JPH0619970B2 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents

走査電子顕微鏡

Info

Publication number
JPH0619970B2
JPH0619970B2 JP3692186A JP3692186A JPH0619970B2 JP H0619970 B2 JPH0619970 B2 JP H0619970B2 JP 3692186 A JP3692186 A JP 3692186A JP 3692186 A JP3692186 A JP 3692186A JP H0619970 B2 JPH0619970 B2 JP H0619970B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
scanning
electron beam
mark
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP3692186A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62195840A (ja
Inventor
伸昭 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Priority to JP3692186A priority Critical patent/JPH0619970B2/ja
Publication of JPS62195840A publication Critical patent/JPS62195840A/ja
Publication of JPH0619970B2 publication Critical patent/JPH0619970B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は走査電子顕微鏡に関し、観察対象視野における
実際の観察位置を表示することのできる走査電子顕微鏡
に関する。
[従来の技術] 走査電子顕微鏡は、第5図に示すような試料装置を有し
ている。即ち、試料室の側壁1に傾斜機構2が取り付け
られており、その傾斜軸Uは固定されている。傾斜機構
の上部にはX,Y移動機構3が、又、その上部には回転
機構4が載置されており、観察試料5は回転機構4にホ
ルダーを介して取り付けられている。このような試料装
置を用いてICウエハー等の観察が行なわれるようにな
ったが、試料室内には検出器等のアタッチメントが種々
配置されているため、前記傾斜機構による傾斜は片側に
のみ可能になっている。このような装置において、い
ま、第6図に示すようにICウエハーWが回転機構上に
セットされていて、電子線6を走査してウエハーWの露
光パターンのA部を観察した後、矢印Hの向きから電子
線6を照射してB部を観察しようとする際には、ウエハ
ーWをまず、傾斜させてA部を観察し、しかる後、18
0゜前後ウエハーWを回転させた後、X,Y移動を行な
って光軸cの直下にB部を移動させる必要がある。
[発明が解決しようとする問題点] このようにX,Y移動に回転と傾斜が加わると、観察し
ようとする位置の視野捜しが、極めて難しくなり、簡単
に目的とする位置を観察することができない。
本発明はこのような従来の欠点を解決し、試料がX,Y
移動のみならず、回転及び傾斜した場合にも、電子線走
査により観察中の位置が全視野のどの部分であるかを表
示できるようにし、それにより視野捜し作業を簡単化し
得る走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] そのため、本発明の走査電子顕微鏡は、試料を傾斜させ
るための試料傾斜機構と、試料移動機構と、試料回転機
構と、試料上において電子線を二次元的に走査する手段
と、該電子線の走査に伴う検出信号に基づいて前記試料
の走査像を表示するための第1を表示手段と、観察可能
な試料の領域をグラフィック表示するための第2の表示
手段と、前記試料の傾斜角θt,移動量lx,ly及び
回転角θrを表わす信号に基づいて電子走査による観察
位置を前記第2の表示手段に表示されたグラフ中にマー
ク表示するための手段を備えている。
[実施例] 以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述する。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図であり、第
5図と同一の構成要素に対しては同一番号が付されてい
る。図中7は電子銃であり、8は電子線6を集束するた
めの集束レンズ、9x,9yは偏向コイルである。偏向
コイル9x,9yには走査信号発生回路10より鋸歯状
の走査信号が供給されている。11x,11yは増幅器
である。走査信号発生回路10よりの走査信号は像表示
用陰極線管12の偏向器Dにも供給されており、陰極線
管12は前記電子線6と同期走査される。電子線6の照
射によって試料より発生する二次電子を検出するため二
次電子検出器13が配置されている。検出器13よりの
出力信号は増幅器14を介して像表示用陰極線管12に
照度信号として供給されている。16T,16Rは各々
前記傾斜機構2及び回転機構4を駆動するためのパルス
モータであり、16X,16YはX,Y移動機構を駆動
するためのパルスモータである。これらモータ16T,
16R,16X,16Yは各々モータ駆動回路17T,
17R,17X,17Yより発生する駆動パルスの供給
により回転する。これら各駆動回路における駆動パルス
の発生は演算制御装置18よりの制御信号により制御さ
れている。この制御装置18は主演算部18cの他、各
型のウエハーのパターンをグラフィックディスプレイす
るためのパターンデータ等を記憶する記憶部18mを有
している。更に、演算制御装置18はX,Y移動機構3
によるX,Y移動量|x,|yを表わす信号に基づいて
X,Y移動した後の観察位置座標を求める平行移動演算
部18a,試料傾斜後の座標を求める傾斜演算部18
t,試料回転後の座標を演算する回転演算部18r及び
補正演算部18bを有している。更に又、第2(a)図
に示すように紙面に垂直な方向に前記傾斜軸Uがあるも
のとし、試料の厚みが標準的なものからずれているもの
とすると、試料をセットした状態では試料表面の位置J
が試料傾斜のユーセントリック位置(面)Sからある距
離zだけずれることになるが、前記記憶部18mには、
ウエハーの型を後述する操作卓により入力した場合に、
その型の情報に基づいてこのずれ量zの値を読み出し得
るように、ウエハーの型とずれ量zとの関係がテーブル
として記憶されている。演算制御部18よりの制御信号
はグラフィックディスプレイ信号発生回路19を介して
グラフィックディスプレイ用陰極線管15に送られてい
る。20は操作卓であり、操作卓20には第3図に示す
ように、試料の傾斜角を変えるための摘子20t,試料
のX及びY方向への移動を指示するためのボタン20
a,20b,20c,20d及び試料の回転を指示する
ための摘子20rが備えられている。更に又、試料とし
て選択したウエハーの型を操作卓20により入力できる
ようになっている。
このような構成において、ウエハーWを試料として選
び、第6図に示すようにウエハーWを傾斜させて試料の
部分Aを観察した後、試料の部分Bを観察する場合を例
にとり上述した装置の動作を説明する。
まず、操作者はウエハーWを図示していない試料ホルダ
ーに装着することによりセットする。そこで、入力装置
20により装着したウエハーの型を入力する。この入力
により主演算制御部18cは、このウエハーの型の情報
に基づいて前記記憶部18mよりこの型のウエハーに対
応したグラフィックディスプレイパターン情報を読み出
し、グラフィックディスプレイ信号発生回路19に送
る。その結果、回路19よりの信号に基づいて第4図
(a)に示すようなグラフィック表示が陰極線管15に
表示される。すなわち、観察可能な試料の領域を示すグ
ラフとしてウエハパターンPが陰極線管15に表示され
る。このパターンPの表示位置は画面に対して固定され
ている。更に又、主演算制御部18cは観察領域を表わ
す矩形パターンをグラフィックディスプレイするための
情報を回路19に送るため、陰極線管15にはウエハー
パターンPに重畳して矩形マークM表示される。更に
又、電子線による走査開始側を表わすため、矩形パター
ンMの一部は高輝度輝線Maで表示されている。このマ
ークMの位置は試料装置を全く駆動しない状態において
は、第4図(a)のようにウエハーパターンの中央であ
る。そこで、走査卓20の摘子20tを用いて第6図に
示すように試料を角度θt傾斜させると、第2図(a)
に示すように、ウエハーWの表面Jが試料傾斜のユーセ
ントリックな面Sからzだけずれている場合には、光軸
直下に配置される位置はztanθtだけ−x方向に移動
するため、クラフィックディスプレイ用陰極線管15に
表示される矩形マークは第4図(b)のMで示す位置に
表示される。そこで、次に押しボタン20a,20b,
20c,20dを操作してX,Y移動機構3を駆動さ
せ、X,Y方向に各々|x,|y(|y=0)試料を移
動させると、移動演算部18aにより演算された信号に
基づいて矩形マークMの中心座標は以下の座標(x1,
y1)に移動する。
その結果、陰極線管15に表示される矩形マークMは第
4図(c)に示すように、前記第6図のA部に対応した
位置に移動する。そこで、光軸直下に配置されたウエハ
ーWのA部上を電子線6により走査し、A部の像を像表
示用陰極線管12に表示して観察する。尚、陰極線管1
5の画面には実際には表示されないが、第4図(a)に
示すようにウエハーWに固定した座標系0−x,yが設
定され、各マークの表示位置を規定している。次に第6
図におけるB部の像を観察するため、操作卓20の摘子
20rを回転させれば、中央演算処理装置18よりモー
タ駆動回路17Rに制御信号が送られ、その結果モータ
16Rが回転して試料5角度θrだけ回転する。このと
き、中央演算処理装置18は、操作卓20より指示され
た角度θrを表わす信号に基づいて中央演算処理装置1
8の回転演算部18rにおいて以下の(2)式の演算を
行ない、試料傾斜軸からのウエハー表面のずれ量zを0
と仮定した場合の回転後の観察領域中心を表わす座標
(x2,y2)を求める。
更に、主演算制御部18cはウエハーWの型を表わす情
報に基づいて記憶部18mに記憶されているこのウエハ
ーに対応したずれ量zを表わすデータを読み出して補正
演算部18bに送る。補正演算部18bはこのデータz
に基づいて以下の第(3)式の演算を行ない、ずれzが
存在している場合の観察領域中心を表わすマーク中心位
置座標(x3,y3)を算出する。
尚、第(3)式における補正項(第2項)は、傾斜によ
って−ztanθtだけx方向に移動した観察領域中心
が、第2図(b)から明らかなように、ウエハーWの回
転に伴うx,y座標の回転によりztanθtcosθrなる
x成分とztanθtsinθrなるy成分に分配されること
を表わしている。このようにして求められた矩形中心座
標値に基づいて中央演算処理装置18は観察領域を表わ
す矩形を移動させる。その結果、観察領域位置を表わす
矩形マークMは、グラフィックディスプレイ用陰極線管
の表示画面上を第4図(c)の矢印Nに示すように回転
して行く。そこで、更に操作卓20の摘子20rを回転
させれば、矩形マークMは第4図(c)のM′で示す位
置に移動するので、この段階で摘子20rの操作を停止
させる。そして、更にボタン20a,20b,20c,
20dを走査してウエハーWをX,Y移動させればマー
クMは第4図(d)に示す位置に移動する。そこで、電
子線6を試料上において走査し試料像を陰極線管12に
表示すれば、ウエハーWのBの部分に矢印Hの向きから
電子線6を照射して得られる像を観察することができ
る。
このようにして、試料がX,Y移動のみならず、回転及
び傾斜した場合にも、電子線走査により観察中の位置が
全視野のどの部分であるかを表示できるため、簡単に視
野設定して目的とする試料の部位を観察することができ
る。
尚、上述した実施例において、マーク中心の座標の算出
については説明したが、矩形マークMを構成する各点の
座標の算出は、この点が中心座標(x1,y1)からx
及びy方向に各々α及びβだけずれている場合、中心座
標(x1,y1)の代りにx1+α,y1+βを代入す
ることにより求めることができる。このようにして矩形
マークMを構成する各点が算出されて表示されるため、
走査開始側を表わす輝線MaもウエハーWの回転にかか
わらず常に正しく表示することができ、そのため、像表
示用陰極線管に表示された像が試料のどの位置の像であ
るかのみならず、どちら側から走査開始して得られた像
であるかを把握することができる。
尚、上述した実施例においては、矩形マークを輝線で表
示するようにしたが、グラフィックディスプレイをカラ
ー表示で行なう際には、矩形部分を他の部分とは異った
色で表示するようにしても良い。又、その場合、走査開
始側を表わすため、矩形部分の一部を矩形の他の部分と
異なった色で表示するようにしても良い。
又、上述した実施例においては、前記ずれ量zをウエハ
ーの型を表わす情報に基づいて読み出すようにしたが、
直接キー入力するようにしても良い。
又、簡単のため、第4図においては、観察領域を示すマ
ークを常に矩形で図示するようにした。しかしながら、
試料の傾斜等に伴ってこの領域は実際には矩形以外の平
行四辺形に変形するため、このマークの形状を観察する
ことにより、実際の観察領域の位置のみならず、観察領
域の形状をも知ることができる。
更に又、試料の光軸方向の位置を変化させると、試料に
フォーカスを合わせ直すため対物レンズの励磁量を変え
るのが常であるが、この励磁量の変更に伴って、像回転
量も変化する。そこで、対物レンズの励磁量と像回転量
との関係を予め調べて記憶装置にテーブルとして記憶さ
せておき、対物レンズの実際の励磁電流値を表わす信号
に基づいて前記テーブルから像回転量を表わすデータを
読み出し、この読み出されたデータに基づいて対物レン
ズによる像回転量を試料回転機構による像回転量に加算
することにより、正確な位置にマークMを表示するよう
にしても良い。
[発明の効果] 上述した説明から明らかなように、本発明に基づく装置
によれば、X,Y移動のみならず、試料を傾斜及び回転
させた場合にも、試料の観察位置を表示できるため、簡
単に視野設定を行なうことができる。
又、上述した実施例の装置によれば、試料表面が試料傾
斜のユーセントリックな面からずれている場合にも、試
料の観察位置を正しく表示することができる。
更に又、上述した実施例の装置によれば、全観察視野内
における観察位置を表示するのみならず、電子線の走査
開始側を表示するようにしているため、表示された像が
どちら側から走査を開始した像であるかを把握すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すための図、第2図は試
料表面が試料傾斜のユーセントリックな面からずれてい
る場合の観察位置の補正について説明するための図、第
3図は操作卓を説明するための図、第4図はグラフィッ
クディスプレイ用陰極線管における観察位置の表示例を
説明するための図、第5図はX,Y移動機構,回転機構
及び傾斜機構を備えた試料装置を説明するための図、第
6図は試料の回転と傾斜を行なって試料を観察する際の
観察部位の一例を説明するための図である。 1:試料室側壁、2:試料傾斜機構 3:X,Y移動機構、4:試料回転機構 5:試料、6:電子線 7:電子銃、8:集束レンズ 9x,9y:偏向コイル 10:走査信号発生回路 12:像表示用陰極線管 13:二次電子検出器 15:グラフィックディスプレイ用陰極線管 16X,16Y,16R,16T:パルスモータ 17X,17Y,17R,17T:駆動回路 18:演算制御装置 19:グラフィックディスプレイ信号発生回路 20:操作卓、W:ウエハー P:ウエハーパターン M:マーク、Ma:高輝度輝線

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】試料を傾斜させるための試料傾斜機構と、
    試料移動機構と、試料回転機構と、試料上において電子
    線を二次元的に走査する手段と、該電子線の走査に伴う
    検出信号に基づいて前記試料の走査像を表示するための
    第1を表示手段と、観察可能な試料の領域をグラフィッ
    ク表示するための第2の表示手段と、前記試料の傾斜角
    度θt,移動量lx,ly及び回転角θrを表わす信号
    に基づいて電子線走査による観察位置を前記第2の表示
    手段に表示されたグラフ中にマーク表示するための手段
    を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
  2. 【請求項2】前記試料傾斜機構はユーセントリック軸の
    回りに試料を傾斜させる傾斜機構であり、該ユーセント
    リック軸からの前記試料表面のずれ量zを表わす情報を
    入力する手段を備え、前記マーク表示手段は該ずれ量z
    を表わす信号に基づいて前記ずれに基づく表示位置のず
    れを補正して観察位置をマーク表示する前記特許請求の
    範囲第(1)項記載の走査電子顕微鏡。
  3. 【請求項3】前記マークは観察位置における電子線の走
    査開始側を表わす情報を表示する部分を備えた前記特許
    請求の範囲第(1)項記載の走査電子顕微鏡。
JP3692186A 1986-02-21 1986-02-21 走査電子顕微鏡 Expired - Lifetime JPH0619970B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3692186A JPH0619970B2 (ja) 1986-02-21 1986-02-21 走査電子顕微鏡

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3692186A JPH0619970B2 (ja) 1986-02-21 1986-02-21 走査電子顕微鏡

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62195840A JPS62195840A (ja) 1987-08-28
JPH0619970B2 true JPH0619970B2 (ja) 1994-03-16

Family

ID=12483222

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3692186A Expired - Lifetime JPH0619970B2 (ja) 1986-02-21 1986-02-21 走査電子顕微鏡

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0619970B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2611260B2 (ja) * 1987-09-26 1997-05-21 株式会社ニコン 試料像表示装置
JPH11265674A (ja) * 1998-03-18 1999-09-28 Hitachi Ltd 荷電粒子線照射装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62195840A (ja) 1987-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2760786B2 (ja) 走査電子顕微鏡およびその試料台移動方法
JP4474337B2 (ja) 試料作製・観察方法及び荷電粒子ビーム装置
JP6659290B2 (ja) 試料位置合わせ方法および荷電粒子ビーム装置
US5646403A (en) Scanning electron microscope
EP1071112B1 (en) Scanning charged-particle beam instrument
JP3293739B2 (ja) 走査電子顕微鏡
EP1061551B1 (en) Scanning charged-particle beam instrument and method of observing specimen image therewith
JPH10172490A (ja) 走査電子顕微鏡
JPH0619970B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPH04106853A (ja) 走査電子顕微鏡
US6727911B1 (en) Method and apparatus for observing specimen image on scanning charged-particle beam instrument
JPH1083782A (ja) 走査電子顕微鏡
JPH057817B2 (ja)
JPH10269980A (ja) 試料像表示装置
JPH09147778A (ja) 荷電粒子線装置
JPS6039749A (ja) 走査電子顕微鏡
JPH11160054A (ja) パターン測長方法
JP2001015058A (ja) 走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法及び装置
JPH08180826A (ja) 走査型電子顕微鏡
JPS5840299B2 (ja) 電子線走査型電子線装置の試料位置決め装置
JPS59148255A (ja) 走査電子顕微鏡
JPH08180825A (ja) 走査型電子顕微鏡
JP2000133191A (ja) 走査形電子顕微鏡
JP2011129458A (ja) 走査型電子顕微鏡及び走査型電子顕微鏡の撮像方法
JPH05144399A (ja) 走査電子顕微鏡