JPH06164072A - 2周波発光装置、及びそれを用いた計測装置及びピッグテール光デバイス - Google Patents
2周波発光装置、及びそれを用いた計測装置及びピッグテール光デバイスInfo
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- JPH06164072A JPH06164072A JP4330999A JP33099992A JPH06164072A JP H06164072 A JPH06164072 A JP H06164072A JP 4330999 A JP4330999 A JP 4330999A JP 33099992 A JP33099992 A JP 33099992A JP H06164072 A JPH06164072 A JP H06164072A
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- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
た装置である 【構成】光源部1と、光源部1からの光を導く光伝搬路
2と、光伝搬路2に設けられた伝搬光のモードを変換す
る為のモード変換部3と伝搬光の周波数をシフトさせる
為の光周波数シフタ部4とを有する。偏光状態が異なり
周波数の僅かにずれた2つの直線偏光が出射される。
Description
表面形状の計測法のうち、光ヘテロダイン干渉法などの
光源として利用できる2周波発光装置ないし半導体レー
ザ、それを用いた計測装置、及びチャンネル光導波路の
入力あるいは出力端面を斜めに形成することによって結
合光波の整形を行い、光ファイバとの結合を最適化した
ピッグテール光デバイスに関する。
つとしては、内部鏡型He−Neレーザで、横方向に磁
場を加えることにより、周波数が異なる直交した直線偏
光の出力が得られる横ゼーマンレーザが用いられてい
た。もう一つには、光源部の小型化のために、図12に
示すような光学系を組み直交2周波レーザを得ていた。
図12において、光源101から出射した光はλ/4板
102で円偏光にされ、偏光ビームスプリッタ103に
入射する。偏光ビームスプリッタ103に入射した光の
うち、P偏光成分の光は透過し、音響変調器105に入
射して周波数シフトされ、ミラー107で偏向され、偏
光ビームスプリッタ108に入射し、それを透過する。
したS偏光成分の光は、音響変調器104で、P偏光成
分の光とは僅かに異なる周波数へシフトされる。この
後、ミラー106で偏向され、偏光ビームスプリッタ1
08に入射、そこで反射される。
直交した直線の偏光の光を得ることができる。
合する場合、図13に示す様に光ファイバ先端をレンズ
状に加工したいわゆる先球ファイバが用いられていた。
同図において、130は半導体レーザ、131は先球光
ファイバである。半導体レーザ130から出射した光波
は先球ファイバ部分のレンズ効果によって収束され、光
ファイバ131内の導波モードを励起してそのモードで
伝搬することになる。
ーザ130からの光を収束させて、光ファイバ133に
結合させる別の従来例を示す。収束用のレンズとして、
途中で開口数(NA)を変換するために2段のレンズを
用いて結合する構成も可能であり、より高い結合効率が
期待できる。
記に示した2つの2周波発光装置の従来例では、横ゼー
マンレーザの場合、光源が大きく計測装置などの小型化
が不可能であった。他方、周波数シフターとし音響光学
変調器を用いる方法では、光ヘテロダイン法で干渉計測
を行うには、目標の精度に対応して、レーザ101や音
響光学変調器104,105の調整に手間がかかり困難
であった。また、光学系が、機械的、熱的に振動するこ
とにより計測誤差を生ずるという欠点があった。
上記従来例においては、半導体レーザの出射光の縦およ
び横の界分布が異なるために、先球光ファイバとの結合
が最適化されないという問題点を有していた。すなわ
ち、半導体レーザは、通常、チャンネル導波路が形成さ
れ、基板に垂直な方向はエピの層構成で光の閉じ込めが
決定されるのに対し、基板面に沿う方向はリッジ形成あ
るいは埋め込み構造などの微細加工によってその横方向
閉じ込めが行なわれている。その為、通常の半導体レー
ザでは、縦・横の界分布が異なることになる。作製方法
の工夫でこの両界分布の比(アスペクト比)が1かそれ
より小さいレーザも開発されているが、作製が困難であ
ったり、耐久性に難があるなどの問題点を残している。
上、軸対称の先球部が形成されているのが通常であるの
で、その界分布は縦・横の界分布幅が等しくなってい
る。このように、半導体レーザの界分布と光ファイバの
界分布は本質的に異なるため、両者の結合効率の最適化
が困難であるという問題点を有していた。
射率)の低減と特定の偏光モードの選択するような効果
を狙ったものとして、斜め角度(Brewster角)
に設定して動作させたものが報告されている(J.T.
K.Chang and J.I.Vukusic
“Traveling−wave Brewster−
angled stripe InGaAsP las
er amplifier at 1.3μm” J.
Modern Optics35,3,pp.355
−364(1988)参照)。しかし、この論文の中に
はレーザ光のアスペクト比の最適化を図ったという記述
は特に見られない。
によれば、半導体基板上などに、レーザ部などの光源部
と光導波路などの光伝搬手段と導波形などのモード変換
部と導波形などの光周波数シフタ部を設けることによ
り、該光源部から出射した光は、該光伝搬手段を伝搬
し、該光周波数シフタ部および該モード変換部を介する
ことにより、わずかに周波数の異なる例えば直交する直
線偏光の光として同一或は異なる出射口から出射するよ
うにしたものである。
よれば、半導体レーザの出射光の界分布の縦横の拡がり
を等しくするために、半導体レーザ端面を斜めに設けて
出力光を出射させることにより、アスペクト比の改善を
図り、光ファイバとの結合効率の向上を行うものであ
る。
例を示し、同図に於いて、1はレーザ部、2はY分岐導
波路、3はY分岐導波路2の一方の分岐路に設けられた
導波形モード変換部、4a,4bはY分岐導波路2の他
方の分岐路に設けられた導波型周波数シフター部4を構
成する電極、5は無反射(AR)コーティングでありレ
ーザ出射口である。レーザ部1は、例えば、単一モード
発振を得ることのできるDFBレーザで構成すればよ
い。また、レーザ部1としてFabry−Perot構
造のレーザを用いる場合は、その端面1a,1bを共振
面にするため、端面1bの部分にエッチングにより層方
向にスリットを形成する必要がある。
す。その構造は、(a)に示す埋込み形でも、(b)の
ようなリッジ形でもよい。埋込み形は、選択的熱拡散、
イオン注入、あるいは電子ビーム照射により、基板表面
近くに高屈折率の導波層を形成する。リッジ形は、前も
って基板表面に蒸着、スパッタ、あるいはエピタキシャ
ル成長によって二次元導波路を作っておき、不要部分を
エッチングにより除去する。
ード)7はY分岐導波路2を伝搬し、分岐する。分岐し
た一方の光は導波形モード変換部3を通り、TMモード
の偏光状態の導波光8になる。モード変換部3は、図3
に示すように、導波路2上に2つの均一な周期のくし型
電極3a,3bを設けており、導波光の伝搬軸に沿って
周期的に変化する電界を発生させることによって、TE
とTMのモードの位相不整合(両モードの伝搬定数の相
違)を補償している。この際、勿論、導波路2にはT
E、TMモードが立つ様な構造になっている。こうし
て、TEモードの偏光状態の導波光7はTMモードの偏
光状態の導波光8に変換される。モード変換部3はTE
モードの導波光7が完全にTMモードの導波光8に変換
される様に構成されるが、もしTEモードの偏光状態の
導波光が多少残る恐れがある場合にはこれを除く手段を
モード変換部3の下流に設ける。
ー部4に導かれ、周波数シフトされた導波光9になる。
周波数シフターとしては、鋸歯状波電圧を導波路2の両
側に設けた電極4a,4bに印加することにより、SS
B変調器を構成している。
合され、2周波の直交する直線偏光8,9となってレー
ザ出射口5より出射する。
実施例である。
レーザ光7は、導波路19を伝搬し、周波数シフタ部に
入射する。周波数シフタ部では、くし型電極21,22
に高周波電気信号を加えることにより、音響光学材料3
0に弾性波を発生させて、0次回折光35および、周波
数シフトされた1次回折光36を得る。このうち、1次
回折光36は、一方の分岐路である導波路31に導かれ
る。一方、0次回折光35は他方の分岐路である導波路
32に導かれ、モード変換部3を伝搬することにより、
TMモードの導波光37に変換される。導波光36,3
7は、下流のY分岐導波路で再結合され、2周波直交直
線偏光の光となってレーザ出射口5より出射する。な
お、本実施例において、導波路型モード変換部3は、0
次回折光35の伝搬する導波路32上に設けているが、
導波路31上に設けてもよい。
実施例である。
導波路、40,41は共に周波数シフター部であり、3
は導波型モード変換部、5は無反射コーティングであ
る。また、周波数シフター部40,41は、夫々、くし
型電極40a,40b;41a,41bで構成されてい
る。
ザ光7(周波数:f)は、周波数シフター部40に入射
する。周波数シフター部40では、くし型電極40a,
40bに高周波電気信号V1を加えることにより、周波
数fの0次回折光45および、Δf1だけ周波数シフト
された周波数f+Δf1の1次回折光46を得る。光4
5,46は夫々Y分岐導波路2の分岐路を伝搬し、光4
5はモード変換部3によりTMモードの光47に変換さ
れる。次に、光46,47は周波数シフター部41に入
射し、この時、くし型電極41a,41bに高周波電気
信号V2を加えることによって、光47からは周波数Δ
f2だけシフトされた周波数f+Δf2の1次回折光48
が得られる。他方、光46は、周波数シフター部41を
透過し周波数シフトされない。
シフト量の差分できいてくるので、周波数の極めてわず
かに異なる(=Δf1−Δf2)直交する直線偏光の光4
6,48を得ることができる。
の実施例である。
TEモードのレーザ光51a,51c(周波数をfとす
る)のうち導波光51aは周波数シフター部30に入射
する。くし型電極21,22に高周波電気信号V1を加
えることにより、導波光51aは、回折、偏向するとと
もに、Δfだけ周波数シフトされた周波数f+Δfの1
次回折光51bとなる。一方、導波光51cは導波型モ
ード変換部3を伝搬し、TMモードの光51dとなる。
このようにして、TEモードの周波数f+Δfの光51
bと、TMモードの周波数fの光51dの2周波のレー
ザ光を両側のレーザ出射口5より得ることができる。
1aと51bの通る2つの導波路は、周波数シフター3
0で偏向されΔfだけ周波数シフトされた光のみを伝搬
させるため、相対的に、偏向角度程度折り曲げた構造に
している。
いた微小変位計測装置の実施例を示す。図7において、
60は半導体2周波レーザ、62はビームスプリッタ、
63a,63bはλ/4板、64は参照ミラー、65は
偏光ビームスプリッタ、66a,66bは偏光板、67
a,67bはセンサ、68は位相差計、69は演算器で
ある。
ら発せられたTMモードの光61a(実線で示す)及び
TEモードの光61b(点線で示す)は、ともに、ビー
ムスプリッタ62により2つに分離する。そのうち反射
した光は、偏光板66aにより、偏光方向をそろえて干
渉させる。これを参照ビート信号として、センサ67a
で光電検出する。
は偏光ビームスプリッタ65に入射する。このとき、T
Mモードの光61aは偏光ビームスプリッタ65で反射
し、参照ミラー64で反射した後、再度偏光ビームスプ
リッタ65に入射する。この時、λ/4板63aを往復
するため偏光方向は90度回転し、再度の入射では偏光
ビームスプリッタ65を透過する。他方、TEモードの
光61aは偏光ビームスプリッタ65を透過し、λ/4
板63bを通った後、測定物で反射し、更にλ/4板6
3bを通り偏光方向が初めに比べ90度回転するため、
再度の入射では偏光ビームスプリッタ65で反射する。
こうして、参照ミラー64と測定物で反射した2つの光
を、偏光板66bで偏光方向をそろえて干渉させ、その
光ビート信号をセンサ67bで光電検出する。
の位相差を位相差計68で測定し、その位相差から、演
算器69で測定物の変位に換算することができる。
00程度の測定が可能である。
の縦横の広がりを等しくする構成を説明する。
導体レーザの結合を行う第1の実施例を示すデバイスの
上面図である。半導体レーザ81の出射端面は同図に示
すように導波路82に対して角度θ1だけ傾けて設けら
れている。出射光はスネルの式に従い、角度θ2の方向
に出射される。ここでθ1,θ2は次の式を満足する。 sinθ2=neffsinθ1 ここでneffは半導体レーザ81の導波路82の等価屈
折率である。
向に合わせて設定されている。ここで、導波光の1/e
2分布幅を2ω1、出射光の1/e2分布幅を2ω2とする
と(出射光は発散光となるのでビームウエストでの換
算)、これらの関係は、入出射角をθ1,θ2として次式
で表わされる。 2ω1cosθ1=2ω2cosθ2 ここで、以上の2式に基づいて、導波路入射角θ1と出
射角θ2の関係を図10の実線で示し、他方、導波路入
射角θ1と入出射ビーム幅比(2ω2/2ω1)について
鎖線で示した。また参考のためにBrewster角θ
Bを示しておいた。1例としてθ1=13゜だけ傾いた斜
め出射構造とすることにより、出射角θ2〜45゜、入
出射ビーム幅比〜0.7が得られる。
により、アスペクト比1.5(〜1/0.7)程度の半
導体レーザ(図9の左側の2ω1/2ω0参照)に対し
て、等価的に出射光のアスペクト比を1に近づけること
が可能となり(図9の右側の2ω2/2ω0参照)、縦横
方向ともそろった結合効率が得られるため、光学系の最
適化によって結合効率の最適化を図ることが可能であ
る。
る方法として、くさび形のプリズムを用いて行うなどの
方法もあるが、コリメートされたビームに対してのみ有
効である。また、デバイスが小型にならず、高価な部品
のため、コストが高くなるなどの問題点がある。
的に示したものであるが、前述した様にすることで、導
波路82内でのビームの界分布(左図)は斜め端面出射
後、等方的なビームの界分布(右図)となる。この場
合、層方向の界分布の幅2ω0は傾き効果がないのでそ
のままの大きさが保たれている。この様に、出射ビーム
の界分布をほぼ等方的にし、光ファイバ83の1つのモ
ードの界分布にほぼ整合させ、更に出射ビームの光軸を
光ファイバの光軸に一致する様にすることで、結合を最
適化し結合効率の向上を図れる。
をピッグテール光アンプに適用した実施例を示す。光ア
ンプ96は内部ゲインないしデバイスゲインを高めるた
めに、残留反射率を低減する目的で端面に反射防止膜9
5a,95bが形成されている。反射防止膜95a,9
5bはZrO2を電子ビーム蒸着により形成して0.1
%以下の残留反射率を達成している。先球光ファイバ9
4a,94bは、前記実施例と同様にして、出射光の光
軸に合わせて傾けて結合されている。
効率良く光アンプ96の導波路92に結合され(この理
由は、前記した過程と逆の過程を辿るのみなので、同じ
である)、光増幅される。増幅された光波は出射され、
出射側の先球光ファイバ94aに結合される。このよう
に、両端に先球ファイバ94a,94bを設けたピッグ
テールデバイスにおいては、結合効率の最適化は極めて
重要である。以上説明した例では、結合系として先球光
ファイバについて言及したが、レンズ系を用いた結合系
に対しても適用できるのは言うまでもない。
光装置によれば、半導体基板などの上にレーザ共振部な
どの光源部と光導波路層などの光伝搬手段と導波形など
のモード変換部と導波形などの光周波数シフタ部を設け
ることにより、光ヘテロダイン干渉計測用などの小型で
機械的、熱的な振動の影響の少ない光源装置を作製で
き、更には、この光源装置を用いることにより、小型で
高精度な干渉計測装置などの開発を可能にしたものであ
る。
あるいは半導体光アンプの出射端を斜めにすることによ
り出射ビームの界分布をほぼ等方的にし、光ファイバの
1つのモードの界分布にほぼ整合させ、更に出射ビーム
の光軸を光ファイバの光軸に一致する様にすることで、
等方的界分布を有する光ファイバとの結合を最適化し、
結合効率の向上を図り、光ファイバ中で不要なモード励
起を伴わない安定した結合を維持できるという効果があ
る。また、半導体光アンプにおいては、出射端を斜めに
することによってAR効果をさらに高めることができ、
アンプの残留反射率を低減し、高ゲイン、低雑音の光ア
ンプが提供できるという効果が得られる。また、DFB
レーザなどの反射戻り光に非常に敏感なデバイスに対し
ても、残留反射率を低減できることから、波長の安定し
た光源の提供が可能となるものである。
図である。
図である。
図である。
図である。
施例の概略図である。
する第1の実施例の概念図である。
ム幅比の関係を求めたグラフである。
ール光アンプに応用した第2の実施例の概念図である。
す図である。
す図である。
電極 30 音響光学材料 60 2周波半導体レーザ 62 ビームスプリッタ 63a,63b λ/4板 64 参照ミラー 65 偏光ビームスプリッタ 66a,66b 偏光板 66a,66b センサ 68 位相差計 69 演算器 81 半導体レーザ 82,92 導波路 83,94a,94b 先球光ファイバ 95a,95b 反射防止膜 96 半導体レーザ光アンプ
Claims (11)
- 【請求項1】 光源部と、該光源部からの光を導く光伝
搬手段と、該光伝搬手段に設けられた伝搬光のモードを
変換する為のモード変換部と伝搬光の周波数をシフトさ
せる為の光周波数シフタ部とを有することを特徴とする
2周波発光装置。 - 【請求項2】 前記光源部がレーザ部であり、前記光伝
搬手段が光導波路であり、前記モード変換部と光周波数
シフタ部が夫々導波型モード変換部と導波型光周波数シ
フタ部であることを特徴とする請求項1記載の2周波発
光装置。 - 【請求項3】 全要素が半導体基板上に形成されている
ことを特徴とする請求項2記載の2周波発光装置。 - 【請求項4】 前記光導波路が二又に分岐しており、前
記導波形モード変換部と前記導波型光周波数シフタ部が
夫々別の分岐路中に構成され、前記分岐路を結合する為
の二又分岐路を更に有することを特徴とする請求項2記
載の2周波発光装置。 - 【請求項5】 前記光導波路が二又に分岐しており、前
記導波型光周波数シフタ部が二又に分岐するところに構
成され、前記導波形モード変換部が一方の分岐路中に構
成され、前記分岐路を結合する為の二又分岐路を更に有
することを特徴とする請求項2記載の2周波発光装置。 - 【請求項6】 前記光導波路が二又に分岐しており、前
記導波型光周波数シフタ部が一方の伝搬光の周波数をシ
フトする為に二又に分岐するところに構成され、前記導
波形モード変換部が一方の分岐路中に構成され、前記分
岐路を結合する為の二又分岐路を更に有し、該分岐路を
結合する為の二又分岐路の二又に分岐するところに他の
導波型光周波数シフタ部が他方の伝搬光の周波数をシフ
トする為に構成されていることを特徴とする請求項2記
載の2周波発光装置。 - 【請求項7】 光ヘテロダイン干渉法を用いた微小変位
計測装置において、請求項1乃至6のいずれかに記載の
2周波発光装置を光源に用いたことを特徴とする計測装
置。 - 【請求項8】 半導体レーザ構造と光ファイバからなる
ピッグテール光デバイスにおいて、該半導体レーザ構造
の入出射端面が、該半導体レーザの導波路の軸に対して
斜めの角度をもって設定されており、該斜め角度が、半
導体レーザからの出射ビームの界分布をほぼ等方的にす
るように設定され、かつ該出射ビームの光軸が前記光フ
ァイバの光軸に一致するように、光学結合系を配備した
ことを特徴とするピッグテール光デバイス。 - 【請求項9】前記半導体レーザ構造の入出射端面には反
射防止膜が施され、半導体光アンプとして動作可能であ
り、両入出射側には光ファイバが具備されていることを
特徴とする請求項8記載のピッグテール光デバイス。 - 【請求項10】 前記光学結合系が先球光ファイバであ
ることを特徴とする請求項8または9記載のピッグテー
ル光デバイス。 - 【請求項11】 前記光学結合系がレンズ結合で行われ
ることを特徴とする請求項8または9記載のピッグテー
ル光デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4330999A JPH06164072A (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 2周波発光装置、及びそれを用いた計測装置及びピッグテール光デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4330999A JPH06164072A (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 2周波発光装置、及びそれを用いた計測装置及びピッグテール光デバイス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06164072A true JPH06164072A (ja) | 1994-06-10 |
Family
ID=18238705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4330999A Pending JPH06164072A (ja) | 1992-11-17 | 1992-11-17 | 2周波発光装置、及びそれを用いた計測装置及びピッグテール光デバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06164072A (ja) |
-
1992
- 1992-11-17 JP JP4330999A patent/JPH06164072A/ja active Pending
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