JPH061870A - 表面処理プラスチックス製品 - Google Patents
表面処理プラスチックス製品Info
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- JPH061870A JPH061870A JP16284792A JP16284792A JPH061870A JP H061870 A JPH061870 A JP H061870A JP 16284792 A JP16284792 A JP 16284792A JP 16284792 A JP16284792 A JP 16284792A JP H061870 A JPH061870 A JP H061870A
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- Japan
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- film
- plasma
- monomer
- plastic article
- silicon
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表面硬度に優れ、車両、船舶、航空機等の
窓、ミラー、レンズ等の光学製品、表面硬度に優れた光
ディスク等として好適な材料を提供する。 【構成】 プラスチックスの表面にアクリル酸エチル等
のプラズマ重合膜を接着層として設け、その上に珪素化
合物のプラズマ重合膜からなるハードコート層を設けた
もの。
窓、ミラー、レンズ等の光学製品、表面硬度に優れた光
ディスク等として好適な材料を提供する。 【構成】 プラスチックスの表面にアクリル酸エチル等
のプラズマ重合膜を接着層として設け、その上に珪素化
合物のプラズマ重合膜からなるハードコート層を設けた
もの。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐擦傷性、耐摩耗性、
耐薬品性、帯電特性などに優れ、各種光学材料、光記録
材料、窓ガラス等に好適なプラスチックス成形品に関す
る。
耐薬品性、帯電特性などに優れ、各種光学材料、光記録
材料、窓ガラス等に好適なプラスチックス成形品に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックス製品、とりわけポリカー
ボネート、ポリメチルメタクリレート等の透明なプラス
チックス材料より成る物は、車両、船舶、航空機建築等
の分野において装飾用或いは無機ガラス代替材料とし
て、またその透明性を生かしプラスチックス製ミラー、
レンズ、その他各種光学材料や光記録材料等として広く
用いられるようになってきている。
ボネート、ポリメチルメタクリレート等の透明なプラス
チックス材料より成る物は、車両、船舶、航空機建築等
の分野において装飾用或いは無機ガラス代替材料とし
て、またその透明性を生かしプラスチックス製ミラー、
レンズ、その他各種光学材料や光記録材料等として広く
用いられるようになってきている。
【０００３】ところで、一般にプラスチックス材料は、
表面が傷つき易く、前記透明なプラスチックス材料は傷
による美観の低下や透明性の低下を防止するために、そ
の表面にハードコート処理、すなわち硬度の高い透明コ
ート塗装が行われている。これらのハードコート塗装を
施す手法には大別して２つの方法が知られている。１つ
は溶液塗布後、熱硬化或いは光硬化させるウェットコー
ト法で、有機系（メラミン樹脂系、ウレタン樹脂系、ア
ルキド樹脂系、ＵＶ硬化アクリレート系等）とシリコン
系（オルガノシロキサン系）のものがある。もう一つ
は、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ
法、プラズマ重合法等に代表されるドライコート法であ
る。
表面が傷つき易く、前記透明なプラスチックス材料は傷
による美観の低下や透明性の低下を防止するために、そ
の表面にハードコート処理、すなわち硬度の高い透明コ
ート塗装が行われている。これらのハードコート塗装を
施す手法には大別して２つの方法が知られている。１つ
は溶液塗布後、熱硬化或いは光硬化させるウェットコー
ト法で、有機系（メラミン樹脂系、ウレタン樹脂系、ア
ルキド樹脂系、ＵＶ硬化アクリレート系等）とシリコン
系（オルガノシロキサン系）のものがある。もう一つ
は、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ
法、プラズマ重合法等に代表されるドライコート法であ
る。
【０００４】ウェット法においては膜のプラスチックス
材料に対する馴染みは良く、しかも膜自体の固有応力は
小さいため、プラスチックス表面に対する接着性は良
い。しかし、膜の緻密さに劣り、従来用いられていたガ
ラスに比較すると耐擦傷性に不足し、例えば自動車の昇
降式ガラス窓での使用は、実用上充分なものではなかっ
た。
材料に対する馴染みは良く、しかも膜自体の固有応力は
小さいため、プラスチックス表面に対する接着性は良
い。しかし、膜の緻密さに劣り、従来用いられていたガ
ラスに比較すると耐擦傷性に不足し、例えば自動車の昇
降式ガラス窓での使用は、実用上充分なものではなかっ
た。
【０００５】スパッター法においては、例えばＳｉＯ2
等の無機物質をターゲットとし、スパッター成膜する。
この方法は、膜自体に充分な硬度を賦与する事が可能で
あるが、ＳｉＯ2 等の無機物質とプラスチックス材料の
なじみが悪く、しかも膜自体の固有応力が大きいため厚
膜化すると充分な接着強度を得る事ができない。また膜
厚が薄いと、基材であるプラスチックス表面硬度の影響
を受けるため、膜自体の硬度が高くても傷つきを防止で
きる機能に劣る。
等の無機物質をターゲットとし、スパッター成膜する。
この方法は、膜自体に充分な硬度を賦与する事が可能で
あるが、ＳｉＯ2 等の無機物質とプラスチックス材料の
なじみが悪く、しかも膜自体の固有応力が大きいため厚
膜化すると充分な接着強度を得る事ができない。また膜
厚が薄いと、基材であるプラスチックス表面硬度の影響
を受けるため、膜自体の硬度が高くても傷つきを防止で
きる機能に劣る。
【０００６】プラズマＣＶＤ法では、例えばＳｉＨ4 ガ
スを、酸素源として例えばＮ2 Ｏ等を用いＳｉＯ2 等の
無機物質を成膜する。しかし、スパッター法と同様、無
機物質とプラスチックス材料とのなじみが悪いため、厚
膜化すると充分な接着強度を得ることができない。また
膜厚が薄いと、基材であるプラスチックス表面硬度の影
響を受けるため、膜自体の硬度が高くても傷つきを防止
できる機能に劣る。
スを、酸素源として例えばＮ2 Ｏ等を用いＳｉＯ2 等の
無機物質を成膜する。しかし、スパッター法と同様、無
機物質とプラスチックス材料とのなじみが悪いため、厚
膜化すると充分な接着強度を得ることができない。また
膜厚が薄いと、基材であるプラスチックス表面硬度の影
響を受けるため、膜自体の硬度が高くても傷つきを防止
できる機能に劣る。
【０００７】真空蒸着法では、例えばＯ2 雰囲気下でＳ
ｉＯを加熱蒸発させ、プラスチックス表面に蒸着させる
方法をとる。しかし蒸着膜は、スパッター膜に比べ膜の
緻密性やプラスチックス表面に対する接着性に劣る等の
問題がある。プラズマ重合法では、有機Ｓｉ系モノマ
ー、例えばテトラメトキシシラン等のモノマーをグロー
放電により励起し、プラスチックス材料表面に成膜す
る。この成膜方法においてはモノマーの種類や成膜条件
を選ぶことによりプラスチックス材料にかなり密着性良
好かつ高硬度の膜を得ることが可能である。
ｉＯを加熱蒸発させ、プラスチックス表面に蒸着させる
方法をとる。しかし蒸着膜は、スパッター膜に比べ膜の
緻密性やプラスチックス表面に対する接着性に劣る等の
問題がある。プラズマ重合法では、有機Ｓｉ系モノマ
ー、例えばテトラメトキシシラン等のモノマーをグロー
放電により励起し、プラスチックス材料表面に成膜す
る。この成膜方法においてはモノマーの種類や成膜条件
を選ぶことによりプラスチックス材料にかなり密着性良
好かつ高硬度の膜を得ることが可能である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、成膜直
後において密着性良好なプラズマ重合膜も、窓ガラスの
代替等として使用した場合、日光による紫外線や熱、ま
た雨による水の影響を受けるために、充分な長期密着性
を保持することは不可能であった。
後において密着性良好なプラズマ重合膜も、窓ガラスの
代替等として使用した場合、日光による紫外線や熱、ま
た雨による水の影響を受けるために、充分な長期密着性
を保持することは不可能であった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記技術課
題を解決するため鋭意検討を行ったところ、以下の構成
を有する発明に到達した。すなわち、本発明は表面に下
記Ａ及びＢ被膜がこの順に積層されてなる表面処理プラ
スチックス製品にある。
題を解決するため鋭意検討を行ったところ、以下の構成
を有する発明に到達した。すなわち、本発明は表面に下
記Ａ及びＢ被膜がこの順に積層されてなる表面処理プラ
スチックス製品にある。
【００１０】Ａ．一般式（Ｉ）で表されるモノマーを
【００１１】
【化２】ＣＨ2 ＝ＣＲＣＯＯＲ′ （Ｉ） （式中Ｒは水素またはアルキル基、Ｒ′はアルキル基）
プラズマ重合することにより形成され、膜厚が０．１μ
ｍ〜１０μｍであるプラズマ重合被膜。 Ｂ．珪素化合物のプラズマ重合により形成され、膜厚が
０．１μｍ〜１０μｍであるプラズマ重合被膜。
プラズマ重合することにより形成され、膜厚が０．１μ
ｍ〜１０μｍであるプラズマ重合被膜。 Ｂ．珪素化合物のプラズマ重合により形成され、膜厚が
０．１μｍ〜１０μｍであるプラズマ重合被膜。
【００１２】本発明は、先ずプラスチックス製品の表面
に前記Ａ被膜を設けるが、Ａ被膜の原料として用い得る
化合物としては、一般式（Ｉ）に含まれる物であれば何
でも良いが、好ましくは例えば、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル等の化合物を挙げることができる。これらの化合物
は単独で用いても２種以上を併用しても良い。
に前記Ａ被膜を設けるが、Ａ被膜の原料として用い得る
化合物としては、一般式（Ｉ）に含まれる物であれば何
でも良いが、好ましくは例えば、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル等の化合物を挙げることができる。これらの化合物
は単独で用いても２種以上を併用しても良い。
【００１３】次にＢ被膜の原料の珪素化合物としては特
に限定されないが、好ましくは、炭素原子を含む珪素化
合物または、炭素原子と酸素原子または窒素原子を含む
珪素化合物であり、炭素／珪素の原子数比が０．１〜３
の範囲にあることが好ましい。前記範囲以下であると接
着強度が小さく、それ以上では充分な耐摩耗性が得られ
ない。具体的化合物として、好ましくは例えば１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３−
テトラメチルジシラザン、ペンタメチルジシロキサン、
ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、
ヘプタメチルジシラザン、１，３−ジメトキシテトラメ
チルジシロキサン、１，３−ジエトキシテトラメチルジ
シロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキ
サメチルシクロトリシラザン、１，１，３，３，５，５
−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，
５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、オクタメチルト
リシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテ
トラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサ
ン、１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテ
トラシロキサン、１，１，３，３，５，５，７，７−オ
クタメチルシクロテトラシラザン、トリス（トリメチル
シロキシ）シラン、デカメチルテトラシロキサン等、或
いは下記一般（II）
に限定されないが、好ましくは、炭素原子を含む珪素化
合物または、炭素原子と酸素原子または窒素原子を含む
珪素化合物であり、炭素／珪素の原子数比が０．１〜３
の範囲にあることが好ましい。前記範囲以下であると接
着強度が小さく、それ以上では充分な耐摩耗性が得られ
ない。具体的化合物として、好ましくは例えば１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン、１，１，３，３−
テトラメチルジシラザン、ペンタメチルジシロキサン、
ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザン、
ヘプタメチルジシラザン、１，３−ジメトキシテトラメ
チルジシロキサン、１，３−ジエトキシテトラメチルジ
シロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキ
サメチルシクロトリシラザン、１，１，３，３，５，５
−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，１，３，５，
５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、オクタメチルト
リシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテ
トラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサ
ン、１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテ
トラシロキサン、１，１，３，３，５，５，７，７−オ
クタメチルシクロテトラシラザン、トリス（トリメチル
シロキシ）シラン、デカメチルテトラシロキサン等、或
いは下記一般（II）
【００１４】
【化３】Ｒ1 n ＳｉＲ2 4-n （II）
【００１５】で表される様なものである。式中Ｒ1 はア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン基、ア
ミノ基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、ビニ
ル基、メタクリロキシ基、エポキシ基、グリシドキシ基
を有する炭化水素基から選ばれる１種もしくは２種以上
であり、塩素及びフッ素原子を含んでいてもかまわな
い。Ｒ2 は水素原子、アルコキシ基、アルコキシアルコ
キシ基、フェノキシ基、アセトキシ基及び塩素原子から
選ばれる１種もしくは２種以上でありｎは０〜４であ
る。具体例としては、メチルトリクロロシラン、ジメチ
ルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルシ
ラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチ
ルシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシ
シラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキ
シシラン等その他多数の化合物を挙げる事ができる。こ
れら珪素化合物は単独で用いても２種以上を併用して用
いても良い。これら化合物のプラズマ重合は気相状態に
おいて実施するため常温で気化しやすい化合物が望まし
いが、加熱により初めて気化する化合物でも、化合物お
よび重合装置を適度に加熱する事により用いる事ができ
る。膜中酸素含有量を増やすために、これらの原料に酸
素源としてＯ2 やＮ 2 Ｏ等を混合させても良い。
ルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン基、ア
ミノ基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、ビニ
ル基、メタクリロキシ基、エポキシ基、グリシドキシ基
を有する炭化水素基から選ばれる１種もしくは２種以上
であり、塩素及びフッ素原子を含んでいてもかまわな
い。Ｒ2 は水素原子、アルコキシ基、アルコキシアルコ
キシ基、フェノキシ基、アセトキシ基及び塩素原子から
選ばれる１種もしくは２種以上でありｎは０〜４であ
る。具体例としては、メチルトリクロロシラン、ジメチ
ルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルシ
ラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチ
ルシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシ
シラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキ
シシラン等その他多数の化合物を挙げる事ができる。こ
れら珪素化合物は単独で用いても２種以上を併用して用
いても良い。これら化合物のプラズマ重合は気相状態に
おいて実施するため常温で気化しやすい化合物が望まし
いが、加熱により初めて気化する化合物でも、化合物お
よび重合装置を適度に加熱する事により用いる事ができ
る。膜中酸素含有量を増やすために、これらの原料に酸
素源としてＯ2 やＮ 2 Ｏ等を混合させても良い。
【００１６】Ａ被膜上にＢ被膜を成膜する場合、密着性
向上の観点から同一チャンバー内で連続して成膜する事
が望ましい。上記一般式（Ｉ）で示される化合物のプラ
ズマ重合膜（以下接着層と言う場合がある）を形成した
プラスチックス製品に珪素化合物のプラズマ重合膜（以
下ハードコート層と言う場合がある）を形成せしめる場
合、形成される高硬度のハードコート層は接着層上に強
固に結合し、しかもプラスチックス製品に密着性良好な
有機被膜接着層を介して基材であるプラスチックスに結
合している。このためハードコート層のプラスチックス
基材に対する密着性が改善され、日光や雨水に曝された
条件下での耐久性を格段に向上し得る。
向上の観点から同一チャンバー内で連続して成膜する事
が望ましい。上記一般式（Ｉ）で示される化合物のプラ
ズマ重合膜（以下接着層と言う場合がある）を形成した
プラスチックス製品に珪素化合物のプラズマ重合膜（以
下ハードコート層と言う場合がある）を形成せしめる場
合、形成される高硬度のハードコート層は接着層上に強
固に結合し、しかもプラスチックス製品に密着性良好な
有機被膜接着層を介して基材であるプラスチックスに結
合している。このためハードコート層のプラスチックス
基材に対する密着性が改善され、日光や雨水に曝された
条件下での耐久性を格段に向上し得る。
【００１７】接着層を形成するプラズマ重合膜の厚さと
しては、０．１μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．５μｍ
〜３μｍである。０．１μｍ以下の場合には、接着層上
にハードコート層プラズマ重合膜を形成せしめた場合に
充分な接着性を得る事ができず、また１０μｍを越える
とクラックが生じ易くなる。ハードコート層を形成する
プラズマ重合膜の厚さとしては、０．１μｍ〜１０μ
ｍ、好ましくは０．５μｍ〜５μｍである。０．１μｍ
以下の場合には、充分な耐摩耗性を得ることができず、
また１０μｍを越えるとクラックが生じ易くなる。
しては、０．１μｍ〜１０μｍ、好ましくは０．５μｍ
〜３μｍである。０．１μｍ以下の場合には、接着層上
にハードコート層プラズマ重合膜を形成せしめた場合に
充分な接着性を得る事ができず、また１０μｍを越える
とクラックが生じ易くなる。ハードコート層を形成する
プラズマ重合膜の厚さとしては、０．１μｍ〜１０μ
ｍ、好ましくは０．５μｍ〜５μｍである。０．１μｍ
以下の場合には、充分な耐摩耗性を得ることができず、
また１０μｍを越えるとクラックが生じ易くなる。
【００１８】
【実施例】本発明を実施例により具体的に説明するが、
本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。 実施例１ ポリカーボネート樹脂基板（筒中プラスチック工業
（株）製）を平行平板型プラズマ重合装置内カソード上
にセットし、減圧下、アクリル酸メチルガスを流量３０
ＳＣＣＭで通気しながら圧力を２００ｍＴｏｒｒに調節
保持し、１１０ｋＨｚ、０．１Ｗ／ｃｍ2 の低周波電力
を与えて放電させることによりプラズマを発生させ、基
板表面上に６０分間プラズマ重合膜を形成した。プラズ
マ重合中、基板温度を８０℃程度に保持した（ここで言
う基板温度とは基板を置いたカソード面の温度であり、
以下プラズマ重合における基板温度とはすべてこの温度
を意味するものとする）。形成された接着層の膜厚は
０．８５μｍであった。
本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。 実施例１ ポリカーボネート樹脂基板（筒中プラスチック工業
（株）製）を平行平板型プラズマ重合装置内カソード上
にセットし、減圧下、アクリル酸メチルガスを流量３０
ＳＣＣＭで通気しながら圧力を２００ｍＴｏｒｒに調節
保持し、１１０ｋＨｚ、０．１Ｗ／ｃｍ2 の低周波電力
を与えて放電させることによりプラズマを発生させ、基
板表面上に６０分間プラズマ重合膜を形成した。プラズ
マ重合中、基板温度を８０℃程度に保持した（ここで言
う基板温度とは基板を置いたカソード面の温度であり、
以下プラズマ重合における基板温度とはすべてこの温度
を意味するものとする）。形成された接着層の膜厚は
０．８５μｍであった。
【００１９】次に、チャンバー内を充分真空排気した
後、減圧下ヘキサメチルジシロキサンガスとＮ2 Ｏガス
を１対２のモル比で通気しながら圧力を１５０ｍＴｏｒ
ｒに調節保持し、１１０ｋＨｚ、０．５Ｗ／ｃｍ2 の低
周波電力を与えて放電させることによりプラズマを発生
させ、基板表面を４０分間プラズマ処理した。プラズマ
重合中、基板温度を８０℃程度に保持した。形成された
ハードコート層の膜厚は４．２μｍであった。
後、減圧下ヘキサメチルジシロキサンガスとＮ2 Ｏガス
を１対２のモル比で通気しながら圧力を１５０ｍＴｏｒ
ｒに調節保持し、１１０ｋＨｚ、０．５Ｗ／ｃｍ2 の低
周波電力を与えて放電させることによりプラズマを発生
させ、基板表面を４０分間プラズマ処理した。プラズマ
重合中、基板温度を８０℃程度に保持した。形成された
ハードコート層の膜厚は４．２μｍであった。
【００２０】比較例１ 実施例と同じ基板、装置を用い同条件にてヘキサメチル
ジシロキサンガスとＮ 2 Ｏガスのプラズマ重合のみ行っ
た。実施例と比較例で得た表面処理基板について次の様
な特性試験を行いその結果を表−１にまとめて示した。
ジシロキサンガスとＮ 2 Ｏガスのプラズマ重合のみ行っ
た。実施例と比較例で得た表面処理基板について次の様
な特性試験を行いその結果を表−１にまとめて示した。
【００２１】特性試験項目及び方法 １．膜の初期密着性 クロスカット密着性試験を行った。ここで言うクロスカ
ット密着性試験とは、被膜面に鋼ナイフにて１ｍｍ間隔
で基板に達する碁盤目を入れ、次にセロテープ（ニチバ
ン（株）製、巾２４ｍｍ）を良く密着させ、９０°方向
に急速に引き剥し、剥離の有無を見る試験方法である。
各サンプルにつき試験を行い、剥離しなかった枚数を示
した。
ット密着性試験とは、被膜面に鋼ナイフにて１ｍｍ間隔
で基板に達する碁盤目を入れ、次にセロテープ（ニチバ
ン（株）製、巾２４ｍｍ）を良く密着させ、９０°方向
に急速に引き剥し、剥離の有無を見る試験方法である。
各サンプルにつき試験を行い、剥離しなかった枚数を示
した。
【００２２】２．耐擦傷性 （１）スチールウール耐擦傷性 ＃０００番スチールウールで表面処理基板表面を摩擦
し、 ○−強くこすっても傷が付かない △−強くこするとわずか傷が付く ×−弱くこすっても傷が付く と表示した。
し、 ○−強くこすっても傷が付かない △−強くこするとわずか傷が付く ×−弱くこすっても傷が付く と表示した。
【００２３】（２）テーバー摩耗試験 ＡＳＴＭ Ｄ１０４４に従い、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆ、荷
重５００ｇにて試験を行い摩耗回数５００回で試験前後
のΔＨａｚｅを測定した。ここでΔＨａｚｅの定義は ΔＨａｚｅ＝試験後のＨａｚｅ−試験前のＨａｚｅ である。
重５００ｇにて試験を行い摩耗回数５００回で試験前後
のΔＨａｚｅを測定した。ここでΔＨａｚｅの定義は ΔＨａｚｅ＝試験後のＨａｚｅ−試験前のＨａｚｅ である。
【００２４】３．耐候性試験 ウェザーメーター（スガ製ＷＥ−ＳＵＮ−ＨＣ）を用い
ＪＩＳ Ａ１４１５に従い一定時間試験後、クロスカッ
ト試験による密着性試験を行った。表には剥離しなかっ
た枚数を表示した。
ＪＩＳ Ａ１４１５に従い一定時間試験後、クロスカッ
ト試験による密着性試験を行った。表には剥離しなかっ
た枚数を表示した。
【００２５】
【表１】
【００２６】
【発明の効果】本発明の表面処理プラスチックス製品は
耐擦傷性、耐摩耗性、耐薬品性、帯電特性に優れ、各種
光学材料、光記録材料、窓ガラス等に用いて好適であ
る。
耐擦傷性、耐摩耗性、耐薬品性、帯電特性に優れ、各種
光学材料、光記録材料、窓ガラス等に用いて好適であ
る。
Claims (3)
- 【請求項１】 表面に下記Ａ及びＢ被膜がこの順に積層
されてなる表面処理プラスチックス製品。 Ａ．一般式（Ｉ）で表されるモノマーを 【化１】ＣＨ2 ＝ＣＲＣＯＯＲ′ （Ｉ） （式中Ｒは水素またはアルキル基、Ｒ′はアルキル基）
プラズマ重合することにより形成され、膜厚が０．１μ
ｍ〜１０μｍであるプラズマ重合被膜。 Ｂ．珪素化合物をモノマーとしてプラズマ重合により形
成され、膜厚が０．１μｍ〜１０μｍであるプラズマ重
合被膜。 - 【請求項２】 Ｂ被膜を形成するモノマーが炭素／珪素
の原子数比が０．１〜３の範囲である事を特徴とする請
求項１に記載の表面処理プラスチックス製品。 - 【請求項３】 Ｂ被膜のプラズマ重合モノマーが炭素原
子と酸素原子を含む珪素化合物である事を特徴とする請
求項１に記載の表面処理プラスチックス製品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16284792A JPH061870A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | 表面処理プラスチックス製品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16284792A JPH061870A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | 表面処理プラスチックス製品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH061870A true JPH061870A (ja) | 1994-01-11 |
Family
ID=15762377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16284792A Pending JPH061870A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | 表面処理プラスチックス製品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH061870A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997035912A3 (de) * | 1996-03-27 | 1997-11-20 | Leica Mikroskopie & Syst | Verfahren zur erzeugung einer haftfesten beschichtung auf polymethylmetacrylat (pmma)-substratoberflächen |
| US7893182B2 (en) | 2003-10-15 | 2011-02-22 | Dow Corning Corporation | Manufacture of resins |
-
1992
- 1992-06-22 JP JP16284792A patent/JPH061870A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997035912A3 (de) * | 1996-03-27 | 1997-11-20 | Leica Mikroskopie & Syst | Verfahren zur erzeugung einer haftfesten beschichtung auf polymethylmetacrylat (pmma)-substratoberflächen |
| US7893182B2 (en) | 2003-10-15 | 2011-02-22 | Dow Corning Corporation | Manufacture of resins |
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