JPH06188167A - 露光装置及び気体濃度測定方法 - Google Patents
露光装置及び気体濃度測定方法Info
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- JPH06188167A JPH06188167A JP4355098A JP35509892A JPH06188167A JP H06188167 A JPH06188167 A JP H06188167A JP 4355098 A JP4355098 A JP 4355098A JP 35509892 A JP35509892 A JP 35509892A JP H06188167 A JPH06188167 A JP H06188167A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
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- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は露光装置及び気体濃度測定方法におい
て、露光時とほぼ同様の状態でマスク及び感光基板間の
気体を検出する。 【構成】所定間隔でなる空間を介して対向させたマスク
及び感光基板間の空間に存在する気体を気体濃度測定手
段に導入する導入手段が少なくとも１つ配された基板保
持手段に、感光基板に代えて、基板保持手段に載置され
た際に空間及び気体濃度測定手段を連通する貫通孔が配
された測定用基板を載置し、露光時と同様にマスク及び
感光基板間に所定のガスを供給すると共に所定間隔に位
置決めして、マスク及び感光基板間の気体を気体濃度測
定手段に導入するようにした。
て、露光時とほぼ同様の状態でマスク及び感光基板間の
気体を検出する。 【構成】所定間隔でなる空間を介して対向させたマスク
及び感光基板間の空間に存在する気体を気体濃度測定手
段に導入する導入手段が少なくとも１つ配された基板保
持手段に、感光基板に代えて、基板保持手段に載置され
た際に空間及び気体濃度測定手段を連通する貫通孔が配
された測定用基板を載置し、露光時と同様にマスク及び
感光基板間に所定のガスを供給すると共に所定間隔に位
置決めして、マスク及び感光基板間の気体を気体濃度測
定手段に導入するようにした。
Description
【０００１】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術（図５） 発明が解決しようとする課題（図５） 課題を解決するための手段（図１） 作用（図１） 実施例（図１〜図４） 発明の効果
【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置及び気体濃度測
定方法に関し、特にプロキシミテイ方式の露光装置でマ
スク及び露光基板間の酸素濃度を検出するものに適用し
得る。
定方法に関し、特にプロキシミテイ方式の露光装置でマ
スク及び露光基板間の酸素濃度を検出するものに適用し
得る。
【０００３】
【従来の技術】従来、プロキシミテイ方式の露光装置で
例えば液晶表示基板のカラーフイルタを製造する際に用
いられる顔料分散のネガレジストは、露光感度が酸素濃
度に影響され易く、酸素濃度が上がると露光感度が下が
ると共に感光時間が長くなる。従つて露光パターンが形
成されたマスク及びネガレジストが塗布された感光基板
間の酸素濃度をできるだけ下げる必要がある。
例えば液晶表示基板のカラーフイルタを製造する際に用
いられる顔料分散のネガレジストは、露光感度が酸素濃
度に影響され易く、酸素濃度が上がると露光感度が下が
ると共に感光時間が長くなる。従つて露光パターンが形
成されたマスク及びネガレジストが塗布された感光基板
間の酸素濃度をできるだけ下げる必要がある。
【０００４】このためネガレジストが塗布された感光基
板上に酸素遮断膜を形成し、ネガレジスト自体が酸素に
触れないようにして露光する方法があるが、このように
すると、露光前に酸素遮断膜を塗布したり露光後に酸素
遮断膜を剥離する工程が必要になり、その分製造工程が
複雑になることを避け得ない問題があつた。
板上に酸素遮断膜を形成し、ネガレジスト自体が酸素に
触れないようにして露光する方法があるが、このように
すると、露光前に酸素遮断膜を塗布したり露光後に酸素
遮断膜を剥離する工程が必要になり、その分製造工程が
複雑になることを避け得ない問題があつた。
【０００５】このような問題を解決するため、感光基板
上に酸素遮断膜を形成する方法に代えて、マスク及び感
光基板間を窒素ガスで満たし、酸素濃度をできるだけ下
げて露光する方法があり、このようにすれば製造工程の
増加を必要最小限にして露光し得る。
上に酸素遮断膜を形成する方法に代えて、マスク及び感
光基板間を窒素ガスで満たし、酸素濃度をできるだけ下
げて露光する方法があり、このようにすれば製造工程の
増加を必要最小限にして露光し得る。
【０００６】ところでこのようにマスク及び感光基板間
を窒素ガスで満たす場合、マスク及び感光基板間の酸素
が所定の濃度に下がつているか否かを測定する必要があ
る。この酸素濃度を測定する方法として、マスク及び感
光基板間の間隔を露光時の例えば 100〔μm 〕に代えて
数〔mm〕にして、感光基板の端面からマスク及び感光基
板間の気体を検出したり、露光装置本体とは別に等価的
な容器でなる酸素濃度測定装置を作り露光装置本体での
酸素濃度を類推していた。
を窒素ガスで満たす場合、マスク及び感光基板間の酸素
が所定の濃度に下がつているか否かを測定する必要があ
る。この酸素濃度を測定する方法として、マスク及び感
光基板間の間隔を露光時の例えば 100〔μm 〕に代えて
数〔mm〕にして、感光基板の端面からマスク及び感光基
板間の気体を検出したり、露光装置本体とは別に等価的
な容器でなる酸素濃度測定装置を作り露光装置本体での
酸素濃度を類推していた。
【０００７】すなわち、図５に示すような酸素濃度測定
装置１においては、マスク及び感光基板にそれぞれ模し
た２枚の平板２及び３を、四隅に配置されたスペーサ４
で所定の間隔で対向させて配置すると共に、平板２及び
３間に窒素ガスＮ2 をパージし、一方の平板３に穿設さ
れた貫通孔５及び貫通孔５に接続されたチユーブ６を通
じて、平板２及び３間の空間の酸素濃度を測定するよう
になされている。
装置１においては、マスク及び感光基板にそれぞれ模し
た２枚の平板２及び３を、四隅に配置されたスペーサ４
で所定の間隔で対向させて配置すると共に、平板２及び
３間に窒素ガスＮ2 をパージし、一方の平板３に穿設さ
れた貫通孔５及び貫通孔５に接続されたチユーブ６を通
じて、平板２及び３間の空間の酸素濃度を測定するよう
になされている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが上述したよう
な酸素濃度測定方法として、マスク及び感光基板間の間
隔を広げて測定する方法では、マスク及び感光基板の露
光時における間隔でのマスク及び感光基板間の酸素濃度
や、感光基板全面に亘る酸素の分布状態を有効に測定で
きない問題があつた。
な酸素濃度測定方法として、マスク及び感光基板間の間
隔を広げて測定する方法では、マスク及び感光基板の露
光時における間隔でのマスク及び感光基板間の酸素濃度
や、感光基板全面に亘る酸素の分布状態を有効に測定で
きない問題があつた。
【０００９】また露光装置本体とは別に、等価的な容器
でなる酸素濃度測定装置を作り露光装置本体での酸素濃
度を類推する方法では、測定された酸素濃度と実際の露
光装置における酸素濃度との相関が薄く信頼性に乏しい
という問題があり、何れの場合も実用上未だ不十分であ
つた。
でなる酸素濃度測定装置を作り露光装置本体での酸素濃
度を類推する方法では、測定された酸素濃度と実際の露
光装置における酸素濃度との相関が薄く信頼性に乏しい
という問題があり、何れの場合も実用上未だ不十分であ
つた。
【００１０】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、露光時とほぼ同様の状態でマスク及び感光基板間の
気体を検出し得る露光装置及び気体濃度測定方法を提案
しようとするものである。
で、露光時とほぼ同様の状態でマスク及び感光基板間の
気体を検出し得る露光装置及び気体濃度測定方法を提案
しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、所定間隔でなる空間を介して対向
させたマスク１１及び感光基板間の空間に、所定のガス
Ｎ２を供給するガス供給手段１２Ａを有するプロキシミ
テイ方式の露光装置において、空間の気体濃度を測定す
る気体濃度測定手段１７と、感光基板が載置されると共
に、空間の気体を気体濃度測定手段１７に導出する導出
手段１４Ａが少なくとも１つ配された基板保持手段１４
と、感光基板に代えて基板保持手段１４に載置されると
共に、載置した際の導出手段１４Ａに対応する位置に貫
通孔１３Ａが配され、貫通孔１３Ａによつて空間及び気
体濃度測定手段１７を連通する測定用基板１３とを設け
るようにした。
め本発明においては、所定間隔でなる空間を介して対向
させたマスク１１及び感光基板間の空間に、所定のガス
Ｎ２を供給するガス供給手段１２Ａを有するプロキシミ
テイ方式の露光装置において、空間の気体濃度を測定す
る気体濃度測定手段１７と、感光基板が載置されると共
に、空間の気体を気体濃度測定手段１７に導出する導出
手段１４Ａが少なくとも１つ配された基板保持手段１４
と、感光基板に代えて基板保持手段１４に載置されると
共に、載置した際の導出手段１４Ａに対応する位置に貫
通孔１３Ａが配され、貫通孔１３Ａによつて空間及び気
体濃度測定手段１７を連通する測定用基板１３とを設け
るようにした。
【００１２】また本発明においては、マスク１１及び感
光基板を所定間隔で対向させ、該所定間隔の空間に所定
のガスＮ２を供給して露光するプロキシミテイ方式の露
光装置の空間の気体濃度を測定する気体濃度測定方法に
おいて、空間の気体を気体濃度検出手段に導出する導出
手段１４Ａを少なくとも１つ有する基板保持手段１４上
に、感光基板に代えて導出手段１４Ａに対応する位置に
貫通孔１３Ａが配された測定用基板１３を載置して、貫
通孔１３Ａによつて空間及び導出手段１４Ａを連通さ
せ、感光基板に対する露光の状態とほぼ同じ状態で、空
間の気体を測定するようにした。
光基板を所定間隔で対向させ、該所定間隔の空間に所定
のガスＮ２を供給して露光するプロキシミテイ方式の露
光装置の空間の気体濃度を測定する気体濃度測定方法に
おいて、空間の気体を気体濃度検出手段に導出する導出
手段１４Ａを少なくとも１つ有する基板保持手段１４上
に、感光基板に代えて導出手段１４Ａに対応する位置に
貫通孔１３Ａが配された測定用基板１３を載置して、貫
通孔１３Ａによつて空間及び導出手段１４Ａを連通さ
せ、感光基板に対する露光の状態とほぼ同じ状態で、空
間の気体を測定するようにした。
【００１３】さらに本発明において、測定用基板１３
は、複数の感光基板のそれぞれに対する露光のうち、所
定露光毎又は任意の露光毎に、感光基板に代えて基板保
持手段１４上に載置されて測定を行うようにした。
は、複数の感光基板のそれぞれに対する露光のうち、所
定露光毎又は任意の露光毎に、感光基板に代えて基板保
持手段１４上に載置されて測定を行うようにした。
【００１４】
【作用】所定間隔でなる空間を介して対向させたマスク
１１及び感光基板間の空間に存在する気体を気体濃度測
定手段１７に導出する導出手段１４Ａが少なくとも１つ
配された基板保持手段１４に、感光基板に代えて、基板
保持手段１４に載置された際に空間及び気体濃度測定手
段１７を連通する貫通孔１３Ａが配された測定用基板１
３を載置し、露光時と同様にマスク１１及び感光基板間
に所定のガスＮ２を供給すると共に所定間隔に位置決め
して、マスク１１及び感光基板間の気体を気体濃度測定
手段１７に導入するようにしたことにより、実際の露光
時とほぼ同じ状態でマスク１１及び感光基板間の空間に
存在する気体を測定し得る。
１１及び感光基板間の空間に存在する気体を気体濃度測
定手段１７に導出する導出手段１４Ａが少なくとも１つ
配された基板保持手段１４に、感光基板に代えて、基板
保持手段１４に載置された際に空間及び気体濃度測定手
段１７を連通する貫通孔１３Ａが配された測定用基板１
３を載置し、露光時と同様にマスク１１及び感光基板間
に所定のガスＮ２を供給すると共に所定間隔に位置決め
して、マスク１１及び感光基板間の気体を気体濃度測定
手段１７に導入するようにしたことにより、実際の露光
時とほぼ同じ状態でマスク１１及び感光基板間の空間に
存在する気体を測定し得る。
【００１５】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【００１６】図１〜図４において、１０は全体として本
発明による露光装置における露光部の概略的な構成を示
し、マスク１１がマスクホルダ１２に載置されて真空吸
着され、またネガレジストが塗布された感光基板に代え
て測定用基板１３が感光基板ホルダ１４に載置され真空
吸着されている。
発明による露光装置における露光部の概略的な構成を示
し、マスク１１がマスクホルダ１２に載置されて真空吸
着され、またネガレジストが塗布された感光基板に代え
て測定用基板１３が感光基板ホルダ１４に載置され真空
吸着されている。
【００１７】このマスクホルダ１２の開口部の側壁に
は、内部で連通された複数のガス供給孔１２Ａが設けら
れている。そして露光時にはこのガス供給孔１２Ａを通
じて窒素ガスＮ2 が、マスク１１及び感光基板間の空間
に射出される。
は、内部で連通された複数のガス供給孔１２Ａが設けら
れている。そして露光時にはこのガス供給孔１２Ａを通
じて窒素ガスＮ2 が、マスク１１及び感光基板間の空間
に射出される。
【００１８】またこの露光部１０の感光基板ホルダ１４
には３行×３列で合計９個の貫通孔でなるサンプル採取
用穴１４Ａが穿設され、このうち中央位置のサンプル採
取用穴１４Ａにチユーブ継手１５Ａが挿入され、当該チ
ユーブ継手１５Ａを通じてチユーブ１５により、酸素濃
度センサ１７に連通されている。なお他のサンプル採取
用穴１４Ａはプラグ１６によつて塞がれている。
には３行×３列で合計９個の貫通孔でなるサンプル採取
用穴１４Ａが穿設され、このうち中央位置のサンプル採
取用穴１４Ａにチユーブ継手１５Ａが挿入され、当該チ
ユーブ継手１５Ａを通じてチユーブ１５により、酸素濃
度センサ１７に連通されている。なお他のサンプル採取
用穴１４Ａはプラグ１６によつて塞がれている。
【００１９】さらにこの露光部１０の場合、測定用基板
１３に感光基板ホルダ１４のサンプル採取用穴１４Ａに
応じた位置に３行×３列で合計９個の貫通孔でなるサン
プル採取用穴１３Ａが穿設され、測定用基板１３及び感
光基板ホルダ１４のサンプル採取用穴１３Ａ及び１４Ａ
を通じて、マスク１１及び測定用基板１３間の気体が採
取され酸素濃度を測定し得るようになされている。
１３に感光基板ホルダ１４のサンプル採取用穴１４Ａに
応じた位置に３行×３列で合計９個の貫通孔でなるサン
プル採取用穴１３Ａが穿設され、測定用基板１３及び感
光基板ホルダ１４のサンプル採取用穴１３Ａ及び１４Ａ
を通じて、マスク１１及び測定用基板１３間の気体が採
取され酸素濃度を測定し得るようになされている。
【００２０】以上の構成において、この露光部１０では
複数枚の感光基板に対する露光毎に、感光基板に代えて
測定用基板１３を用いて、マスク１１及び感光基板間の
空間の酸素濃度を測定することにより、ネガレジストが
塗布された感光基板に精度良く露光し得るようになされ
ている。
複数枚の感光基板に対する露光毎に、感光基板に代えて
測定用基板１３を用いて、マスク１１及び感光基板間の
空間の酸素濃度を測定することにより、ネガレジストが
塗布された感光基板に精度良く露光し得るようになされ
ている。
【００２１】すなわちマスク１１及び測定用基板１３間
の酸素濃度を測定する場合、まず測定用基板１３を感光
基板ホルダ１４に載置して真空吸着し、図３に示すよう
に、マスク１１及び測定用基板１３を所定の間隔に位置
決めする前に、マスクホルダ１２のガス供給孔１２Ａを
通じて窒素ガスＮ2 をマスク１１及び測定用基板１３間
の空間に射出する。続いて感光基板ホルダ１４を上昇さ
せて、マスク１１及び測定用基板１３間を、例えば 100
〔μｍ〕でなる所定の間隔に位置決めする。
の酸素濃度を測定する場合、まず測定用基板１３を感光
基板ホルダ１４に載置して真空吸着し、図３に示すよう
に、マスク１１及び測定用基板１３を所定の間隔に位置
決めする前に、マスクホルダ１２のガス供給孔１２Ａを
通じて窒素ガスＮ2 をマスク１１及び測定用基板１３間
の空間に射出する。続いて感光基板ホルダ１４を上昇さ
せて、マスク１１及び測定用基板１３間を、例えば 100
〔μｍ〕でなる所定の間隔に位置決めする。
【００２２】この状態でマスク１１及び測定用基板１３
間の気体が、それぞれのサンプル採取用穴１３Ａ、１４
Ａ、チユーブ継手１５Ａ及びチユーブ１５を通じて、採
取されて酸素濃度センサ１７に導かれ、これにより実際
の露光時とほぼ同じ状態で、マスク１１及び測定用基板
１３間の酸素濃度を測定できる。
間の気体が、それぞれのサンプル採取用穴１３Ａ、１４
Ａ、チユーブ継手１５Ａ及びチユーブ１５を通じて、採
取されて酸素濃度センサ１７に導かれ、これにより実際
の露光時とほぼ同じ状態で、マスク１１及び測定用基板
１３間の酸素濃度を測定できる。
【００２３】これにより、この測定結果に基づいて実際
の露光時におけるマスク１１及び感光基板間の酸素濃度
を検出でき、このようにして検出した酸素濃度が所定範
囲を越えた場合には警報を発し、オペレータに原因究明
を促し酸素濃度を復帰させたり、また露光時間を変更す
ることにより、露光条件を適切に保持することができ、
かくしてネガレジストが塗布された感光基板に均一に精
度良く露光できる。
の露光時におけるマスク１１及び感光基板間の酸素濃度
を検出でき、このようにして検出した酸素濃度が所定範
囲を越えた場合には警報を発し、オペレータに原因究明
を促し酸素濃度を復帰させたり、また露光時間を変更す
ることにより、露光条件を適切に保持することができ、
かくしてネガレジストが塗布された感光基板に均一に精
度良く露光できる。
【００２４】以上の構成によれば、サンプル採取用穴１
４Ａを通じて酸素濃度センサ１７に連通された感光基板
ホルダ１４に、感光基板に代えて、感光基板ホルダ１４
のサンプル採取用穴１４Ａに連通するサンプル採取用穴
１３Ａが配された測定用基板１３を載置し、窒素ガスＮ
2 を射出してマスク１１及び測定用基板１３を所定の間
隔に位置決めした状態で、サンプル採取用穴１３Ａ、１
４Ａを通じて得られる気体の酸素濃度を測定するように
したことにより、実際の露光時のマスク１１及び感光基
板間の酸素濃度に近い値を検出し得る露光装置１０及び
気体測定方法を実現できる。
４Ａを通じて酸素濃度センサ１７に連通された感光基板
ホルダ１４に、感光基板に代えて、感光基板ホルダ１４
のサンプル採取用穴１４Ａに連通するサンプル採取用穴
１３Ａが配された測定用基板１３を載置し、窒素ガスＮ
2 を射出してマスク１１及び測定用基板１３を所定の間
隔に位置決めした状態で、サンプル採取用穴１３Ａ、１
４Ａを通じて得られる気体の酸素濃度を測定するように
したことにより、実際の露光時のマスク１１及び感光基
板間の酸素濃度に近い値を検出し得る露光装置１０及び
気体測定方法を実現できる。
【００２５】なお上述の実施例においては、マスク及び
測定用基板間の中央位置の気体を採取した場合について
述べたが、これに限らず、他の位置の気体を採取したい
場合には、その位置に応じて感光基板ホルダ１４のサン
プル採取用穴１４Ａを塞ぐプラグ１６とチユーブ継手１
５Ａを交換すれば良い。
測定用基板間の中央位置の気体を採取した場合について
述べたが、これに限らず、他の位置の気体を採取したい
場合には、その位置に応じて感光基板ホルダ１４のサン
プル採取用穴１４Ａを塞ぐプラグ１６とチユーブ継手１
５Ａを交換すれば良い。
【００２６】また上述の実施例においては、マスク及び
測定用基板間の空間の１箇所で気体を採取する場合につ
いて述べたが、気体を採取する場所は１箇所に限らず、
複数箇所の気体を採取するようにしても良い。
測定用基板間の空間の１箇所で気体を採取する場合につ
いて述べたが、気体を採取する場所は１箇所に限らず、
複数箇所の気体を採取するようにしても良い。
【００２７】また上述の実施例においては、測定用基板
及び感光基板ホルダに９個のサンプル採取用穴を穿設し
た場合について述べたが、サンプル採取用穴の数はこれ
に限らず、必要に応じて少なくとも１つ以上穿設するよ
うにすれば良く、測定用基板及び感光基板ホルダに同様
にサンプル採取用穴を設けなくても、少なくとも１つ以
上のサンプル採取用穴が連通するようにすれば上述の実
施例と同様の効果を実現できる。
及び感光基板ホルダに９個のサンプル採取用穴を穿設し
た場合について述べたが、サンプル採取用穴の数はこれ
に限らず、必要に応じて少なくとも１つ以上穿設するよ
うにすれば良く、測定用基板及び感光基板ホルダに同様
にサンプル採取用穴を設けなくても、少なくとも１つ以
上のサンプル採取用穴が連通するようにすれば上述の実
施例と同様の効果を実現できる。
【００２８】また上述の実施例においては、複数枚の感
光基板に対する露光毎に、感光基板に代えて測定用基板
を載置して、酸素濃度を測定する場合について述べた
が、これに代え、任意の露光毎に酸素濃度を測定するよ
うにしても上述の実施例と同様の効果を実現できる。
光基板に対する露光毎に、感光基板に代えて測定用基板
を載置して、酸素濃度を測定する場合について述べた
が、これに代え、任意の露光毎に酸素濃度を測定するよ
うにしても上述の実施例と同様の効果を実現できる。
【００２９】さらに上述の実施例においては、マスク及
び感光基板間に窒素ガスを射出する場合について述べた
が、これに代え、他のガスを射出するようにしても良
く、測定する気体も酸素に限らず、窒素や他のガスの濃
度等を検出するようにしても上述の実施例と同様の効果
を得ることができる。
び感光基板間に窒素ガスを射出する場合について述べた
が、これに代え、他のガスを射出するようにしても良
く、測定する気体も酸素に限らず、窒素や他のガスの濃
度等を検出するようにしても上述の実施例と同様の効果
を得ることができる。
【００３０】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、所定間隔
でなる空間を介して対向させたマスク及び感光基板間の
空間に存在する気体を気体濃度測定手段に導入する導入
手段が少なくとも１つ配された基板保持手段に、感光基
板に代えて、基板保持手段に載置された際に空間及び気
体濃度測定手段を連通する貫通孔が配された測定用基板
を載置し、露光時と同様にマスク及び感光基板間に所定
のガスを供給すると共に所定間隔に位置決めして、マス
ク及び感光基板間の気体を気体濃度測定手段に導入する
ようにしたことにより、実際の露光時とほぼ同じ状態で
マスク及び感光基板間の空間に存在する気体の濃度を測
定し得る露光装置及び気体濃度測定方法を実現できる。
でなる空間を介して対向させたマスク及び感光基板間の
空間に存在する気体を気体濃度測定手段に導入する導入
手段が少なくとも１つ配された基板保持手段に、感光基
板に代えて、基板保持手段に載置された際に空間及び気
体濃度測定手段を連通する貫通孔が配された測定用基板
を載置し、露光時と同様にマスク及び感光基板間に所定
のガスを供給すると共に所定間隔に位置決めして、マス
ク及び感光基板間の気体を気体濃度測定手段に導入する
ようにしたことにより、実際の露光時とほぼ同じ状態で
マスク及び感光基板間の空間に存在する気体の濃度を測
定し得る露光装置及び気体濃度測定方法を実現できる。
【図１】本発明による酸素濃度測定装置を適用した露光
装置における露光部の実施例を示す分解斜視図である。
装置における露光部の実施例を示す分解斜視図である。
【図２】図１の露光装置でマスクを省いて示す平面図で
ある。
ある。
【図３】図１の露光装置を矢印Ａから見て示す正面図で
ある。
ある。
【図４】図１の露光装置を図３のＢ−Ｂ線でとつて示す
断面図である。
断面図である。
【図５】従来の酸素濃度測定装置を示す略線図である。
１……酸素濃度測定装置、２、３……平板、４……スペ
ーサ、５……貫通孔、６、１５……チユーブ、１０……
露光装置、１１……マスク、１２……マスクホルダ、１
２Ａ……ガス供給孔、１３……測定用基板、１３Ａ、１
４Ａ……サンプル採取用穴、１４……感光基板ホルダ、
１５Ａ……チユーブ継手、１６……プラグ、１７……酸
素濃度センサ。
ーサ、５……貫通孔、６、１５……チユーブ、１０……
露光装置、１１……マスク、１２……マスクホルダ、１
２Ａ……ガス供給孔、１３……測定用基板、１３Ａ、１
４Ａ……サンプル採取用穴、１４……感光基板ホルダ、
１５Ａ……チユーブ継手、１６……プラグ、１７……酸
素濃度センサ。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｚ 7377−4Ｍ
Claims (3)
- 【請求項１】所定間隔でなる空間を介して対向させたマ
スク及び感光基板間の前記空間に、所定のガスを供給す
るガス供給手段を有するプロキシミテイ方式の露光装置
において、 前記空間の気体濃度を測定する気体濃度測定手段と、 前記感光基板が載置されると共に、前記空間の前記気体
を前記気体濃度測定手段に導出する導出手段が少なくと
も１つ配された基板保持手段と、 前記感光基板に代えて前記基板保持手段に載置されると
共に、該載置した際の前記導出手段に対応する位置に貫
通孔が配され、該貫通孔によつて前記空間及び前記気体
濃度測定手段を連通する測定用基板とを具えたことを特
徴とする露光装置。 - 【請求項２】マスク及び感光基板を所定間隔で対向さ
せ、該所定間隔の空間に所定のガスを供給して露光する
プロキシミテイ方式の露光装置の前記空間の気体濃度を
測定する気体濃度測定方法において、 前記空間の前記気体を気体濃度検出手段に導出する導出
手段を少なくとも１つ有する基板保持手段上に、前記感
光基板に代えて前記導出手段に対応する位置に貫通孔が
配された測定用基板を載置して、前記貫通孔によつて前
記空間及び前記導出手段を連通させ、前記感光基板に対
する前記露光の状態とほぼ同じ状態で、前記空間の前記
気体を測定するようにしたことを特徴とする気体濃度測
定方法。 - 【請求項３】前記測定用基板は、複数の前記感光基板の
それぞれに対する前記露光のうち、所定露光毎又は任意
の露光毎に、前記感光基板に代えて前記基板保持手段上
に載置されて前記測定を行うようにしたことを特徴とす
る請求項２に記載の気体濃度測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35509892A JP3198429B2 (ja) | 1992-12-16 | 1992-12-16 | 露光装置及び気体濃度測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35509892A JP3198429B2 (ja) | 1992-12-16 | 1992-12-16 | 露光装置及び気体濃度測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06188167A true JPH06188167A (ja) | 1994-07-08 |
| JP3198429B2 JP3198429B2 (ja) | 2001-08-13 |
Family
ID=18441930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35509892A Expired - Lifetime JP3198429B2 (ja) | 1992-12-16 | 1992-12-16 | 露光装置及び気体濃度測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3198429B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005154099A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Nisso Engineering Co Ltd | 粉粒体の在庫管理システム |
| US7009686B2 (en) | 2002-09-19 | 2006-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure method |
| DE112008002904T5 (de) | 2007-10-29 | 2010-12-02 | DENSO CORPORATION, Kariya-shi | Asymmetrische Membran und Klimatisierungssystem, bei dem die asymmetrische Membran eingesetzt wird |
| DE102010025394A1 (de) | 2009-06-30 | 2011-08-04 | DENSO CORPORATION, Aichi-pref. | Klimatisierungssystem |
| JP2012109553A (ja) * | 2010-10-22 | 2012-06-07 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| CN104516207A (zh) * | 2013-09-27 | 2015-04-15 | 北大方正集团有限公司 | 一种侦测感应系统及控制曝光机工作的方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022083111A1 (zh) * | 2020-10-19 | 2022-04-28 | 北京航空航天大学杭州创新研究院 | 高密度图案化加工的衬底-掩模板原位保持装置 |
-
1992
- 1992-12-16 JP JP35509892A patent/JP3198429B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
| US7009686B2 (en) | 2002-09-19 | 2006-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure method |
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| DE112008002904T5 (de) | 2007-10-29 | 2010-12-02 | DENSO CORPORATION, Kariya-shi | Asymmetrische Membran und Klimatisierungssystem, bei dem die asymmetrische Membran eingesetzt wird |
| US8394183B2 (en) | 2007-10-29 | 2013-03-12 | Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. | Asymmetric membrane and air-conditioning system using the same |
| DE112008002904B4 (de) | 2007-10-29 | 2018-10-31 | Denso Corporation | Asymmetrische Membran und Verwendung der asymmetrische Membran in einem Klimatisierungssystem |
| DE102010025394A1 (de) | 2009-06-30 | 2011-08-04 | DENSO CORPORATION, Aichi-pref. | Klimatisierungssystem |
| US8419840B2 (en) | 2009-06-30 | 2013-04-16 | Shin-Etsu Polymer Co,. Ltd. | Air-conditioning system |
| DE102010025394B4 (de) | 2009-06-30 | 2019-08-14 | Denso Corporation | Klimatisierungssystem |
| JP2012109553A (ja) * | 2010-10-22 | 2012-06-07 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| CN104516207A (zh) * | 2013-09-27 | 2015-04-15 | 北大方正集团有限公司 | 一种侦测感应系统及控制曝光机工作的方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3198429B2 (ja) | 2001-08-13 |
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