JPH06192894A - Soluble electrode - Google Patents
Soluble electrodeInfo
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- JPH06192894A JPH06192894A JP34684792A JP34684792A JPH06192894A JP H06192894 A JPH06192894 A JP H06192894A JP 34684792 A JP34684792 A JP 34684792A JP 34684792 A JP34684792 A JP 34684792A JP H06192894 A JPH06192894 A JP H06192894A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電気メッキ鋼帯など浸
漬型の縦型メッキラインに備える可溶性電極に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fusible electrode provided in an immersion type vertical plating line such as an electroplated steel strip.
【0002】[0002]
【従来の技術】ニッケル(Ni)や亜鉛(Zn)等のメ
ッキ素材をペレット状にし、このペレット状のメッキ素
材をバスケットに収納した可溶性電極を可溶性アノード
(正極)として使用する方法は、万年筆のキャップや装
飾品などのメッキに用いる、メッキ液に金属を浸漬して
メッキするバッチ処理のメッキプロセスに現在広く用い
られている。また上記の方法は、ストリップをメッキ液
に浸漬しつつ高速で通過させながらメッキする連続メッ
キ処理にも適用されるようになってきている(特公昭5
9−33679号公報参照)。2. Description of the Related Art A method in which a plating material such as nickel (Ni) or zinc (Zn) is made into a pellet and the soluble electrode in which the pellet-like plating material is housed in a basket is used as a soluble anode (positive electrode) is known. It is currently widely used in a batch plating process in which a metal is immersed in a plating solution for plating, which is used for plating caps and ornaments. Further, the above-mentioned method has come to be applied to a continuous plating treatment in which a strip is immersed in a plating solution and is passed at a high speed while plating is performed (Japanese Patent Publication No. Sho 5).
9-33679 gazette).
【0003】図4は、特公昭59−33679号公報に
記載された可溶性アノードの配置図の一部を示す図であ
る。図4に示すようにストリップ22は、複数のデフレ
クターロール21に案内されながらメッキ液(図示せ
ず)の中を500〜600mpm以上の高速で可溶性ア
ノード20の間を通過する。FIG. 4 is a diagram showing a part of the layout of the soluble anode described in Japanese Patent Publication No. 59-33679. As shown in FIG. 4, the strip 22 is guided by the plurality of deflector rolls 21 and passes through the plating solution (not shown) between the soluble anodes 20 at a high speed of 500 to 600 mpm or more.
【0004】図5は、特公昭59−33679号公報に
記載された可溶性アノードを断面し、一部を省略して示
す斜視図である。この可溶性アノード20は、その内部
にペレット状メッキ素材26を収納し、その一面に格子
28を有する開口部29が設けられ、この開口部29の
内側にメッキ液(図示せず)を自由に透過する膜27が
固定されている。また可溶性アノード20には、通電端
子25が設けられ、ペレット状メッキ素材26がペレッ
ト状メッキ素材タンク(図示せず)から供給される。FIG. 5 is a perspective view showing the soluble anode described in Japanese Patent Publication No. 59-33679 in section, with a part thereof omitted. The soluble anode 20 contains a pellet-shaped plating material 26 therein, and an opening 29 having a grid 28 is provided on one surface thereof, and a plating solution (not shown) is freely transmitted inside the opening 29. The membrane 27 is fixed. The soluble anode 20 is provided with an energization terminal 25, and a pellet-shaped plating material 26 is supplied from a pellet-shaped plating material tank (not shown).
【0005】2つの可溶性アノード20を互いの開口部
29が対向するように配置し、この対向する開口部29
の間にストリップを案内して高速で通過させる。この際
に、可溶性アノード20の通電端子25にプラス電流を
流すことによりペレット状メッキ素材26は電気的に溶
解して金属イオン(図示せず)となる。この金属イオン
が膜27を透過してストリップ22の表面に電着してス
トリップ22をメッキする。The two soluble anodes 20 are arranged so that their openings 29 face each other, and the openings 29 face each other.
Guide the strip between and pass at high speed. At this time, by applying a positive current to the current-carrying terminal 25 of the soluble anode 20, the pellet-shaped plating material 26 is electrically dissolved into metal ions (not shown). The metal ions pass through the film 27 and are electrodeposited on the surface of the strip 22 to plate the strip 22.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術におい
て、ストリップ22に連続で500〜600mpm以上
という高速で可溶性アノード20の間を通過させつつ連
続メッキ処理を行なうにと、高速であるため可溶性アノ
ード20とストリップ22の間に負圧が生じてメッキ液
に強い流動が発生する。この強い流動のため、ストリッ
プ22が煽られ、かつストリップ22の表裏面に作用す
るメッキ槽内に圧力の不均衡が発生してストリップ22
にばたつきが生じ、これによりストリップ22の安定し
た通過が困難であるという問題がある。In the prior art described above, the continuous plating process is performed while continuously passing the strips 22 between the soluble anodes 20 at a high speed of 500 to 600 mpm or more. Negative pressure is generated between the strip 20 and the strip 22 to generate a strong flow of the plating solution. Due to this strong flow, the strip 22 is agitated, and a pressure imbalance occurs in the plating tank that acts on the front and back surfaces of the strip 22 to cause the strip 22.
There is a problem that fluttering occurs, which makes it difficult to stably pass the strip 22.
【0007】本発明は、上記事情に鑑み、高速であって
もストリップがその間を安定して通過する可溶性電極を
提供することを目的とする。In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a fusible electrode in which a strip stably passes between them even at a high speed.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の可溶性電極は、浸漬型の縦型メッキラインの
可溶性電極において、メッキ素材を収納するバスケット
の、ストリップに対向する一面から該一面に対向する他
面に貫通した貫通孔を備えたことを特徴とするものであ
る。The fusible electrode of the present invention for achieving the above object is a fusible electrode of an immersion type vertical plating line, which is formed from one surface of a basket for accommodating a plating material facing a strip. It is characterized in that it has a through-hole penetrating the other surface facing the one surface.
【0009】ここに、上記貫通孔を通ってメッキ液をス
トリップに噴きつけるポンプを備えることが好ましい。Here, it is preferable to provide a pump for spraying the plating solution to the strip through the through hole.
【0010】[0010]
【作用】本発明の可溶性電極は、ストリップに対向する
バスケットの面に貫通孔を備えたものであるため、可溶
性電極の間をストリップが通過する際に生じる負圧によ
り、ストリップに向かって貫通孔からメッキ液が流動
し、この流動したメッキ液が、ストリップが高速で通過
して可溶性電極とストリップの間に生じていた負圧を低
減してメッキ槽内の圧力の不均衡も低減する。Since the fusible electrode of the present invention is provided with the through hole on the surface of the basket facing the strip, the negative pressure generated when the strip passes between the fusible electrodes causes the through hole toward the strip. The plating solution flows from the plate, and the flowing plating solution reduces the negative pressure generated between the soluble electrode and the strip by passing the strip at a high speed to reduce the pressure imbalance in the plating tank.
【0011】ここに、本発明の可溶性電極にポンプを備
え、ストリップにメッキ液を噴きつけるとより効果的で
ある。It is more effective if the soluble electrode of the present invention is provided with a pump and the plating solution is sprayed onto the strip.
【0012】[0012]
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1は、本発明の一例の可溶性電極の正面図、図2は、図
1のA−A方向から見た図、図3は、図1のB−B方向
から見た図である。この可溶性電極6は、メッキ素材
(図示せず)を収納するバスケット7と、このバスケッ
ト7の、ストリップ(図示せず)に対向する一面に設け
た、メッキ素材が溶けて透過するチタンラス1と、この
チタンラス1と同一面に16個の開口した貫通孔5と、
チタンラス1の上下に位置する電極フレーム2とを備え
ている。また、図2における可溶性電極6の右面にメッ
キ液供給ダクト3を備え、このメッキ液供給ダクト3の
右面にノズル4を備えている。このノズル4には、点線
で示す配管8を経由してメッキ液(図示せず)をポンプ
Pにより送り込む。尚、有効メッキ面はチタンラス1の
部分である。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. FIG. 1 is a front view of a soluble electrode of an example of the present invention, FIG. 2 is a view seen from the AA direction of FIG. 1, and FIG. 3 is a view seen from the BB direction of FIG. The soluble electrode 6 includes a basket 7 for accommodating a plating material (not shown), a titanium lath 1 provided on one surface of the basket 7 facing a strip (not shown), through which the plating material melts and penetrates. 16 through holes 5 opened on the same surface as the titanium lath 1,
The electrode frame 2 is provided above and below the titanium lath 1. Further, the plating solution supply duct 3 is provided on the right side of the soluble electrode 6 in FIG. 2, and the nozzle 4 is provided on the right side of the plating solution supply duct 3. A plating liquid (not shown) is fed into the nozzle 4 by a pump P via a pipe 8 shown by a dotted line. The effective plating surface is the titanium lath 1.
【0013】この可溶性電極6は、メッキ槽(図示せ
ず)の外部に設置したポンプPがメッキ槽から汲み上げ
たメッキ液を、ノズル4に送り込んでメッキ液供給ダク
ト3を経由して各貫通孔5から噴射してストリップに噴
きつけるものである。この可溶性電極6を、そのチタン
ラス1が対向するように一対として図4に示すようにメ
ッキ槽(図示せず)の中に配置し、連続ニッケルメッキ
設備(図示せず)において使用した。この場合、可溶性
電極6の間をストリップ(図示せず)が800mpm以
上の高速で通過してもばたつきがほとんど生じることな
く安定した通板が可能であった。The soluble electrode 6 is supplied with a plating solution pumped up from a plating tank by a pump P installed outside a plating tank (not shown) to a nozzle 4 to pass through the plating solution supply duct 3 and through holes. It is sprayed from No. 5 and sprayed on the strip. The fusible electrodes 6 were placed in a plating bath (not shown) as a pair as shown in FIG. 4 so that the titanium laths 1 face each other, and were used in a continuous nickel plating facility (not shown). In this case, even if a strip (not shown) passed between the soluble electrodes 6 at a high speed of 800 mpm or higher, stable stripping was possible with almost no fluttering.
【0014】また比較のため、貫通孔5を備えない可溶
性電極を連続ニッケルメッキ設備(図示せず)において
使用した。この場合、貫通孔5を備えない可溶性電極の
間をストリップ(図示せず)が500mpm〜600m
pm以上で通過するとばたつきが生じて安定した通板が
困難であった。ここに、本実施例では貫通孔5は円筒状
であるものを設けたが、これに限らず必要に応じて適当
な形状を選定することができることは勿論である。Also, for comparison, a fusible electrode without through holes 5 was used in a continuous nickel plating facility (not shown). In this case, a strip (not shown) between the fusible electrodes having no through holes 5 is 500 mpm to 600 m.
If it passes at pm or more, fluttering occurs and stable striping is difficult. In this embodiment, the through hole 5 has a cylindrical shape, but the present invention is not limited to this, and it is needless to say that an appropriate shape can be selected as necessary.
【0015】また、メッキ液供給ダクト3とノズル4は
必ずしも必要でなく、それぞれの貫通孔5にポンプPを
接続する構成であってもよい。さらに、可溶性電極19
にポンプPを備えなくとも、ストリップが可溶性電極9
の間を通過する際に生じる負圧により、貫通孔5を経由
してノズル4からチタンラス1へメッキ液が流動する。
この流動によってもストリップの通板の安定に効果があ
る。Further, the plating liquid supply duct 3 and the nozzle 4 are not necessarily required, and a pump P may be connected to each through hole 5. Furthermore, the soluble electrode 19
Even if the pump P is not provided in the
Due to the negative pressure generated when passing through the gap, the plating liquid flows from the nozzle 4 to the titanium lath 1 through the through hole 5.
This flow also has the effect of stabilizing the passage of the strip.
【0016】[0016]
【発明の効果】以上、説明したように本発明の可溶性電
極は、メッキ液がバスケットの貫通孔からメッキするス
トリップに向かって流動するものであるため、この流動
したメッキ液が負圧を低減してメッキ槽内の圧力の不均
衡も低減する。このため、高速であってもストリップが
可溶性電極の間を安定して通過でき、ストリップをメッ
キする能率が向上する。As described above, in the soluble electrode of the present invention, since the plating solution flows from the through hole of the basket toward the strip to be plated, the flowing plating solution reduces the negative pressure. It also reduces the pressure imbalance in the plating tank. Therefore, the strip can stably pass between the fusible electrodes even at a high speed, and the efficiency of plating the strip is improved.
【0017】ここに、本発明の可溶性電極にポンプを備
え、このポンプにより貫通孔からストリップにメッキ液
を噴きつけるとより効果的なものとなる。It will be more effective if the soluble electrode of the present invention is provided with a pump and the plating solution is sprayed from the through hole to the strip by the pump.
【図1】本発明の一例の可溶性電極の正面図である。FIG. 1 is a front view of an example of a soluble electrode of the present invention.
【図2】図1のA−A方向から見た図である。FIG. 2 is a view seen from the direction AA of FIG.
【図3】図1のB−B方向から見た図である。FIG. 3 is a view as seen from the BB direction in FIG.
【図4】特公昭59−33679号公報に記載された可
溶性アノードの配置図の一部を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a part of a layout diagram of a soluble anode described in JP-B-59-33679.
【図5】特公昭59−33679号公報に記載された可
溶性アノードを断面し、一部を省略して示す斜視図であ
る。FIG. 5 is a perspective view showing a cross section of a soluble anode described in Japanese Patent Publication No. 59-33679 and a part thereof is omitted.
1 チタンラス 2 電極フレーム 3 メッキ液供給ダクト 4 ノズル 5 貫通孔 6 可溶性電極 7 バスケット 8 配管 P ポンプ 1 Titanium Lath 2 Electrode Frame 3 Plating Liquid Supply Duct 4 Nozzle 5 Through Hole 6 Soluble Electrode 7 Basket 8 Piping P Pump
Claims (2)
において、メッキ素材を収納するバスケットの、ストリ
ップに対向する一面から該一面に対向する他面に貫通し
た貫通孔を備えたことを特徴とする可溶性電極。1. A fusible electrode of an immersion type vertical plating line is provided with a through hole penetrating from one surface facing a strip to the other surface facing the strip of a basket containing a plating material. Soluble electrode.
プに噴きつけるポンプを備えたことを特徴とする請求項
1記載の可溶性電極。2. The fusible electrode according to claim 1, further comprising a pump for spraying a plating solution onto the strip through the through hole.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34684792A JPH06192894A (en) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | Soluble electrode |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34684792A JPH06192894A (en) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | Soluble electrode |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06192894A true JPH06192894A (en) | 1994-07-12 |
Family
ID=18386214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34684792A Pending JPH06192894A (en) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | Soluble electrode |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06192894A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2821627A1 (en) * | 2001-03-05 | 2002-09-06 | Lorilleux | Selective depletion of a thick layer of nickel on a workpiece involves forcing electrolyte from an insulating body through an insulating grid onto the workpiece comprising the cathode |
-
1992
- 1992-12-25 JP JP34684792A patent/JPH06192894A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2821627A1 (en) * | 2001-03-05 | 2002-09-06 | Lorilleux | Selective depletion of a thick layer of nickel on a workpiece involves forcing electrolyte from an insulating body through an insulating grid onto the workpiece comprising the cathode |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010327 |