JPH0618702A - レンズ用感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
マーまたはp−ヒドロキシスチレン類とスチレン類のコ
ポリマーであって、p−ヒドロキシスチレン類に由来す
る構造単位が少なくとも70モル%を占めるアルカリ可
溶性ポリマー、(B)1,2−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステルおよび(C)分子内に少なくとも2個
のエポキシ基を有する化合物を含有するレンズ用感光性
樹脂組成物。 【効果】従来のレンズ形成用感光性材料では、屈折率と
透過率および解像度と耐熱性・耐溶剤性の何れの要求を
も満たすことが出来ずいずれかの特性が犠牲にならざる
をえなかったが、本発明のレンズ形成用組成物を用いる
ことによって、マイクロ集光レンズの形成後の耐熱変形
性・耐溶剤性をレンズ形成時に付与させることができ、
更に高い屈折率と優れた透過率を持たせることが可能と
なった。
Description
成物に関する。さらに詳しくは、固体撮像素子、液晶表
示素子等に利用されるマイクロ集光レンズとして使用可
能で高屈折率を有するポジ型感光材料を与えるに好適な
レンズ用感光性樹脂組成物に関するものである。
の普及にともない、高画質撮像素子の需要が高まりつつ
ある。この固体撮像素子には基本型としてCCD型とM
OS型がある。このような固体撮像素子は、小型・軽
量、耐震性、長寿命、低消費電力等の特徴があり、カメ
ラ一体型VTRの普及とともに急激な需要の拡大をみせ
ている。
20数万画素であったものが、1/3インチ、さらに1
/4インチへ進む勢いであり、セルサイズはこの10年
でおよそ1桁も小さくなっている。このようなCCDお
よびMOSの小型化のメリットとしては、以下の3点が
挙げられる。 ウエハー当たりの取れ数増大によるコスト低減。 チップ面積の縮小にともなう負荷容量の低減による低
消費電力化。 光学サイズの縮小にともなう、システムの小型・軽量
化、また、そのことによる付加機能の追加およびデザイ
ン画での自由度の増大。
子としての特性の劣化はあってはならないものである。
撮像素子の小型化にともなう特性の劣化としては、チッ
プ面積縮小にともなう取扱い電荷量の低下、つまり素子
の感度の低下が挙げられる。対策としては、つぎの3点
がある。 フォトダイオードの高感度化 フォトダイオードの表面積の割合(開口率)の向上。 マイクロ集光レンズの使用による集光率の向上。
とができるのマイクロ集光レンズが注目されており、
各CCD、MOSメーカーが注力している。このような
マイクロ集光レンズは、特開平1−91103号公報、
特開平1−246505号公報、特開平1−25790
1号公報、特開平1−263601号公報に示されてい
るように、今後の固体撮像素子の必須条件になってきて
いる。
形成する方法としては、特開昭60−60755号公
報、特開昭59−94456号公報、特開昭60−53
073号公報、特開昭60−175001号公報に示さ
れているように、透明な耐熱性樹脂層を表面保護膜上に
形成したあと、その上に一般のポジレジスト層を形成す
る。その後、フォトダイオードに対応する部分にポジレ
ジストが残るように露光・現像した後、パターンを熱処
理することによってポジレジストのマイクロ集光レンズ
を作成する。そしてこのものをエッチング等の物理的手
法によって透明な耐熱性樹脂のマイクロ集光レンズを作
成することができる。
に、透明な感光性樹脂を表面保護膜上に塗布し、フォト
ダイオードに対応する部分に樹脂層が残るように露光・
現像した後、パターンを熱処理することによっても形成
できる。マイクロ集光レンズに要求されている諸特性と
しては、高感度、高解像度といったレジスト特性の他に
レンズ形成能、高屈折率、可視光域での透明性、レンズ
形成後、耐熱性、耐溶剤性、耐光性ほかが挙げられる。
ジ型フォトレジストを用いて、塗布−プレベーク−露光
−現像−熱処理によって、レンズ形成の目的は達成され
るが、得られたレンズには、耐熱性・耐溶剤性・透明性
に問題が生じる。また、他の材料を転用してもすべての
要求特性を満足させる材料は見いだされていない。ま
た、マイクロ集光レンズの要求項目の中でもとりわけ、
屈折率の高い材料が注目されている。それは、集光率を
より向上させるためにレンズの端部の入射光もフォトダ
イオードに集光させるために必要な特性として重要視さ
れるようになってきている。
な背景をもとに鋭意研究を重ねた結果、マイクロレンズ
に要求される諸特性を十分満足させつつ、より集光率を
向上させるために必要な高い屈折率を有するレンズ形成
用ポジ型感光材料を見いだし、本発明に至った。すなわ
ち、本発明は下記式(1)
(1)と下記式(2)
そして構造単位(1)が構造単位(1)と構造単位
(2)の合計に基づいて100〜70モル%を占める重
合体が核臭素置換されたアルカリ可溶性ポリマー、
(B)下記式(3)
フトキノンジアジドスルホン酸エステル、および(C)
分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物
(以下、「エポキシ化合物」という)、を含有すること
を特徴とするレンズ用感光性樹脂組成物である。
る。(A)アルカリ可溶性ポリマー アルカリ可溶性ポリマーを製造する方法としては、例え
ばヒドロキシスチレン類とスチレン類を共重合させ、前
駆体ポリマーを得た後にポリマーを臭素化する方法(以
下、「直接法」という)と、ヒドロキシスチレン類のヒ
ドロキシル基を他の官能基で保護した化合物を用いてス
チレン類と共重合させた後に、適当な方法を用いてヒド
ロキシル基に変換させる前駆体ポリマーを得た後にポリ
マーを臭素化する方法(以下、「間接法」という)とが
ある。本発明においてはマイクロ集光レンズを形成させ
る際に悪影響が生じない限り、いずれの手法を用いても
かまわない。また、ヒドロキシル基の位置はいずれでも
よいが、スチレンの二重結合に対してp位にある方が好
ましい。
表わされる構造単位のみからなるホモポリマーおよび上
記式(1)で表わされる構造単位と上記式(2)で表さ
れる構造単位からなるコポリマーを挙げることができ
る。
は、ヒドロキシスチレン類は70モル%以上が好まし
く、特に好ましくは85モル%以上である。70モル%
未満であると、得られた共重合体がアルカリ水溶液に溶
解しにくくなるので現像残りを生じ易くマイクロ集光レ
ンズに必要なパターンを作り難い。
ン類としては、スチレン、α−メチルスチレン、o−メ
チルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレ
ン、p−ビニルトルエン、p−メトキシスチレン等が、
ヒドロキシスチレン類としては、o−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン
が挙げられる。
のヒドロキシスチレン類の前駆体モノマーとしては、p
−ベンジロキシスチレン、p−tert−ブトキシスチ
レン、p−tert−ブトキシカルボニロキシスチレ
ン、p−tert−ブチルジメチルシロキシスチレン、
p−アセトキシスチレン等を用いることができる。そし
て、スチレン類としては、スチレン、α−メチルスチレ
ン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メ
チルスチレン、p−ビニルトルエン、p−メトキシスチ
レン等を用いることができる。
な処理、例えば加水分解をすることによってに前駆体ポ
リマーを得ることができる。また、この前駆体モノマー
とスチレン類の共重合体を製造する際の重合触媒として
は、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤等を用い
ることができる。アルカリ可溶性ポリマー(A)は、前
駆体ポリマーを四塩化炭素等の有機溶媒に溶解させた
後、反応温度が30℃を超えないように注意しながら、
臭素を滴下することによって得ることができる。この際
の臭素化率としては、ベンゼン核100モル%に対して
5モル%以上が好ましい。5モル%以下であると期待し
ている屈折率の向上が見られないことがある。
ホン酸エステル 本発明に用いられる感光剤は、エポキシ化合物との反応
によって耐熱性・耐溶剤性、高屈折率を付与させること
から、上記式(3)、(4)で示したような1,2−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸エステルである。そのエ
ステル成分としては、4,4’−[1−〔4−(1−
(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェ
ニル〕エチリデン]ジフェノールまたは1,1,3−トリ
ス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3
−フェニルプロパン等を挙げることができる。
ポリマー100重量部に対して、好ましくは5〜100
重量部であり、特に好ましくは10〜50重量部であ
る。5重量部未満であると、放射線照射によって生成す
るインデンカルボン酸の量が少なくなるために、放射線
の照射前後でアルカリ水溶液に対する溶解度に差をつけ
ることができず、パターニングが困難となり、さらに耐
熱性・耐溶剤性を付与させるためのエポキシ基との反応
においても、関与するカルボン酸の量が少なくなるため
に、組成物から得られるマイクロ集光レンズに耐熱性・
耐溶剤性に不具合が生じる恐れがある。また、100重
量部を超えると、短時間の放射線照射では添加した1,
2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルの大半が
未だそのままの形で残存するため、アルカリ水溶液への
不溶化効果が高すぎて現像することが困難となる場合が
生じる。
放射線照射した後に生じるインデンカルボン酸のカルボ
キシル基と反応することによってマイクロ集光レンズに
耐熱性・耐溶剤性を付与するために使用される。また、
エポキシ化合物を添加する量によって組成物の平均分子
量を変化させ、レンズを形成する加熱条件(温度・時
間)を変えることができる。
カリ可溶性ポリマーおよび感光剤との相溶性に影響がな
い限り限定されるものではないが、好ましくはビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポ
キシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状
脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹
脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、複素環式エポキ
シ樹脂等の他、オプトマーSS(日本合成ゴム(株)
製)のようなグリシジルメタクリレート含有樹脂組成物
を挙げることができる。
は、特に制限はなくビスフェノールAあるいはジグリシ
ジルエーテルの如き低分子量体でも使用することができ
る。これらエポキシ化合物の添加量は、アルカリ可溶性
ポリマー100重量部に対して、好ましくは5〜100
重量部、より好ましくは10〜50重量部である。5重
量部未満であると、感光剤に放射線を照射した後に生成
するインデンカルボン酸のカルボキシル基との反応点が
十分に得られないために、耐熱性・耐溶剤性を満足させ
ることが困難となる。また、100重量部を超えるとア
ルカリ可溶性ポリマーとの相溶性が悪くなり、塗膜形成
後の塗膜の表面に膜荒れが生じてしまうことがある。
デンカルボン酸のカルボキシル基と種々のエポキシ化合
物を加熱によって反応させ、マイクロ集光レンズに耐熱
性・耐溶剤性を向上させる。しかしながら、マイクロ集
光レンズの作成方法によっては、充分な加熱条件(温度
・時間)を設定できないことも考えられ、その際には、
反応を促進させるために触媒を併用することが有効であ
る。用いる触媒としては、アミンを使用することができ
るが、組成物の保存安定性から潜在性硬化剤が好まし
い。
熱によって活性化するジシアンジアミド、有機酸ジヒド
ラジドアミンイミド、第三アミン塩、1位置換のイミダ
ゾール塩のほか、放射線照射によって活性化するブレン
ステッド酸の鉄芳香族化合物塩等の光カチオン重合開始
剤を挙げることができる。
100重量部に対して10重量部以下が好ましく、より
好ましくは0.5〜5.0重量部である。10重量部を越
えると組成物の保存安定性を低下させることもある。さ
らに、これら硬化触媒は、酸無水物等の促進剤を併用す
ることもできる。
ることもできる。界面活性剤としては、例えばBM−1
000、BM1100(BM Chemie社製)、メ
ガファックF142D、F172、F173、F183
(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラードFC−
135、FC−170C、FC430、FC−431
(住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−112、
S−113、S−131、S−141、S−145(旭
硝子(株)製)等の名称で市販されているフッ素系界面
活性剤を使用することができる。これらの界面活性剤の
使用量は、アルカリ可溶性ポリマー100重量部に対し
て好ましくは5重量部以下、より好ましくは0.01〜
2重量部である。
とによって容易に調製することができる。混合する際、
通常適当な溶媒に溶解させて溶液の形で使用に供せられ
る。用いる溶媒としては、アルカリ可溶性ポリマー、感
光剤、エポキシ化合物、その他の配合物を均一に溶解さ
せることができ、各成分と反応しないものが用いられ
る。
エタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン等の
エーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコール
エーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエー
テルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレング
リコール類;プロピレングリコールメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテ
ート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテ
ート類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ
−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン類;2−ヒド
ロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチ
ルプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢
酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチ
ル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプ
ロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、
3−エトキシプロピオン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類を用いることができる。さらに、N
−メチルホルムアルデヒド、N,N−ジメチルホルムア
ルデヒド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテ
ル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カ
プリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジ
ルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ
酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクト
ン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソル
ブアセテート等の高沸点溶剤を添加することもできる。
の反応性および塗膜の形成のし易さから、エチレングリ
コールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;
エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールア
ルキルエーテルアセテート類;2−ヒドロキシプロピオ
ン酸エチル等のエステル類;ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル等のジエチレングリコール類が好適であ
る。
えばアルカリ可溶性ポリマーの溶液、感光剤の溶液、エ
ポキシ化合物の溶液、その他の配合剤の溶液それぞれを
別に調製しておき、使用直前にこれら溶液を所定の割合
で混合することもできる。以上のようにして調製した組
成物溶液は、孔径0.2μmのミリポアフィルター等を
用いて濾過した後、使用に供することもできる。
体表面に塗布し、加熱により溶媒を除去することによっ
て所望の塗膜を形成することができる。基体表面への塗
布方法は特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコ
ート法、回転塗布法等の各種の方法を採用することがで
きる。
は、各成分の具体的種類・配合割合等によっても異なる
が、通常は70〜90℃で3〜10分間程度である。次
に得られた塗膜に所定のパターンのマスクを介して、例
えば紫外線を照射した後、アルカリ水溶液を用いて現像
し、レジストパターンを形成させる。本発明における現
像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナ
トリウム、アンモニア水、エチルアミン、n−プロピル
アミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ト
リエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、ピロル、ピペリジン、1,8−ジアザビシ
クロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビ
シクロ[4.3.0]−5−ノナン等のアルカリ類の水溶
液を使用することができる。また上記アルカリ類の水溶
液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面
活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用する
こともできる。
あり、また現像の手法は液盛り法、デッピング法等のい
ずれでもよい。現像後は、流水洗浄を30〜90秒間行
い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、レ
ジストパターンを形成させることができる。
って残ったレジストパターン中に残存している1,2−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルをインデンカ
ルボン酸化合物に変換させる。そして、ホットプレー
ト、クリーンオーブン等の加熱装置を用いて、所定の温
度、例えば130〜170℃で、所定の時間、例えばホ
ットブレート上ならば2〜10分間、オーブン中ならば
15〜45分間、加熱処理をすることによって、レジス
トパターンを溶融してマイクロ集光レンズにすることが
できる。
説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら制
約されるものではない。また、特にことわりの無い限
り、%は重量%を示す。
ブチロニトリル10gを溶解したジオキサン溶液500
gを仕込んだ。引き続きスチレン25g、p−tert
−ブトキシスチレン475gを仕込んだ後、緩やかに攪
拌を始めた。70℃で重合開始し、この温度を12時間
保持した後、溶液を徐々に室温にに戻した。その後、ア
セトンを加え、溶液濃度を15重量%にしてから10倍
量のメタノール中に滴下して反応物を凝固させた。この
凝固物をメタノールで充分に洗浄した後、ジオキサン5
00gに再溶解させ、多量のメタノールで再度、凝固さ
せた。この再溶解−凝固操作を3回行った後、得られた
凝固物を60℃で48時間真空乾燥させ、目的とする共
重合体を得た。
に入れ、1133gのジオキサンにて15重量%溶液を
得た。その後、120℃のオイルバス中にフラスコをい
れて、窒素バブル下で溶液を攪拌させながら沸点還流さ
せた。滴下ロートを用いて7.2%塩酸水溶液200g
をポリマーが析出しないように注意しながら60分間か
けてゆっくり滴下して、その後さらに5時間還流を続け
た。
完全であることを確認した後、溶液を徐々に室温に戻し
て、アセトンで希釈し10倍量の超純水中に滴下して凝
固させた。その後濾液が中性になるまで超純水で充分に
洗浄し、得られた白色ポリマーを60℃で48時間乾燥
させ、ポリマーを得た。
代わりにp−アセトキシスチレンを用いた以外は合成例
1と同様にしてポリマーを得た。
代わりにp−tert−ブチルジメチルシロキシスチレ
ンを用いた以外は合成例1と同様にしてアルカリ可溶性
ポリマーを得た。
リ可溶性ポリマー100gを四塩化炭素400gに溶解
した後、反応温度が30℃を超えないように注意しなが
ら、臭素50gを滴下ロートを用いて滴下した。その後
3時間攪拌を続けた。沈澱した生成物を濾別した後、4
00gのアセトンに溶解し、10倍量の超純水中に徐々
に加えてポリマーを析出させた。濾過、水洗後、再びア
セトンに溶解し、10lの4%NaHCO3水溶液中に
加えてポリマーを析出させた。濾過後、ポリマーを充分
に水洗してNaHCO3を完全に除去したあと40℃で
24時間真空乾燥した。臭素化は、赤外吸収スペクトル
を測定し、C−Brに由来する740cm-1の吸収が新
たに出現していることにより確認した。
合成例2で得られたアルカリ可溶性ポリマーを用いて合
成例4と同様にして臭素化したアルカリ可溶性ポリマー
を合成した。臭素化は、赤外吸収スペクトルを測定し、
C−Brに由来する740cm-1の吸収が新たに出現し
ていることにより確認した。
合成例3で得られたアルカリ可溶性ポリマーを用いて合
成例4と同様にして臭素化したアルカリ可溶性ポリマー
を合成した。臭素化は、赤外吸収スペクトルを測定し、
C−Brに由来する740cm-1の吸収が新たに出現し
ていることにより確認した。
エチレングリコールジメチルエーテル75gに溶解した
のち、4,4’−[1−〔4−(1−(4−ヒドロキシ
フェニル)−1−メチルエチル)フェニル〕エチリデ
ン]ジフェノールの1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホン酸エステル(平均エステル化率66.7モル
%)7.5g、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂E
OCN−1020(日本化薬(株)製)3.0gを溶解
し、孔径0.2μmのミリポアフィルターで濾過して感
光性材料(1)を調製した。
ェハー上に形成した後、スピンコート法で上記感光性材
料(1)を塗布した後、70℃で3分間ホットプレート
上でプレベークして膜厚2.8μmのレジスト膜を形成
した。
クをウェハーに密着し、365nmでの光強度が10m
J/cm2である紫外線を15秒間照射下。次いでテト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド(以下、TMAHと
略す)1.8%水溶液で25℃で2分間現像した後、超
純水で1分間リンスしたところ線巾0.6μmのスペー
スを解像することができた。その後、同じ露光装置を用
いて30秒間全面露光し、ホットプレート上で表1に示
すレンズ形成可能温度で5分間加熱し、巾5.0μmの
パターンをレンズにすることができた。このレンズを用
いて耐熱変形性・耐溶剤性を評価し、結果を表1に示し
た。
た。 耐熱変形性:得られたマイクロ集光レンズを170℃で
3時間追加加熱しスペースの線巾が加熱前の線巾の90
%を超えた時を○、90〜80%の時を△、80%未満
の時を×とした。
た。 耐溶剤性:得られたマイクロ集光レンズを1分間下記の
溶剤に浸漬した後、超純水でリンスし、耐溶剤性を評価
した。耐性の悪かった溶剤を記号化して表1に記した。 A:アセトン、T:2.4%TMAH、M:メチルセロ
ソルブ E:エチルセロソルブアセテート、I:イソプロピルア
ルコール
代わりに、透明基板(コーニング7059:コーニング
社製)を用いた以外は上記(2)と同様にレジスト膜を
形成した。次いで、TMAHで現像処理した後、超純水
で1分間リンスした。さらに、30秒間全面露光し、線
巾5.0μmのパターンをレンズ形成温度でホットプレ
ートを用いて加熱し、さらに170℃で3時間加熱し
た。得られた基板を分光光度計(150−20型ダブル
ビーム;(株)日立製作所製)を用いて400〜800
nmの透過率を測定し、最低透過率が95%を超えた時
を○、95〜90%の時を△、90%以下の時を×と
し、結果を表1に示した。
に、合成例5で得られたアルカリ可溶性ポリマー25g
を使用した以外は実施例1と同様にして調製・評価し
た。結果を表1に示した。
に、合成例6で得られたアルカリ可溶性ポリマー25g
を使用した以外は実施例1と同様にして調製・評価し
た。結果を表1に示した。
−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フ
ェニル〕エチリデン]ジフェルの1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸エステル(平均エステル化率
66.7モル%)7.5gのかわりに1,1,3−トリス
(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−
フェニルプロパン7.5gを使用した以外は実施例1と
同様にして調製・評価した。結果を表1に示した。
に、合成例1で得られたアルカリ可溶性ポリマー25g
を使用した以外は実施例1と同様にして調製・評価し
た。結果を表1に示した。
脂EOCN−1020(日本化薬(株)製)の代わり
に、エピコート1010(油化シェルエポキシ(株)
製)7.5gを使用した以外は実施例1と同様にして調
製・評価した。結果を表2に示した。
脂EOCN−1020(日本化薬(株)製)の代わり
に、エピコート807(油化シェルエポキシ(株)製)
7.5gを使用した以外は実施例1と同様にして調製・
評価した。結果を表2に示した。
脂EOCN−1020(日本化薬(株)製)の代わり
に、エピコート154(油化シェルエポキシ(株)製)
7.5gを使用した以外は実施例1と同様にして調製・
評価した。結果を表2に示した。
脂EOCN−1020(日本化薬(株)製)の代わり
に、CY−177(CIBA−GEIGY社製)7.5
gを使用した以外は実施例1と同様にして調製・評価し
た。結果を表2に示した。
脂EOCN−1020(日本化薬(株)製)の代わり
に、エピコート872(油化シェルエポキシ(株)製)
7.5gを使用した以外は実施例1と同様にして調製・
評価した。結果を表2に示した。
脂EOCN−1020(日本化薬(株)製)の代わり
に、オプトマーSS(日本合成ゴム(株)製)7.5g
を使用した以外は実施例1と同様にして調製・評価し
た。結果を表2に示した。
工業(株)製)0.075gを溶解した以外は実施例1
と同様にして調製・評価した。結果を表3に示した。
61(CIBA−GEIGY社製)0.10gを溶解し
た以外は実施例1と同様にして調製・評価した。 結果
を表3に示した。
折率と透過率および解像度と耐熱性・耐溶剤性の何れの
要求をも満たすことが出来ずいずれかの特性が犠牲にな
らざるをえなかったが、本発明のレンズ形成用組成物を
用いることによって、マイクロ集光レンズの形成後の耐
熱変形性・耐溶剤性をレンズ形成時に付与させることが
でき、更に高い屈折率と優れた透過率を持たせることが
可能となった。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)下記式(1) 【化1】 で示される構造単位(1)または構造単位(1)と下記
式(2) 【化2】 で示される構造単位(2)を含有して成りそして構造単
位(1)が構造単位(1)と構造単位(2)の合計に基
づいて100〜70モル%を占める重合体が核臭素置換
されたアルカリ可溶性ポリマー、(B)下記式(3) 【化3】 で示される化合物および下記式(4) 【化4】 で示される化合物から選ばれる1,2−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステル、および(C)分子内に少な
くとも2個のエポキシ基を有する化合物、を含有するこ
とを特徴とするレンズ用感光性樹脂組成物。
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-
1992
- 1992-07-03 JP JP04198980A patent/JP3082179B2/ja not_active Expired - Fee Related
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