KR100202641B1 - 디벨로프 파티클 검출장치 - Google Patents

Abstract

본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치는 디벨로프 용액이 연속적으로 흐르도록한 디벨로프 용액 흐름 패널과, 그 디벨로프 용액 흐름 패널의 상부에서 레이저를 입사하도록 한 레이저광 에미터와, 상기 입사한 레이저의 반사광을 감지하도록 한 광센서패널과, 상기 감지한 레이저 반사광을 나타내는 검출 디스플레이를 포함하여 구성되어 흐르는 유체 즉 디벨로프(develop)용액을 웨이퍼(wafer)에 사용되는 단계를 거치지 않아 웨이퍼의 손실 및 노광장치나 핸들링 과정에서 발생되는 파티클(particle)을 배제시킬 수 있어 디벨로프 자체의 파티클수를 직접 확인할 수 있으며, 또한 디벨로프 노즐을 사용하지 않는 시간에 파티클 체크가 가능하고 사람의 도움이 필요없이 자동 측정 가능하도록 하였다.

Description

디벨로프 파티클 검출장치

제1도는 본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치를 나타내는 구성도.

제2도 및 제3도는 본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치의 검출동작을 나타내는 것으로,

제2도는 파티클이 없을 때를 나타내는 개략 구성도.

제3도는 파티클이 있을 때를 나타내는 개략 구성도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

11 : 디벨로프 용액 흐름 패널 12 : 레이저광 에미터

13 : 광센서 패널 14 : 디스플레이

15 : 디벨로프 플로우 레이트 미터 16 : 파티클

본 발명은 디벨로프 파티클 검출장치에 관한 것으로, 특히 흐르는 유체 즉 디벨로프(develop)용액을 웨이퍼(wafer)에 사용되는 단계를 거치지 않아 웨이퍼의 손실 및 노광장치나 핸들링 과정에서 발생되는 파티클(particle)을 배제시킬 수 있어 디벨로프 자체의 파티클수를 직접 확인할 수 있으며, 또한 디벨로프 노즐을 사용하지 않는 시간에 파티클 체크가 가능하고, 사람의 도움이 필요없이 자동 측정 가능하도록 한 디벨로프 파티클 검추장치에 관한 것이다.

종래의 디벨로프 용액내의 파티클수의 검출은 디벨로프 전후의 웨이퍼 내 파티클수로부터 확인하는 방법을 사용하였다. 물론 디벨로프 자체에 대한 파티클수를 관리하고 디벨로프 노즐의 석백(suck back)등의 기술을 이용하여 최소화하여는 기술이 도입되고 있으나, 실제 노즐을 통해 웨이퍼에 분사된 디벨로프 파티클의 수는 별도의 패턴(pattern) 검사장치등 파티클 검사장치를 이용 간접적으로 확인한다.

종래의 기술에 의한 동작을 순차적으로 살펴보면, 베어(bare) 웨이퍼에 코팅을 한 다음 파티클 검사장치에서 개수 확인을 파티클 검사를 하고, 패턴을 형성한 다음 노즐 별로 디벨로프 한다. 파티클 검사장치에서 파티클 검사를 한 다음 상기 파티클 검사의 개수 차이로 디벨로퍼의 파티클을 체크한다.

그러나, 이러한 종래의 기술에서는 일련의 시퀀스(sequence)를 통해 파티클 개수를 확인하기 때문에 첫째 시간의 손실이 많고, 둘째 디벨로프 자체의 파티클을 확인할 수 없다. 즉 예를 들면 노광장치, 핸들린 과정에서 생긴 파티클등 디벨로프 자체의 파티클을 확인할 수 없는 문제점이 있다.

따라서, 본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 흐르는 유체 즉 디벨로프(develop)용액을 웨이퍼(wafer)에 사용되는 단계를 거치지 않아 웨이퍼의 손실 및 노광장치나 핸들링 과정에서 발생되는 파티클(particle)을 배제시킬 수 있어 디벨로프 자체의 파티클수를 직접 확인할 수 있으며, 또한 디벨로프 노즐을 사용하지 않는 시간에 파티클 체크가 가능하고 사람의 도움이 필요없이 자동 측정 가능하도록 한 디벨로프 파티클 검출장치를 제공함에 있다.

이러한 본 발명의 목적은

에 의해 달성된다.

상기 광센서 패널은 서로 다른 각도를 반사되는 레이저광을 감지할수 있도록 두부분으로 구성된 것을 특징으로 한다.

이하 본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치를 첨부도면에 도시한 실시례에 따라 설명한다.

제1도는 본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치를 나타내는 구성도이고, 제2도 및 제3도는 본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치의 검출동작을 나타내는 것으로, 제2도는 파티클이 없을 때를 나타내는 개략 구성도이며, 제3도는 파티클이 있을 때를 나타내는 개략 구성도를 각각 보인 것이다.

이에 도시한 바와같이, 본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치는 디벨로프 용액 흐름 패널(11)에 디벨로프 용액을 연속적으로 흘리면서 레이저광을 조사하여 반사되는 반사레이저광을 감지하여 디벨로프 파티클을 검출하도록 한 것이다.

상기 디벨로프 용액 흐름 패널(11)은 디벨로프 용액이 원활하게 흐를 수 있도록 어느 한 쪽으로 경사지게 설치된다.

상기 디벨로프 용액 흐름 패널(11)의 상면 위에는 레이저광을 조사하는 레이저광 에미터(emittor)(12)가 설치되고, 디벨로프 용액 흐름 패널(11)의 낮은 쪽에 디벨로프 용액 흐름 패널(11)의 상면에서 반사된 반사레이저광을 감지하는 광센서 패널(13)이 설치된다.

상기 광센서 패널(13)에는 이 광센서 패널(13)에서의 감지신호에 따라 파티클의 개수를 카운트함과 아울러 표시해주는 카운트 및 디스플레이(14)가 전기적으로 연결된다.

상기 디벨로프 용액 흐름 패널(11)은 조사된 레이저광 광센서 패널(13)측으로 반사되도록 대략 45로 설치된다.

상기 광센서 패널(13)은 서로 다른 각도로 반사되는 레이저광을 감지할 수 있도록 두부분 즉 A,B로 나누어 구성된다.

이와 같이 구성된 본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치의 작용효과를 설명하면 다음과 같다.

본 발명은 일정한 속도로 디벨로프 용액을 디벨로프 용액 흐름 패널(11)에 균일하게 흐르게 하고 디벨로프 용액 흐름 패널(11)의 상면 위쪽에 설치된 레이저 광 에미터(emittor)(12)에서 레이저광을 수직 하방향으로 조사하면 레이저광은 디벨로프 용액 흐름 패널(11)의 상면에서 반사되어 광센서 패널(13)에 수광된다.

제2도에서 보는 바와 같이, 파티클(16)없는 경우와 파티클이 있는 경우의 광센서 패널(13)에 레이저가 도착되는 위치가 다른 점을 이용하여 파티클(16) 유무 및 개수를 검출하게 되는 것이다.

추가적으로 디벨로프 용액 흐름 패널(11)의 벤트부측에는 파티클 개수를 계산할 수 있는 카운터 및 디스플레이(display)(14)를 장착한다. 파티클이 없는 경우는 광센서 패널(13)의 A부분에 레이저광이 도착하고, 파티클(16)이 있는 경우는 B부분에 레이저광이 도착하여, 이 도착된 횟수가 곧 파티클수라 가정하고 이를 카운터(14)에서 시간이나 유량의 함수를 계산하고 디스플레이하여 파티클 개수를 확인한다.

도면중 미설명 부호 18은 디벨로프 노즐을 나타내고, 19는 패널을 청소하기 위한 클리닝 리퀴드 노즐(cleaning liquid nozzle)을 나타낸다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의한 디벨로프 파티클 검출장치는 디벨로프 용액이 연속적으로 흐르도록 한 디벨로프 용액 흐름 패널과, 그 디벨로프 용액 흐름 패널의 상부에서 레이저를 입사하도록 한 레이저광 에미터와, 상기 입사한 레이저의 반사광을 감지하도록 한 광센서패널과, 상기 감지한 레이저 반사광을 나타내는 검출 디스플레이를 포함하여 구성되어 흐르는 유체 즉 디벨로프(develop)용액을 웨이퍼(wafer)에 사용되는 단계를 거치지 않아 웨이퍼의 손실 및 노광장치나 핸들링 과정에서 발생되는 파티클(particle)을 배제시킬 수 있어 디벨로프 자체의 파티클수를 직접 확인할 수 있으며, 또한 디벨로프 노즐을 사용하지 않는 시간에 파티클 체크가 가능하고 사람의 도움이 필요없이 자동 측정 가능하도록 한 효과가 있다.

Claims (3)

1. 디벨로프 용액이 연속적으로 흐르도록 설치되는 디벨로프 용액 흐름 패널과, 상기 디벨로프 용액 흐름 패널의 상면에 레이저광을 조사하는 레이저광 에미터와, 상기 디벨로프 용액 흐름 패널의 상면에서 반사된 반사레이저광을 감지하는 광센서패널과, 상기 광센서 패널에서 감지된 레이저 반사광을 나타내는 검출 디스플레이를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 디벨로프 파티클 검출장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 광센서 패널은 서로 다른 각도로 반사되는 반사레이저광을 감지할수 있도록 두 부분으로 구성된 것을 특징으로 하는 디벨로프 파티클 검출장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 디벨로프 용액 흐름 패널의 벤트부에는 디벨로프 용액의 양이나 시간의 함수로 파티클 개수를 계산하기 위한 디벨로프 플로우 레이트 미터를 설치한 것을 특징으로 하는 디벨로프 파티클 검출장치.