
録型の磁気ディスクでも、ディスク基板の両主面上に、
それぞれ、磁性層を有する両面記録型の磁気ディスクで
もよい。
The magnetic disk of the present invention has a magnetic layer on a rigid disk substrate made of resin. In this case, even on a single-sided recording type magnetic disk having a magnetic layer on one of the main surfaces of the disk substrate, on both main surfaces of the disk substrate,
It may be a double-sided recording type magnetic disk each having a magnetic layer.

【0037】また、磁性層は、磁性微粒子を含有する磁
性塗料の塗膜を硬化した塗布型磁性層でも連続磁性薄膜
の磁性層でもよい。
Further, the magnetic layer may be a coating type magnetic layer obtained by curing a coating film of magnetic paint containing magnetic fine particles or a magnetic layer of continuous magnetic thin film.

【0038】本発明の磁気ディスクの製造方法では、ま
ず、樹脂製の剛性の基体を製造する。
In the method of manufacturing a magnetic disk of the present invention, first, a rigid substrate made of resin is manufactured.

【0039】基体の形状には、特に制限がなく、目的や
用途等に応じて適宜選択すればよいが、通常、薄板状に
する。また、基体の寸法は、基体からディスク体を2枚
以上得られる大きさであれば特に制限がなく、目的や用
途等に応じて適宜選択すればよい。
The shape of the substrate is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose and application, but it is usually a thin plate. The size of the base is not particularly limited as long as two or more disk bodies can be obtained from the base, and may be appropriately selected according to the purpose and application.

【0040】例えば、基体の主面(磁性層形成面)の寸
法は、0.1〜0.5m 程度×0.1〜10m 程度と
し、厚さは0.8〜1.9mm程度とすればよい。
For example, if the size of the main surface (magnetic layer forming surface) of the substrate is about 0.1 to 0.5 m × 0.1 to 10 m, and the thickness is about 0.8 to 1.9 mm. Good.

【0041】また、基体が剛性であるとは、定量的には
基体から得るディスク体の外径によって異なるため一意
的には定まらないが、ディスク体の外径が65〜130
mm程度の場合、基体のヤング率をE、厚さをtとしたと
き、E・t3 /12が1×106 dyn・cm以上、より好ま
しくは1.5×106 dyn・cm以上の場合である。
The rigidity of the substrate is quantitatively different depending on the outer diameter of the disc body obtained from the substrate and cannot be uniquely determined, but the outer diameter of the disc body is 65 to 130.
For about mm, a Young's modulus of the substrate E, when the thickness was set to t, E · t 3/12 is 1 × 10 6 dyn · cm or more, more preferably 1.5 × 10 6 dyn · cm or more This is the case.

【0042】ディスク体の外径が65〜130mm程度の
場合、E・t3 /12が、前記未満であると、磁気ディ
スクがたわみ、回転始動時にヘッドクラッシュが生じる
傾向にある。なお、ディスク体の外径が65mm程度未満
の場合には、E・t3 /12が前記の値よりも小さくて
も問題がない。
[0042] When the outer diameter of the disc body of about 65~130mm, E · t 3/12 is less than the deflection magnetic disk, there is a tendency that the head crash occurs during rotation start. Incidentally, when the outside diameter of the disk body is less than about 65mm is no problem even if less than the value of E · t 3/12 is the.

【0043】基体に用いる樹脂には特に制限がなく、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹
脂等何れの樹脂を使用してもよい。
The resin used for the substrate is not particularly limited, and any resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin and an active energy ray curable resin may be used.

【0044】例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、
塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、フッ化ビニリデ
ン樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共
重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重
合体、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ポリエステル、ポリサルホン、ポリオ
キシベンジレン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテル
ケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレン
サルファイド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレ
ンオキサイド、ポリケトンサルファイド、ポリイミド、
ポリアミドイミド、ポリアクリルイミド、ポリエーテル
イミド、ポリオレフィン、アモルファスポリオレフィ
ン、ポリエステル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリ
コーン樹脂およびこれらの変性体等が使用できる。
For example, polyethylene, polypropylene,
Vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, vinylidene fluoride resin, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin, polyamide, polycarbonate,
Polyacetal, polyester, polysulfone, polyoxybenzylene, polyethersulfone, polyetherketone, polyetheretherketone, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, polyphenylene oxide, polyketone sulfide, polyimide,
Polyamide imide, polyacryl imide, polyether imide, polyolefin, amorphous polyolefin, polyester, polyurethane, epoxy resin, silicone resin and modified products thereof can be used.

【0045】これらの各種非磁性材料の中では機械的強
度が高く、加工性等が良好、特に、後述する加圧および
加熱処理によって容易に溝を形成できる等の点で、ポリ
カーボネート、ポリオレフィン、ポリエーテルイミド等
の熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。
Among these various non-magnetic materials, the mechanical strength is high and the workability and the like are good. Particularly, in view of easy formation of grooves by pressure and heat treatment described later, it is possible to use polycarbonate, polyolefin, poly It is preferable to use a thermoplastic resin such as ether imide.

【0046】基体の製造方法には特に制限がなく、例え
ば、押し出しロール加工等の公知の方法により板状に成
形すればよい。
The method for producing the substrate is not particularly limited, and for example, it may be formed into a plate shape by a known method such as extrusion roll processing.

【0047】得られた基体の表面には、帯電防止、基体
の硬度の増加、基体と磁性層との接着性の向上等の目的
で、特に、連続薄膜の磁性層を形成する場合は、磁性層
のクラック防止、耐食性向上、基体からの脱ガス防止等
の目的で、各種下地層を設けてもよい。
On the surface of the obtained substrate, for the purpose of preventing electrification, increasing the hardness of the substrate, improving the adhesion between the substrate and the magnetic layer, etc., especially when a continuous thin film magnetic layer is formed, Various underlayers may be provided for the purpose of preventing cracks in the layer, improving corrosion resistance, and preventing degassing from the substrate.

【0048】下地層の膜厚は、通常100〜3000A
程度とすればよい。なお、形成する下地層は、目的や磁
性層の種類等に応じて適宜選択すればよい。
The thickness of the underlayer is usually 100 to 3000A.
It should be about. The base layer to be formed may be appropriately selected depending on the purpose, the type of magnetic layer, and the like.

【0049】基体上には直接、あるいは必要に応じて設
けられる下地層等を介して磁性層が形成される。
A magnetic layer is formed on the substrate directly or via an underlayer or the like provided as necessary.

【0050】磁性層は、前記のとおり塗布型と連続薄膜
型とがあり、以下場合分けをして説明する。
The magnetic layer is classified into the coating type and the continuous thin film type as described above, and the cases will be described separately below.

【0051】[磁性層(1)]磁性層の第1の例は、塗
布型の磁性層である。磁性層は、基体上に、磁性微粒子
を含有する磁性塗料を塗布して形成される。
[Magnetic Layer (1)] The first example of the magnetic layer is a coating type magnetic layer. The magnetic layer is formed by applying a magnetic coating material containing magnetic fine particles on a substrate.

【0052】磁性層の保磁力は700 Oe 以上とするこ
とが好ましい。保磁力がこの値未満であると十分な電磁
変換特性が得られず高密度記録が困難となる他、高い再
生出力が得られない。
The coercive force of the magnetic layer is preferably 700 Oe or more. If the coercive force is less than this value, sufficient electromagnetic conversion characteristics cannot be obtained, high density recording becomes difficult, and high reproduction output cannot be obtained.

【0053】磁性層の保磁力は、組み合わせる磁気ヘッ
ドの性能を考慮し、十分なオーバーライト特性が得られ
る範囲とすればよいので、その上限は特にないが、通
常、3000 Oe 以下とすることが好ましい。
The coercive force of the magnetic layer may be set in a range where sufficient overwrite characteristics can be obtained in consideration of the performance of the magnetic head to be combined. Therefore, there is no upper limit, but it is usually 3000 Oe or less. preferable.

【0054】塗布型の磁性層に用いる磁性微粒子には特
に制限はなく、各種酸化物磁性粉等も使用可能である
が、高保磁力の磁性微粒子、例えば強磁性金属微粒子が
好ましい。強磁性金属微粒子等の高保磁力の磁性微粒子
を用いれば高い記録密度と、高い記録・再生感度が得ら
れる。
The magnetic fine particles used in the coating type magnetic layer are not particularly limited, and various oxide magnetic powders can be used, but magnetic fine particles having a high coercive force, for example, ferromagnetic metal fine particles are preferable. High recording density and high recording / reproducing sensitivity can be obtained by using magnetic fine particles having high coercive force such as ferromagnetic metal fine particles.

【0055】この場合、用いる強磁性金属微粒子には特
に制限はないが、前記のような磁気特性が得られるよう
に選択することが好ましい。
In this case, the ferromagnetic metal fine particles to be used are not particularly limited, but it is preferable to select them so as to obtain the above magnetic characteristics.

【0056】例えば、Fe、Co、Niの単体、これら
の合金、またはこれらの単体および合金に、Cr、M
n、Co、Ni、さらにはZn、Cu、Zr、Al、T
i、Bi、Ag、Pt等を添加した強磁性金属微粒子が
使用できる。
For example, simple substances of Fe, Co and Ni, alloys of these, or simple substances and alloys of these, Cr, M
n, Co, Ni, and further Zn, Cu, Zr, Al, T
Ferromagnetic metal particles to which i, Bi, Ag, Pt, etc. are added can be used.

【0057】また、これらの金属にB、C、Si、P、
Nなどの非金属元素を少量添加したものであってもよ
く、Fe4 N等、一部窒化されたものであってもよい。
Further, B, C, Si, P, and
It may be added with a small amount of a non-metal element such as N, or may be partially nitrided such as Fe 4 N.

【0058】さらに、強磁性金属微粒子は、耐食性、耐
候性の向上のために、表面に酸化物の被膜を有するもの
であってもよい。このような酸化物としては、強磁性金
属微粒子を構成する金属の酸化物、Al23 等の各種
セラミックスが好ましい。
Further, the ferromagnetic metal fine particles may have an oxide film on the surface in order to improve corrosion resistance and weather resistance. As such oxides, oxides of metals forming ferromagnetic metal fine particles and various ceramics such as Al 2 O 3 are preferable.

【0059】強磁性金属微粒子の形状に特に制限はない
が、形状磁気異方性を利用できることから針状形態のも
のを用いることが好ましい。
The shape of the ferromagnetic metal fine particles is not particularly limited, but it is preferable to use the acicular shape because the shape magnetic anisotropy can be utilized.

【0060】また、磁性微粒子の寸法は目的とする磁性
層の構成に応じて選定すればよいが、通常、長径0.1
5〜0.30μm程度、針状比6〜10程度のものを用
いることが好ましい。
The size of the magnetic fine particles may be selected according to the intended structure of the magnetic layer, but the major axis is usually 0.1.
It is preferable to use one having a needle-shaped ratio of about 5 to 0.30 μm and a needle-shaped ratio of about 6 to 10.

【0061】なお、強磁性金属微粒子を用いる場合は、
α−FeOOH(Goethite)を還元する方法など、公知の
各種方法により製造すればよく、また、市販のものを用
いてもよい。
When using ferromagnetic metal fine particles,
It may be produced by various known methods such as a method of reducing α-FeOOH (Goethite), or a commercially available one may be used.

【0062】また、結晶異方性を利用する磁性微粒子と
しては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライ
ト等の六方晶系酸化物微粒子がある。
Magnetic fine particles utilizing crystal anisotropy include hexagonal oxide fine particles such as barium ferrite and strontium ferrite.

【0063】この場合、六方晶系酸化物微粒子の寸法
は、目的とする磁性層の構成に応じて選定すればよい
が、電磁変換特性上、平均粒径が0.15μm以下、特
に0.02〜0.10μm程度、板状比は2以上、特に
3〜10程度であるものが好ましい。
In this case, the size of the hexagonal oxide fine particles may be selected according to the intended constitution of the magnetic layer, but the average particle size is 0.15 μm or less, especially 0.02 due to electromagnetic conversion characteristics. .About.0.10 .mu.m, and the plate ratio is 2 or more, particularly preferably 3 to 10.

【0064】ここで、平均粒径とは、電子顕微鏡写真
[走査型電子顕微鏡(SEM)および透過型電子顕微鏡
(TEM)]によって、例えば六方晶系のバリウムフェ
ライト粒子50個程度を観察し、粒径についての測定値
を平均したものである。また板状比とは、平均粒径/平
均厚みの値である。
Here, the average particle size means, for example, about 50 hexagonal barium ferrite particles are observed by an electron microscope photograph [scanning electron microscope (SEM) and transmission electron microscope (TEM)], It is the average of the measured values for the diameter. The plate ratio is a value of average particle diameter / average thickness.

【0065】バリウムフェライトとしては、BaFe12
19等の六方晶系バリウムフェライトやバリウムフェラ
イトのBa、Feの一部をCa、Sr、Pb、Co、N
i、Ti、Cr、Zn、In、Mn、Cu、Ge、N
b、Zr、Snその他の金属から選ばれる1種以上で置
換したもの等が挙げられる。
As barium ferrite, BaFe 12
Hexagonal barium ferrite such as O 19 and Ba and Fe of barium ferrite are partially Ca, Sr, Pb, Co and N.
i, Ti, Cr, Zn, In, Mn, Cu, Ge, N
Examples thereof include those substituted with one or more selected from b, Zr, Sn and other metals.

【0066】また、ストロンチウムフェライトとして
は、六方晶系ストロンチウムフェライトSrFe
1219、あるいはこれを上記に準じて置換したものであ
ってもよい。
As the strontium ferrite, hexagonal strontium ferrite SrFe is used.
It may be 12 O 19 or one obtained by substituting it according to the above.

【0067】この場合、磁化量増大や温度特性改善のた
め、六方晶系フェライトの表面をスピネルフェライトで
変成した物でもよい。さらに、耐候性・分散性向上のた
めに、これら粒子の表面に酸化物や有機化合物の被膜を
有するものであってもよい。
In this case, in order to increase the amount of magnetization and improve the temperature characteristics, a hexagonal ferrite surface modified with spinel ferrite may be used. Further, in order to improve weather resistance and dispersibility, the surface of these particles may have a coating film of oxide or organic compound.

【0068】バリウムフェライト等の製法としては、セ
ラミック法、共沈−焼成法、水熱合成法、フラックス
法、ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェッ
ト法等があり、本発明ではいずれの方法を用いてもよ
い。これらの方法の詳細については小池吉康、久保修共
著“セラミックス18(1983)No. 10”などを参
照することができる。
Examples of the method for producing barium ferrite and the like include a ceramic method, a coprecipitation-firing method, a hydrothermal synthesis method, a flux method, a glass crystallization method, an alkoxide method, a plasma jet method and the like, and any method is used in the present invention. You may use. For details of these methods, reference can be made to Yoshiyasu Koike and Osamu Kubo, "Ceramics 18 (1983) No. 10".

【0069】磁性層形成に用いる磁性塗料は、通常、上
記した磁性微粒子とバインダと溶剤とを混練して調製さ
れる。この場合、磁性微粒子は、必要に応じて2種以上
併用してもよい。
The magnetic coating material used for forming the magnetic layer is usually prepared by kneading the above-mentioned magnetic fine particles, a binder and a solvent. In this case, the magnetic fine particles may be used in combination of two or more, if necessary.

【0070】また、用いるバインダには特に制限はな
く、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、紫外線硬化性、放射線
硬化性等の活性エネルギー線硬化性樹脂等から目的に応
じて選択すればよいが、薄層で十分な膜強度を確保し、
高い耐久性を得る必要があることから熱硬化性樹脂ある
いは紫外線硬化性・放射線硬化性などの活性エネルギー
線硬化性樹脂を用いることが好ましい。
The binder to be used is not particularly limited and may be selected from thermosetting resins, reactive resins, active energy ray curable resins such as ultraviolet curable and radiation curable resins according to the purpose. A thin layer ensures sufficient film strength,
Since it is necessary to obtain high durability, it is preferable to use a thermosetting resin or an active energy ray curable resin such as an ultraviolet curable resin and a radiation curable resin.

【0071】熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ビニル共重合系樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホルマー
ル樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹
脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ−
ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホルムア
ルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分子量ポ
リエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートの混合物、低分子量グリコール/高分子量ジオ
ール/トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物
など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物など
の架橋剤との混合物、ビニル共重合系樹脂と架橋剤との
混合物、ニトロセルロース、セルロースアセトブチレー
ト等の繊維素系樹脂と架橋剤との混合物、ブタジエン−
アクリロニトリル等の合成ゴム系と架橋剤との混合物、
さらにはこれらの混合物が好適である。
Examples of the thermosetting resin include phenol resin, epoxy resin, vinyl copolymer resin, polyurethane curable resin, urea resin, butyral resin, formal resin, melamine resin, alkyd resin, silicone resin and acrylic reaction. Resin, polyamide resin, epoxy-
Polyamide resin, saturated polyester resin, polycondensation resin such as urea formaldehyde resin or a mixture of high molecular weight polyester resin and isocyanate prepolymer, a mixture of methacrylate copolymer and diisocyanate prepolymer, a mixture of polyester polyol and polyisocyanate, Mixtures of the above polycondensation resin and a crosslinking agent such as an isocyanate compound, such as a mixture of low molecular weight glycol / high molecular weight diol / triphenylmethane triisocyanate, a mixture of a vinyl copolymerization resin and a crosslinking agent, nitrocellulose, cellulose A mixture of a fibrin-based resin such as acetobutyrate and a crosslinking agent, butadiene-
A mixture of a synthetic rubber system such as acrylonitrile and a crosslinking agent,
Furthermore, mixtures of these are preferred.

【0072】そして、特に、エポキシ樹脂とフェノール
樹脂との混合物、米国特許第3058844号に記載の
エポキシ樹脂とポリビニルメチルエーテルとメチロール
フェノールエーテルとの混合物、また特開昭49−13
1101号に記載のビスフェノールA型エポキシ樹脂と
アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル重合体
との混合物等が好ましい。
Particularly, a mixture of an epoxy resin and a phenol resin, a mixture of an epoxy resin described in US Pat. No. 3,058,844, a polyvinyl methyl ether and a methylol phenol ether, and JP-A-49-13.
A mixture of the bisphenol A type epoxy resin described in No. 1101 and an acrylic acid ester or a methacrylic acid ester polymer is preferable.

【0073】活性エネルギー線硬化性化合物の具体例と
しては、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示す
アクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル
化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレー
トのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸
誘導体等の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるい
は重合する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入
した樹脂である。その他放射線照射により架橋重合する
不飽和二重結合を有する化合物であれば用いることがで
きる。
Specific examples of the active energy ray-curable compound include acrylic double bonds having a radical-polymerizable unsaturated double bond, acrylic double bonds such as acrylic acid and methacrylic acid, or ester compounds thereof, and diallyl phthalate. Resins containing or introducing into the molecule of a thermoplastic resin such groups as allylic double bonds, unsaturated bonds such as maleic acid, maleic acid derivatives and the like which are crosslinked or polymerized by irradiation with radiation. In addition, any compound having an unsaturated double bond that undergoes cross-linking polymerization upon irradiation with radiation can be used.

【0074】放射線硬化性バインダとして用いられる樹
脂としては、上記不飽和二重結合を樹脂の分子鎖中や末
端、側鎖に含有する飽和、不飽和ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリビニルアルコ
ール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エポキシ樹
脂、フェノキシ樹脂、繊維素系樹脂、アクリロニトリル
−ブタジエン共重合体、ポリブタジエン等が好適であ
る。
As the resin used as the radiation curable binder, a saturated or unsaturated polyester resin containing the above unsaturated double bond in the molecular chain, terminal or side chain of the resin, polyurethane resin, vinyl chloride resin, polyvinyl resin. Alcohol-based resins, polyvinyl butyral-based resins, epoxy resins, phenoxy resins, fibrin-based resins, acrylonitrile-butadiene copolymers, polybutadiene and the like are suitable.

【0075】さらに、オリゴマー、モノマーとして本発
明で用いられる放射線硬化性化合物としては、単官能ま
たは多官能のトリアジン系アクリレート、多価アルコー
ル系アクリレート、ペンタエリスリトール系アクリレー
ト、エステル系アクリレート、ウレタン系アクリレート
および上記系の単官能または多官能のメタクリレート化
合物等が好適である。
Further, the radiation curable compounds used in the present invention as oligomers and monomers include monofunctional or polyfunctional triazine acrylates, polyhydric alcohol acrylates, pentaerythritol acrylates, ester acrylates, urethane acrylates and A monofunctional or polyfunctional methacrylate compound of the above system is suitable.

【0076】磁性塗料中のバインダの含有量に特に制限
はないが、磁性微粒子100重量部に対し、10〜50
重量部程度とすることが好ましい。
The content of the binder in the magnetic coating material is not particularly limited, but it is 10-50 per 100 parts by weight of the magnetic fine particles.
It is preferable that the amount is about parts by weight.

【0077】用いる溶剤に特に制限はなく、シクロヘキ
サノン、イソホロン等のケトン系、イソプロピルアルコ
ール、ブチルアルコール等のアルコール系、エチルセロ
ソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソルブ系、トルエン等
の芳香族系等の各種溶剤を目的に応じて選択すればよ
い。
The solvent to be used is not particularly limited, and various solvents such as a ketone system such as cyclohexanone and isophorone, an alcohol system such as isopropyl alcohol and butyl alcohol, a cellosolve system such as ethyl cellosolve and a cellosolve acetate, and an aromatic system such as toluene. It may be selected according to the purpose.

【0078】磁性塗料中の溶剤の含有量に特に制限はな
いが、磁性微粒子100重量部に対し、200〜700
重量部程度とすることが好ましい。
The content of the solvent in the magnetic coating material is not particularly limited, but is 200 to 700 with respect to 100 parts by weight of the magnetic fine particles.
It is preferable that the amount is about parts by weight.

【0079】磁性塗料中には、磁性層の機械的強度を高
めるために、α−Al23 、Cr23 、TiO2
SiC、α−Fe23 等の無機微粒子を含有させるこ
とが好ましい。また、磁性塗料中には、必要に応じ、シ
リコーンオイル等の潤滑剤、その他の各種添加物を添加
してもよい。
In order to enhance the mechanical strength of the magnetic layer, α-Al 2 O 3 , Cr 2 O 3 , TiO 2 ,
It is preferable to contain inorganic fine particles such as SiC and α-Fe 2 O 3 . If necessary, a lubricant such as silicone oil and other various additives may be added to the magnetic paint.

【0080】このような磁性塗料は、樹脂製の基体の表
面に塗布され、磁性塗料の塗膜を形成する。
Such a magnetic paint is applied to the surface of a resin base to form a coating film of the magnetic paint.

【0081】この場合、基体の表面あるいは必要に応じ
て設けられる下地層の表面は、カップリング剤、硬化性
樹脂などで処理されていてもよい。
In this case, the surface of the substrate or the surface of the underlayer, which is provided if necessary, may be treated with a coupling agent, a curable resin or the like.

【0082】磁性塗料の塗布方法には特に制限がなく、
例えば、ダイコーティング法、ディップコーティング
法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法等
を用いればよい。
There is no particular limitation on the method of applying the magnetic paint,
For example, a die coating method, a dip coating method, a spray coating method, a roll coating method or the like may be used.

【0083】磁性塗料を塗布した後、必要に応じて塗膜
中の磁性微粒子の配向を行なう。この場合、塗膜の磁化
容易軸が、基体の主面内にてランダムな方向または基体
の厚さ方向すなわちディスク厚さ方向に向くように配向
することが好ましい。なお、配向は、従来公知の方法に
従って行なえばよい。
After applying the magnetic paint, the magnetic fine particles in the coating film are oriented as necessary. In this case, it is preferable that the easy axis of magnetization of the coating film is oriented in a random direction within the main surface of the substrate or in the thickness direction of the substrate, that is, the disc thickness direction. The orientation may be performed according to a conventionally known method.

【0084】また、配向の前に、溶剤蒸気中で磁界を印
加して塗膜のレベリングを行なってもよい。
Before orientation, a magnetic field may be applied in solvent vapor to level the coating film.

【0085】次いで、磁性塗膜が形成された基体から剛
性のディスク体を得る。ディスク体を得る方法には特に
制限がなく、レーザを用いてディスク状に切り取る方
法、打ち抜き装置を用いてディスク状に打ち抜く方法等
公知の方法を用いればよい。
Then, a rigid disk body is obtained from the substrate on which the magnetic coating film is formed. The method of obtaining the disk body is not particularly limited, and a known method such as a method of cutting into a disk shape using a laser or a method of punching into a disk shape using a punching device may be used.

【0086】打ち抜き装置の1例を図1に示し、以下図
示例に従って説明する。打ち抜き装置は、中心に円柱状
の凸部75を有し、外周部に断面矩形のリング状の凸部
73を有する上刃7と、凹部81を有するリング状の下
刃8とを有する。
An example of the punching device is shown in FIG. 1 and will be described below with reference to the illustrated example. The punching device has a cylindrical convex portion 75 at the center, an upper blade 7 having a ring-shaped convex portion 73 having a rectangular cross section on the outer peripheral portion, and a ring-shaped lower blade 8 having a concave portion 81.

【0087】凸部73は、ディスク体の外径を規制し、
凸部75は、ディスク体の内径を規制するためのもので
あり、上刃7には、凸部73、75によって断面矩形の
リング状の凹部71が形成されている。
The convex portion 73 regulates the outer diameter of the disc body,
The convex portion 75 is for regulating the inner diameter of the disk body, and the upper blade 7 is formed with a ring-shaped concave portion 71 having a rectangular cross section by the convex portions 73 and 75.

【0088】下刃8は、取り付け台3に固定されてお
り、凹部81内部にはスプリング6を介して下部パンチ
ングプレート93が取り付けられている。
The lower blade 8 is fixed to the mounting base 3, and the lower punching plate 93 is mounted inside the recess 81 via the spring 6.

【0089】また、上刃7は、凹部71と、下刃8とが
対向するように配置され、上刃7の凹部71内部には、
スプリング6を介して上部パンチングプレート91が取
り付けられている。
The upper blade 7 is arranged so that the concave portion 71 and the lower blade 8 face each other, and inside the concave portion 71 of the upper blade 7,
The upper punching plate 91 is attached via the spring 6.

【0090】また、下刃8の外周側の取り付け台3上に
は、上刃7のリング状の凸部73と対向する位置に、ス
プリング6を介して、リング状の上刃用パンチングプレ
ート95が取り付けられている。
Further, on the mounting base 3 on the outer peripheral side of the lower blade 8, a ring-shaped upper blade punching plate 95 is provided via a spring 6 at a position facing the ring-shaped convex portion 73 of the upper blade 7. Is attached.

【0091】このような打ち抜き装置の下刃8上に、両
主面に塗膜53、53が形成されている基体41を載置
する。
On the lower blade 8 of such a punching device, the substrate 41 having the coating films 53, 53 formed on both main surfaces is placed.

【0092】次いで上刃7と下刃8とを作用させて、塗
膜および基体をディスク状に打ち抜いて、ディスク基板
上に塗膜を有するディスク体を得る。そして、同様にし
て、1枚の塗膜が設層された基体から複数のディスク体
を打ち抜く。
Next, the upper blade 7 and the lower blade 8 are actuated to punch the coating film and the substrate into a disk shape to obtain a disk body having the coating film on the disk substrate. Then, in the same manner, a plurality of disc bodies are punched out from the substrate on which one coating film is formed.

【0093】このように、本発明では一回の塗布により
塗膜を有する複数のディスク体が得られるため、ディス
ク基板1枚ごとに塗膜を形成する従来の方法に比べ、量
産性が格段と向上する。
As described above, according to the present invention, a plurality of discs having a coating film can be obtained by one-time application, so that mass productivity is remarkably higher than that of the conventional method of forming a coating film on each disc substrate. improves.

【0094】ディスク体の寸法は、目的や用途等に応じ
て適宜選択すればよいが、通常、外径65〜130mm程
度、内径20〜40mm程度、厚さ0.8〜1.9mm程度
である。
The size of the disk body may be appropriately selected depending on the purpose and application, but is usually about 65 to 130 mm in outer diameter, 20 to 40 mm in inner diameter, and 0.8 to 1.9 mm in thickness. ..

【0095】また、打ち抜く際の条件は、ディスク体の
外径、厚さ等によって適宜決定すればよいが、通常、油
圧シリンダー吐出圧力:50〜150kgf/cm2 程度、上
刃下降速度:3〜20mm/秒程度で打ち抜きを行なう。
The conditions for punching may be appropriately determined depending on the outer diameter, thickness, etc. of the disk body, but normally, the hydraulic cylinder discharge pressure: about 50 to 150 kgf / cm 2 , the upper blade descending speed: 3 to Punching is performed at about 20 mm / sec.

【0096】塗膜が設層された基体からディスク体を打
ち抜いた後、ディスク体の両主面のほぼ全体を同時にデ
ィスク厚さ方向に加圧してディスク体の表面にディスク
周方向に溝を形成する。この場合、ディスク体を加圧す
る前に、所定の温度までディスク体を加熱しておく。ま
た、これにかえて、あるいはこれに加えて、加圧中に例
えばホットプレスで加熱を行なう。
After the disc body is punched out from the substrate on which the coating film has been formed, substantially the entire principal surfaces of the disc body are simultaneously pressed in the disc thickness direction to form grooves in the disc circumferential direction on the surface of the disc body. To do. In this case, before pressurizing the disc body, the disc body is heated to a predetermined temperature. In addition to or in addition to this, heating is performed during hot pressing, for example, by hot pressing.

【0097】なお、ディスク体の両主面全体を同時に加
圧しないで、例えば、円錐形のローラ等を用いて加圧す
ると、ディスク体がゆがんでしまう。このため、トラッ
キング時に磁気ヘッドの追従が困難となり、特にゆがみ
やうねりがひどい場合には、ヘッドクラッシュが生じる
ことがある。また、記録・再生が困難となる。
It should be noted that if pressure is not applied to both main surfaces of the disk body at the same time using, for example, a conical roller, the disk body will be distorted. For this reason, it becomes difficult for the magnetic head to follow during tracking, and a head crash may occur especially when the distortion or waviness is severe. Moreover, recording / reproducing becomes difficult.

【0098】本発明に用いる装置は、ディスク体の両主
面のほぼ全体を同時にディスク厚さ方向に加圧でき、デ
ィスク体の表面に溝を形成できるものであれば特に制限
がない。ただし、加圧中に加熱をする場合は、ホットプ
レスの機構を備える必要がある。1例を図2に示し、以
下説明する。
The apparatus used in the present invention is not particularly limited as long as it can press both main surfaces of the disc body in the disc thickness direction at the same time and can form a groove on the surface of the disc body. However, when heating is performed during pressurization, it is necessary to provide a hot press mechanism. One example is shown in FIG. 2 and will be described below.

【0099】装置は、一対の加圧手段1、2を有する。
一対の加圧手段1、2は、それぞれ、プレス板11、2
1とスタンパ13、23とから構成される。
The device has a pair of pressurizing means 1, 2.
The pair of pressurizing means 1 and 2 are respectively press plates 11 and 2.
1 and stampers 13 and 23.

【0100】ディスク体50の表面性を決定する一対の
スタンパ13、23の表面は、図示されるように、それ
ぞれ、所望の凹凸形状に加工され、例えば、連続あるい
は不連続な同心円状、スパイラル状等に規則的に凸部や
凹部が形成されている。そして、凸部や凹部の表面は、
所望の表面粗さ(Ra)に加工されている。
As shown in the drawing, the surfaces of the pair of stampers 13 and 23 that determine the surface properties of the disk body 50 are processed into desired concavo-convex shapes, for example, continuous or discontinuous concentric circles and spirals. And the like are regularly formed with convex portions and concave portions. And, the surface of the convex portion and the concave portion,
It is processed to have a desired surface roughness (Ra).

【0101】ディスク体50を加熱および加圧処理する
には、まず、遠赤外線炉中で加熱するなど、従来公知の
加熱手段を用いてディスク基板51上に塗膜53を有す
るディスク体50を加熱する。その後、プレス板21上
に対向して配置されているスタンパ23上に、加熱した
ディスク体50を載置する。次いで、ディスク体50上
にスタンパ13を載置し、プレス板11とプレス板21
間にてディスク体50をディスク厚さ方向に加圧する。
In order to heat and pressurize the disc body 50, first, the disc body 50 having the coating film 53 on the disc substrate 51 is heated by using a conventionally known heating means such as heating in a far infrared furnace. To do. After that, the heated disk body 50 is placed on the stamper 23 that is arranged to face the press plate 21. Next, the stamper 13 is placed on the disc body 50, and the press plate 11 and the press plate 21 are placed.
In the meantime, the disc body 50 is pressed in the disc thickness direction.

【0102】また、加圧前にディスク体50の加熱を行
なわず、あるいは前記加熱に加えて、加圧しながらディ
スク体50の加熱を行なってもよい。
The disk body 50 may not be heated before the pressurization, or the disk body 50 may be heated while being pressurized in addition to the above heating.

【0103】プレス圧力、加熱温度、加圧・加熱時間等
の諸条件は、バインダの材質やディスク基板51の材質
等に応じて適宜決定すればよい。この場合、加熱温度
は、通常ディスク基板51の熱変形温度以上であり、4
0〜300℃、特に60〜250℃が好ましい。また、
プレス圧力は、1〜500kgf/cm2 、より好ましくは、
1〜300kgf/cm2 、さらに好ましくは5〜150kgf/
cm2 、特に好ましくは10〜100kgf/cm2 が好まし
い。また、加圧時間は、30分以下、特に15分以下が
好ましい。
Various conditions such as the press pressure, heating temperature, pressurization / heating time, etc. may be appropriately determined according to the material of the binder, the material of the disk substrate 51 and the like. In this case, the heating temperature is usually equal to or higher than the thermal deformation temperature of the disk substrate 51, and
0-300 degreeC, especially 60-250 degreeC are preferable. Also,
The pressing pressure is 1 to 500 kgf / cm 2 , more preferably,
1 to 300 kgf / cm 2 , more preferably 5 to 150 kgf /
cm 2 , particularly preferably 10 to 100 kgf / cm 2 . The pressurizing time is preferably 30 minutes or less, particularly 15 minutes or less.

【0104】このようにして、ディスク基板51および
塗膜53を変形させ、スタンパ13、23の表面のパタ
ーンをそのままディスク体50の表面に転写して所望の
パターンの溝を形成し、ディスク体50の形状を矯正す
る。このとき、磁性層だけが変形するか、あるいは磁性
層と基板がともに変形するかは、加熱温度、プレス圧
力、磁性層、基板の材質、厚みなどの諸条件によって変
わってくる。
In this way, the disk substrate 51 and the coating film 53 are deformed, and the patterns on the surfaces of the stampers 13 and 23 are directly transferred to the surface of the disk body 50 to form grooves having a desired pattern. To correct the shape of. At this time, whether only the magnetic layer is deformed or both the magnetic layer and the substrate are deformed depends on various conditions such as heating temperature, pressing pressure, magnetic layer, substrate material, and thickness.

【0105】本発明の磁気ディスクの製造方法では、位
置合わせが不要であり、量産性が向上する点で前述した
塗膜53を有する基体41からディスク体50を打ち抜
く処理と、ディスク体50を加圧、加熱する処理とをほ
ぼ同時に行なうことが好ましい。
In the method for manufacturing a magnetic disk of the present invention, the positioning is not necessary and the mass productivity is improved, so that the disk body 50 is punched from the base body 41 having the coating film 53 and the disk body 50 is added. It is preferable to carry out the pressure and heating treatments almost simultaneously.

【0106】同時に行なうには、前記の打ち抜き機構
と、加圧および加熱機構とを兼ね備えた装置を用い、前
記の条件にて処理すればよい。
In order to carry out simultaneously, it is sufficient to use the apparatus having both the punching mechanism and the pressurizing and heating mechanism, and perform the treatment under the above conditions.

【0107】次いで必要に応じて、各種の硬化処理を行
なってディスク基板51上の塗膜53を硬化し、磁性層
を形成する。熱硬化性バインダを使用した場合の硬化条
件は、温度60〜250℃程度、加熱時間1〜48時間
程度が好ましい。
Then, if necessary, various curing treatments are performed to cure the coating film 53 on the disk substrate 51 to form a magnetic layer. When a thermosetting binder is used, the curing conditions are preferably a temperature of about 60 to 250 ° C. and a heating time of about 1 to 48 hours.

【0108】また、放射線硬化性バインダを使用した場
合の硬化条件は、放射線照射量2〜10Mrad程度が好ま
しい。なお、熱硬化性バインダを使用した場合は、前記
加圧および加熱処理と同時に硬化処理を行なってもよ
い。
Further, the curing condition when using the radiation-curable binder is preferably a radiation dose of about 2 to 10 Mrad. When a thermosetting binder is used, the curing treatment may be performed at the same time as the pressure and heat treatments.

【0109】また、必要に応じてディスク体の内周部や
外周部の端面にRを付けるためのいわゆる面取り加工等
を行なってもよい。
If necessary, so-called chamfering or the like may be performed to form a radius R on the end faces of the inner peripheral portion and the outer peripheral portion of the disk body.

【0110】塗膜53の硬化後、必要があればテープ研
磨などの研磨加工を行なう。そして、その後、磁性層表
面に液体潤滑剤を塗布し、磁性層中に含浸させることが
好ましい。液体潤滑剤の塗布方法に制限はなく、例え
ば、ディップ法、スピンコート法等を用いればよい。
After the coating film 53 is cured, polishing processing such as tape polishing is performed if necessary. Then, after that, it is preferable to apply a liquid lubricant to the surface of the magnetic layer to impregnate the magnetic layer. There is no limitation on the method of applying the liquid lubricant, and for example, a dipping method, a spin coating method or the like may be used.

【0111】液体潤滑剤の含浸後、再びバニッシングを
行なうことにより、磁気ディスク表面の平滑性をさらに
向上させることが好ましい。
After impregnation with the liquid lubricant, it is preferable to further improve the smoothness of the magnetic disk surface by performing burnishing again.

【0112】このようにして、図3に示されるように両
主面に溝57を有する両面記録型の磁気ディスク5が製
造される。なお、片面記録型の磁気ディスクの場合は、
磁性層55形成面側に溝57を形成すればよい。
In this way, the double-sided recording type magnetic disk 5 having the grooves 57 on both main surfaces as shown in FIG. 3 is manufactured. In the case of a single-sided recording type magnetic disk,
The groove 57 may be formed on the side where the magnetic layer 55 is formed.

【0113】溝57は、ディスク周方向に規則的に形成
され、主にトラッキング用のグルーブやピットとして用
いられる。
The grooves 57 are regularly formed in the disk circumferential direction and are mainly used as tracking grooves or pits.

【0114】溝57のパターンには特に制限がなく、通
常、同心円状またはスパイラル状の連続グルーブや、不
連続ないし連続散点状のピットとする。また、溝57の
断面形状には特に制限がなく、V字形、矩形等種々のも
のであってよい。また、溝57の寸法や、溝57配置間
隔や、不連続溝の不連続寸法等には特に制限がなく、目
的等に応じて適宜決定すればよいが、下記の寸法が好適
である。
The pattern of the groove 57 is not particularly limited, and is usually a concentric or spiral continuous groove or a discontinuous or continuous dot-like pit. Further, the cross-sectional shape of the groove 57 is not particularly limited and may be various shapes such as a V-shape and a rectangle. Further, the dimensions of the grooves 57, the intervals between the grooves 57, the discontinuous dimensions of the discontinuous grooves, etc. are not particularly limited and may be appropriately determined according to the purpose, etc., but the following dimensions are preferable.

【0115】溝57の幅a:20μm 以下、特に10μ
m以下そして、一般に0.2μm 以上、特に0.5μm
以上 溝57の深さh:3μm以下、特に1μm以下、一般に
0.03μm 以上、特に0.05μm 以上 溝間間隙のランド部59の幅b:100μm 以下、特に
50μm以下、一般に0.2μm 以上、特に0.5μm
以上
Width a of groove 57: 20 μm or less, especially 10 μm
m or less and generally 0.2 μm or more, especially 0.5 μm
Depth h of groove 57: 3 μm or less, particularly 1 μm or less, generally 0.03 μm or more, particularly 0.05 μm or more Width b of land portion 59 between grooves: 100 μm or less, particularly 50 μm or less, generally 0.2 μm or more, Especially 0.5 μm
that's all

【0116】なお、ランド部59の幅bは、通常等間隔
とするが、内周側にて、漸増するようにしてもよい。
The widths b of the lands 59 are normally equidistant, but may be gradually increased on the inner peripheral side.

【0117】このように製造される塗布型の磁気ディス
ク5の残留磁束密度Brは1000〜3000G程度、
角形比Sは0.70〜0.95程度、保磁力角形比S*
は0.70〜0.95程度である。
The residual magnetic flux density Br of the coating type magnetic disk 5 manufactured in this manner is about 1000 to 3000 G,
Squareness ratio S is about 0.70 to 0.95, coercive force squareness ratio S *
Is about 0.70 to 0.95.

【0118】[磁性層(2)]磁性層の第2の例は、連
続磁性薄膜である。連続磁性薄膜の材料には特に制限が
なく、例えば、Fe、CoおよびNiから選ばれる1種
以上を含有する連続薄膜、特にCo系の連続薄膜で構成
すればよい。
[Magnetic Layer (2)] The second example of the magnetic layer is a continuous magnetic thin film. The material of the continuous magnetic thin film is not particularly limited, and may be, for example, a continuous thin film containing at least one selected from Fe, Co and Ni, particularly a Co-based continuous thin film.

【0119】磁性層の組成の具体例としては、Co−N
i合金、Co−Ni−Cr合金、Co−Cr合金、Co
−Cr−B合金、Co−Cr−Mn合金、Co−Cr−
Mn−B合金、Co−Cr−Ta合金、Co−Cr−S
i−Al合金、Co−V合金、Co−Ni−P合金、C
o−P合金、Co−Zn−P合金、Co−Ni−Pt合
金、Co−Pt合金、Co−Ni−Mn−Re−P合金
等が挙げられる。
A specific example of the composition of the magnetic layer is Co--N.
i alloy, Co-Ni-Cr alloy, Co-Cr alloy, Co
-Cr-B alloy, Co-Cr-Mn alloy, Co-Cr-
Mn-B alloy, Co-Cr-Ta alloy, Co-Cr-S
i-Al alloy, Co-V alloy, Co-Ni-P alloy, C
O-P alloy, Co-Zn-P alloy, Co-Ni-Pt alloy, Co-Pt alloy, Co-Ni-Mn-Re-P alloy, etc. are mentioned.

【0120】なお、これら合金には、必要に応じ、O、
N、Si、Al、Mn、Ar等の他の元素が0.1重量
%程度以下含有されていてもよい。
If necessary, these alloys may contain O,
Other elements such as N, Si, Al, Mn, and Ar may be contained in an amount of about 0.1% by weight or less.

【0121】磁性層の膜厚は、300〜1000A が好
ましい。
The thickness of the magnetic layer is preferably 300 to 1000A.

【0122】前記範囲未満では、記録再生時における出
力が不十分であり、前記範囲をこえると記録密度が低下
する。
If it is less than the above range, the output during recording and reproduction is insufficient, and if it exceeds the range, the recording density is lowered.

【0123】基体と磁性層との間、または必要に応じて
形成される下地層と、磁性層との間には、必要に応じ
て、非磁性中間層が設けられる。
A non-magnetic intermediate layer is provided, if necessary, between the substrate and the magnetic layer or between the magnetic layer and the underlayer which is formed as necessary.

【0124】例えば、磁性層をCo−Ni、Co−Ni
−Cr、Co−Cr、Co−Cr−Ta、Co−Ni−
P、Co−Zn−P、Co−Ni−Mn−Re−P等に
て構成する場合、非磁性中間層を設けることにより、磁
性層のエピタキシャル成長を良好に行なうことができ、
磁気特性が向上する。
For example, the magnetic layer may be Co-Ni or Co-Ni.
-Cr, Co-Cr, Co-Cr-Ta, Co-Ni-
In the case of being composed of P, Co-Zn-P, Co-Ni-Mn-Re-P, etc., by providing the non-magnetic intermediate layer, the epitaxial growth of the magnetic layer can be favorably performed.
Magnetic properties are improved.

【0125】非磁性中間層は、例えば、Cr、Moおよ
びWから選ばれる1種以上、特にCrおよび/またはW
を含有する連続磁性薄膜にて構成すればよい。
The non-magnetic intermediate layer is, for example, one or more selected from Cr, Mo and W, especially Cr and / or W.
It may be constituted by a continuous magnetic thin film containing.

【0126】この場合、用いる金属は単体でも合金でも
よいが、合金の場合、前記金属を80重量%以上含有す
ることが好ましい。
In this case, the metal used may be a simple substance or an alloy, but in the case of an alloy, it is preferable to contain the metal in an amount of 80% by weight or more.

【0127】非磁性中間層の膜厚は、500〜5000
A が好ましい。
The thickness of the nonmagnetic intermediate layer is 500 to 5000.
A is preferred.

【0128】前記範囲未満では磁性層のエピタキシャル
成長が不十分であるため、良好な磁気特性が得られな
い。前記範囲をこえるときには、磁性層の磁気特性がほ
ぼ一定に収束してくるため、磁気特性上意味がなく、ま
た、量産上不利である。
If the amount is less than the above range, the epitaxial growth of the magnetic layer is insufficient, and good magnetic characteristics cannot be obtained. When the value exceeds the above range, the magnetic characteristics of the magnetic layer converge to a substantially constant value, which is meaningless in terms of magnetic characteristics and is disadvantageous in mass production.

【0129】このような非磁性中間層や前記磁性層は、
それぞれ、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティン
グ、CVD等の各種気相成膜法にて成膜すればよく、特
にスパッタリングにて成膜することが好ましい。
The non-magnetic intermediate layer and the magnetic layer are
Each film may be formed by various vapor phase film forming methods such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and CVD, and it is particularly preferable to form the film by sputtering.

【0130】基体上に、連続磁性薄膜の磁性層を形成し
た場合も、連続磁性薄膜成膜後に、前述した塗布型の磁
性層を形成した場合と同様に、ディスク体を得、加圧お
よび加熱処理し、ディスク体の表面に所望の連続あるい
は不連続の溝を形成する。そして、この場合も溝の形
状、パターン、寸法、溝配置間隔等の諸条件は、前記と
同様に種々のものであってよい。
When the magnetic layer of the continuous magnetic thin film is formed on the substrate, the disk body is obtained, and the pressing and heating are performed in the same manner as the case of forming the coating type magnetic layer described above after the continuous magnetic thin film is formed. Then, a desired continuous or discontinuous groove is formed on the surface of the disk body. Also in this case, various conditions such as the shape of the groove, the pattern, the dimension, and the groove arrangement interval may be various as described above.

【0131】連続薄膜型の磁性層上には、必要に応じ
て、さらに保護層や有機系液体潤滑膜等を設けてもよ
い。
If necessary, a protective layer, an organic liquid lubricating film, or the like may be further provided on the continuous thin film type magnetic layer.

【0132】保護層は、通常炭素あるいは炭素に他の元
素を5重量%程度以下添加したもので構成され、その膜
厚は、300〜1000A 程度とすればよい。
The protective layer is usually composed of carbon or carbon to which other elements are added in an amount of about 5% by weight or less, and the film thickness thereof may be set to about 300 to 1000 A.

【0133】また、潤滑膜は、通常フッ素系液体潤滑剤
等にて構成され、その膜厚は5〜20A 程度とすればよ
い。
The lubricating film is usually composed of a fluorinated liquid lubricant or the like, and the film thickness may be about 5 to 20A.

【0134】なお、保護層等は、各種気相成膜法、特に
スパッタリングにて成膜すればよい。また、潤滑膜等
は、ディップコーティング、スプレーコーティング、ス
ピンコーティングにて成膜すればよい。
The protective layer and the like may be formed by various vapor phase film forming methods, particularly sputtering. Further, the lubricating film or the like may be formed by dip coating, spray coating, or spin coating.

【0135】なお、基体からディスク体を打ち抜く作業
等は、前記のとおり磁性層形成直後に行なってもよく、
場合によっては、磁性層上に保護層や有機系液体潤滑膜
等を形成した後に行なってもよい。
The work of punching the disk body from the substrate may be performed immediately after the magnetic layer is formed, as described above.
In some cases, it may be performed after forming a protective layer, an organic liquid lubricating film, or the like on the magnetic layer.

【0136】次に、本発明の磁気ディスクを用いる磁気
記録再生方法について説明する。
Next, a magnetic recording / reproducing method using the magnetic disk of the present invention will be described.

【0137】本発明の磁気ディスクと組合わせて用いら
れる磁気ヘッドは、メタル・イン・ギャップ(MIG)
型の磁気ヘッド、薄膜型の磁気ヘッド、さらにはこれら
とMRヘッドとの複合型や、光サーボを目的とする半導
体レーザを搭載した磁気ヘッドなどが好適である。
The magnetic head used in combination with the magnetic disk of the present invention is a metal-in-gap (MIG).
Type magnetic heads, thin film type magnetic heads, composite types of these and MR heads, and magnetic heads equipped with a semiconductor laser for the purpose of optical servo are preferable.

【0138】MIG型磁気ヘッドは、一対のコアの少な
くとも一方のギャップ部対向面に、これらのコアよりも
飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜を有する磁気ヘッドであ
る。MIG型磁気ヘッドでは、軟磁性薄膜から強力な磁
束を磁性層に印加できるため、高い保磁力を有する磁性
層に有効な記録を行なうことができる。また、本発明で
は、MIG型の磁気ヘッドの一種であるいわゆるエンハ
ンスト・デュアル・ギャップ・レングス(EDG)型の
磁気ヘッドを用いてもよい。
The MIG type magnetic head is a magnetic head having a soft magnetic thin film having a saturation magnetic flux density higher than those of the cores on at least one of the pair of cores facing the gap portion. In the MIG type magnetic head, since a strong magnetic flux can be applied to the magnetic layer from the soft magnetic thin film, effective recording can be performed on the magnetic layer having a high coercive force. Further, in the present invention, a so-called enhanced dual gap length (EDG) type magnetic head which is a kind of MIG type magnetic head may be used.

【0139】記録再生時の磁気ディスクの回転数に特に
制限はなく、目的とする転送レート、浮上量、記録密度
等のシステム環境に応じて適宜設定すればよいが、例え
ば1500〜4000rpm 程度である。この場合、本発
明では軽量な樹脂製のディスク基板を使用しているた
め、4000rpm 程度の高速回転駆動が可能であり、高
速転送レートが得られる。
The number of revolutions of the magnetic disk at the time of recording / reproducing is not particularly limited, and may be appropriately set according to the target system environment such as transfer rate, flying height, recording density, etc., but is, for example, about 1500 to 4000 rpm. .. In this case, since a lightweight resin disk substrate is used in the present invention, high-speed rotation drive at about 4000 rpm is possible, and a high transfer rate can be obtained.

【0140】本発明では通常、デジタル信号を記録する
ので、飽和記録を行なう。また、飽和記録を行なうの
で、オーバーライト記録が可能である。
In the present invention, since a digital signal is usually recorded, saturation recording is performed. Further, since saturated recording is performed, overwrite recording is possible.

【0141】[0141]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

【0142】実施例1 押し出しロール加工により、主面の寸法が0.3m ×
0.3m 、厚さが1.27mmの薄板状のポリエーテルイ
ミド(ウルテム)製の基体を製造した。基体のE・t3
/12(Eはヤング率、tは厚さ)は5.1×106dyn
・cm 、熱変形温度は20℃であった。
Example 1 The dimension of the main surface was 0.3 m × by extrusion roll processing.
A thin plate-shaped substrate made of polyetherimide (Ultem) having a thickness of 0.3 m and a thickness of 1.27 mm was manufactured. Substrate E · t 3
/ 12 (E is Young's modulus, t is thickness) is 5.1 × 10 6 dyn
-Cm 2, heat distortion temperature was 20 ℃.

【0143】次に、下記のとおり磁性塗料を調整した。 磁性粉 100重量部 バリウムフェライト 保磁力: 940 Oe 平均粒径: 0.05μm 板状比: 3 アルミナ 3重量部 エポキシ樹脂(エピコート1004、シェル化学社製) 20重量部 熱変形温度:98℃ フェノール樹脂(スミラックPC25、住友ベークライト社製) 20重量部 熱変形温度:170℃ シクロヘキサノン/イソホロン(1/1混合溶剤) 450重量部 上記組成物をボールミル中にて80時間混合、分散させ
た。
Next, the magnetic paint was prepared as follows. Magnetic powder 100 parts by weight Barium ferrite Coercive force: 940 Oe Average particle size: 0.05 μm Plate ratio: 3 Alumina 3 parts by weight Epoxy resin (Epicoat 1004, Shell Chemical Co., Ltd.) 20 parts by weight Heat distortion temperature: 98 ° C. Phenolic resin (Sumirac PC25, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) 20 parts by weight Heat distortion temperature: 170 ° C. Cyclohexanone / isophorone (1/1 mixed solvent) 450 parts by weight The above composition was mixed and dispersed in a ball mill for 80 hours.

【0144】このようにして得られた磁性塗料を、基体
上にダイコーティング法により塗設し、磁性塗膜を形成
した。
The magnetic coating material thus obtained was applied onto a substrate by a die coating method to form a magnetic coating film.

【0145】次いで、互いに異なる極を対向させた磁石
を配した配向装置により基体の厚さ方向に配向処理を行
なった後塗膜を乾燥させた。
Then, the coating film was dried after carrying out an alignment treatment in the thickness direction of the substrate with an aligning device having magnets having mutually different poles opposed to each other.

【0146】次いで図1に示される打ち抜き機構および
図2に示される加圧、加熱機構を有する装置と、トラッ
キング用のグルーブを形成するためのスタンパを用いて
塗膜が形成された基体からディスク体を打ち抜くと同時
に、ディスク体の両主面全体を同時に加圧しながらディ
スク体を加熱し、ディスク体の両主面にトラッキング用
の同心円状のグルーブを形成し、同時に塗膜の硬化を行
なった。
Then, a disc body is formed from a substrate on which a coating film is formed by using an apparatus having a punching mechanism shown in FIG. 1 and a pressure / heating mechanism shown in FIG. 2 and a stamper for forming a groove for tracking. Simultaneously with punching, the disk body was heated while simultaneously applying pressure to both main surfaces of the disk body to form concentric circular grooves for tracking on both main surfaces of the disk body, and at the same time, the coating film was cured.

【0147】得られたディスク体の外径は3.5イン
チ、厚さは1.27mm程度であり、グルーブは、断面ほ
ぼ矩形とし、グルーブの寸法は、幅10μm、深さ1μ
m、ランド部幅20μmとした。
The obtained disk body had an outer diameter of 3.5 inches and a thickness of about 1.27 mm, and the groove had a substantially rectangular cross section. The groove had a width of 10 μm and a depth of 1 μm.
m, and the land portion width was 20 μm.

【0148】また、処理条件は下記のとおりとした。加圧および加熱条件 プレス圧力:100kgf/cm2 加熱温度:220℃ 加圧時間:15分間The processing conditions were as follows. Pressurization and heating conditions Press pressure: 100 kgf / cm 2 Heating temperature: 220 ° C Pressing time: 15 minutes

【0149】打ち抜き条件 油圧シリンダー吐出圧力:90kgf/cm2 上刃下降速度:5mm/秒 Punching conditions Hydraulic cylinder discharge pressure: 90 kgf / cm 2 Upper blade lowering speed: 5 mm / sec

【0150】次いで、冷却水により冷却し、100℃以
下の温度でディスク体を取り出した後に、WA#800
0の研磨テープを用いてテープ研磨装置によりバーニッ
シュを行った。その後、ディスク体を洗浄し、磁性層に
濃度0.1%のフルオロカーボン(KRYTOX 14
3CZ:デュポン社製)のフロン溶液をディップ法によ
り塗布し、含浸させ、両面記録型の磁気ディスクサンプ
ルNo. 1を作製した。磁性層の膜厚は0.40μm であ
った。
Then, after cooling with cooling water and taking out the disk body at a temperature of 100 ° C. or less, WA # 800
Burnishing was performed by a tape polishing device using 0 polishing tape. After that, the disk body is washed, and a fluorocarbon (KRYTOX 14
A CFC solution (3CZ: manufactured by DuPont) was applied by a dip method and impregnated to prepare a double-sided recording type magnetic disk sample No. 1. The thickness of the magnetic layer was 0.40 μm.

【0151】また、比較用の射出成形によりグルーブを
形成したディスク基板を用い、打ち抜き、加圧および加
熱処理を行なわず、220℃、30分間塗膜の熱硬化処
理を行なった以外はサンプルNo. 1と同様のサンプル作
製し、これを比較サンプル No.2とした。
Sample No. 1 was prepared by using a disk substrate having grooves formed by injection molding for comparison, except that the coating film was heat-cured at 220 ° C. for 30 minutes without punching, pressurizing and heating. A sample similar to that of No. 1 was prepared, and this was designated as Comparative sample No. 2.

【0152】実施例2 実施例1のサンプルNo. 1と同一の基体と、放射線硬化
性バインダを使用した下記の磁性塗料とを用いてサンプ
ルNo. 3を作製した。塗料組成は下記の通りである。 磁性粉 100重量部 バリウムフェライト 保磁力: 940 Oe 平均粒径:0.05μm 板状比: 3 アルミナ 3重量部 アクリル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(マレイン酸1%含有: 重量平均分子量50,000) 28重量部(固形分換算) アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマー (重量平均分子量50,000) 12重量部(固形分換算) ペンタエリストールトリアクリレート 4重量部 ステアリン酸 4重量部 ステアリン酸ブチル 10重量部 シクロヘキサノン/イソホロン(1/1混合溶剤) 450重量部 上記組成物をボールミル中にて80時間混合、分散させ
た。
Example 2 Sample No. 3 was prepared using the same substrate as the sample No. 1 of Example 1 and the following magnetic coating material using a radiation curable binder. The coating composition is as follows. Magnetic powder 100 parts by weight Barium ferrite Coercive force: 940 Oe Average particle size: 0.05 μm Plate ratio: 3 Alumina 3 parts by weight Acrylic double bond-introduced vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (containing 1% maleic acid: weight average) Molecular weight 50,000 28 parts by weight (solid content) Acrylic double bond-introduced polyether urethane elastomer (weight average molecular weight 50,000) 12 parts by weight (solid content) Pentaerythritol triacrylate 4 parts by weight Stearic acid 4 parts by weight Parts Butyl stearate 10 parts by weight Cyclohexanone / isophorone (1/1 mixed solvent) 450 parts by weight The above composition was mixed and dispersed in a ball mill for 80 hours.

【0153】このようにして得られた磁性塗料を、基体
上にダイコーティング法により塗設し、磁性塗膜を形成
した。
The magnetic coating material thus obtained was applied onto a substrate by a die coating method to form a magnetic coating film.

【0154】次いで、互いに異なる極を対向させた磁石
を配した配向装置により基体の厚さ方向に配向処理を行
なった後、塗膜を乾燥させた。
Next, after an orientation treatment was performed in the thickness direction of the substrate by an orientation device in which magnets having different poles opposed to each other were arranged, the coating film was dried.

【0155】次いで図1に示される打ち抜き装置を用い
て、塗膜が形成された基板からディスク体を打ち抜い
た。打ち抜きの際の条件は下記のとおりとした。 油圧シリンダー吐出圧力:90kgf/cm2 上刃下降速度:5mm/秒
Then, the punching device shown in FIG. 1 was used to punch the disc body from the substrate on which the coating film was formed. The conditions for punching were as follows. Hydraulic cylinder discharge pressure: 90kgf / cm 2 Upper blade lowering speed: 5mm / sec

【0156】得られたディスク体の外径は3.5イン
チ、厚さは1.27mm程度であった。
The obtained disk body had an outer diameter of 3.5 inches and a thickness of about 1.27 mm.

【0157】その後、遠赤外装置をもちいてディスク体
を表面温度220℃まで予備加熱を行い、直ちに図2に
しめされる加圧用の装置を用いて、ディスク体の両主面
全体を同時に加圧し、ディスク体の両主面にトラッキン
グ用の同心円状のグルーブを形成し、冷却後、ディスク
体を取り出した。
After that, the disk body was preheated to a surface temperature of 220 ° C. by using a far infrared device, and immediately the entire both main surfaces of the disk body were simultaneously heated by using the pressurizing device shown in FIG. By pressing, concentric grooves for tracking were formed on both main surfaces of the disk body, and after cooling, the disk body was taken out.

【0158】グルーブは、断面ほぼ矩形とし、グルーブ
の寸法は、巾10μm、深さ1μm、ランド部幅20μ
mとした。
The groove has a substantially rectangular cross section, and the groove has a width of 10 μm, a depth of 1 μm, and a land width of 20 μm.
m.

【0159】また、処理条件は下記の通りとした。 予備加熱時のディスク体表面温度:220℃ プレス圧力:100kgf/cm2 加圧時間:1分間The processing conditions were as follows. Surface temperature of disk during preheating: 220 ℃ Pressing pressure: 100kgf / cm 2 Pressing time: 1 minute

【0160】次いで、エレクトロカーテンタイプ電子線
加速装置を使用して加速電圧150KeV 、電極電流20
mA、全照射量5Mradの条件で窒素雰囲気下にて電子線を
照射し、塗膜を硬化させた。
Then, using an electron curtain type electron beam accelerator, an accelerating voltage of 150 KeV and an electrode current of 20 were used.
The coating film was cured by irradiating it with an electron beam under a nitrogen atmosphere under the conditions of mA and a total irradiation amount of 5 Mrad.

【0161】その後、ディスク体を洗浄した後に、WA
#8000の研磨テープを用いて、テープ研磨装置によ
りバーニッシュを行った後、磁性層に濃度0.1%のフ
ルオロカーボン(KRYTOX 143CZ:デュポン
社製)のフロン溶液をディップ法により塗布し、含浸さ
せ、両面記録型の磁気ディスクサンプルNo. 3を作製し
た。磁性層の膜厚は0.40μm であった。
Then, after washing the disc body, WA
After burnishing using a # 8000 polishing tape with a tape polishing apparatus, a fluorocarbon (KRYTOX 143CZ: manufactured by DuPont) fluorocarbon solution having a concentration of 0.1% was applied to the magnetic layer by a dip method to impregnate it. A double-sided recording type magnetic disk sample No. 3 was prepared. The thickness of the magnetic layer was 0.40 μm.

【0162】また、比較用に、射出成形によりグルーブ
を形成したディスク基板を用い、打ち抜き、予備加熱お
よび加圧処理を行なわない以外はサンプルNo. 3と同様
のサンプルを作製し、これを比較サンプルNo. 4とし
た。
For comparison, a disk substrate having grooves formed by injection molding was used, and a sample similar to sample No. 3 was prepared except that punching, preheating and pressure treatment were not carried out. It was No. 4.

【0163】実施例3 実施例1のサンプルNo. 1と同一の基体上に膜厚100
0A のA1下地層を成膜した。
Example 3 A film having a thickness of 100 was formed on the same substrate as the sample No. 1 of Example 1.
A 0 A Al underlayer was deposited.

【0164】そして、膜厚500A のCo−Pt−Cr
磁性層を成膜した後、膜厚400AのC保護層を成膜し
た。
Co-Pt-Cr with a film thickness of 500 A
After forming the magnetic layer, a C protective layer having a film thickness of 400 A was formed.

【0165】この場合、下地層、磁性層および保護層の
成膜は、それぞれ、DC−マグネトロンパッタにて行っ
た。また、スパッタ条件は、動作圧力を1Paとし、Ar
雰囲気中とした。
In this case, the underlayer, the magnetic layer and the protective layer were formed by the DC-magnetron patterner. Also, the sputtering conditions are that the operating pressure is 1 Pa and Ar is
In the atmosphere.

【0166】次いで、実施例2と同一の打ち抜き装置を
用いて、サンプルNo. 1と同一の寸法のディスク体を打
ち抜いた。打ち抜きの際の条件は下記のとおりとした。
Then, using the same punching device as in Example 2, a disk body having the same size as that of Sample No. 1 was punched. The conditions for punching were as follows.

【0167】油圧シリンダー吐出圧力:90kgf/cm2 上刃下降速度:5mm/秒Hydraulic cylinder discharge pressure: 90 kgf / cm 2 Upper blade lowering speed: 5 mm / sec

【0168】次いで、実施例2と同一の予備加熱および
加圧用の装置を用いて、グルーブの深さを0.5μmと
した以外はサンプル No.1と同様の工程作業を行いグル
ーブが形成された、両面記録型の磁気ディスクサンプル
No. 5を作製した。予備加熱および加圧処理条件は下記
のとおりとした。
Then, using the same apparatus for preheating and pressurizing as in Example 2, the same process operation as in Sample No. 1 was carried out except that the depth of the groove was 0.5 μm to form a groove. , Double-sided recording type magnetic disk sample
No. 5 was produced. The preheating and pressure treatment conditions were as follows.

【0169】予備加熱時のディスク体表面温度:220
℃ プレス圧力:100Kgf/cm2 加圧時間:1分間
Surface temperature of disk body during preheating: 220
℃ Pressing pressure: 100Kgf / cm 2 Pressing time: 1 minute

【0170】また、比較用に、射出成形によりグルーブ
を形成したディスク基板を用い、打ち抜き、予備加熱お
よび加圧処理を行わない以外はサンプルNo. 5と同様の
サンプルを作製し、これを比較サンプル No.6とした。
For comparison, a disk substrate having grooves formed by injection molding was used, and a sample similar to sample No. 5 was prepared except that punching, preheating and pressure treatment were not carried out. It was No. 6.

【0171】以上の各サンプルに対し、下記の項目の評
価を行った。 (1)面ブレ それぞれのディスクサンプルの軸方向の面ブレ量(TI
R)、面ブレ加速度(ACC)をRVAテスターで測定
した。測定条件は、3600(±36)rpm 、5KHz
(ACC)、1KHz (TIR)である。
The following items were evaluated for each of the above samples. (1) Surface blur The amount of axial surface blur (TI
R) and surface shake acceleration (ACC) were measured with an RVA tester. Measurement conditions are 3600 (± 36) rpm, 5KHz
(ACC), 1 kHz (TIR).

【0172】(2)グルーブ形状 それぞれのディスクサンプルの断面観察・表面観察を透
過型電子顕微鏡(TEM)・走査型電子顕微鏡(SE
M)を用いて行ない、サンプルの基板および磁性層の凹
凸状態を評価した。なお、倍率は、5000〜2000
0倍とした。
(2) Groove shape Cross-section observation / surface observation of each disk sample is performed by a transmission electron microscope (TEM) / scanning electron microscope (SE).
M) was used to evaluate the unevenness of the sample substrate and magnetic layer. The magnification is 5000 to 2000
It was set to 0 times.

【0173】評価基準 ◎…基板上のグルーブの凹凸に従い磁性層が均一に形成
されている。 〇…基板上のグルーブの凹凸に従い磁性層が均一に形成
されているが、若干、磁性層にクラックが見られる。 ×…基板上のグルーブの凹凸と、磁性層表面の凹凸とが
一致していなく、ディスク表面に、基板上の凹凸が完全
には再現されていない。
Evaluation Criteria A: The magnetic layer is uniformly formed according to the unevenness of the groove on the substrate. O: The magnetic layer is formed uniformly according to the groove and groove on the substrate, but some cracks are observed in the magnetic layer. X: The unevenness of the groove on the substrate does not match the unevenness of the surface of the magnetic layer, and the unevenness on the substrate is not completely reproduced on the disk surface.

【0174】(3) 表面粗さ(Ra) それぞれのディスクサンプルの表面粗さ(Ra)を触針
式段差計(タリーステップ)を用いて、JIS B 0
601に準じて求めた。
(3) Surface Roughness (Ra) The surface roughness (Ra) of each disk sample was measured according to JIS B 0 using a stylus profilometer (tally step).
It was determined according to 601.

【0175】また、それぞれのサンプルに対して、浮上
型磁気ヘッドを塔載した磁気ディスク装置を用いて記録
・再生を行なった。磁気ヘッドにはギャップ長0.6μ
mのモノリシックタイプのMIGヘッドを用い、記録・
再生時のヘッド浮上量は0.25μmとした。
Recording / reproduction was performed on each sample using a magnetic disk device having a flying magnetic head mounted thereon. Gap length 0.6μ for magnetic head
m monolithic type MIG head
The flying height of the head during reproduction was 0.25 μm.

【0176】(4)モジュレーション(MOD) ディスク最内周に3.3MHz の単一波長の信号を記録
し、その1周分の出力波形エンベロープより、出力のP
−P(ピーク ツー ピーク)値の最大値をA、最小値
をBとし、下記式からモジュレーション(MOD)を算
出した。 MOD=(A−B)/(A+B)×100(%)
(4) Modulation (MOD) A signal of a single wavelength of 3.3 MHz is recorded on the innermost circumference of the disc, and the output waveform envelope for one round is used to output P
The maximum value of the -P (peak to peak) value was A and the minimum value was B, and the modulation (MOD) was calculated from the following formula. MOD = (A−B) / (A + B) × 100 (%)

【0177】(5)S/N比 S/N比の測定は、ディスクの最内周で下記のとおり行
なった。記録周波数3.3MHz で書き込んだ後、再生出
力(Vrms)を10MHz の帯域の交流電圧計にて測定した。
次に、このトラックで直流消去を3回行なった後、交流
電圧計で再生出力(VDCrms)を測定した。また、ヘッドを
オンロードし、システムノイズ(Vnoise)を測定した。そ
してS/N比を下記式から求めた。 S/N比=Vrms/(VDCrms2−Vnoise2)1/2 これらの結果は表1に示されるとおりである。
(5) S / N ratio The S / N ratio was measured at the innermost circumference of the disc as follows. After writing at a recording frequency of 3.3 MHz, the reproduction output (Vrms) was measured with an AC voltmeter in the band of 10 MHz.
Next, after performing DC erasing three times on this track, the reproduction output (V DC rms) was measured with an AC voltmeter. The head was on-loaded and the system noise (Vnoise) was measured. Then, the S / N ratio was calculated from the following formula. S / N ratio = Vrms / (V DC rms 2 −Vnoise 2 ) 1/2 These results are as shown in Table 1.

【0178】[0178]

【表1】 [Table 1]

【0179】表1に示される結果から本発明の効果が明
らかである。
From the results shown in Table 1, the effect of the present invention is clear.

【0180】なお、本発明のサンプルNo. 1およびNo.
3は比較サンプルNo. 2およびNo.4と比較し、磁性層
の空孔率が低く、残留磁束密度が高かった。
The samples No. 1 and No. 1 of the present invention were used.
Sample No. 3 had a lower porosity of the magnetic layer and higher residual magnetic flux density than those of Comparative Samples No. 2 and No. 4.

【0181】また、α−Fe微粒子を用い塗布型磁気デ
ィスクサンプルを作製し、同様の評価を行なったところ
同等の結果が得られ、さらに、グルーブの形状、パター
ンや寸法、または、打ち抜き条件、または、加圧時のプ
レス圧力や加熱温度や加圧時間等の条件、または、磁性
微粒子やバインダ、磁性層の組成等をかえて、あるいは
レーザカッティングによりディスク体を得て種々の塗布
型磁気ディスクサンプルや薄膜型磁気ディスクサンプル
を作製し、同様の評価を行なったところ、同等の結果が
得られた。
Further, a coating type magnetic disk sample was prepared by using α-Fe fine particles, and the same evaluation was carried out, and the same result was obtained. Furthermore, the shape of the groove, the pattern and the dimension, the punching condition, or the Various coating-type magnetic disk samples obtained by changing the conditions such as the press pressure at the time of pressurization, the heating temperature and the pressurizing time, the composition of the magnetic fine particles, the binder, and the magnetic layer, or by obtaining the disk body by laser cutting. When a thin film magnetic disk sample was manufactured and evaluated in the same manner, the same result was obtained.

【0182】実施例4 実施例1において、連続グルーブパターンを不連続ピッ
トパターンとした。ピットのグルーブ幅は0.8μm 、
ランド幅は0.8μm 、断面はほぼ矩形で1600A 深
さ、ピット長および間隔は、それぞれ40MHz とした。
また、これとは別にピットを約1.5×3.0μm 、深
さ1600A とし、間隙40MHz で設けた。これらの結
果、いずれも実施例1と同等の結果が得られた。
Example 4 In Example 1, the continuous groove pattern was a discontinuous pit pattern. The groove width of the pit is 0.8 μm,
The land width was 0.8 μm, the cross section was almost rectangular, the depth was 1600 A, and the pit length and spacing were each 40 MHz.
Separately from this, the pits were set to about 1.5 × 3.0 μm, the depth was 1600 A, and the gap was 40 MHz. As a result, the same results as in Example 1 were obtained.

【0183】[0183]

【発明の効果】本発明の磁気ディスクの製造方法では、
基体上に磁性層を形成した後、この基体から複数のディ
スク体を得るため、量産上非常に有利である。
According to the method of manufacturing a magnetic disk of the present invention,
After forming the magnetic layer on the substrate, a plurality of disk bodies are obtained from this substrate, which is very advantageous in mass production.

【0184】また、本発明の塗布型の磁気ディスクの製
造方法によれば、ディスク基板上に、均一な表面粗さお
よび均一な膜厚を有し、空孔率が小さい磁性層を形成で
き、しかもディスク表面に高精度のトラッキング用等連
続あるいは不連続のグルーブを形成できる。
Further, according to the method of manufacturing the coating type magnetic disk of the present invention, a magnetic layer having a uniform surface roughness and a uniform film thickness and a small porosity can be formed on the disk substrate, Moreover, it is possible to form continuous or discontinuous grooves for highly accurate tracking on the disk surface.

【0185】そして、例えば、ローラ等を用いて加圧す
るのとは異なり、ディスク体全体を同時に加圧するた
め、磁気ディスクに、ゆがみやうねりが生じることがな
く、しかも打ち抜き等によりディスク体にうねりが生じ
ていても、これを矯正できる。さらには、ディスク基板
は、十分な剛性を有する。
Unlike the case where pressure is applied by using a roller or the like, since the whole disk body is pressed at the same time, the magnetic disk is not distorted or undulated, and the disk body is not undulated by punching or the like. If it occurs, it can be corrected. Furthermore, the disc substrate has sufficient rigidity.

【0186】このため、トラッキングエラーやヘッドク
ラッシュ等がなく、しかも、再生出力のモジュレーショ
ンが低減し、S/N比が向上し、良好な記録・再生を行
なうことができる。
Therefore, there is no tracking error or head crash, and the modulation of the reproduction output is reduced, the S / N ratio is improved, and good recording / reproducing can be performed.

【0187】また、高精度のトラッキング用等のグルー
ブ等の凹凸パターンを容易に形成できるためS/N比が
向上する。
Further, since the concavo-convex pattern such as a groove for highly accurate tracking can be easily formed, the S / N ratio is improved.

【0188】また、本発明の連続薄膜型の磁気ディスク
の製造方法では、所定の加圧手段・加熱手段を用いて、
スパッタリング時の熱や磁性層の収縮等によるディスク
体の変形の矯正と、凹凸パターン形成をほぼ同時に行な
う。
Further, in the method for manufacturing a continuous thin film type magnetic disk of the present invention, a predetermined pressing means and heating means are used,
The deformation of the disk body due to heat at the time of sputtering, the contraction of the magnetic layer, etc. is corrected and the concavo-convex pattern is formed almost at the same time.

【0189】このため、良好な形状の凹凸パターンを有
し、しかもゆがみや歪等のない機械的精度ないし寸法精
度の高い磁気ディスクが実現し、再生出力のモジュレー
ションが低減し、S/Nが向上し、良好な記録・再生を
行なうことができる。
Therefore, a magnetic disk having an uneven pattern of a good shape and having high mechanical accuracy and dimensional accuracy without distortion or distortion is realized, the modulation of reproduction output is reduced, and the S / N is improved. Therefore, good recording / reproducing can be performed.

【0190】また、本発明の磁気ディスクは、樹脂製の
剛性のディスク基板を有するため、高速回転駆動が可能
である。
Since the magnetic disk of the present invention has a rigid disk substrate made of resin, it can be driven at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気ディスクの製造方法を説明するた
めの断面図である。
FIG. 1 is a sectional view for explaining a method for manufacturing a magnetic disk of the present invention.

【図2】本発明の磁気ディスクの製造方法を説明するた
めの断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the method of manufacturing a magnetic disk of the present invention.

【図3】本発明の塗布型の磁気ディスクの1例が示され
る断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of a coating type magnetic disk of the present invention.

【符号の説明】 1、2 加圧手段 11、21 プレス板 13、23 スタンパ 3 取り付け台 41 基体 5 磁気ディスク 50 ディスク体 51 ディスク基板 53 塗膜 55 磁性層 57 溝 59 ランド部 6 スプリング 7 上刃 71、81 凹部 73、75 凸部 8 下刃 91 上部パンチングプレート 93 下部パンチングプレート 95 上刃用パンチングプレート[Explanation of Codes] 1, 2 Pressurizing means 11, 21 Press plate 13, 23 Stamper 3 Mounting base 41 Base 5 Magnetic disk 50 Disk body 51 Disk substrate 53 Coating film 55 Magnetic layer 57 Groove 59 Land portion 6 Spring 7 Upper blade 71, 81 concave portion 73, 75 convex portion 8 lower blade 91 upper punching plate 93 lower punching plate 95 upper blade punching plate

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂製の剛性の基体上に磁性層を形成
し、前記磁性層が形成された基体からディスク体を得、 前記ディスク体を、加熱した後、および/または、前記
ディスク体を加熱しながら、表面に凸部を有する一対の
加圧手段を用いて、前記ディスク体の両主面のほぼ全体
を同時にディスク厚さ方向に加圧し、前記ディスク体表
面のディスク周方向に連続または不連続の溝を形成する
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
1. A magnetic layer is formed on a rigid base made of resin, and a disc body is obtained from the base body on which the magnetic layer is formed. The disc body is heated and / or the disc body is formed. While heating, a pair of pressurizing means having a convex portion on the surface is used to press almost the entire main surfaces of the disc body in the disc thickness direction at the same time to continuously or continuously press the disc body surface in the disc circumferential direction. A method for manufacturing a magnetic disk, which comprises forming discontinuous grooves.
【請求項2】 樹脂製の剛性の基体上に磁性層を形成
し、前記磁性層が形成された基体からディスク体を得る
のとほぼ同時に、前記ディスク体を加熱しながら、表面
に凸部を有する一対の加圧手段を用いて、前記ディスク
体の両主面のほぼ全体を同時にディスク厚さ方向に加圧
し、前記ディスク体表面のディスク周方向に、連続また
は不連続の溝を形成することを特徴とする磁気ディスク
の製造方法。
2. A magnetic layer is formed on a rigid base made of resin, and at the same time as a disk body is obtained from the base body on which the magnetic layer is formed, a convex portion is formed on the surface while heating the disk body. Using a pair of pressurizing means, the two main surfaces of the disc body are simultaneously pressed in the disc thickness direction to form continuous or discontinuous grooves in the disc circumferential direction on the surface of the disc body. And a method for manufacturing a magnetic disk.
【請求項3】 前記加熱時の加熱温度が40〜300℃
であり、前記加圧時のプレス圧力が1〜500kgf/cm2
である請求項1または2に記載の磁気ディスクの製造方
法。
3. The heating temperature during the heating is 40 to 300 ° C.
And the pressing pressure at the time of pressurization is 1 to 500 kgf / cm 2
The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein
【請求項4】 前記溝を、磁気ディスクの表面に、連続
または不連続の同心円状またはスパイラル状に形成する
請求項1ないし3のいずれかに記載の磁気ディスクの製
造方法。
4. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein the groove is formed in a continuous or discontinuous concentric circle shape or a spiral shape on the surface of the magnetic disk.
【請求項5】 前記溝の幅が20μm以下、前記溝の深
さが3μm以下、溝間間隙のランド部の幅が100μm
以下である請求項1ないし4のいずれかに記載の磁気デ
ィスクの製造方法。
5. The width of the groove is 20 μm or less, the depth of the groove is 3 μm or less, and the width of the land portion of the inter-groove gap is 100 μm.
The method for manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein:
【請求項6】 請求項1ないし5のいずれかに記載の方
法にて製造され、樹脂製の剛性のディスク基板上に、磁
性微粒子を含有する塗布型の磁性層を有することを特徴
とする磁気ディスク。
6. A magnetic field produced by the method according to any one of claims 1 to 5, comprising a coating type magnetic layer containing magnetic fine particles on a rigid disc substrate made of resin. disk.
【請求項7】 前記磁性微粒子が強磁性金属微粒子また
は六方晶系酸化物微粒子である請求項6に記載の磁気デ
ィスク。
7. The magnetic disk according to claim 6, wherein the magnetic fine particles are ferromagnetic metal fine particles or hexagonal oxide fine particles.
JP36032091A 1991-03-29 1991-12-28 Production of magnetic disk and magnetic disk Pending JPH05334667A (en)

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JP9105891 1991-03-29
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4228237A1 (en) * 1992-05-25 1993-12-02 Ntn Toyo Bearing Co Ltd Method of manufacturing a bearing ring
US7227717B1 (en) * 2001-06-18 2007-06-05 Seagate Technology Llc Asymmetric disk surface properties in one head disk drives

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