JPH06197198A - 画像記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】この発明は、複数の光ビームを同時に走査して
画像を出力する画像記録装置で濃度ムラを低減して高品
位な中間調画像を得ることを目的とする。 【構成】 この発明は、画像信号を閾値マトリクス２９
と２値化回路２８で比較してその比較結果によりＬＤ変
調回路３０で半導体レーザアレイ３０を駆動することに
よって複数の光ビームを変調し、この変調した複数の光
ビームを回転多面鏡により一括して走査し、この回転多
面鏡からの複数の光ビームにより中間調の画像を再現す
る画像記録装置において、閾値マトリクス２９の副走査
方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，前記光ビームの
数Ｍと，前記回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係をｎ／
（Ｎ×Ｍ）が１以上の整数になるように設定したもので
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は中間調の画像を再現する
画像記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真技術とレーザ走査技術とを組み
合わせたレーザプリンタ等の画像記録装置は、普通紙が
使用でき、高速で高品質な画像が得られるので、急速に
コンピュータの出力装置やデジタル複写機に用いられて
普及している。一般的なレーザプリンタは、回転多面鏡
を用いたレーザ走査光学系が設けられ、画像信号に応じ
て変調されたレーザ光を回転多面鏡により偏向してドラ
ム状の感光体を走査露光することで感光体上に静電潜像
を形成し、この静電潜像をトナーで現像した後に記録紙
に転写定着して出力画像を得ている。

【０００３】図２はレーザプリンタに用いられるレーザ
光学系の一例を示す。半導体レーザからなる光源１１が
変調回路により画像信号に応じて駆動され、この半導体
レーザ１１からのレーザビームがレンズ１２を介して回
転多面鏡１３により偏向される。回転多面鏡１３からの
レーザビームはｆθレンズからなる結像レンズ１４によ
りドラム状の感光体１５上に微小な光スポットとして結
像される。この光スポットは回転多面鏡１３と感光体１
５の回転により感光体１５を走査露光し、画像の静電潜
像を形成する。また、受光素子（同期検知素子）１６が
走査線上の走査開始側の画像領域外に配置されて結像レ
ンズ１４からのレーザビームを検知し、この受光素子１
６からの受光信号に基づいて主走査方向の画像書き込み
開始位置が制御される。

【０００４】このようなレーザ走査光学系を有する画像
記録装置において、中間調の画像をデジタル的に再現す
るために、画像信号を閾値マトリクスと比較して画像の
濃淡をドットの面積、すなわち閾値マトリクス内の記録
画素数に変換する面積階調方式である擬似中間調再現方
式が一般に用いられている。

【０００５】この擬似中間調再現方式は、例えば、画像
の１画素あるいは一定領域内の複数画素の濃淡を、中心
から外側に向かって漸次増加する閾値を有する閾値マト
リクスと比較し、閾値マトリクスの閾値より高い濃度部
分を黒として出力するようにしている。従って、画像の
濃淡は面積（率）の大小として再現される（擬似的に網
点を形成する）。次に、説明を簡単にするため、１画素
の画像信号を複数のドットで再現する場合を例にあげて
説明する。

【０００６】図３は４×４の閾値マトリクスの１例を示
すものであり、この閾値マトリクスと６つの反射面を有
する回転多面鏡を用いて擬似中間調再現方式により１２
階調目の濃度を有する画像を模式的に表現したものを図
４に示す。図４において、横軸は回転多面鏡によりレー
ザビームが走査される方向、すなわち主走査方向であ
り、縦軸は感光体が回転・移動する方向、すなわち副走
査方向（主走査方向と垂直な方向）を示し、左端に書か
れた数字１〜６はレーザビームの走査を行う回転多面鏡
の反射面の番号を示している。

【０００７】この場合、回転多面鏡の反射面倒れ誤差に
よりウォブル（回転多面鏡の反射面倒れ誤差、空気ゆら
ぎ等による副走査方向への画像のずれ）が発生すると、
十字型のパターンの副走査方向の長さが変動する。通
常、回転多面鏡の反射面倒れは回転多面鏡の１回転を周
期とする正弦波状の変動となるので、再現画像には副走
査方向に１２走査線を周期とする濃度ムラ（バンディン
グ）が生じ、画像品質が著しく劣化する。ここで、濃度
ムラの周期の１２走査線は副走査方向の閾値マトリクス
のサイズ４と回転多面鏡の反射面の面数６の最小公倍数
に相当する。

【０００８】このような濃度ムラを低減するために、レ
ーザ走査光学系において、コリメートレンズと回転多面
鏡との間に可変角プリズムを配設してその角度を電歪素
子（ピエゾ素子）で変化させることにより、光源から射
出されてコリメートレンズで平行光とされたレーザビー
ムを偏向し、記録面上での走査ピッチの変化を補正する
ようにした走査光学装置が特開昭６３ー３１３１１３号
公報に記載されている。

【０００９】一方、レーザプリンタにおいては、近年の
高速化の要求に対してレーザダイオードアレイ等を用い
て複数のレーザビームを同時に走査するマルチビーム走
査方式がある。レーザプリンタにおいて、１分間にＡ４
サイズの画像を１００枚出力するような光学系を実現す
るためには、感光体の速度Ｖ₀は５００mm／sec程度とな
り、また、１本のレーザビームのみを回転多面鏡で走査
する１ビーム走査方式では回転多面鏡の回転数Ｒ(rpm)
は以下の式で与えられる。

【００１０】 Ｒ(rpm)＝Ｖ₀×ＤＰＩ×６０／(２５．４×Ｎ)・・・・・(1) ここに、Ｖ₀は感光体の速度(mm／sec)、ＤＰＩは１イン
チ当りの記録密度で、一般的には３００〜４００であ
り、Ｎは回転多面鏡の反射面数で、一般的には５〜１０
である。

【００１１】(1)式にＶ₀＝５００、ＤＰＩ＝３００を代
入すると、Ｒは５９０５５(rpm)にもなる。回転多面鏡
はこのような高い回転数では回転軸を支える軸受として
従来のボールベアリングを使用できず、流体軸受，磁気
軸受等の特殊な軸受が必要となってコストアップにな
る。また、光源であるレーザ（半導体レーザ）の変調周
波数が高くなり、レーザ制御回路およびホストマシンか
らレーザ側へのデータ転送の高速化が必要になってコス
トアップになる。しかし、マルチビーム走査方式で複数
のレーザビームを一括して走査することによりレーザビ
ームの本数をＭ本とした場合は回転多面鏡の回転数およ
びレーザの変調周波数を１／Ｍとすることができ、大幅
なコストダウンを計ることができる。

【００１２】特開昭５９ー１１２７６３号公報には、そ
の一例として、複数個の半導体レーザからなる半導体レ
ーザアレイを光源とし、個々の半導体レーザからの出射
ビームの断面形状が隣接する点を記録媒体上に結像する
光学系、個々の半導体レーザを独立駆動する駆動回路を
有し、複数個の半導体レーザからのレーザビームを一括
して走査するレーザ情報記録装置が記載されている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】上記走査光学装置で
は、コリメートレンズと回転多面鏡との間に可変角プリ
ズムを配設してその角度を電歪素子で変化させることに
より、光源から射出されてコリメートレンズで平行光と
されたレーザビームを偏向し、記録面上での走査ピッチ
の変化を補正するので、レーザビームに対して可変角プ
リズムの角度を非常に精度良く高速に制御する必要があ
り、その制御系が複雑になるという欠点を有する。

【００１４】また、通常の１ビーム走査方式ではレーザ
ビームが回転多面鏡の反射面に副走査断面において垂直
に入射するが、マルチビーム走査方式ではレーザビーム
が回転多面鏡の反射面に対してわずかに角度をもって入
射する。すなわち、一般的には、図５に示すように同時
に走査される複数本のレーザビームのうちで端の方のレ
ーザビームほど（ｆθレンズの光軸から離れるほど）走
査線の湾曲が大きくなる。従って、このようなレーザ走
査光学系を用いて画像記録を行った場合、走査線の副走
査方向の走査位置ずれはレーザビームの本数Ｍを周期と
して変動する。この走査位置ずれも、やはり記録媒体
（感光体）上では露光ムラとなり、画像上では中間調画
像における濃度ムラとなって顕在化する。さらに、マル
チビーム走査方式では上述した回転多面鏡の反射面倒れ
による走査位置ずれの周期をＭ倍にする作用があり、従
って、回転多面鏡の反射面倒れによる濃度変動が１ビー
ム走査方式より低周波のものとなり、視覚的に目立つよ
うになる。

【００１５】本発明は、上記欠点を改善し、複数の光ビ
ームを同時に走査して画像を出力する画像記録装置であ
って濃度ムラを低減できて高品位な中間調画像を得るこ
とができる構成簡単な画像記録装置を提供することを目
的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明は、画像信号を閾値マトリクス
と比較してその比較結果により複数の光ビームを変調
し、この変調した複数の光ビームを回転多面鏡により一
括して走査し、この回転多面鏡からの複数の光ビームに
より中間調の画像を再現する画像記録装置において、前
記閾値マトリクスの副走査方向のサイズまたは繰り返し
周期ｎと，前記光ビームの数Ｍと，前記回転多面鏡の反
射面数Ｎとの関係をｎ／（Ｎ×Ｍ）が１以上の整数にな
るように設定したものである。

【００１７】請求項２記載の発明は、画像信号を閾値マ
トリクスと比較してその比較結果により複数の光ビーム
を変調し、この変調した複数の光ビームを回転多面鏡に
より一括して走査し、この回転多面鏡からの複数の光ビ
ームにより中間調の画像を再現する画像記録装置におい
て、前記閾値マトリクスの副走査方向のサイズまたは繰
り返し周期ｎと，前記光ビームの数Ｍと，前記回転多面
鏡の反射面数Ｎとの関係を（Ｎ×Ｍ）／ｎが２以上の整
数になるように設定したものである。

【００１８】請求項３記載の発明は、請求項２記載の画
像形成装置において、ｎ／Ｍを１以上の整数に設定した
ものである。

【００１９】請求項４記載の発明は、画像信号を閾値マ
トリクスと比較してその比較結果により複数の光ビーム
を変調し、この変調した複数の光ビームを回転多面鏡に
より一括して走査し、この回転多面鏡からの複数の光ビ
ームにより中間調の画像を再現する画像記録装置におい
て、前記閾値マトリクスの副走査方向のサイズまたは繰
り返し周期ｎと，前記回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係
をＮ／ｎが２になるように設定し、かつ、前記回転多面
鏡の回転位置を検知する検知手段と、この検知手段の検
知信号により前記回転反射鏡の反射面のうち面倒れ誤差
が小さい相対する２つの反射面を中間調画像の網点中心
部に対応付ける対応付け手段とを備えたものである。

【００２０】請求項５記載の発明は、画像信号を閾値マ
トリクスと比較してその比較結果により複数の光ビーム
を変調し、この変調した複数の光ビームを回転多面鏡に
より一括して走査し、この回転多面鏡からの複数の光ビ
ームにより中間調の画像を再現する画像記録装置におい
て、前記閾値マトリクスの副走査方向のサイズまたは繰
り返し周期ｎと，前記光ビームの数Ｍと，前記回転多面
鏡の反射面数Ｎとの関係を（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝２に設定
し、かつ、前記回転多面鏡の回転位置を検知する検知手
段と、この検知手段の検知信号により前記回転反射鏡の
反射面のうち面倒れ誤差が小さい２つの反射面を中間調
画像の網点中心部に対応付ける対応付け手段とを備えた
ものである。

【００２１】請求項６記載の発明では、請求項５記載の
画像記録装置において、ｎ／Ｍを１以上の整数に設定し
たものである。

【００２２】

【作用】請求項１記載の発明では、閾値マトリクスの副
走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，光ビームの
数Ｍと，回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係をｎ／（Ｎ×
Ｍ）が１以上の整数になるように設定してある。このた
め、回転多面鏡の面倒れによる走査線のピッチ変動で画
素面積が変動することがなく、副走査方向に濃度ムラの
ない均一な濃度の中間調画像が得られ、かつ簡単な構成
となる。また、閾値マトリクスの副走査方向のサイズま
たは繰り返し周期ｎが必然的に複数本の光ビームの回転
多面鏡による走査に起因する走査線曲がりによる走査線
のピッチ変動の周期Ｍの整数倍となり、走査線曲がりに
よる走査線のピッチ変動によって副走査方向の濃度ムラ
が発生することがない。

【００２３】請求項２記載の発明では、閾値マトリクス
の副走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，光ビー
ムの数Ｍと，回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係を（Ｎ×
Ｍ）／ｎが２以上の整数になるように設定してある。こ
のため、回転多面鏡の面倒れによる低周波の濃度変動が
起こらず、濃度変動の目立たない高品位な中間調画像が
得られる。

【００２４】請求項３記載の発明では、請求項２記載の
画像形成装置において、ｎ／Ｍを１以上の整数に設定し
てある。このため、走査線曲がりによる走査線のピッチ
変動によって副走査方向の濃度ムラが発生することがな
い。

【００２５】請求項４記載の発明では、閾値マトリクス
の副走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，前記回
転多面鏡の反射面数Ｎとの関係をＮ／ｎが２になるよう
に設定してあり、回転多面鏡の回転位置が検知手段によ
り検知される。この検知手段の検知信号により対応付け
手段が回転反射鏡の反射面のうち面倒れ誤差が小さい相
対する２つの反射面を中間調画像の網点中心部に対応付
ける。従って、回転多面鏡の面倒れによる走査線のピッ
チ変動によって発生する濃度ムラが良好に低減され、副
走査方向の濃度ムラの少ない高品位の中間調画像が得ら
れる。また、閾値マトリクスの副走査方向のサイズまた
は繰り返し周期ｎが必然的に複数本の光ビームの回転多
面鏡による走査に起因する走査線曲がりによる走査線の
ピッチ変動の周期Ｍの整数倍となり、走査線曲がりによ
る走査線のピッチ変動によって副走査方向の濃度ムラが
発生することがない。

【００２６】請求項５記載の発明では、閾値マトリクス
の副走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，光ビー
ムの数Ｍと，回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係を（Ｎ×
Ｍ）／ｎ＝２に設定してあり、回転多面鏡の回転位置が
検知手段により検知される。この検知手段の検知信号に
より対応付け手段が回転反射鏡の反射面のうち面倒れ誤
差が小さい２つの反射面を中間調画像の網点中心部に対
応付ける。従って、回転反射鏡の面倒れによる走査線の
ピッチ変動によって発生する濃度ムラが良好に低減さ
れ、副走査方向の濃度ムラのない高品位の中間調画像が
得られる。

【００２７】請求項６記載の発明では、請求項５記載の
画像記録装置において、ｎ／Ｍを１以上の整数に設定し
てある。このため、走査線曲がりによる走査線ピッチ変
動によって発生する副走査方向の濃度ムラが発生しな
い。

【００２８】

【実施例】図６〜図８はレーザ走査光学系の一例の一部
を示す。この例はマルチビーム走査方式であり、光源と
しての半導体レーザアレイ２１において副走査方向にわ
ずかに離れた複数の発光点から出射される複数本のレー
ザビームはコリメートレンズ２２によりそれぞれ略平行
光とされ、シリンダレンズ２３により回転多面鏡２４の
反射面近傍に副走査方向において絞り込まれる。コリメ
ートレンズ２２，シリンダレンズ２３の光軸上にあるレ
ーザビームは回転多面鏡２４の反射面２４ａへ副走査方
向に垂直に入射し、他のレーザビームはそれよりわずか
に傾いた角度で回転多面鏡２４の反射面に入射する。

【００２９】回転多面鏡２４は回転によりシリンダレン
ズ２３からのレーザビームを偏向走査し、回転多面鏡２
４からのレーザビームはｆθレンズからなる結像レンズ
２５により感光体からなる記録媒体２６上に微小な光ス
ポットとして、かつ、各光スポットが副走査方向におい
て記録密度に応じた所定のピッチとなるように結像され
て静電潜像が記録媒体２６上に形成される。記録媒体２
６はモータにより駆動されて副走査方向に回転移動す
る。

【００３０】結像レンズ２５は主走査方向と副走査方向
とで焦点距離が異なるアナモフィックｆθレンズであっ
て、副走査方向において回転多面鏡２４の反射面と記録
媒体２６が幾何学的に略共役となるようにされ、回転多
面鏡２４の各反射面の回転軸に対する角度誤差（反射面
の倒れ）による走査位置ずれに起因する走査線のピッチ
変動を低減する働きをする。しかし、この幾何学的な共
役関係は完全なものとすることはできないので、結像レ
ンズ２５の補正により走査線のピッチ変動を完全になく
すことはできない。なお、シリンダレンズ２３は記録媒
体２６上での副走査方向のレーザビーム径を制御する働
きを持つ。また、受光素子（同期検知素子）２７は走査
線上の走査開始側の画像領域外に設置されて結像レンズ
２５からのレーザビームを検出し、受光素子２７からの
出力信号が同期信号として出力されてこの同期信号に基
づいて主走査方向の画像書き込み開始位置が制御され
る。

【００３１】回転多面鏡２４は図９に示すようにレーザ
ビームを偏向走査するポリゴンミラー３１と、これを回
転させるスキャナモータ３２により構成され、回転多面
鏡２４の反射面の倒れはポリゴンミラー３１の反射面３
１ａの基準面３１ｂに対する直角度のバラツキとスキャ
ナモータ３２のロータ上のポリゴンミラー取付面３２ｃ
のスラスト方向の触れによって発生する。この回転多面
鏡２４の反射面の倒れの２つの要因はそれぞれ加工誤差
によるものがほとんどで（例えばポリゴンミラー加工時
のポリゴンミラー３１の内径の中心軸と加工軸とのクリ
アランスによる倒れ、スキャナモータ３２のロータを旋
盤で加工する際のチャッキングにおける傾きなどで）、
回転多面鏡２４の反射面の倒れは回転多面鏡２４の１回
転を周期とする正弦波状となる。図１０は６つの反射面
を有する回転多面鏡の反射面の倒れを模式的に表したも
のである。

【００３２】本発明の第１の実施例は、請求項１記載の
発明の実施例であり、上記レーザ走査光学系において半
導体レーザアレイ２１を２つの半導体レーザからなる半
導体レーザアレイとし、かつ、回転多面鏡２４の反射面
を４面としたものを用いている。以下、この第１の実施
例について説明する。

【００３３】図１に示すように入力された画像信号は２
値化回路２８により閾値マトリクス２９と比較されて２
値化されることにより、画像の濃淡がドットの面積、す
なわち閾値マトリクス２９内の記録画素数に変換され
る。ＬＤ変調回路３０は２値化回路２８からの画像信号
により上記同期信号に基づいたタイミングで半導体レー
ザアレイ２１の各半導体レーザを駆動制御し、これらの
半導体レーザから画像信号で強度変調されたレーザビー
ムが射出されて記録媒体２６上に画像の静電潜像が形成
される。この記録媒体２６上の静電潜像は図示しない
が、現像装置によりトナーで現像されて転写装置により
記録紙に転写された後に定着装置で定着されて出力画像
が得られる。

【００３４】図１１は閾値マトリクス２９の構成を示
し、図１２及び図１３は記録媒体２６に露光すべき本来
の画像の濃度レベル（画像信号）と，記録媒体２６の露
光パターンの例を示す。第１の実施例では、光源２１か
ら射出されるレーザビームの本数Ｍが２本、回転多面鏡
の反射面数Ｎが４、閾値マトリクス２９のサイズが８
（主走査方向）×８（副走査方向）であり、画像の濃度
レベルに応じて記録媒体２６上における網点内の（黒）
ドット数、すなわち網点面積が設定される。回転多面鏡
２４は各反射面で２本のレーザビームを同時に走査する
ので、回転多面鏡２４の反射面倒れによる副走査方向の
走査位置ずれの周期はＮ×Ｍ＝４×２＝８（走査線）の
周期となる。従って、回転多面鏡２４の反射面倒れによ
る副走査方向の走査位置ずれの周期と副走査方向の閾値
マトリクス２９のサイズが同一となり、各網点が走査線
のピッチずれによって受ける影響が同一となる。

【００３５】具体的には図１４に示すように副走査方向
の走査位置ずれは回転多面鏡２４の番号２の反射面で＋
側になり、回転多面鏡２４の番号４の反射面で＋側にな
る。これにより、図１２に示すような画像の十字型パタ
ーン（ここでは１２階調目のパターン）が図１３に示す
ように副走査方向に変形するが、各十字型パターンが同
一の変形をする。従って、回転多面鏡２４の反射面倒れ
による走査線のピッチ変動によって同一濃度レベルにお
ける各網点間で網点面積（網点形状も）の変動がなく、
均一な濃度の出力画像が得られる。

【００３６】また、第１の実施例ではＭ＝２，Ｎ＝４で
閾値マトリクスの副走査方向のサイズまたは繰り返し周
期ｎをｎ＝８としたが、Ｍ＝２，Ｎ＝４の場合にｎ＝１
６，２４，・・・（ｎ／（Ｎ×Ｍ）＝２，３，・・・）
としても第１の実施例と同様な効果が得られることは明
らかである。すなわち、これらの場合にも、ｎが回転多
面鏡２４の反射面倒れによる副走査方向の走査位置ずれ
の周期の整数倍となり、回転多面鏡２４の反射面倒れに
よる走査位置ずれによって各網点間で網点面積が変動し
ない。また、Ｍ＝２，Ｎ＝４の場合に限らず、ｎ／（Ｎ
×Ｍ）＝整数（１以上の整数）の条件を満たせば同様な
効果が得られる。

【００３７】さらに、ｎ／（Ｎ×Ｍ）＝整数（１以上の
整数）の場合、ｎ／Ｍも必然的に整数となる。すなわ
ち、副走査方向の閾値マトリクスのサイズｎがレーザビ
ーム数Ｍの整数倍となり、走査線曲がりによる副走査方
向の走査位置ずれによつて同一濃度レベルにおける各網
点間で網点面積が（網点形状も）変動することがない。
従って、回転多面鏡２４の反射面倒れ及び走査線曲がり
による濃度ムラのない極めて高品位の中間画像を得るこ
とができる。また、複数本のレーザビームを回転多面鏡
２４により同時に偏向走査するので、通常の１ビーム走
査方式のものに比べて著しく記録速度を向上させること
ができる。

【００３８】次に本発明の第２の実施例について説明す
る。この第２の実施例は、請求項２記載の発明の実施例
であり、上記第１の実施例において、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝
整数（２以上の整数）、すなわち、レーザビーム数Ｍ×
回転多面鏡の反射面数Ｎを閾値マトリクスの副走査方向
のサイズまたは繰り返し周期ｎの整数倍に設定した。従
って、前述のようにＭ＝１の１ビーム走査方式ではｎと
Ｎの最小公倍数の走査線を周期とする出力画像の濃度ム
ラが発生するが、Ｍ≧２のマルチビーム走査方式では回
転多面鏡の反射面倒れ誤差による走査位置ずれの周期は
Ｎ×Ｍの走査線の周期となる。このため、通常は、回転
多面鏡の反射面倒れ誤差により引き起こされる濃度ムラ
は、Ｎ×Ｍとｎの最小公倍数（＞Ｎ×Ｍ）の走査線を周
期とする低周波の濃度ムラとなり、これは視覚上非常に
目立つものとなる。しかし、第２の実施例では、（Ｎ×
Ｍ）／ｎ＝整数（２以上の整数）に設定したので、Ｎ×
Ｍとｎの最小公倍数をＮ×Ｍとすることができ、回転多
面鏡の反射面倒れ誤差により引き起こされる濃度ムラの
周期がＮ×Ｍの走査線の周期となって低周波の濃度ムラ
が発生することがない。

【００３９】第２の実施例では、具体的には第１の実施
例において、閾値マトリクス２９として図１５に示すよ
うに３（主走査方向）×３（副走査方向）の閾値マトリ
クスを用い、かつ回転多面鏡２４としてが６つの反射面
数を有するものを用いてｎ＝３，Ｎ＝６とした。レーザ
ビーム数Ｍは２であるから、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝４とな
り、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝整数（２以上の整数）の条件を満
たしている。回転多面鏡２４の反射面倒れにより図１０
に示すような副走査方向の走査位置ずれが生じ、これは
回転多面鏡２４の番号２，３の反射面で＋側に生じて回
転多面鏡２４の番号５，６の反射面で−側に生ずる。そ
して、画像の十字型パターン（ここでは５階調目のパタ
ーン）は走査位置ずれがない場合には図１６に示すよう
になるが、上記走査位置ずれにより図１７に示すように
副走査方向に変形する。この変形は１２走査線を周期と
するもので、画像の濃度ムラの周期も１２走査線の周期
となり、低周波の濃度ムラが発生することがない。これ
に対して例えば５×５の閾値マトリクスを用いてｎ＝５
とした場合にはＮ×Ｍ＝１２とｎ＝５の最小公倍数６０
の走査線を周期としする低周波で視覚的に目立つ濃度ム
ラが発生する。

【００４０】次に、本発明の第３の実施例について説明
する。この第３の実施例は請求項３記載の発明の実施例
であり、上記第２の実施例において、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝
整数（２以上の整数）、すなわち、レーザビーム数Ｍ×
回転多面鏡の反射面数Ｎを閾値マトリクスの副走査方向
のサイズまたは繰り返し周期ｎの整数倍に設定し、か
つ、ｎ／Ｍを１以上の整数に設定したものである。した
がって、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝整数（２以上の整数）に設定
したことにより第２の実施例と同様に回転多面鏡２４の
反射面倒れにより低周波の濃度ムラが発生することがな
い。

【００４１】また、ｎ／Ｍを１以上の整数に設定したの
で、マルチビーム走査方式による走査線曲がりで副走査
方向の濃度ムラが発生しない。すなわち、マルチビーム
走査方式による走査線曲がりによって走査位置ずれが発
生するが、その周期はＭ本の走査線の周期である。従っ
て、副走査方向の閾値マトリクスのサイズｎをＭの整数
倍（１以上の整数）とすることにより、画像の各網点は
走査線曲がりによる走査位置ずれの影響を整数回ずつ受
けることになり、各網点間でその面積が（形状も）変動
せず、均一な中間調画像を得ることができる。

【００４２】第３の実施例では、具体的には上記第２の
実施例において、閾値マトリクス２９として図１８に示
すように４（主走査方向）×４（副走査方向）の閾値マ
トリクスを用いるようにしたものであり、ｎ＝４，Ｎ＝
６，Ｍ＝２で、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝３，ｎ／Ｍ＝２となっ
て（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝整数（２以上の整数）及びｎ／Ｍ＝
整数（１以上の整数）の条件を満たしている。

【００４３】十字型の画像パターン（１２階調目）は走
査位置ずれがない場合には図１９に示すように変形が生
じないが、回転多面鏡２４の反射面倒れにより図１０に
示すように副走査方向の走査位置ずれが生ずて十字型の
画像パターン（１２階調目）が図２０に示すように変形
する。この変形は１２走査線を周期とするもので、濃度
ムラの周期も１２走査線の周期となって低周波の濃度ム
ラが発生しない。

【００４４】また、２本のレーザビームを回転多面鏡２
４で同時に走査することによる図２２に示すような走査
線曲がりによって図２３に示すように走査位置ずれが生
ずる。すなわち、走査線間隔の最小となる位置（主走査
方向における画像の中央部）を基準として２本のレーザ
ビームの間の副走査方向の距離を設定した場合、画像の
両端部において走査位置ずれは２走査線を１周期として
交互に＋方向と−方向に発生する。しかし、図２１に示
すようにその走査位置ずれにより各網点間でその面積が
変動することがなく、走査曲がりによる濃度ムラが発生
しない。なお、閾値マトリクスの副走査方向の繰り返し
周期ｎとは副走査方向における網点中心間距離のことで
ある。

【００４５】次に、本発明の第４の実施例について説明
する。この第４の実施例は、請求項４記載の発明の実施
例であり、上記第１の実施例において、図２４に示すよ
うに回転多面鏡２４として６つの反射面数を有するもの
が用いられてＮ＝６とされ、反射型センサからなる回転
位置センサ３３はポゴンミラー３１上に付けられたマー
クを検出することにより回転多面鏡２４の回転位置を検
出する。この回転位置センサ３３は反射型センサに限ら
ず回転多面鏡２４の回転位置、すなわち、走査に使用さ
れる反射面２４ａを検出するものであればよく、スキャ
ナモータ３２側に取り付けられていてもよい。

【００４６】図１０に示すように回転多面鏡２４の反射
面倒れは回転多面鏡２４の１回転を周期とした正弦波に
近いものとなる。従って、偶数の面数を有する回転多面
鏡２４においては、倒れの小さい反射面が２つ存在し、
この２つの反射面は互いに向き合った（相対した）反射
面となる。この２つの反射面は番号１，４の反射面に相
当する。

【００４７】図２５は中間調画像を再現するための閾値
マトリクス２９の例を示す。この閾値マトリクス２９は
３（主走査方向）×３（副走査方向）の閾値マトリクス
であり、ドット集中型の構成になっている。副走査方向
の閾値マトリクス２９のサイズｎは回転多面鏡２４の反
射面数または繰り返し周期Ｎの半分に設定されており
（Ｎ／ｎ＝２）、回転多面鏡２４の番号１，４の反射面
によるレーザビームの走査により閾値マトリクス２９の
２行目に対応する画像が形成され、すなわち、網点の中
心部が形成される。従って、網点の中心部を回転多面鏡
２４における倒れによる走査位置ずれの小さい反射面の
レーザビーム走査により形成するので、画像において回
転多面鏡２４の反射面倒れ誤差による濃度ムラを低減す
ることができる。

【００４８】図２６〜２８は３（主走査方向）×３（副
走査方向）の閾値マトリクスを用いた場合の１階調目の
網点パターン（点線）を模式的に示す。図２６は回転多
面鏡２４の反射面倒れがない場合であり、図２７は回転
多面鏡２４の反射面倒れがあり、かつ、回転多面鏡２４
の倒れの小さい反射面で網点の中心部を形成した場合
（第４の実施例の場合）であり、図２７は回転多面鏡２
４の倒れの大きい反射面で網点の中心部を形成した場合
である。この図２６〜２８から明らかなように図２８の
場合は網点中心の間隔が変動するので、１２走査線の周
期で濃度ムラが顕著に現れる。図２７に示すように第４
の実施例では網点中心の間隔の変動が小さいので、１２
走査線の周期の濃度ムラがさほど目立たない。

【００４９】図４４〜４６は同様に３（主走査方向）×
３（副走査方向）の閾値マトリクスを用いた場合の５階
調目の網点パターン（点線）を模式的に示す。この５階
調目の出力画像は１階調目の出力画像と同様である。な
お、第４の実施例において、実際の露光条件で得られる
濃度分布をシミュレーションによって求め、これを周波
数分析したところ、副走査方向における１２走査線の周
期の濃度ムラが黒（白）ベタを除く全ての階調（１〜
８）で半分以下に低減した。

【００５０】回転多面鏡２４の反射面数Ｎが偶数で、副
走査方向の閾値マトリクスのサイズまたは繰り返し周期
ｎが回転多面鏡２４の反射面数Ｎの半分であれば、網点
の中心部を回転多面鏡２４の反射面倒れ誤差による走査
位置ずれの小さい反射面のレーザビーム走査で形成する
ことにより同様な効果が得られる。

【００５１】次に、第４の実施例において、実際に回転
多面鏡２４の倒れ誤差の小さい反射面と，網点の中心部
とを対応付ける手段について説明する。図４７及び図４
８に示すように入力された画像信号は２値化回路３４に
より閾値マトリクス２９と比較されて２値化されること
により、画像の濃淡がドットの面積、すなわち閾値マト
リクス２９内の記録画素数に変換される。ＬＤ変調回路
３０は２値化回路３４からの画像信号により半導体レー
ザアレイ２１の各半導体レーザを駆動制御し、これらの
半導体レーザから画像信号で強度変調されたレーザビー
ムが射出されて記録媒体２６上に画像の静電潜像が形成
される。この記録媒体２６上の静電潜像は図示しない
が、現像装置によりトナーで現像されて転写装置により
記録紙に転写された後に定着装置で定着されて出力画像
が得られる。

【００５２】この時、面選択回路３５は回転位置センサ
３３からの回転位置検出信号と同期検出素子２７からの
同期信号により回転多面鏡２４のレーザビーム偏向走査
に用いられる反射面２４ａを、回転多面鏡２４の倒れ誤
差の小さい反射面と網点の中心部とが対応して走査線の
位置ずれによる濃度ムラが低減されるように選択して面
選択信号を発生し、この面選択信号に合わせて２値化回
路３４が画像信号の２値化を行う。従って、回転多面鏡
２４の倒れ誤差の小さい反射面と網点の中心部とが対応
して走査線の位置ずれによる濃度ムラが低減されること
になる。この場合、予めポリゴンミラー３３の反射面倒
れを測定しておき、その測定データに基づいてポリゴン
ミラー３３にマーク（回転位置センサ３３で検出される
マーク）を付けておけばよい。また、回転位置センサ３
３の代りに回転多面鏡２４の反射面倒れを検出するため
の検出手段を同期検知素子２７と一体的にまたは別体と
して設置し、この検出手段からの信号と同期検出素子２
７からの同期信号により回転多面鏡２４のレーザビーム
偏向走査に用いられる反射面２４ａを走査線の位置ずれ
による濃度ムラが低減されるように選択して面選択信号
を発生するようにしてもよい。

【００５３】次に、本発明の第５の実施例について説明
する。この第５の実施例は請求項５記載の発明の実施例
であり、上記第４の実施例において、ビーム数Ｍと回転
他面鏡２４の反射面数Ｎの積が偶数に設定され、すなわ
ち、ＮとＭのいずれか一方又は両方が偶数に設定され
（Ｎが奇数に設定することも可能であり）、かつ、Ｍ×
Ｎの半分が閾値マトリクス２９の副走査方向のサイズま
たは繰り返し周期ｎに等しく設定されている。

【００５４】具体的には回転多面鏡２４は５つの反射面
を有するものが用いられ、閾値マトリクス２９として図
２９に示すように５（主走査方向）×５（副走査方向）
の閾値マトリクスが用いられている。すなわち、Ｎ＝
５，ｎ＝５，Ｍ＝２であり、Ｍ×Ｎ／２＝ｎ＝２であ
る。回転多面鏡２４の反射面倒れにより図３０に示すよ
うな副走査方向の走査位置ずれが生ずる。この副走査方
向の走査位置ずれ（反射面の倒れ）は回転多面鏡２４の
番号１の反射面で最小となり、回転多面鏡２４の番号
３，４の反射面で次に小さくなり、回転多面鏡２４の番
号２，５の反射面で最大となる。この場合、面選択回路
３５は回転位置センサ３３からの回転位置検出信号と同
期検出素子２７からの同期信号により回転多面鏡２４の
レーザビーム偏向走査に用いられる反射面２４ａを、回
転多面鏡２４の番号１の反射面と，番号３もしくは４の
反射面とによるレーザビームの走査で網点中心部が形成
されるように選択して面選択信号を発生し、この面選択
信号に合わせて２値化回路３４が画像信号の２値化を行
う。従って、回転多面鏡２４の倒れ誤差の小さい反射面
と網点の中心部とが対応して走査線の位置ずれによる濃
度ムラが低減されることになる。

【００５５】図３１〜３３は５（主走査方向）×５（副
走査方向）の閾値マトリクスを用いた場合の５階調目の
網点パターン（点線）を模式的に示す。図３１は回転多
面鏡２４の反射面倒れがない時の網点パターンであり、
図３２は回転多面鏡２４の倒れの小さい反射面で網点の
中心部を形成した時（第５の実施例の場合）の網点パタ
ーンであり、図３３は回転多面鏡２４の倒れの大きい反
射面で網点の中心部を形成した時の網点パターンであ
る。この図３１〜３３から明らかなように図３３の場合
は網点中心の間隔が変動するので、１０走査線の周期で
濃度ムラが顕著に現れる。図３２に示すように第５の実
施例では網点中心の間隔の変動が小さいので、１０走査
線の周期の濃度ムラがさほど目立たない。

【００５６】また、本発明の第６の実施例では、上記第
５の実施例において、回転多面鏡２４として６つの反射
面を有するものが用いられ、閾値マトリクス２９の副走
査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎが６とされて図３
５に示すような６（主走査方向）×６（副走査方向）の
閾値マトリクスが用いられている。この第６の実施例で
は、回転多面鏡２４の反射面倒れにより図３４に示すよ
うな副走査方向の走査位置ずれが生ずる。この副走査方
向の走査位置ずれ（反射面の倒れ）は回転多面鏡２４の
番号１，４の反射面で最小となる。この場合、面選択回
路３５は回転位置センサ３３からの回転位置検出信号と
同期検出素子２７からの同期信号により回転多面鏡２４
のレーザビーム偏向走査に用いられる反射面２４ａを、
回転多面鏡２４の番号１，４の反射面によるレーザビー
ムの走査で網点中心部が形成されるように選択して面選
択信号を発生し、この面選択信号に合わせて２値化回路
３４が画像信号の２値化を行う。従って、回転多面鏡２
４の倒れ誤差の小さい反射面と網点の中心部とが対応し
て走査線の位置ずれによる濃度ムラが低減されることに
なる。

【００５７】図３６〜３８は６（主走査方向）×６（副
走査方向）の閾値マトリクスを用いた場合の１２階調目
の網点パターン（点線）を模式的に示す。図３６は回転
多面鏡２４の反射面倒れがない時の網点パターンであ
り、図３７は回転多面鏡２４の倒れの小さい番号１，４
の反射面で網点の中心部を形成した時（第６の実施例の
場合）の網点パターンであり、図３８は回転多面鏡２４
の倒れの大きい反射面で網点の中心部を形成した時の網
点パターンである。この図３６〜３８から明らかなよう
に図３８の場合は網点中心の間隔が変動するので、１２
走査線の周期で濃度ムラが顕著に現れる。図３７に示す
ように第６の実施例では網点中心の間隔の変動が小さい
ので、１２走査線の周期の濃度ムラがさほど目立たな
い。

【００５８】請求項５記載の発明は、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝
２に設定するもので、回転多射鏡２４の反射面数Ｎを６
に限るものではなく、また、ビーム数ｎも２に限らな
い。例えばＮ：Ｍ：ｎは４：２：４，４：３：６，４：
４：８，５：２：５，５：４：１０，５：８：２０，
６：２：６，６：３：９，６：４：１２などに設定する
ことができる。そして、面選択回路３５は回転位置セン
サ３３からの回転位置検出信号と同期検出素子２７から
の同期信号により回転多面鏡２４のレーザビーム偏向走
査に用いられる反射面２４ａを、回転多面鏡２４の倒れ
誤差の小さい反射面と網点の中心部とが対応して走査線
の位置ずれによる濃度ムラが低減されるように選択して
面選択信号を発生し、この面選択信号に合わせて２値化
回路３４が画像信号の２値化を行う。このため、回転多
面鏡２４の倒れ誤差の小さい反射面と網点の中心部とが
対応して走査線の位置ずれによる濃度ムラが低減される
ことになる。

【００５９】次に、本発明の第７の実施例について説明
する。この第７の実施例は、請求項６記載の発明の実施
例であり、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝２に設定され、かつ、ｎ／
Ｍが１以上の整数に設定される。具体的には、この第７
の実施例では、上記第４の実施例において、閾値マトリ
クス２９として６（主走査方向）×６（副走査方向）の
閾値マトリクスが用いられ、Ｎ＝６，ｎ＝６，Ｍ＝２で
あってＭ×Ｎ／２＝ｎ＝６である。この第７の実施例で
は第６の実施例と同様に図３６〜図３８に示すように回
転多面鏡２４の反射面倒れによる濃度ムラを良好に低減
することができる。

【００６０】さらに、第７の実施例では、ｎ／Ｍが整数
３に設定されているので、走査線曲がりによる走査位置
ずれによって濃度ムラが発生しない。すなわち、回転多
面鏡２４の反射面で２本のレーザビームを一括して同時
に走査することにより図４０に模式的に示すように走査
線曲がりが発生して図４１に示すように走査位置ずれが
発生するが、図３９に示すように各網点が走査線曲がり
による走査位置ずれによって同一の変動を受けるので、
走査線曲がりに起因した濃度ムラが発生することはな
い。

【００６１】また、第７の実施例において、半導体レー
ザアレイ２１として３本のレーザビームを発生するもの
を用いてＬＤ変調回路３０が２値化回路３４からの画像
信号により半導体レーザアレイ２１の各半導体レーザを
駆動制御するようにし、かつ、閾値マトリクス２９とし
て９（主走査方向）×９（副走査方向）の閾値マトリク
スを用いてＭ×Ｎ／２＝ｎ＝９、ｎ／Ｍ＝３とすること
もできる。請求項６記載の発明は、（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝
２、ｎ／Ｍ＝整数（１以上の整数）に設定するもので、
回転多射鏡２４の反射面数Ｎを６に限るものではなく、
また、ビーム数ｎも２，３に限らない。

【００６２】上記実施例ではスクリーン角が０の場合で
あるが、本発明はスクリーン角が存在する場合にも適用
することができる。例えば、図４２はスクリーン角が４
５度で３２階調の中間調画像を擬似的に得ることができ
る閾値マトリクスの例を示し、図４３に示すような画像
（３２階調目）が得られる。

【００６３】

【発明の効果】以上のように請求項１記載の発明によれ
ば、画像信号を閾値マトリクスと比較してその比較結果
により複数の光ビームを変調し、この変調した複数の光
ビームを回転多面鏡により一括して走査し、この回転多
面鏡からの複数の光ビームにより中間調の画像を再現す
る画像記録装置において、前記閾値マトリクスの副走査
方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，前記光ビームの
数Ｍと，前記回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係をｎ／
（Ｎ×Ｍ）が１以上の整数になるように設定したので、
回転多面鏡の面倒れによる走査線のピッチ変動で画素面
積が変動することがなく、副走査方向に濃度ムラのない
均一な濃度の中間調画像が得られ、かつ簡単な構成とな
る。また、閾値マトリクスの副走査方向のサイズまたは
繰り返し周期ｎが必然的に複数本の光ビームの回転多面
鏡による走査に起因する走査線曲がりによる走査線のピ
ッチ変動の周期Ｍの整数倍となり、走査線曲がりによる
走査線のピッチ変動によって副走査方向の濃度ムラが発
生することがない。

【００６４】請求項２記載の発明によれば、画像信号を
閾値マトリクスと比較してその比較結果により複数の光
ビームを変調し、この変調した複数の光ビームを回転多
面鏡により一括して走査し、この回転多面鏡からの複数
の光ビームにより中間調の画像を再現する画像記録装置
において、前記閾値マトリクスの副走査方向のサイズま
たは繰り返し周期ｎと，前記光ビームの数Ｍと，前記回
転多面鏡の反射面数Ｎとの関係を（Ｎ×Ｍ）／ｎが２以
上の整数になるように設定したので、回転多面鏡の面倒
れによる低周波の濃度変動が起こらず、濃度変動の目立
たない高品位な中間調画像が得られる。

【００６５】請求項３記載の発明によれば、請求項２記
載の画像形成装置において、ｎ／Ｍを１以上の整数に設
定したので、走査線曲がりによる走査線のピッチ変動に
よって副走査方向の濃度ムラが発生することがない。

【００６６】請求項４記載の発明によれば、画像信号を
閾値マトリクスと比較してその比較結果により複数の光
ビームを変調し、この変調した複数の光ビームを回転多
面鏡により一括して走査し、この回転多面鏡からの複数
の光ビームにより中間調の画像を再現する画像記録装置
において、前記閾値マトリクスの副走査方向のサイズま
たは繰り返し周期ｎと，前記回転多面鏡の反射面数Ｎと
の関係をＮ／ｎが２になるように設定し、かつ、前記回
転多面鏡の回転位置を検知する検知手段と、この検知手
段の検知信号により前記回転反射鏡の反射面のうち面倒
れ誤差が小さい相対する２つの反射面を中間調画像の網
点中心部に対応付ける対応付け手段とを備えたので、回
転多面鏡の面倒れによる走査線のピッチ変動によって発
生する濃度ムラが良好に低減され、副走査方向の濃度ム
ラの少ない高品位の中間調画像が得られる。また、閾値
マトリクスの副走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎ
が必然的に複数本の光ビームの回転多面鏡による走査に
起因する走査線曲がりによる走査線のピッチ変動の周期
Ｍの整数倍となり、走査線曲がりによる走査線のピッチ
変動によって副走査方向の濃度ムラが発生することがな
い。

【００６７】請求項５記載の発明によれば、画像信号を
閾値マトリクスと比較してその比較結果により複数の光
ビームを変調し、この変調した複数の光ビームを回転多
面鏡により一括して走査し、この回転多面鏡からの複数
の光ビームにより中間調の画像を再現する画像記録装置
において、前記閾値マトリクスの副走査方向のサイズま
たは繰り返し周期ｎと，前記光ビームの数Ｍと，前記回
転多面鏡の反射面数Ｎとの関係を（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝２に
設定し、かつ、前記回転多面鏡の回転位置を検知する検
知手段と、この検知手段の検知信号により前記回転反射
鏡の反射面のうち面倒れ誤差が小さい２つの反射面を中
間調画像の網点中心部に対応付ける対応付け手段とを備
えたので、回転反射鏡の面倒れによる走査線のピッチ変
動によって発生する濃度ムラが良好に低減され、副走査
方向の濃度ムラのない高品位の中間調画像が得られる。

【００６８】請求項６記載の発明によれば、請求項５記
載の画像記録装置において、ｎ／Ｍを１以上の整数に設
定したので、走査線曲がりによる走査線ピッチ変動によ
って発生する副走査方向の濃度ムラが発生しない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例の回路部を示すブロック
図である。

【図２】レーザ走査光学系の一例を示す斜視図である。

【図３】閾値マトリクスの一例を示す図である。

【図４】擬似中間再現方式により表現される１２階調目
濃度の画像を模式的に示す図である。

【図５】マルチビーム走査方式による走査線曲がりの例
を模式的に示す図である。

【図６】レーザ走査光学系の例を示す正面図である。

【図７】同レーザ走査光学系を示す平面図である。

【図８】同レーザ走査光学系の一部を示す背面図であ
る。

【図９】上記第１の実施例の回転多面鏡を示す斜視図で
ある。

【図１０】回転多面鏡の反射面倒れの一例を模式的に示
す図である。

【図１１】閾値マトリクスの他の例を示す図である。

【図１２】本来の露光パターンの一例を示す図である。

【図１３】回転多面鏡の反射面倒れがある場合の露光パ
ターンの一例を示す図である。

【図１４】回転多面鏡の反射面倒れの他の例を模式的に
示す図である。

【図１５】本発明の第２の実施例の閾値マトリクスを示
す図である。

【図１６】回転多面鏡の反射面倒れがない場合の露光パ
ターンの例を示す図である。

【図１７】回転多面鏡の反射面倒れがある場合の露光パ
ターンの例を示す図である。

【図１８】本発明の第３の実施例の閾値マトリクスを示
す図である。

【図１９】回転多面鏡の反射面倒れがない場合の露光パ
ターンの例を示す図である。

【図２０】回転多面鏡の反射面倒れがある場合の露光パ
ターンの例を示す図である。

【図２１】走査線曲がりがある場合の露光パターンの例
を示す図である。

【図２２】２ビーム走査方式による走査線曲がりの例を
模式的に示す図である。

【図２３】走査線曲がりによる走査位置ずれの例を模式
的に示す図である。

【図２４】マルチビーム走査方式による走査線曲がりの
例を模式的に示す図である。

【図２５】本発明の第４の実施例の閾値マトリクスを示
す図である。

【図２６】回転多面鏡の反射面倒れがない場合の露光パ
ターンの例を示す図である。

【図２７】回転多面鏡の反射面倒れがあり、かつ、回転
多面鏡の倒れの小さい反射面で網点の中心部を形成した
場合の露光パターンの例を示す図である。

【図２８】回転多面鏡の倒れの大きい反射面で網点の中
心部を形成した場合の露光パターンの例を示す図であ
る。

【図２９】本発明の第５の実施例の閾値マトリクスを示
す図である。

【図３０】同第５の実施例における回転多面鏡の反射面
倒れを示す図である。

【図３１】回転多面鏡の反射面倒れがない場合の露光パ
ターンの例を示す図である。

【図３２】回転多面鏡の反射面倒れがあり、かつ、回転
多面鏡の倒れの小さい反射面で網点の中心部を形成した
場合の露光パターンの例を示す図である。

【図３３】回転多面鏡の倒れの大きい反射面で網点の中
心部を形成した場合の露光パターンの例を示す図であ
る。

【図３４】回転多面鏡の反射面倒れの例を示す図であ
る。

【図３５】閾値マトリクスの例を示す図である。

【図３６】回転多面鏡の反射面倒れがない場合の露光パ
ターンの例を示す図である。

【図３７】回転多面鏡の反射面倒れがあり、かつ、回転
多面鏡の倒れの小さい反射面で網点の中心部を形成した
場合の露光パターンの例を示す図である。

【図３８】回転多面鏡の倒れの大きい反射面で網点の中
心部を形成した場合の露光パターンの例を示す図であ
る。

【図３９】走査線曲がりがある場合の露光パターンの例
を示す図である。

【図４０】２ビーム走査方式による走査線曲がりの例を
模式的に示す図である。

【図４１】走査線曲がりによる走査位置ずれの例を示す
図である。

【図４２】スクリーン角４５度の閾値マトリクスの例を
示す図である。

【図４３】露光パターンの例を示す図である。

【図４４】回転多面鏡の反射面倒れがない場合の露光パ
ターンの例を示す図である。

【図４５】回転多面鏡の反射面倒れがあり、かつ、回転
多面鏡の倒れの小さい反射面で網点の中心部を形成した
場合の露光パターンの例を示す図である。

【図４６】回転多面鏡の倒れの大きい反射面で網点の中
心部を形成した場合の露光パターンの例を示す図であ
る。

【図４７】上記第４の実施例の回路部を示すブロック図
である。

【図４８】上記第４の実施例のタイミングチャートであ
る。

【符号の説明】

２１ 半導体レーザアレイ ２４ 回転多面鏡 ２８，３４ ２値化回路 ２９ 閾値マトリクス ３０ ＬＤ変調回路 ３３ 回転位置センサ ３５ 面選択回路

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】画像信号を閾値マトリクスと比較してその
   比較結果により複数の光ビームを変調し、この変調した
   複数の光ビームを回転多面鏡により一括して走査し、こ
   の回転多面鏡からの複数の光ビームにより中間調の画像
   を再現する画像記録装置において、前記閾値マトリクス
   の副走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，前記光
   ビームの数Ｍと，前記回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係
   をｎ／（Ｎ×Ｍ）が１以上の整数になるように設定した
   ことを特徴とする画像記録装置。
2. 【請求項２】画像信号を閾値マトリクスと比較してその
   比較結果により複数の光ビームを変調し、この変調した
   複数の光ビームを回転多面鏡により一括して走査し、こ
   の回転多面鏡からの複数の光ビームにより中間調の画像
   を再現する画像記録装置において、前記閾値マトリクス
   の副走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，前記光
   ビームの数Ｍと，前記回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係
   を（Ｎ×Ｍ）／ｎが２以上の整数になるように設定した
   ことを特徴とする画像記録装置。
3. 【請求項３】請求項２記載の画像形成装置において、ｎ
   ／Ｍを１以上の整数に設定したことを特徴とする画像記
   録装置。
4. 【請求項４】画像信号を閾値マトリクスと比較してその
   比較結果により複数の光ビームを変調し、この変調した
   複数の光ビームを回転多面鏡により一括して走査し、こ
   の回転多面鏡からの複数の光ビームにより中間調の画像
   を再現する画像記録装置において、前記閾値マトリクス
   の副走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，前記回
   転多面鏡の反射面数Ｎとの関係をＮ／ｎが２になるよう
   に設定し、かつ、前記回転多面鏡の回転位置を検知する
   検知手段と、この検知手段の検知信号により前記回転反
   射鏡の反射面のうち面倒れ誤差が小さい相対する２つの
   反射面を中間調画像の網点中心部に対応付ける対応付け
   手段とを備えたことを特徴とする画像記録装置。
5. 【請求項５】画像信号を閾値マトリクスと比較してその
   比較結果により複数の光ビームを変調し、この変調した
   複数の光ビームを回転多面鏡により一括して走査し、こ
   の回転多面鏡からの複数の光ビームにより中間調の画像
   を再現する画像記録装置において、前記閾値マトリクス
   の副走査方向のサイズまたは繰り返し周期ｎと，前記光
   ビームの数Ｍと，前記回転多面鏡の反射面数Ｎとの関係
   を（Ｎ×Ｍ）／ｎ＝２に設定し、かつ、前記回転多面鏡
   の回転位置を検知する検知手段と、この検知手段の検知
   信号により前記回転反射鏡の反射面のうち面倒れ誤差が
   小さい２つの反射面を中間調画像の網点中心部に対応付
   ける対応付け手段とを備えたことを特徴とする画像記録
   装置。
6. 【請求項６】請求項５記載の画像記録装置において、ｎ
   ／Ｍを１以上の整数に設定したことを特徴とする画像記
   録装置。