JPH06199536A - 光ファイバの線引炉 - Google Patents
光ファイバの線引炉Info
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- JPH06199536A JPH06199536A JP18893A JP18893A JPH06199536A JP H06199536 A JPH06199536 A JP H06199536A JP 18893 A JP18893 A JP 18893A JP 18893 A JP18893 A JP 18893A JP H06199536 A JPH06199536 A JP H06199536A
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- chamber
- fiber preform
- furnace
- storage chamber
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01202—Means for storing or carrying optical fibre preforms, e.g. containers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/029—Furnaces therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/62—Heating means for drawing
- C03B2205/63—Ohmic resistance heaters, e.g. carbon or graphite resistance heaters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/62—Heating means for drawing
- C03B2205/69—Auxiliary thermal treatment immediately prior to drawing, e.g. pre-heaters, laser-assisted resistance heaters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/80—Means for sealing the preform entry or upper end of the furnace
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 装置の省スペース化及び光ファイバ母材の交
換作業の短縮化、光ファイバの高品質化を図った光ファ
イバの線引炉を提供する。 【構成】 内部にヒーター１６が設けられて連続的に流
入される窒素ガスで満たされる線引室Ａを有し、その線
引室Ａの入口部１３から挿入される光ファイバ母材４１
を加熱溶融して出口部１４から光ファイバ４３を線引き
する光ファイバの線引炉１１において、線引室Ａに連通
する光ファイバ母材収納室Ｂを着脱自在に設けると共に
線引室Ａと収納室Ｂとの間にシャッター１７を設け、収
納室Ｂには窒素ガスを供給する窒素ガス供給系１９を接
続する一方、線引室Ａには炭素及び酸素の濃度変化を検
出する濃度計１９，２０を接続し、また、収納室Ｂには
加熱された光ファイバ母材４１を窒素ガス供給系１９に
よって強制冷却可能とする。
換作業の短縮化、光ファイバの高品質化を図った光ファ
イバの線引炉を提供する。 【構成】 内部にヒーター１６が設けられて連続的に流
入される窒素ガスで満たされる線引室Ａを有し、その線
引室Ａの入口部１３から挿入される光ファイバ母材４１
を加熱溶融して出口部１４から光ファイバ４３を線引き
する光ファイバの線引炉１１において、線引室Ａに連通
する光ファイバ母材収納室Ｂを着脱自在に設けると共に
線引室Ａと収納室Ｂとの間にシャッター１７を設け、収
納室Ｂには窒素ガスを供給する窒素ガス供給系１９を接
続する一方、線引室Ａには炭素及び酸素の濃度変化を検
出する濃度計１９，２０を接続し、また、収納室Ｂには
加熱された光ファイバ母材４１を窒素ガス供給系１９に
よって強制冷却可能とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は大型の光ファイバ母材か
ら線径変動の少ない光ファイバを得ることができる光フ
ァイバ線引炉に関する。
ら線径変動の少ない光ファイバを得ることができる光フ
ァイバ線引炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より光ファイバ母材（以下、単に母
材とも称す）を加熱溶融し、線引きして光ファイバを得
るために光ファイバ線引炉が用いられる。図９に従来の
光ファイバの線引炉を表す概略を示す。
材とも称す）を加熱溶融し、線引きして光ファイバを得
るために光ファイバ線引炉が用いられる。図９に従来の
光ファイバの線引炉を表す概略を示す。
【０００３】図９に示すように、線引炉１０１におい
て、炉本体１０２には入口部１０３と出口部１０４が形
成され、内部に加熱器１０５が取付けられている。この
炉本体１０２の上部には収納室１０６が設けられ、この
収納室１０６と炉本体１０２の入口部１０３との間には
両者を連通、且つ、遮断可能な開閉器１０７が取付けら
れている。収納室１０６は上部に光ファイバ母材２００
を挿入するための開閉蓋１０８が取付けられると共に、
ガスの給排を行う供給口１０９及び排出口１１０が形成
され、供給口１０９にはこの収納室１０６内へ不活性ガ
スを供給するガス供給系１１１が接続され、排出口１１
０には逆止弁１１２が取付けられている。また、炉本体
１０２の出口部１０４には光ファイバ２０１を線引きす
る小孔を有する開閉蓋１１３が取付けられている。
て、炉本体１０２には入口部１０３と出口部１０４が形
成され、内部に加熱器１０５が取付けられている。この
炉本体１０２の上部には収納室１０６が設けられ、この
収納室１０６と炉本体１０２の入口部１０３との間には
両者を連通、且つ、遮断可能な開閉器１０７が取付けら
れている。収納室１０６は上部に光ファイバ母材２００
を挿入するための開閉蓋１０８が取付けられると共に、
ガスの給排を行う供給口１０９及び排出口１１０が形成
され、供給口１０９にはこの収納室１０６内へ不活性ガ
スを供給するガス供給系１１１が接続され、排出口１１
０には逆止弁１１２が取付けられている。また、炉本体
１０２の出口部１０４には光ファイバ２０１を線引きす
る小孔を有する開閉蓋１１３が取付けられている。
【０００４】而して、かかる線引炉１０１を用いて光フ
ァイバ線引作業を行う場合、まず、開閉器１０７によっ
て収納室１０６と入口部１０３とを遮断し、この収納室
１０６内に光ファイバ母材２００を挿入して開閉蓋１０
８を閉じた密閉状態とする。そして、ガス供給系１１１
により供給口１０９から収納室１０６内へ不活性ガスを
供給することで、この収納室１０６内を高レベルのクリ
ーン状態とすると共に炉本体１０２内にも不活性ガスを
連続的に流入する。次に、開閉器１０７によって収納室
１０６と入口部１０３とを連通し、収納室１０６内に光
ファイバ母材２００を炉本体１０２内に挿入する。そし
て、この状態で、加熱器１０５により光ファイバ母材２
００を軟化溶融してその下端から延伸することで、光フ
ァイバ２０１が線引きされる。
ァイバ線引作業を行う場合、まず、開閉器１０７によっ
て収納室１０６と入口部１０３とを遮断し、この収納室
１０６内に光ファイバ母材２００を挿入して開閉蓋１０
８を閉じた密閉状態とする。そして、ガス供給系１１１
により供給口１０９から収納室１０６内へ不活性ガスを
供給することで、この収納室１０６内を高レベルのクリ
ーン状態とすると共に炉本体１０２内にも不活性ガスを
連続的に流入する。次に、開閉器１０７によって収納室
１０６と入口部１０３とを連通し、収納室１０６内に光
ファイバ母材２００を炉本体１０２内に挿入する。そし
て、この状態で、加熱器１０５により光ファイバ母材２
００を軟化溶融してその下端から延伸することで、光フ
ァイバ２０１が線引きされる。
【０００５】なお、このような光ファイバの線引炉は、
例えば、特開昭６０−１５５５４１号公報に開示されて
いる。
例えば、特開昭６０−１５５５４１号公報に開示されて
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の光ファ
イバの線引炉１０１にあっては、光ファイバ母材２００
を炉本体１０２内に挿入する際に、汚染された気体がこ
の炉本体１０２内に侵入しないように開閉器１０７を有
する収納室１０６が設けられている。ところで、近年、
光ファイバの量産、低コスト化により光ファイバ母材が
大型化されてきている。そのため、大型化された光ファ
イバ母材から前述した従来の光ファイバの線引炉１０１
を用いて光ファイバ２０１を線引きする場合には、その
光ファイバ母材２００の大きさに合わせて収納室１０６
を大きくしなければならず、線引炉１０１自体が大型化
してしまい、設置スペースを大きくとってしまうという
問題があった。
イバの線引炉１０１にあっては、光ファイバ母材２００
を炉本体１０２内に挿入する際に、汚染された気体がこ
の炉本体１０２内に侵入しないように開閉器１０７を有
する収納室１０６が設けられている。ところで、近年、
光ファイバの量産、低コスト化により光ファイバ母材が
大型化されてきている。そのため、大型化された光ファ
イバ母材から前述した従来の光ファイバの線引炉１０１
を用いて光ファイバ２０１を線引きする場合には、その
光ファイバ母材２００の大きさに合わせて収納室１０６
を大きくしなければならず、線引炉１０１自体が大型化
してしまい、設置スペースを大きくとってしまうという
問題があった。
【０００７】また、光ファイバ２０１の線引作業中に、
光ファイバがガラス構造と伝送特性の規格から外れた場
合には線引作業を中止し、線引炉１０１から光ファイバ
母材２００を引き上げて取り出し、別の光ファイバ母材
を線引炉１０１内に投入して線引作業を続行する必要が
ある。このとき、線引炉１０１から取り出す光ファイバ
母材２００は２０００℃前後に加熱されて輻射熱も増大
しており、引き上げ後の光ファイバ母材２００のハンド
リングが不可能となるためにその安全対策が必須であ
る。
光ファイバがガラス構造と伝送特性の規格から外れた場
合には線引作業を中止し、線引炉１０１から光ファイバ
母材２００を引き上げて取り出し、別の光ファイバ母材
を線引炉１０１内に投入して線引作業を続行する必要が
ある。このとき、線引炉１０１から取り出す光ファイバ
母材２００は２０００℃前後に加熱されて輻射熱も増大
しており、引き上げ後の光ファイバ母材２００のハンド
リングが不可能となるためにその安全対策が必須であ
る。
【０００８】従って、従来の光ファイバの線引炉１０１
にあっては、加熱された光ファイバ母材２００を炉本体
１０２の入口部１０３や収納室１０６にて自然冷却を行
う必要があるが、この自然冷却には３時間以上もかかっ
てしまい、光ファイバ母材２００の線引歩留りのアップ
を考えるとこの光ファイバ母材２００の交換時間を短縮
しなければならず、作業性が非常に良くないという問題
があった。また、加熱された光ファイバ母材２００を引
上げる前に冷却しないと、炉本体１０２の入口部１０３
や収納室１０６にて劣化（酸化）が発生し、線引炉１０
１内のクリーン度が悪化して線引きされた光ファイバ２
０１のガラス強度が著しく低下してしまうという問題が
あった。
にあっては、加熱された光ファイバ母材２００を炉本体
１０２の入口部１０３や収納室１０６にて自然冷却を行
う必要があるが、この自然冷却には３時間以上もかかっ
てしまい、光ファイバ母材２００の線引歩留りのアップ
を考えるとこの光ファイバ母材２００の交換時間を短縮
しなければならず、作業性が非常に良くないという問題
があった。また、加熱された光ファイバ母材２００を引
上げる前に冷却しないと、炉本体１０２の入口部１０３
や収納室１０６にて劣化（酸化）が発生し、線引炉１０
１内のクリーン度が悪化して線引きされた光ファイバ２
０１のガラス強度が著しく低下してしまうという問題が
あった。
【０００９】本発明はこのような問題点を解決するもの
であって、装置の省スペース化を図ると共に光ファイバ
母材の交換作業の短縮化を図ることができ、且つ、線引
きされた光ファイバの強度を高位に保持することのでき
る光ファイバの線引炉を提供することを目的とする。
であって、装置の省スペース化を図ると共に光ファイバ
母材の交換作業の短縮化を図ることができ、且つ、線引
きされた光ファイバの強度を高位に保持することのでき
る光ファイバの線引炉を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成する本
発明に係る光ファイバの線引炉は、入口部と出口部とが
形成されると共に内部に加熱器が設けられて連続的に流
入される不活性ガスで満たされる線引室を有し、該線引
室の入口部から挿入される光ファイバ母材を加熱溶融し
てその出口部から光ファイバを線引きする光ファイバの
線引炉において、前記線引室の入口部に連通する光ファ
イバ母材収納室を該線引室に着脱自在に設けると共に前
記線引室と該収納室との間には開閉扉を設け、前記収納
室には不活性流体を供給する不活性流体供給を接続した
ことを特徴とするものである。
発明に係る光ファイバの線引炉は、入口部と出口部とが
形成されると共に内部に加熱器が設けられて連続的に流
入される不活性ガスで満たされる線引室を有し、該線引
室の入口部から挿入される光ファイバ母材を加熱溶融し
てその出口部から光ファイバを線引きする光ファイバの
線引炉において、前記線引室の入口部に連通する光ファ
イバ母材収納室を該線引室に着脱自在に設けると共に前
記線引室と該収納室との間には開閉扉を設け、前記収納
室には不活性流体を供給する不活性流体供給を接続した
ことを特徴とするものである。
【００１１】また、本発明に係る光ファイバの線引炉
は、入口部と出口部とが形成されると共に内部に加熱器
が設けられて連続的に流入される不活性ガスで満たされ
る線引室を有し、該線引室の入口部から挿入される光フ
ァイバ母材を加熱溶融してその出口部から光ファイバを
線引きする光ファイバの線引炉において、前記線引室の
入口部に連通する光ファイバ母材収納室を該線引室に着
脱自在に設けると共に前記線引室と該収納室との間には
開閉扉を設け、前記収納室には不活性流体を供給する不
活性流体供給を接続する一方、前記線引室には炭素及び
酸素の濃度変化を検出する濃度計を接続したことを特徴
とするものである。
は、入口部と出口部とが形成されると共に内部に加熱器
が設けられて連続的に流入される不活性ガスで満たされ
る線引室を有し、該線引室の入口部から挿入される光フ
ァイバ母材を加熱溶融してその出口部から光ファイバを
線引きする光ファイバの線引炉において、前記線引室の
入口部に連通する光ファイバ母材収納室を該線引室に着
脱自在に設けると共に前記線引室と該収納室との間には
開閉扉を設け、前記収納室には不活性流体を供給する不
活性流体供給を接続する一方、前記線引室には炭素及び
酸素の濃度変化を検出する濃度計を接続したことを特徴
とするものである。
【００１２】また、本発明に係る光ファイバの線引炉
は、入口部と出口部とが形成されると共に内部に加熱器
が設けられて連続的に流入される不活性ガスで満たされ
る線引室を有し、該線引室の入口部から挿入される光フ
ァイバ母材を加熱溶融してその出口部から光ファイバを
線引きする光ファイバの線引炉において、前記線引室の
入口部に連通する光ファイバ母材収納室を該線引室に着
脱自在に設けると共に前記線引室と該収納室との間には
開閉扉を設け、前記収納室には加熱された前記光ファイ
バ母材を冷却する冷却装置を装着したことを特徴とする
ものである。
は、入口部と出口部とが形成されると共に内部に加熱器
が設けられて連続的に流入される不活性ガスで満たされ
る線引室を有し、該線引室の入口部から挿入される光フ
ァイバ母材を加熱溶融してその出口部から光ファイバを
線引きする光ファイバの線引炉において、前記線引室の
入口部に連通する光ファイバ母材収納室を該線引室に着
脱自在に設けると共に前記線引室と該収納室との間には
開閉扉を設け、前記収納室には加熱された前記光ファイ
バ母材を冷却する冷却装置を装着したことを特徴とする
ものである。
【００１３】
【作用】光ファイバの線引作業を行うには、まず、内部
に光ファイバ母材が収納支持された収納室を線引室の入
口部に装着し、線引室に不活性ガスを連続的に流入して
充満する一方、収納室には不活性流体供給系により不活
性流体を供給する。次に、開閉扉を設けてこの線引室と
収納室とを連通し、収納室内の光ファイバ母材を線引室
に挿入してこの線引室を密閉状態とする。この状態から
加熱器によって光ファイバ母材を加熱溶融し、線引室の
出口部から光ファイバを線引きすることで作業を行う。
に光ファイバ母材が収納支持された収納室を線引室の入
口部に装着し、線引室に不活性ガスを連続的に流入して
充満する一方、収納室には不活性流体供給系により不活
性流体を供給する。次に、開閉扉を設けてこの線引室と
収納室とを連通し、収納室内の光ファイバ母材を線引室
に挿入してこの線引室を密閉状態とする。この状態から
加熱器によって光ファイバ母材を加熱溶融し、線引室の
出口部から光ファイバを線引きすることで作業を行う。
【００１４】そして、光ファイバの線引作業を行う前、
即ち、線引室と収納室とを連通したときにこの線引室内
の一酸化炭素（二酸化炭素）及び酸素の濃度変化を濃度
計によって検出することで、線引室内を高レベルなクリ
ーン状態に維持できる。
即ち、線引室と収納室とを連通したときにこの線引室内
の一酸化炭素（二酸化炭素）及び酸素の濃度変化を濃度
計によって検出することで、線引室内を高レベルなクリ
ーン状態に維持できる。
【００１５】また、光ファイバの線引作業中に、特性不
良等により光ファイバ母材４１を取出す必要が生じた場
合には、線引室内の光ファイバ母材を収納室内に移動
し、ここで不活性ガスを供給して加熱した光ファイバ母
材４１を強制冷却することにより短時間で交換作業を行
うことができる。
良等により光ファイバ母材４１を取出す必要が生じた場
合には、線引室内の光ファイバ母材を収納室内に移動
し、ここで不活性ガスを供給して加熱した光ファイバ母
材４１を強制冷却することにより短時間で交換作業を行
うことができる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
【００１７】図１には本発明の一実施例に係る光ファイ
バの線引炉の概略、図２乃至図４には線引炉による光フ
ァイバ線引工程を表す概略を示す。
バの線引炉の概略、図２乃至図４には線引炉による光フ
ァイバ線引工程を表す概略を示す。
【００１８】図１に示すように、本実施例の線引炉１１
において、円筒形状をなす炉本体１２には入口部１３と
出口部１４が形成され、内部にカーボンからなる炉芯管
１５が配設されると共にそのカーボン炉芯管１５の外周
部にはヒーター１６が装着されている。そして、炉本体
１２の入口部１３には開閉自在なシャッター１７が装着
される一方、出口部１４には小孔を有する開閉蓋１８が
取付けられている。このようにして線引炉１１に線引室
Ａが構成される。また、炉本体１２にはこの線引室Ａ内
の一酸化炭素（ＣＯ）あるいは二酸化炭素（ＣＯ2 ）の
濃度、及び酸素（Ｏ2 ）の濃度変化を検出するＣＯ−Ｏ
2 濃度計１９，２０が接続されている。なお、炉本体１
２の周囲は図示しないが水冷構造となっており、また、
炉本体１２の上部壁面には図示しない不活性ガス噴出口
が円周方向に均一に形成されており、線引室Ａ内に不活
性ガスを連続的に流入できるようになっている。
において、円筒形状をなす炉本体１２には入口部１３と
出口部１４が形成され、内部にカーボンからなる炉芯管
１５が配設されると共にそのカーボン炉芯管１５の外周
部にはヒーター１６が装着されている。そして、炉本体
１２の入口部１３には開閉自在なシャッター１７が装着
される一方、出口部１４には小孔を有する開閉蓋１８が
取付けられている。このようにして線引炉１１に線引室
Ａが構成される。また、炉本体１２にはこの線引室Ａ内
の一酸化炭素（ＣＯ）あるいは二酸化炭素（ＣＯ2 ）の
濃度、及び酸素（Ｏ2 ）の濃度変化を検出するＣＯ−Ｏ
2 濃度計１９，２０が接続されている。なお、炉本体１
２の周囲は図示しないが水冷構造となっており、また、
炉本体１２の上部壁面には図示しない不活性ガス噴出口
が円周方向に均一に形成されており、線引室Ａ内に不活
性ガスを連続的に流入できるようになっている。
【００１９】この炉本体１２の上部には収納室Ｂを構成
する一対の円筒形状をなす枠体２１，２２が着脱自在
で、且つ、複数のエアシリンダ２３によって開閉自在に
設けられている。この枠体２１，２２において、収納室
Ｂと炉本体１２の線引室Ａとは連通可能であり、この連
通、遮断動作は前述したシャッター１７によって行われ
ており、また、枠体２１，２２の上部には先端に光ファ
イバ母材４１が保持された支持棒４２が挿通可能な貫通
孔２４が形成されている。更に、この支持棒４２には炉
本体１２の入口部１３を閉鎖して線引室Ａを気密状態に
維持する蓋２５と枠体２１、２２の上部の貫通孔２４を
閉鎖して収納室Ｂを気密状態に維持する蓋２６とが取付
けられている。
する一対の円筒形状をなす枠体２１，２２が着脱自在
で、且つ、複数のエアシリンダ２３によって開閉自在に
設けられている。この枠体２１，２２において、収納室
Ｂと炉本体１２の線引室Ａとは連通可能であり、この連
通、遮断動作は前述したシャッター１７によって行われ
ており、また、枠体２１，２２の上部には先端に光ファ
イバ母材４１が保持された支持棒４２が挿通可能な貫通
孔２４が形成されている。更に、この支持棒４２には炉
本体１２の入口部１３を閉鎖して線引室Ａを気密状態に
維持する蓋２５と枠体２１、２２の上部の貫通孔２４を
閉鎖して収納室Ｂを気密状態に維持する蓋２６とが取付
けられている。
【００２０】また、枠体２１，２２には収納室Ｂ内に不
活性ガスとしての窒素（Ｎ2 ）ガスを供給する複数の供
給口２７と収納室Ｂ内の一酸化炭素や酸素等を排出する
排出口２８が形成されており、供給口２７にはＮ2 ガス
供給系２９が接続され、排出口２８には図示しない逆止
弁が取付けられている。なお、この枠体２１，２２も炉
本体１２と同様に周囲が図示しないが水冷構造となって
いる。
活性ガスとしての窒素（Ｎ2 ）ガスを供給する複数の供
給口２７と収納室Ｂ内の一酸化炭素や酸素等を排出する
排出口２８が形成されており、供給口２７にはＮ2 ガス
供給系２９が接続され、排出口２８には図示しない逆止
弁が取付けられている。なお、この枠体２１，２２も炉
本体１２と同様に周囲が図示しないが水冷構造となって
いる。
【００２１】而して、かかる線引炉１１を用いて光ファ
イバ線引作業を行う場合、まず、図１に示すように、シ
ャッター１７を閉じて線引室Ａを密閉状態に遮断し、炉
本体１２内のガス噴出口から線引室Ａ内に窒素ガスを連
続的に流入する。一方、支持棒４２に保持された光ファ
イバ母材４１を下降すると共に各エアシリンダ２３を作
動して一対の枠体２１，２２を接近させて密着すること
で、図２に示すように、この枠体２１，２２により収納
室Ｂ内に光ファイバ母材４１を収納する。そして、ガス
供給系２９により各供給口２７からこの収納室Ｂ内へ窒
素ガスを供給して充満させる一方、排出口２８から不要
の一酸化炭素や酸素を排出し、収納室Ｂ内を高レベルの
クリーン状態とする。
イバ線引作業を行う場合、まず、図１に示すように、シ
ャッター１７を閉じて線引室Ａを密閉状態に遮断し、炉
本体１２内のガス噴出口から線引室Ａ内に窒素ガスを連
続的に流入する。一方、支持棒４２に保持された光ファ
イバ母材４１を下降すると共に各エアシリンダ２３を作
動して一対の枠体２１，２２を接近させて密着すること
で、図２に示すように、この枠体２１，２２により収納
室Ｂ内に光ファイバ母材４１を収納する。そして、ガス
供給系２９により各供給口２７からこの収納室Ｂ内へ窒
素ガスを供給して充満させる一方、排出口２８から不要
の一酸化炭素や酸素を排出し、収納室Ｂ内を高レベルの
クリーン状態とする。
【００２２】この状態からシャッター１７を開けて線引
室Ａと収納室Ｂとを連通し、光ファイバ母材４１を下降
して線引室Ａ内に挿入すると、図３に示すように、この
光ファイバ母材４１はこの線引室Ａの所定の位置に保持
され、且つ、炉本体１２の入口部１３は蓋２６によって
閉鎖され、線引室Ａは密閉状態となる。このとき、２つ
のＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０によって線引室Ａ内の一
酸化炭素（二酸化炭素）及び酸素の濃度変化を測定し、
線引室Ａと収納室Ｂとの連通時に不要なガス等が侵入し
たかどうかを検出する。即ち、光ファイバ母材４１は炉
本体１２内でヒーター１６により２０００度以上に加熱
されており、このときに炉芯管１５内には種々のガスや
ダスト等が発生し、光ファイバ母材４１の表面に付着し
て光ファイバ４３の表面に損傷を与え、その強度を著し
く低下させてしまうことがある。そのため、この濃度計
１９，２０により濃度変化が検出されたなら、即ち、一
酸化炭素（二酸化炭素）や酸素が侵入して濃度が高くな
っていれば、炉本体１２内のガス噴出口から線引室Ａ内
への窒素ガスの流量を制御して高レベルのクリーン状態
を維持する。
室Ａと収納室Ｂとを連通し、光ファイバ母材４１を下降
して線引室Ａ内に挿入すると、図３に示すように、この
光ファイバ母材４１はこの線引室Ａの所定の位置に保持
され、且つ、炉本体１２の入口部１３は蓋２６によって
閉鎖され、線引室Ａは密閉状態となる。このとき、２つ
のＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０によって線引室Ａ内の一
酸化炭素（二酸化炭素）及び酸素の濃度変化を測定し、
線引室Ａと収納室Ｂとの連通時に不要なガス等が侵入し
たかどうかを検出する。即ち、光ファイバ母材４１は炉
本体１２内でヒーター１６により２０００度以上に加熱
されており、このときに炉芯管１５内には種々のガスや
ダスト等が発生し、光ファイバ母材４１の表面に付着し
て光ファイバ４３の表面に損傷を与え、その強度を著し
く低下させてしまうことがある。そのため、この濃度計
１９，２０により濃度変化が検出されたなら、即ち、一
酸化炭素（二酸化炭素）や酸素が侵入して濃度が高くな
っていれば、炉本体１２内のガス噴出口から線引室Ａ内
への窒素ガスの流量を制御して高レベルのクリーン状態
を維持する。
【００２３】そして、この状態でヒーター１６により光
ファイバ母材４１を軟化溶融してその下端から延伸する
ことで、光ファイバ４３の線引作業を行う。
ファイバ母材４１を軟化溶融してその下端から延伸する
ことで、光ファイバ４３の線引作業を行う。
【００２４】ところで、光ファイバ４３の線引作業にお
いてもＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０によって線引室Ａ内
の一酸化炭素（二酸化炭素）及び酸素の濃度変化を検出
し、常時、オンラインで管理している。即ち、前述した
ように、線引室Ａ内に窒素ガスを連続して流入しても一
酸化炭素及び酸素を完全に除去することはできず、若干
の一酸化炭素及び酸素が残存してしまう。光ファイバ４
３の線引作業中、炉本体１２（線引室Ａ）内における温
度変化に対する線引室Ａ内に残存している一酸化炭素と
酸素の濃度変化の割合を調べてみる。すると、線引室Ａ
内が５００度程度では酸素濃度が高く、一酸化炭素濃度
は非常に低くなっているが、線引室Ａ内を加熱して温度
を上昇させていくと、酸素濃度は低下していく一方一酸
化炭素濃度は上昇し、線引室Ａ内が２０００度以上にな
ると、酸素濃度が低く、一酸化炭素濃度は非常に高くな
っている。
いてもＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０によって線引室Ａ内
の一酸化炭素（二酸化炭素）及び酸素の濃度変化を検出
し、常時、オンラインで管理している。即ち、前述した
ように、線引室Ａ内に窒素ガスを連続して流入しても一
酸化炭素及び酸素を完全に除去することはできず、若干
の一酸化炭素及び酸素が残存してしまう。光ファイバ４
３の線引作業中、炉本体１２（線引室Ａ）内における温
度変化に対する線引室Ａ内に残存している一酸化炭素と
酸素の濃度変化の割合を調べてみる。すると、線引室Ａ
内が５００度程度では酸素濃度が高く、一酸化炭素濃度
は非常に低くなっているが、線引室Ａ内を加熱して温度
を上昇させていくと、酸素濃度は低下していく一方一酸
化炭素濃度は上昇し、線引室Ａ内が２０００度以上にな
ると、酸素濃度が低く、一酸化炭素濃度は非常に高くな
っている。
【００２５】光ファイバ４３の線引作業中に炉本体１２
（線引室Ａ）が高温に加熱されると、炉芯管１５がカー
ボン（炭素）であるために下記に示す反応が起こる。
（線引室Ａ）が高温に加熱されると、炉芯管１５がカー
ボン（炭素）であるために下記に示す反応が起こる。
【化１】２Ｏ2 ＋３Ｃ → ２ＣＯ＋ＣＯ2
【００２６】即ち、線引室Ａに残存している酸素
（Ｏ2 ）に炉芯管１５の炭素（Ｃ）が反応し、一酸化炭
素（ＣＯ）あるいは二酸化炭素（ＣＯ2 ）が発生する。
従って、線引室Ａの温度上昇によって酸素濃度が低下し
ていく一方、一酸化炭素濃度は上昇していく。本実施例
では、光ファイバ４３の線引作業中におけるこの一酸化
炭素及び酸素の濃度変化をＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０
によって検出することでこの線引室Ａ内を高レベルのク
リーン状態に維持するようにしている。具体的には、線
引室Ａの温度上昇に伴ってＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０
によって酸素濃度及び一酸化炭素濃度を測定し、酸素濃
度の低下及び一酸化炭素濃度の上昇を検出したら線引室
Ａ内に不活性ガスとしての窒素を連続して流入し、増加
した一酸化炭素を排出するようにする。
（Ｏ2 ）に炉芯管１５の炭素（Ｃ）が反応し、一酸化炭
素（ＣＯ）あるいは二酸化炭素（ＣＯ2 ）が発生する。
従って、線引室Ａの温度上昇によって酸素濃度が低下し
ていく一方、一酸化炭素濃度は上昇していく。本実施例
では、光ファイバ４３の線引作業中におけるこの一酸化
炭素及び酸素の濃度変化をＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０
によって検出することでこの線引室Ａ内を高レベルのク
リーン状態に維持するようにしている。具体的には、線
引室Ａの温度上昇に伴ってＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０
によって酸素濃度及び一酸化炭素濃度を測定し、酸素濃
度の低下及び一酸化炭素濃度の上昇を検出したら線引室
Ａ内に不活性ガスとしての窒素を連続して流入し、増加
した一酸化炭素を排出するようにする。
【００２７】ところで、光ファイバ４３の線引作業中
に、光ファイバ４３がガラス構造と伝送特性の規格から
外れた場合には線引作業を中止し、線引炉１１から光フ
ァイバ母材４１を引き上げて取り出し、別の光ファイバ
母材を線引炉１１内に投入して線引作業を続行する必要
がある。この場合、前述とは逆に、線引室Ａ内の光ファ
イバ母材４１を引き上げて、図２に示すように、枠体２
１，２２の収納室Ｂ内に戻してシャッター１７を閉じ
る。そして、図４に示すように、枠体２１，２２を内部
に収納した光ファイバ母材４１と共に上方に移動し、こ
の枠体２１，２２の下部を開放する。この状態でガス供
給系２９により各供給口２７から収納室Ｂ内へ窒素ガス
を供給し、加熱した光ファイバ母材４１を強制冷却す
る。すると、ほぼ２０〜３０分程度で冷却することがで
きる。そして、各エアシリンダ２３を作動して一対の枠
体２１，２２を離反させて開放し、常温に冷却された光
ファイバ母材４１を引き上げて取り出す。
に、光ファイバ４３がガラス構造と伝送特性の規格から
外れた場合には線引作業を中止し、線引炉１１から光フ
ァイバ母材４１を引き上げて取り出し、別の光ファイバ
母材を線引炉１１内に投入して線引作業を続行する必要
がある。この場合、前述とは逆に、線引室Ａ内の光ファ
イバ母材４１を引き上げて、図２に示すように、枠体２
１，２２の収納室Ｂ内に戻してシャッター１７を閉じ
る。そして、図４に示すように、枠体２１，２２を内部
に収納した光ファイバ母材４１と共に上方に移動し、こ
の枠体２１，２２の下部を開放する。この状態でガス供
給系２９により各供給口２７から収納室Ｂ内へ窒素ガス
を供給し、加熱した光ファイバ母材４１を強制冷却す
る。すると、ほぼ２０〜３０分程度で冷却することがで
きる。そして、各エアシリンダ２３を作動して一対の枠
体２１，２２を離反させて開放し、常温に冷却された光
ファイバ母材４１を引き上げて取り出す。
【００２８】このように本実施例の光ファイバの線引炉
１１にあっては、光ファイバ母材４１を収納する枠体２
１，２２を２分割としてエアシリンダ２３によって開閉
自在に設けたことで、大型の光ファイバ母材４１であっ
ても十分に収納することができ、収納室Ｂ（枠体２１，
２２）を大型化する必要がなくなって省スペース化が図
れる。また、光ファイバ４３の線引作業前及び作業中に
おいて、ＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０によって線引室Ａ
内の一酸化炭素（二酸化炭素）及び酸素の濃度変化を検
出しているので、線引室Ａ内を常時高レベルなクリーン
状態に維持できる。更に、光ファイバ母材４１の取出作
業時には、線引室Ａ内の光ファイバ母材４１を枠体２
１，２２の収納室Ｂ内に収納し、ここでガス供給系２９
により窒素ガスを供給して加熱した光ファイバ母材４１
を強制冷却することができ、短時間で作業を行うことが
できる。
１１にあっては、光ファイバ母材４１を収納する枠体２
１，２２を２分割としてエアシリンダ２３によって開閉
自在に設けたことで、大型の光ファイバ母材４１であっ
ても十分に収納することができ、収納室Ｂ（枠体２１，
２２）を大型化する必要がなくなって省スペース化が図
れる。また、光ファイバ４３の線引作業前及び作業中に
おいて、ＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０によって線引室Ａ
内の一酸化炭素（二酸化炭素）及び酸素の濃度変化を検
出しているので、線引室Ａ内を常時高レベルなクリーン
状態に維持できる。更に、光ファイバ母材４１の取出作
業時には、線引室Ａ内の光ファイバ母材４１を枠体２
１，２２の収納室Ｂ内に収納し、ここでガス供給系２９
により窒素ガスを供給して加熱した光ファイバ母材４１
を強制冷却することができ、短時間で作業を行うことが
できる。
【００２９】図５には本発明の別の実施例に係る光ファ
イバの線引炉の概略、図６乃至図８には線引炉による光
ファイバ線引工程を表す概略を示す。なお、前述した実
施例と同様の機能を有する部材には同一の符号を付して
重複する説明は省略する。
イバの線引炉の概略、図６乃至図８には線引炉による光
ファイバ線引工程を表す概略を示す。なお、前述した実
施例と同様の機能を有する部材には同一の符号を付して
重複する説明は省略する。
【００３０】図５に示すように、本実施例の線引炉５１
において、円筒形状をなす炉本体１２には入口部１３と
出口部１４が形成され、内部に炉芯管１５及びヒーター
１６が配設されている。そして、炉本体１２の入口部１
３にはシャッター１７が、出口部１４には開閉蓋１８が
取付けられると共に炉本体１２にはＣＯ−Ｏ2 濃度計１
９，２０が接続されて線引室Ａが構成されている。この
炉本体１２の上部には収納室Ｂを構成する円筒形状をな
す枠体５２が図示しない複数のエアシリンダによって炉
本体１２の入口部１３に対して摺動自在で、且つ、着脱
自在に設けられている。この枠体５２において、収納室
Ｂと線引室Ａとは連通しており、シャッター１７によっ
て遮断できるようになっている。また、この枠体５２の
上部には連結部５３により先端に光ファイバ母材４１が
保持された支持棒４２が連結されている。更に、枠体５
２には複数の供給口２７と排出口２８が形成されてお
り、供給口２７にはＮ2 ガス供給系２９が接続されてい
る。
において、円筒形状をなす炉本体１２には入口部１３と
出口部１４が形成され、内部に炉芯管１５及びヒーター
１６が配設されている。そして、炉本体１２の入口部１
３にはシャッター１７が、出口部１４には開閉蓋１８が
取付けられると共に炉本体１２にはＣＯ−Ｏ2 濃度計１
９，２０が接続されて線引室Ａが構成されている。この
炉本体１２の上部には収納室Ｂを構成する円筒形状をな
す枠体５２が図示しない複数のエアシリンダによって炉
本体１２の入口部１３に対して摺動自在で、且つ、着脱
自在に設けられている。この枠体５２において、収納室
Ｂと線引室Ａとは連通しており、シャッター１７によっ
て遮断できるようになっている。また、この枠体５２の
上部には連結部５３により先端に光ファイバ母材４１が
保持された支持棒４２が連結されている。更に、枠体５
２には複数の供給口２７と排出口２８が形成されてお
り、供給口２７にはＮ2 ガス供給系２９が接続されてい
る。
【００３１】而して、かかる線引炉１１を用いて光ファ
イバ線引作業を行う場合、まず、図５に示すように、シ
ャッター１７を閉じて線引室Ａを密閉状態に遮断し、炉
本体１２内のガス噴出口から線引室Ａ内に窒素ガスを連
続的に流入する。一方、支持棒４２に保持された光ファ
イバ母材４１を枠体５２と共に下降し、図６に示すよう
に、枠体５２の下部をこの枠体５２の入口部１３に連結
する。そして、ガス供給系２９により各供給口２７から
この収納室Ｂ内へ窒素ガスを供給して充満させる一方、
排出口２８から不要の一酸化炭素や酸素を排出し、収納
室Ｂ内を高レベルのクリーン状態とする。
イバ線引作業を行う場合、まず、図５に示すように、シ
ャッター１７を閉じて線引室Ａを密閉状態に遮断し、炉
本体１２内のガス噴出口から線引室Ａ内に窒素ガスを連
続的に流入する。一方、支持棒４２に保持された光ファ
イバ母材４１を枠体５２と共に下降し、図６に示すよう
に、枠体５２の下部をこの枠体５２の入口部１３に連結
する。そして、ガス供給系２９により各供給口２７から
この収納室Ｂ内へ窒素ガスを供給して充満させる一方、
排出口２８から不要の一酸化炭素や酸素を排出し、収納
室Ｂ内を高レベルのクリーン状態とする。
【００３２】この状態からシャッター１７を開けて線引
室Ａと収納室Ｂとを連通し、光ファイバ母材４１を下降
して線引室Ａ内に挿入すると、図７に示すように、この
光ファイバ母材４１はこの線引室Ａの所定の位置に保持
される。このとき、２つのＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０
によって線引室Ａ内の一酸化炭素（二酸化炭素）及び酸
素の濃度変化を測定し、線引室Ａと収納室Ｂとの連通時
に不要なガス等が侵入したかどうかを検出し、線引室Ａ
内への窒素ガスの流量を制御して高レベルのクリーン状
態を維持する。そして、この状態でヒーター１６により
光ファイバ母材４１を軟化溶融してその下端から延伸す
ることで、光ファイバ４３の線引作業を行う。
室Ａと収納室Ｂとを連通し、光ファイバ母材４１を下降
して線引室Ａ内に挿入すると、図７に示すように、この
光ファイバ母材４１はこの線引室Ａの所定の位置に保持
される。このとき、２つのＣＯ−Ｏ2 濃度計１９，２０
によって線引室Ａ内の一酸化炭素（二酸化炭素）及び酸
素の濃度変化を測定し、線引室Ａと収納室Ｂとの連通時
に不要なガス等が侵入したかどうかを検出し、線引室Ａ
内への窒素ガスの流量を制御して高レベルのクリーン状
態を維持する。そして、この状態でヒーター１６により
光ファイバ母材４１を軟化溶融してその下端から延伸す
ることで、光ファイバ４３の線引作業を行う。
【００３３】光ファイバ４３の線引作業中に光ファイバ
４３に特性不良が発生した場合には、線引室Ａ内の光フ
ァイバ母材４１を引き上げて、図６に示すように、枠体
５２の収納室Ｂ内に戻してシャッター１７を閉じる。そ
して、図８に示すように、枠体５２を内部に収納した光
ファイバ母材４１と共に上方に移動し、この枠体５２の
下部を開放する。この状態でガス供給系２９により各供
給口２７から収納室Ｂ内へ窒素ガスを供給し、加熱した
光ファイバ母材４１を強制冷却する。そして、光ファイ
バ母材４１が常温まで冷却されると、枠体５２から取り
外して収納室Ｂから取り出す。
４３に特性不良が発生した場合には、線引室Ａ内の光フ
ァイバ母材４１を引き上げて、図６に示すように、枠体
５２の収納室Ｂ内に戻してシャッター１７を閉じる。そ
して、図８に示すように、枠体５２を内部に収納した光
ファイバ母材４１と共に上方に移動し、この枠体５２の
下部を開放する。この状態でガス供給系２９により各供
給口２７から収納室Ｂ内へ窒素ガスを供給し、加熱した
光ファイバ母材４１を強制冷却する。そして、光ファイ
バ母材４１が常温まで冷却されると、枠体５２から取り
外して収納室Ｂから取り出す。
【００３４】このように本実施例の光ファイバの線引炉
５１にあっては、光ファイバ母材４１を収納する枠体５
２をエアシリンダによって炉本体１２の入口部１３に対
して摺動自在で、且つ、着脱自在に設けたことで、大型
の光ファイバ母材４１であっても十分に収納することが
でき、線引作業時には枠体５２を炉本体１２に対して摺
動嵌合することで短縮することができ、省スペース化が
図れる。
５１にあっては、光ファイバ母材４１を収納する枠体５
２をエアシリンダによって炉本体１２の入口部１３に対
して摺動自在で、且つ、着脱自在に設けたことで、大型
の光ファイバ母材４１であっても十分に収納することが
でき、線引作業時には枠体５２を炉本体１２に対して摺
動嵌合することで短縮することができ、省スペース化が
図れる。
【００３５】
【発明の効果】以上、実施例を挙げて詳細に説明したよ
うに、本発明の光ファイバの線引炉によれば、光ファイ
バの線引室の入口部に連通する光ファイバ母材収納室を
その線引室に対して着脱自在に設けると共に線引室と収
納室との間に開閉扉を設けて収納室に不活性流体を供給
する不活性流体供給系を接続したので、大型の光ファイ
バ母材であっても十分に収納することができ、収納室を
大型化する必要がなくなって省スペース化を図ることが
でき、作業スペースを確保することができると共に作業
性を向上することができる。
うに、本発明の光ファイバの線引炉によれば、光ファイ
バの線引室の入口部に連通する光ファイバ母材収納室を
その線引室に対して着脱自在に設けると共に線引室と収
納室との間に開閉扉を設けて収納室に不活性流体を供給
する不活性流体供給系を接続したので、大型の光ファイ
バ母材であっても十分に収納することができ、収納室を
大型化する必要がなくなって省スペース化を図ることが
でき、作業スペースを確保することができると共に作業
性を向上することができる。
【００３６】また、線引室に炭素及び酸素の濃度変化を
検出する濃度計を接続したので、光ファイバの線引作業
前に濃度計によって線引室内の炭素及び酸素の濃度変化
を検出することで線引室内を常時高レベルなクリーン状
態に維持することができ、線径変動のない光ファイバを
連続的に製造することができる。
検出する濃度計を接続したので、光ファイバの線引作業
前に濃度計によって線引室内の炭素及び酸素の濃度変化
を検出することで線引室内を常時高レベルなクリーン状
態に維持することができ、線径変動のない光ファイバを
連続的に製造することができる。
【００３７】更に、収納室に加熱された光ファイバ母材
を冷却するための冷却装置を装着したので、光ファイバ
母材の取出作業時に線引室内の光ファイバ母材を収納室
内に収納した状態で不活性ガスを供給して加熱した光フ
ァイバ母材を強制冷却することができ、安全性を向上す
ることができると共に作業人名を短縮することができ
る。
を冷却するための冷却装置を装着したので、光ファイバ
母材の取出作業時に線引室内の光ファイバ母材を収納室
内に収納した状態で不活性ガスを供給して加熱した光フ
ァイバ母材を強制冷却することができ、安全性を向上す
ることができると共に作業人名を短縮することができ
る。
【図１】本発明の一実施例に係る光ファイバの線引炉の
概略図である。
概略図である。
【図２】線引炉による光ファイバ線引工程を表す概略図
である。
である。
【図３】線引炉による光ファイバ線引工程を表す概略図
である。
である。
【図４】線引炉による光ファイバ線引工程を表す概略図
である。
である。
【図５】本発明の別の実施例に係る光ファイバの線引炉
の概略図である。
の概略図である。
【図６】線引炉による光ファイバ線引工程を表す概略図
である。
である。
【図７】線引炉による光ファイバ線引工程を表す概略図
である。
である。
【図８】線引炉による光ファイバ線引工程を表す概略図
である。
である。
【図９】従来の光ファイバの線引炉を表す概略図であ
る。
る。
１１，５１ 線引炉 １２ 炉本体 １３ 入口部 １４ 出口部 １５ 炉芯管 １６ ヒーター １７ シャッター １９，２０ ＣＯ−Ｏ2 濃度計 ２１，２２，５２ 枠体 ２７ 供給口 ２８ 排出口 ２９ 窒素ガス供給系 ４１ 光ファイバ母材 ４３ 光ファイバ Ａ 線引室 Ｂ 収納室
Claims (3)
- 【請求項１】 入口部と出口部とが形成されると共に内
部に加熱器が設けられて連続的に流入される不活性ガス
で満たされる線引室を有し、該線引室の入口部から挿入
される光ファイバ母材を加熱溶融してその出口部から光
ファイバを線引きする光ファイバの線引炉において、前
記線引室の入口部に連通する光ファイバ母材収納室を該
線引室に着脱自在に設けると共に前記線引室と該収納室
との間には開閉扉を設け、前記収納室には不活性流体を
供給する不活性流体供給系を接続したことを特徴とする
光ファイバの線引炉。 - 【請求項２】 入口部と出口部とが形成されると共に内
部に加熱器が設けられて連続的に流入される不活性ガス
で満たされる線引室を有し、該線引室の入口部から挿入
される光ファイバ母材を加熱溶融してその出口部から光
ファイバを線引きする光ファイバの線引炉において、前
記線引室の入口部に連通する光ファイバ母材収納室を該
線引室に着脱自在に設けると共に前記線引室と該収納室
との間には開閉扉を設け、前記収納室には不活性流体を
供給する不活性流体供給系を接続する一方、前記線引室
には炭素及び酸素の濃度変化を検出する濃度計を接続し
たことを特徴とする光ファイバの線引炉。 - 【請求項３】 入口部と出口部とが形成されると共に内
部に加熱器が設けられて連続的に流入される不活性ガス
で満たされる線引室を有し、該線引室の入口部から挿入
される光ファイバ母材を加熱溶融してその出口部から光
ファイバを線引きする光ファイバの線引炉において、前
記線引室の入口部に連通する光ファイバ母材収納室を該
線引室に着脱自在に設けると共に前記線引室と該収納室
との間には開閉扉を設け、前記収納室には加熱された前
記光ファイバ母材を冷却する冷却装置を装着したことを
特徴とする光ファイバの線引炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18893A JPH06199536A (ja) | 1993-01-05 | 1993-01-05 | 光ファイバの線引炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18893A JPH06199536A (ja) | 1993-01-05 | 1993-01-05 | 光ファイバの線引炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06199536A true JPH06199536A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=11467025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18893A Withdrawn JPH06199536A (ja) | 1993-01-05 | 1993-01-05 | 光ファイバの線引炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06199536A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0916623A1 (en) * | 1997-11-17 | 1999-05-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method and apparatus for storing, heating and drawing a glass preform |
| US5974838A (en) * | 1998-07-07 | 1999-11-02 | Alcatel | Optical fiber graphite furnace featuring an automatic shutter door system for feeding an optical preform |
| EP0963356A1 (en) * | 1996-10-25 | 1999-12-15 | Corning Incorporated | Apparatus and method for reducing breakage of fibers drawn from blanks |
| US6546756B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-04-15 | Corning Incorporated | Method of making an optical fiber, with storage in a new bag |
| US6640589B1 (en) | 1997-11-17 | 2003-11-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Glass base material drawing apparatus and method for drawing glass base material |
| US6668592B1 (en) * | 1998-04-03 | 2003-12-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber drawing furnace having adjustable partitions |
| US6735983B1 (en) * | 1998-11-13 | 2004-05-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber drawing method and drawing furnace |
| US6993937B2 (en) * | 1999-12-27 | 2006-02-07 | Alcatel | Preform inlet arrangement for an optical fiber drawing furnace, a furnace provided with that kind of inlet arrangement, and a preform equipped to co-operate with that inlet arrangement |
| EP2022766A3 (en) * | 2007-08-10 | 2011-03-23 | Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. | An apparatus for fabricating an optical fiber and a method for sealing a drawing furnace |
| CN104556675A (zh) * | 2013-10-15 | 2015-04-29 | 南京烽火藤仓光通信有限公司 | 单模光纤的制造方法 |
| CN115385565A (zh) * | 2021-05-21 | 2022-11-25 | 株式会社藤仓 | 玻璃部件的加热装置、玻璃部件的加热方法、以及使用其的光纤用母材的制造方法 |
-
1993
- 1993-01-05 JP JP18893A patent/JPH06199536A/ja not_active Withdrawn
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0963356A1 (en) * | 1996-10-25 | 1999-12-15 | Corning Incorporated | Apparatus and method for reducing breakage of fibers drawn from blanks |
| EP0963356A4 (en) * | 1996-10-25 | 2000-06-14 | Corning Inc | DEVICE AND METHOD FOR REDUCING THE BREAKAGE OF FIBERS DRAWN FROM PREFORMS |
| KR100511639B1 (ko) * | 1997-11-17 | 2006-02-13 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유리 모재 연신장치 및 그 방법_ |
| EP0916623A1 (en) * | 1997-11-17 | 1999-05-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method and apparatus for storing, heating and drawing a glass preform |
| EP1369393A3 (en) * | 1997-11-17 | 2004-01-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus for heating and drawing a glass preform |
| US6640589B1 (en) | 1997-11-17 | 2003-11-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Glass base material drawing apparatus and method for drawing glass base material |
| EP1369393A2 (en) * | 1997-11-17 | 2003-12-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus for heating and drawing a glass preform |
| US6668592B1 (en) * | 1998-04-03 | 2003-12-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber drawing furnace having adjustable partitions |
| US6810692B2 (en) | 1998-04-03 | 2004-11-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of controlling an upper portion of an optical fiber draw furnace |
| US5974838A (en) * | 1998-07-07 | 1999-11-02 | Alcatel | Optical fiber graphite furnace featuring an automatic shutter door system for feeding an optical preform |
| US6735983B1 (en) * | 1998-11-13 | 2004-05-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber drawing method and drawing furnace |
| US6546756B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-04-15 | Corning Incorporated | Method of making an optical fiber, with storage in a new bag |
| US6993937B2 (en) * | 1999-12-27 | 2006-02-07 | Alcatel | Preform inlet arrangement for an optical fiber drawing furnace, a furnace provided with that kind of inlet arrangement, and a preform equipped to co-operate with that inlet arrangement |
| EP2022766A3 (en) * | 2007-08-10 | 2011-03-23 | Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. | An apparatus for fabricating an optical fiber and a method for sealing a drawing furnace |
| US8322165B2 (en) | 2007-08-10 | 2012-12-04 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Apparatus for fabricating an optical fiber |
| CN104556675A (zh) * | 2013-10-15 | 2015-04-29 | 南京烽火藤仓光通信有限公司 | 单模光纤的制造方法 |
| CN115385565A (zh) * | 2021-05-21 | 2022-11-25 | 株式会社藤仓 | 玻璃部件的加热装置、玻璃部件的加热方法、以及使用其的光纤用母材的制造方法 |
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