JP2006273642A - シリコン単結晶引上装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】単結晶引上げのサイクルタイムの短縮あるいは融液流出による被害を最小限に食い止めることができるシリコン単結晶引上装置を提供する。
【解決手段】本シリコン単結晶引上装置は、炉本体に内装された石英ガラスルツボ内のシリコン溶液に種結晶を浸漬してシリコン単結晶を引上げるチョクラルスキー法を用いたシリコン単結晶引上装置において、前記石英ガラスルツボを支持、回転させる回転軸に不活性ガスを導入する不活性ガス導入孔が設けられ、前記不活性ガス導入孔は、不活性ガスの流入量を制御するガス導入制御手段を介して、不活性ガス供給装置に連通されている。
【選択図】 図1
【解決手段】本シリコン単結晶引上装置は、炉本体に内装された石英ガラスルツボ内のシリコン溶液に種結晶を浸漬してシリコン単結晶を引上げるチョクラルスキー法を用いたシリコン単結晶引上装置において、前記石英ガラスルツボを支持、回転させる回転軸に不活性ガスを導入する不活性ガス導入孔が設けられ、前記不活性ガス導入孔は、不活性ガスの流入量を制御するガス導入制御手段を介して、不活性ガス供給装置に連通されている。
【選択図】 図1
Description
本発明はチョクラルスキー法を用いたシリコン単結晶引上装置に係り、特に、シリコン単結晶の引上げ終了後あるいは引上工程中の緊急時、炉本体下部に不活性ガスを導入し、石英ガラスルツボの下部を冷却するシリコン単結晶引上装置に関する。
シリコン単結晶引上げには、一般的にチョクラルスキー法(CZ法)が用いられている。
CZ法によるシリコン単結晶の引上げは、チャンバーに内装された石英ガラスルツボに原料シリコンを収容し、加熱して融液にした後、この融液に種結晶を浸漬し馴染ませた後にネック部を育成し、これに続いて単結晶の引上げを行う。
近年、1回の引上げでより多くの製品部位(直胴部)を得ることのできる大チャージ・大口径化傾向にあり、引上げ終了からの冷却には多くの時間を要する。
しかし、従来のCZ法を用いた単結晶引上装置は、シリコン単結晶の引上工程の終了後、石英ガラスルツボ内に残留する融液が冷却するまでに長時間を要し、単結晶引上げのサイクルタイムが長くなり、生産性が低下する。
また、地震あるいは何らかの事故により融液が石英ガラスルツボから炉本体に流出した場合、従来の単結晶引上装置は、融液の冷却が自然冷却であるため、その表面から固化し、その際に体積膨張を起こし内部の固化していない融液が石英ガラスルツボから更に、流出し、石英ガラスルツボから支持軸を伝い、炉本体外に漏洩し、引上装置及び炉本体内部の部材、駆動装置等を破壊してしまうことがある。
なお、単結晶製造装置の冷却部位ごとに、それぞれ最適温度の冷却水を供給する冷却システムを設け、温度制御性すなわち応答性が向上し、結晶形状性、均一性を高め、さらに、生産性を高めることができる単結晶製造装置が数多く提案されている(特許文献1−3)。
特開平5−148081号公報
特開平5−208888号公報
特開平8−48594号公報
本発明は上述した事情を考慮してなされたもので、単結晶引上げのサイクルタイムの短縮あるいは融液流出による被害を最小限に食い止めることができるシリコン単結晶引上装置を提供することを目的とする。
上述した目的を達成するため、本発明に係るシリコン単結晶引上装置は、炉本体に内装された石英ガラスルツボ内のシリコン溶液に種結晶を浸漬してシリコン単結晶を引上げるチョクラルスキー法を用いたシリコン単結晶引上装置において、前記石英ガラスルツボを支持、回転させる回転軸に不活性ガスを導入する不活性ガス導入孔が設けられ、前記不活性ガス導入孔は、不活性ガスの流入量を制御するガス導入制御手段を介して、不活性ガス供給装置に連通されていることを特徴とする。
好適には、前記ガス導入制御手段は、シリコン単結晶の育成状態を検知する育成状態検知手段により制御される。
また、好適には、前記育成状態検知手段は、育成されたシリコン単結晶の重量を検知する重量検知センサーである。
また、好適には、前記育成状態検知手段は、育成されたシリコン単結晶の直径を検知するCCDカメラである。
また、好適には、前記不活性ガス導入孔は、前記石英ガラスルツボを支持する黒鉛ルツボと、前記石英ガラスルツボ内の原料シリコンを溶融するヒータの間を含んだ上方に向いた角度で設けられている。
本発明に係るシリコン単結晶の引上げ方法によれば、単結晶引上げのサイクルタイムの短縮あるいは融液流出による被害を最小限に食い止めることができるシリコン単結晶引上装置を提供することができる。
以下、本発明に係るシリコン単結晶引上装置の一実施形態について添付図面を参照して説明する。
図1は本発明に係るCZ法を用いたシリコン単結晶の引上方法に用いられるシリコン単結晶引上装置の概念図である。
図1に示すように、本発明に用いられるシリコン単結晶引上げ装置1は、監視窓2aを備えた気密性の炉本体2と、原料シリコン溶融用の石英ガラスルツボ3と、この石英ガラスルツボ3を支持する黒鉛ルツボ4と、原料シリコンを溶融するヒータ5と、このヒータ5、石英ガラスルツボ3および黒鉛ルツボ4を囲繞し保温する保温材6を備えている。
また、炉本体2には、この炉本体2内に不活性ガスGを導入する不活性ガス供給装置7、ガス導入制御手段7a及びガス導入管7bと、炉本体2の炉本体底部2bを貫通し、ルツボ回転昇降機構8により回転昇降自在なルツボ回転軸9と、このルツボ回転軸9の周囲に位置する不活性ガスGの排出口10が設けられている。
ルツボ回転軸9は、その上部には炉本体2下部に不活性ガスを導入する不活性ガス導入孔9aが多数設けられており、この不活性ガス導入孔9aは、ルツボ回転軸9はその下端部に設けられた気密カップリング11、不活性ガスの流入量を制御する下部ガス導入制御手段7cを介して不活性ガス供給装置7に連通されている。さらに、不活性ガス導入孔9aは、黒鉛ルツボ4と、ヒータ5の間を含んだ上方に向いた角度で設けられている。
また、炉本体2の上部には引上げ機構12が設けられ、さらに、この引上げ機構12には種結晶Sを固定するチャック13を具備するワイヤー14が昇降自在に設けられている。また、石英ガラスルツボ3の上方にはルツボ壁3aに対向して輻射シールド15が設けられ、この輻射シールド15は、引上げられるシリコン単結晶を同心円の軸として取り囲んでいる。
また、シリコン単結晶引上げ装置1には制御装置16が設けられ、この制御装置16にはヒータ5への入力を制御するヒータ入力制御器5a、ルツボ回転昇降機構8を制御するルツボ回転昇降制御器8a、引上げ機構12を制御する引上げ機構制御器12a、引上げ機構12に取付けられ、引上げられるシリコン単結晶の重量を検知する育成状態検知手段としての重量検知センサー12b、育成されたシリコン単結晶の直径を検知し育成状態検知手段としても機能するCCDカメラ17、シリコン融液の流出を検出するシリコン融液検出器18が接続されている。
なお、ガス導入制御手段7a及び下部ガス導入制御手段7cは例えばいずれも電磁開閉弁からなり、制御装置16からの開閉制御入力信号により開閉され、特に下部ガス導入制御手段7cは、シリコン単結晶の育成状態を検知する重量検知センサー12b、制御装置16を介して制御されるようになっている。
また、育成状態検知手段として重量検知センサー12bを用い、予め育成されたシリコン単結晶の重量と育成状態の相関を求め制御装置16に記憶させておき、シリコン単結晶の重量検知することで、育成状態を検知することができる。
なお、育成状態検知手段として、上記のように重量検知センサーを用いることに換えて、単結晶の直径を検知するCCDカメラを用いてもよい。
なお、このシリコン融液検出器18はシリコン融液が石英ガラスルツボから流出するのを検出するもので、炉本体底部2bに取付けられているがこれに限定されるものではない。例えば、融液の温度を検出する温度センサーあるいは重量を検出する重量センサーなどを用い、また、作業者が監視窓2aから目視で確認するようにすれば、必ずしも必要なものではない。
次に本発明に係るシリコン単結晶引上げ方法について説明する。
図1に示すように、石英ガラスルツボ3に原料シリコンを充填し、石英ガラスルツボ3の周囲に配置されたヒータ5により加熱して、融液Mにする。
しかる後、ガス導入制御手段7aを制御し、ガス導入管7bを介して不活性ガス供給装置7から炉本体2に不活性ガスGを導入し、ルツボ回転昇降機構8により石英ガラスルツボ3を回転させ、引上げ機構12のワイヤー14に設けられたチャック13に取付けられた種結晶を降下させて、融液Mに浸漬した後、引上げ機構12によりワイヤー14を巻取りチャック13を回転させながらシリコン単結晶の育成を行う。
この育成過程において、CCDカメラ17によりシリコン単結晶の直径を検知し、制御装置16を介して、単結晶引上げ速度、石英ガラスルツボ3の回転、上昇を制御して、ネック部、肩部、直胴部及び、テール部を育成する。また、重量検知センサー12bは、育成されたシリコン単結晶の重量を検知し、予め重量とネック部、肩部、直胴部及び、テール部との相関が記憶された制御装置16によりシリコン単結晶の育成状態が判断される。テール部の育成の終了が検知されて、シリコン単結晶の引上工程の終了が検知されると、制御装置16は、下部ガス導入制御手段7cを介して不活性ガス供給装置7を作動させ、不活性ガス導入孔9aを介して不活性ガスG1を炉本体下部に導入し、黒鉛ルツボ4の下部等を冷却する。このとき不活性ガス導入孔9aから炉本体下部に導入される不活性ガス量は、ガス導入管7bを介して炉本体2aに導入される不活性ガスを含む全体のガス量の50〜70%を導入するのが好ましい。
このような炉本体下部への不活性ガスの導入により、石英ガラスルツボ3内の残留融液の冷却を促進し、単結晶引上げのサイクルタイムを短縮することができる。また、炉本体下部への導入はルツボ回転軸9の不活性ガス導入孔9aを設け、不活性ガスの流入量を制御するガス導入制御手段を介して、不活性ガス供給装置に連通させることで可能となるため、新たに特別な装置を必要とせず、さらに、導入される不活性ガス量が増加することがない。
また、シリコン単結晶育成工程中に、何らかの事故が発生して育成を中止する場合にも、炉本体下部に不活性ガスG1を導入し、黒鉛ルツボ4の下部を冷却し、石英ガラスルツボ3内の融液の冷却を促進し、単結晶引上げのサイクルタイムを短縮することができる。
さらに、シリコン単結晶育成工程中に、石英ガラスルツボ3から融液が流出した場合には、シリコン融液検出器18によりあるいは作業員の目視により、炉本体下部に不活性ガスG1を導入し、流出した融液を急速に冷却して固化させ、ルツボ回転軸9を伝い炉体内下方へ流出するのを防止することができ、融液流出による引上装置の被害を最小限に食い止めることができる。
上記不活性ガス導入孔9aは、図1に示すように、黒鉛ルツボ4と、ヒータ5の間を含んだ上方に向いた角度で設けられていることが好ましい。このような構成とすることで、ヒータ5と同時に黒鉛ルツボ4を同時に冷却することができるので、単結晶引上げのサイクルタイムの短縮を抑制することができる。更に、融液流出による場合は、黒鉛ルツボ4と、ヒータ5の間で食い止めることができると共に、さらに、地震等により引上げている単結晶が落下し、石英ガラスルツボ3及び、黒鉛ルツボ4が割れた場合でも、その割れ目より融液の流出を抑制することができる。
上記実施形態のシリコン単結晶引上装置によれば、シリコン単結晶の引上工程の終了後、あるいは育成の緊急中止時、または、融液の石英ガラスルツボからの流出時、炉本体下部に不活性ガスを導入して、石英ガラスルツボの下部を冷却し、融液の冷却の促進を図り、単結晶引上げのサイクルタイムを短縮あるいは融液流出による被害を最小限に食い止めることが可能になる。
図1に示す単結晶引上げ装置を用いて、初期シリコン溶融量250kgの単結晶引上げにおいて、引上げ作業が終了した後(シリコン引上げ単結晶200kg)、下記のように条件を変え、冷却時間を調べた。
1)実施例:引上げ終了後炉内上方から不活性ガスの流入を毎分65リットルにし、回転軸の上部に設けたφ10〜15mmのガス流入口から毎分65リットルを流した。
2)比較例:引上げ終了後炉内上方のみから通常通り毎分130リットルの不活性ガスを流した。
1)実施例:引上げ終了後炉内上方から不活性ガスの流入を毎分65リットルにし、回転軸の上部に設けたφ10〜15mmのガス流入口から毎分65リットルを流した。
2)比較例:引上げ終了後炉内上方のみから通常通り毎分130リットルの不活性ガスを流した。
結果:ルツボ内に固化した残留シリコンが100℃になるまでの時間は、実施例が6時間、比較例が10時間で、実施例は従来例に比べて4時間サイクルタイムが短縮された。
1 シリコン単結晶引上装置
2 炉本体
2b 炉本体底部
3 石英ガラスルツボ
5 ヒータ
7 不活性ガス供給装置
8 ルツボ回転昇降機構
9 ルツボ回転軸
9a 不活性ガス導入孔
12 引上げ機構
12b 重量検知センサー
16 制御装置
17 CCDカメラ
18 シリコン融液検出器
2 炉本体
2b 炉本体底部
3 石英ガラスルツボ
5 ヒータ
7 不活性ガス供給装置
8 ルツボ回転昇降機構
9 ルツボ回転軸
9a 不活性ガス導入孔
12 引上げ機構
12b 重量検知センサー
16 制御装置
17 CCDカメラ
18 シリコン融液検出器
Claims (5)
- 炉本体に内装された石英ガラスルツボ内のシリコン溶液に種結晶を浸漬してシリコン単結晶を引上げるチョクラルスキー法を用いたシリコン単結晶引上装置において、前記石英ガラスルツボを支持、回転させる回転軸に不活性ガスを導入する不活性ガス導入孔が設けられ、前記不活性ガス導入孔は、不活性ガスの流入量を制御するガス導入制御手段を介して、不活性ガス供給装置に連通されていることを特徴とするシリコン単結晶引上装置。
- 前記ガス導入制御手段は、シリコン単結晶の育成状態を検知する育成状態検知手段により制御されることを特徴とする請求項1に記載のシリコン単結晶引上装置。
- 前記育成状態検知手段は、育成されたシリコン単結晶の重量を検知する重量検知センサーであることを特徴とする請求項2に記載のシリコン単結晶引上装置。
- 前記育成状態検知手段は、育成されたシリコン単結晶の直径を検知するCCDカメラであることを特徴とする請求項2に記載のシリコン単結晶引上装置。
- 前記不活性ガス導入孔は、前記石英ガラスルツボを支持する黒鉛ルツボと、前記石英ガラスルツボ内の原料シリコンを溶融するヒータの間を含んだ上方に向いた角度で設けられていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに1項に記載のシリコン単結晶引上装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005093934A JP2006273642A (ja) | 2005-03-29 | 2005-03-29 | シリコン単結晶引上装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005093934A JP2006273642A (ja) | 2005-03-29 | 2005-03-29 | シリコン単結晶引上装置 |
Publications (1)
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JP2005093934A Withdrawn JP2006273642A (ja) | 2005-03-29 | 2005-03-29 | シリコン単結晶引上装置 |
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JP (1) | JP2006273642A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101146695B1 (ko) * | 2009-01-21 | 2012-05-22 | 주식회사 엘지실트론 | 잔류 융액의 냉각 효율이 향상된 실리콘 단결정 제조장치 및 제조방법 |
CN115874269A (zh) * | 2023-03-08 | 2023-03-31 | 浙江求是半导体设备有限公司 | 单晶硅制备装置及其控制方法 |
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2005
- 2005-03-29 JP JP2005093934A patent/JP2006273642A/ja not_active Withdrawn
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