JPH06163342A - ウエーハ面取部研磨装置 - Google Patents
ウエーハ面取部研磨装置Info
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- JPH06163342A JPH06163342A JP31695292A JP31695292A JPH06163342A JP H06163342 A JPH06163342 A JP H06163342A JP 31695292 A JP31695292 A JP 31695292A JP 31695292 A JP31695292 A JP 31695292A JP H06163342 A JPH06163342 A JP H06163342A
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- Japan
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- wafer
- gear
- suction plate
- drive motor
- ring gear
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 メインテナンスフリーで長期に亘る安定した
運転が可能であるとともに、大容量化も可能であるウエ
ーハ面取部研磨装置を提供すること。 【構成】 回転体６にウエーハ吸着盤７を回転自在に配
するとともに、ハウジング１（静止側）にウエーハ駆動
モータ９を固設し、前記回転体６の回転軸３にリングギ
ヤＧ2 を自由回転自在に支承せしめ、該リングギヤとこ
れに噛合する遊星ギヤＧ3 とで構成される遊星ギヤ機構
を介して前記ウエーハ駆動モータ９の回転を前記ウエー
ハ吸着盤７に伝達するよう構成する。本発明によれば、
ウエーハ吸着盤７を回転駆動するためのウエーハ駆動モ
ータ９が静止側に固設され、該ウエーハ駆動モータ９の
ウエーハ吸着盤７への回転動力の伝達は遊星ギヤ機構を
用いて機械的になされるため、スリップリングが不要と
なり、メインテナンスフリーを実現して装置の長期に亘
る安定した運転が可能となるとともに、大容量の動力伝
達も可能となる。
運転が可能であるとともに、大容量化も可能であるウエ
ーハ面取部研磨装置を提供すること。 【構成】 回転体６にウエーハ吸着盤７を回転自在に配
するとともに、ハウジング１（静止側）にウエーハ駆動
モータ９を固設し、前記回転体６の回転軸３にリングギ
ヤＧ2 を自由回転自在に支承せしめ、該リングギヤとこ
れに噛合する遊星ギヤＧ3 とで構成される遊星ギヤ機構
を介して前記ウエーハ駆動モータ９の回転を前記ウエー
ハ吸着盤７に伝達するよう構成する。本発明によれば、
ウエーハ吸着盤７を回転駆動するためのウエーハ駆動モ
ータ９が静止側に固設され、該ウエーハ駆動モータ９の
ウエーハ吸着盤７への回転動力の伝達は遊星ギヤ機構を
用いて機械的になされるため、スリップリングが不要と
なり、メインテナンスフリーを実現して装置の長期に亘
る安定した運転が可能となるとともに、大容量の動力伝
達も可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、静止側から回転側への
動力伝達法として機械的動力伝達法を採用したウエーハ
面取部研磨装置に関する。
動力伝達法として機械的動力伝達法を採用したウエーハ
面取部研磨装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウエーハ面取部の研磨においては、生産
性の向上、ウエーハの汚染や傷、欠けの発生の防止等を
考慮すると、ウエーハを一旦吸着した後は、全工程が終
了するまで該ウエーハをそのまま同一保持部にて吸着保
持しておくことが望ましい。
性の向上、ウエーハの汚染や傷、欠けの発生の防止等を
考慮すると、ウエーハを一旦吸着した後は、全工程が終
了するまで該ウエーハをそのまま同一保持部にて吸着保
持しておくことが望ましい。
【０００３】そこで、回転割出式のウエーハ面取部研磨
装置が提案されるが、該装置は、回転体上に複数のウエ
ーハ吸着盤を回転自在に配し、回転体を所定角度ずつ割
り出して回転させ、ウエーハの吸着から研磨、洗浄を経
て排出に至る一連の工程が終了するまで、ウエーハを同
じ吸着盤に吸着させておくものである。
装置が提案されるが、該装置は、回転体上に複数のウエ
ーハ吸着盤を回転自在に配し、回転体を所定角度ずつ割
り出して回転させ、ウエーハの吸着から研磨、洗浄を経
て排出に至る一連の工程が終了するまで、ウエーハを同
じ吸着盤に吸着させておくものである。
【０００４】而して、斯かる回転割出式ウエーハ面取部
研磨装置によれば、複数のウエーハに対して各工程が並
行して進められ、しかも、ウエーハの受け渡し動作が不
要となるため、作業能率が高められるとともに、ウエー
ハの汚染や傷、欠けの発生が最小限に抑えられる。
研磨装置によれば、複数のウエーハに対して各工程が並
行して進められ、しかも、ウエーハの受け渡し動作が不
要となるため、作業能率が高められるとともに、ウエー
ハの汚染や傷、欠けの発生が最小限に抑えられる。
【０００５】ところで、回転割出式ウエーハ面取部研磨
装置においては、ウエーハを吸着してこれを回転させる
ためのウエーハ吸着盤の回転駆動が不可欠であり、この
ためにウエーハ駆動モータを回転体に固設し、該ウエー
ハ駆動モータによってウエーハ吸着盤を回転駆動するこ
とが行なわれていた。
装置においては、ウエーハを吸着してこれを回転させる
ためのウエーハ吸着盤の回転駆動が不可欠であり、この
ためにウエーハ駆動モータを回転体に固設し、該ウエー
ハ駆動モータによってウエーハ吸着盤を回転駆動するこ
とが行なわれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】而して、従来の回転割
出式ウエーハ面取部研磨装置にあっては、ウエーハ駆動
モータが回転側に設けられていたため、該ウエーハ駆動
モータへの電力の供給はスリップリングを介して行なわ
なければならなかった。
出式ウエーハ面取部研磨装置にあっては、ウエーハ駆動
モータが回転側に設けられていたため、該ウエーハ駆動
モータへの電力の供給はスリップリングを介して行なわ
なければならなかった。
【０００７】ところが、上記スリップリングは摺動接触
するために摩耗し、電気力のためにゴミ等が付着し易
く、作動安定性にも乏しいため、定期的な換装、清掃等
のメインテナンスが必要であり、装置の長期に亘る安定
した運転を阻害する要因となっていた。
するために摩耗し、電気力のためにゴミ等が付着し易
く、作動安定性にも乏しいため、定期的な換装、清掃等
のメインテナンスが必要であり、装置の長期に亘る安定
した運転を阻害する要因となっていた。
【０００８】又、スリップリングは摺動接触するため、
大容量の電力伝達には向かないという欠点があった。
大容量の電力伝達には向かないという欠点があった。
【０００９】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、メインテナンスフリーで長期
に亘る安定した運転が可能であるとともに、大容量化も
可能であるウエーハ面取部研磨装置を提供することにあ
る。
で、その目的とする処は、メインテナンスフリーで長期
に亘る安定した運転が可能であるとともに、大容量化も
可能であるウエーハ面取部研磨装置を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明は、回転体にウエーハ吸着盤を回転自在に配すると
ともに、回転体外の静止側に前記ウエーハ吸着盤を回転
駆動するためのウエーハ駆動モータを固設し、前記回転
体の回転軸にはリングギヤを自由回転自在に支承せし
め、該リングギヤとこれに噛合する遊星ギヤとで構成さ
れる遊星ギヤ機構を介して前記ウエーハ駆動モータの回
転を前記ウエーハ吸着盤に伝達するよう構成したことを
その特徴とする。
発明は、回転体にウエーハ吸着盤を回転自在に配すると
ともに、回転体外の静止側に前記ウエーハ吸着盤を回転
駆動するためのウエーハ駆動モータを固設し、前記回転
体の回転軸にはリングギヤを自由回転自在に支承せし
め、該リングギヤとこれに噛合する遊星ギヤとで構成さ
れる遊星ギヤ機構を介して前記ウエーハ駆動モータの回
転を前記ウエーハ吸着盤に伝達するよう構成したことを
その特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明によれば、ウエーハ吸着盤を回転駆動す
るためのウエーハ駆動モータが静止側に固設され、該ウ
エーハ駆動モータのウエーハ吸着盤への回転動力の伝達
は遊星ギヤ機構を用いて機械的になされるため、静止側
と回転側との間に配される電力供給のためのスリップリ
ングが不要となり、該スリップリングに起因する摩耗や
ゴミの付着の問題が解消され、所謂メインテナンスフリ
ーを実現して装置の長期に亘る安定した運転が可能とな
る。
るためのウエーハ駆動モータが静止側に固設され、該ウ
エーハ駆動モータのウエーハ吸着盤への回転動力の伝達
は遊星ギヤ機構を用いて機械的になされるため、静止側
と回転側との間に配される電力供給のためのスリップリ
ングが不要となり、該スリップリングに起因する摩耗や
ゴミの付着の問題が解消され、所謂メインテナンスフリ
ーを実現して装置の長期に亘る安定した運転が可能とな
る。
【００１２】又、上述のようにスリップリングを廃した
機械的動力伝達法を採用するため、大容量の動力伝達が
可能となり、装置の大型化を図ることもできる。
機械的動力伝達法を採用するため、大容量の動力伝達が
可能となり、装置の大型化を図ることもできる。
【００１３】
【実施例】以下に本発明の一実施例を添付図面に基づい
て説明する。
て説明する。
【００１４】図１は本発明に係るウエーハ面取部研磨装
置の縦断面図、図２は図１のＸ−Ｘ線断面図、図３は図
１のＹ−Ｙ線断面図である。
置の縦断面図、図２は図１のＸ−Ｘ線断面図、図３は図
１のＹ−Ｙ線断面図である。
【００１５】図１において、１はハウジングであって、
該ハウジング１の底壁１ａ上には回転割出用のタクト駆
動モータ２が固設されており、該タクト駆動モータ２か
らは回転軸３が垂直上方に延出している。そして、回転
軸３はその上端部と下部を回転自在に支承されており、
その中間高さ位置には円板状の回転体６が結着されてい
る。
該ハウジング１の底壁１ａ上には回転割出用のタクト駆
動モータ２が固設されており、該タクト駆動モータ２か
らは回転軸３が垂直上方に延出している。そして、回転
軸３はその上端部と下部を回転自在に支承されており、
その中間高さ位置には円板状の回転体６が結着されてい
る。
【００１６】上記回転体６の外周部には３つのウエーハ
吸着盤７が同一円周上に等角度ピッチ（１２０°ピッ
チ）で回転自在に配されている。即ち、回転体６の外周
部には３つの垂直な回転軸８が回転自在に支承されてお
り、各回転軸８の回転体６の下方に延出する下端部に前
記ウエーハ吸着盤７が結着され、同回転軸８の中間部
（回転体６とウエーハ吸着盤７との中間位置）にはギア
Ｇ6 が結着されている。尚、各ウエーハ吸着盤７は例え
ば回転体６上に固設された真空ポンプ等の真空源によっ
て真空引きされ、その下面にウエーハＷが真空吸着され
る。
吸着盤７が同一円周上に等角度ピッチ（１２０°ピッ
チ）で回転自在に配されている。即ち、回転体６の外周
部には３つの垂直な回転軸８が回転自在に支承されてお
り、各回転軸８の回転体６の下方に延出する下端部に前
記ウエーハ吸着盤７が結着され、同回転軸８の中間部
（回転体６とウエーハ吸着盤７との中間位置）にはギア
Ｇ6 が結着されている。尚、各ウエーハ吸着盤７は例え
ば回転体６上に固設された真空ポンプ等の真空源によっ
て真空引きされ、その下面にウエーハＷが真空吸着され
る。
【００１７】一方、前記ハウジング１の上壁１ｂ上には
３つのウエーハ駆動モータ９が同一円周上に等角度ピッ
チ（１２０°ピッチ）で固設されており、各ウエーハ駆
動モータ９の出力軸１０はハウジング１の上壁１ｂを貫
通してハウジング１内に臨み、その下端部にはギアＧ1
が結着されている。
３つのウエーハ駆動モータ９が同一円周上に等角度ピッ
チ（１２０°ピッチ）で固設されており、各ウエーハ駆
動モータ９の出力軸１０はハウジング１の上壁１ｂを貫
通してハウジング１内に臨み、その下端部にはギアＧ1
が結着されている。
【００１８】ところで、前記回転軸３の回転体６よりも
上方位置には、３枚の円板状固定板１１，１２，１３が
適当な間隔で上下方向に多段を成して結着されており、
固定板１１と１２，１２と１３及び固定板１３と回転体
６との間には、大径のリングギアＧ2 がそれぞれ自由回
転自在に支承されている。そして、図２にも示すよう
に、各リングギアＧ2 の外歯には前記ギアＧ1 が各々噛
合している。
上方位置には、３枚の円板状固定板１１，１２，１３が
適当な間隔で上下方向に多段を成して結着されており、
固定板１１と１２，１２と１３及び固定板１３と回転体
６との間には、大径のリングギアＧ2 がそれぞれ自由回
転自在に支承されている。そして、図２にも示すよう
に、各リングギアＧ2 の外歯には前記ギアＧ1 が各々噛
合している。
【００１９】又、最上段の固定板１１と回転体６との間
には、３本の垂直な回転軸１４が中間の固定板１２，１
３を貫通して回転自在に支承されており、図２にも示す
ように、各回転軸１４には前記リングギアＧ2 に噛合す
る遊星ギアＧ3 が結着されており、同回転軸１４の回転
体６の下方へ延出する下端部にはギアＧ4 が結着されて
いる。そして、ギアＧ4 は回転体６の下面側に回転自在
に支承されたギアＧ5を介して前記ギアＧ6 に噛合して
いる。尚、各リングギヤＧ2 とこれに噛合する前記遊星
ギヤＧ3 とは遊星ギヤ機構を構成している。
には、３本の垂直な回転軸１４が中間の固定板１２，１
３を貫通して回転自在に支承されており、図２にも示す
ように、各回転軸１４には前記リングギアＧ2 に噛合す
る遊星ギアＧ3 が結着されており、同回転軸１４の回転
体６の下方へ延出する下端部にはギアＧ4 が結着されて
いる。そして、ギアＧ4 は回転体６の下面側に回転自在
に支承されたギアＧ5を介して前記ギアＧ6 に噛合して
いる。尚、各リングギヤＧ2 とこれに噛合する前記遊星
ギヤＧ3 とは遊星ギヤ機構を構成している。
【００２０】而して、図３に示すように、当該ウエーハ
面取部研磨装置にはウエーハ吸着部Ａ、研磨加工部Ｂ及
びウエーハ排出部Ｃの各ステーションが等角度ピッチ
（１２０°ピッチ）でそれぞれ配設されている。
面取部研磨装置にはウエーハ吸着部Ａ、研磨加工部Ｂ及
びウエーハ排出部Ｃの各ステーションが等角度ピッチ
（１２０°ピッチ）でそれぞれ配設されている。
【００２１】ここで、上記研磨加工部Ｂの構成を図１に
基づいて説明すると、前記ハウジング１内に設置された
定盤１５上には研磨用バフ１６を回転駆動及び上下動さ
せるための駆動装置１７が設置されており、該駆動装置
１７はエアシリンダ１８によって図示矢印方向に移動せ
しめられる。尚、前記バフ１６は発泡ウレタン樹脂で円
柱状に成形され、その外周面には複数の総形溝が上下方
向に多段に形成されている。
基づいて説明すると、前記ハウジング１内に設置された
定盤１５上には研磨用バフ１６を回転駆動及び上下動さ
せるための駆動装置１７が設置されており、該駆動装置
１７はエアシリンダ１８によって図示矢印方向に移動せ
しめられる。尚、前記バフ１６は発泡ウレタン樹脂で円
柱状に成形され、その外周面には複数の総形溝が上下方
向に多段に形成されている。
【００２２】次に、本ウエーハ面取部研磨装置の作用を
説明する。
説明する。
【００２３】３つのウエーハ吸着盤７が図３に示すよう
にウエーハ吸着部Ａ、研磨加工部Ｂ、ウエーハ排出部Ｃ
にそれぞれ位置しているとき、ウエーハ吸着部Ａにおい
ては、不図示のカセットに収納されたウエーハＷが１枚
ずつ取り出されてウエーハ吸着盤７に吸着される。
にウエーハ吸着部Ａ、研磨加工部Ｂ、ウエーハ排出部Ｃ
にそれぞれ位置しているとき、ウエーハ吸着部Ａにおい
ては、不図示のカセットに収納されたウエーハＷが１枚
ずつ取り出されてウエーハ吸着盤７に吸着される。
【００２４】又、研磨加工部Ｂにおいても、ウエーハ吸
着盤７には別のウエーハ（ウエーハ吸着部Ａにて既に吸
着されたウエーハ）Ｗが吸着されている。
着盤７には別のウエーハ（ウエーハ吸着部Ａにて既に吸
着されたウエーハ）Ｗが吸着されている。
【００２５】而して、研磨加工部Ｂにおいて前記ウエー
ハ駆動モータ９が駆動されると、これの回転はギアＧ1
を経て図１に示すように最上段のリングギアＧ2 に伝達
され、該リングギアＧ2 が回転軸３の中心回りに所定の
速度で回転駆動される。
ハ駆動モータ９が駆動されると、これの回転はギアＧ1
を経て図１に示すように最上段のリングギアＧ2 に伝達
され、該リングギアＧ2 が回転軸３の中心回りに所定の
速度で回転駆動される。
【００２６】上述のようにリングギアＧ2 が回転駆動さ
れると、この回転は該リングギアＧ2 に噛合する遊星ギ
アＧ3 、回転軸１４及びギアＧ4 ，Ｇ5 ，Ｇ6 を経て回
転軸８に伝達され、該回転軸８及びこれに結着されたウ
エーハ吸着盤７、更にはウエーハ吸着盤７に吸着された
ウエーハＷが所定の速度で回転駆動される。
れると、この回転は該リングギアＧ2 に噛合する遊星ギ
アＧ3 、回転軸１４及びギアＧ4 ，Ｇ5 ，Ｇ6 を経て回
転軸８に伝達され、該回転軸８及びこれに結着されたウ
エーハ吸着盤７、更にはウエーハ吸着盤７に吸着された
ウエーハＷが所定の速度で回転駆動される。
【００２７】一方、研磨加工部Ｂにおいては、駆動装置
１７によってバフ１６が高速回転されるとともに、該バ
フ１６は、エアシリンダ１８によってその総形溝が、ウ
エーハ吸着盤７に吸着されて回転するウエーハＷの外周
面取部に所定圧で押圧され、バフ１６とウエーハＷとの
相対滑り及び供給される不図示のスラリーの研磨作用に
よってウエーハＷの外周面取部が研磨される。
１７によってバフ１６が高速回転されるとともに、該バ
フ１６は、エアシリンダ１８によってその総形溝が、ウ
エーハ吸着盤７に吸着されて回転するウエーハＷの外周
面取部に所定圧で押圧され、バフ１６とウエーハＷとの
相対滑り及び供給される不図示のスラリーの研磨作用に
よってウエーハＷの外周面取部が研磨される。
【００２８】更に、ウエーハ排出部Ｃにおいては、ウエ
ーハ吸着盤７には更に別のウエーハ（ウエーハ吸着部Ａ
で吸着され、研磨加工部Ｂで研磨加工が終了したウエー
ハ）Ｗが吸着されており、該ウエーハＷは不図示の洗浄
装置によってその非吸着部が洗浄された後、ウエーハ吸
着盤７から離脱されて排出され、不図示の搬送手段によ
って不図示のカセット内に収納される。
ーハ吸着盤７には更に別のウエーハ（ウエーハ吸着部Ａ
で吸着され、研磨加工部Ｂで研磨加工が終了したウエー
ハ）Ｗが吸着されており、該ウエーハＷは不図示の洗浄
装置によってその非吸着部が洗浄された後、ウエーハ吸
着盤７から離脱されて排出され、不図示の搬送手段によ
って不図示のカセット内に収納される。
【００２９】而して、ウエーハ吸着部Ａ、研磨加工部
Ｂ、ウエーハ排出部Ｃでの前記各動作がそれぞれ終了す
ると、タクト駆動モータ２が駆動されて回転軸３及び回
転体６が所定角度（１２０°）だけ割り出されて回転せ
しめられる。すると、ウエーハ吸着部Ａにて吸着された
ウエーハＷは研磨加工部Ｂに移動して研磨加工を受け、
同様に研磨加工部Ｂにて研磨されたウエーハＷはウエー
ハ排出部Ｃに移動して洗浄された後に排出され、ウエー
ハ排出部ＣでウエーハＷを排出したウエーハ吸着盤７は
ウエーハ吸着部Ａに移動して新たなウエーハＷを吸着す
る。
Ｂ、ウエーハ排出部Ｃでの前記各動作がそれぞれ終了す
ると、タクト駆動モータ２が駆動されて回転軸３及び回
転体６が所定角度（１２０°）だけ割り出されて回転せ
しめられる。すると、ウエーハ吸着部Ａにて吸着された
ウエーハＷは研磨加工部Ｂに移動して研磨加工を受け、
同様に研磨加工部Ｂにて研磨されたウエーハＷはウエー
ハ排出部Ｃに移動して洗浄された後に排出され、ウエー
ハ排出部ＣでウエーハＷを排出したウエーハ吸着盤７は
ウエーハ吸着部Ａに移動して新たなウエーハＷを吸着す
る。
【００３０】従って、以上の動作を繰り返せば、１つの
ウエーハ吸着盤７が１回転すると、１枚のウエーハＷに
対する吸着から研磨加工を経て排出に至る一連の処理が
終了し、全体としては、研磨加工の終了したウエーハＷ
が回転体６の１／３回転毎に次々と連続的に排出されて
不図示のカセット内に収納される。
ウエーハ吸着盤７が１回転すると、１枚のウエーハＷに
対する吸着から研磨加工を経て排出に至る一連の処理が
終了し、全体としては、研磨加工の終了したウエーハＷ
が回転体６の１／３回転毎に次々と連続的に排出されて
不図示のカセット内に収納される。
【００３１】以上において、本実施例によれば、ウエー
ハ吸着盤７を回転駆動するためのウエーハ駆動モータ９
が静止側に固設され、該ウエーハ駆動モータ９のウエー
ハ吸着盤７への回転動力の伝達は、リングギアＧ2 と遊
星ギアＧ3 で構成される遊星ギヤ機構を用いて機械的に
なされるため、静止側と回転側との間に配される電力供
給のためのスリップリングが不要となり、該スリップリ
ングに起因する摩耗やゴミの付着の問題が解消され、所
謂メインテナンスフリーを実現して装置の長期に亘る安
定した運転が可能となる。
ハ吸着盤７を回転駆動するためのウエーハ駆動モータ９
が静止側に固設され、該ウエーハ駆動モータ９のウエー
ハ吸着盤７への回転動力の伝達は、リングギアＧ2 と遊
星ギアＧ3 で構成される遊星ギヤ機構を用いて機械的に
なされるため、静止側と回転側との間に配される電力供
給のためのスリップリングが不要となり、該スリップリ
ングに起因する摩耗やゴミの付着の問題が解消され、所
謂メインテナンスフリーを実現して装置の長期に亘る安
定した運転が可能となる。
【００３２】又、本実施例に係るウエーハ面取部研磨装
置は上述のようにスリップリングを廃した機械的動力伝
達法を採用するため、大容量の動力伝達が可能となり、
その大型化を図ることもできる。
置は上述のようにスリップリングを廃した機械的動力伝
達法を採用するため、大容量の動力伝達が可能となり、
その大型化を図ることもできる。
【００３３】
【発明の効果】以上の説明で明らかな如く、本発明によ
れば、回転体にウエーハ吸着盤を回転自在に配するとと
もに、回転体外の静止側に前記ウエーハ吸着盤を回転駆
動するためのウエーハ駆動モータを固設し、前記回転体
の回転軸にはリングギヤを自由回転自在に支承せしめ、
該リングギヤとこれに噛合する遊星ギヤとで構成される
遊星ギヤ機構を介して前記ウエーハ駆動モータの回転を
前記ウエーハ吸着盤に伝達するよう構成したため、回転
側に大容量の回転動力を確実に伝達することができると
ともに、該ウエーハ面取部研磨装置をメインテナンスフ
リーで長期に亘って安定して運転することができるとい
う効果が得られる。
れば、回転体にウエーハ吸着盤を回転自在に配するとと
もに、回転体外の静止側に前記ウエーハ吸着盤を回転駆
動するためのウエーハ駆動モータを固設し、前記回転体
の回転軸にはリングギヤを自由回転自在に支承せしめ、
該リングギヤとこれに噛合する遊星ギヤとで構成される
遊星ギヤ機構を介して前記ウエーハ駆動モータの回転を
前記ウエーハ吸着盤に伝達するよう構成したため、回転
側に大容量の回転動力を確実に伝達することができると
ともに、該ウエーハ面取部研磨装置をメインテナンスフ
リーで長期に亘って安定して運転することができるとい
う効果が得られる。
【図１】本発明に係るウエーハ面取部研磨装置の縦断面
図である。
図である。
【図２】図１のＸ−Ｘ線断面図である。
【図３】図１のＹ−Ｙ線断面図である。
３ 回転軸 ６ 回転体 ７ ウエーハ吸着盤 ９ ウエーハ駆動モータ Ｇ2 リングギア Ｂ3 遊星ギア Ｗ ウエーハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒田 泰嘉 福島県西白河郡西郷村大字小田倉字大平 150番地信越半導体株式会社半導体白河研 究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 回転体にウエーハ吸着盤を回転自在に配
するとともに、回転体外の静止側に前記ウエーハ吸着盤
を回転駆動するためのウエーハ駆動モータを固設し、前
記回転体の回転軸にはリングギヤを自由回転自在に支承
せしめ、該リングギヤとこれに噛合する遊星ギヤとで構
成される遊星ギヤ機構を介して前記ウエーハ駆動モータ
の回転を前記ウエーハ吸着盤に伝達するよう構成したこ
とを特徴とするウエーハ面取部研磨装置。 - 【請求項２】 前記ウエーハ吸着盤は複数設けられ、該
ウエーハ吸着盤と同数の前記リングギヤが前記回転体の
回転軸にこれの軸方向に多段に配され、各リングギヤと
これに噛合する遊星ギヤとで前記各遊星ギヤ機構が構成
されることを特徴とする請求項１記載のウエーハ面取部
研磨装置。 - 【請求項３】 前記遊星ギヤ機構を構成する前記リング
ギヤの外歯に前記ウエーハ駆動モータに直結されたギヤ
を噛合せしめ、同リングギヤの内歯に前記遊星ギヤを噛
合せしめ、該遊星ギヤの回転を、前記回転体に回転自在
に支承されたギヤを介して前記ウエーハ吸着盤に伝達す
るよう構成したことを特徴とする請求項１又は２記載の
ウエーハ面取部研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4316952A JP2827769B2 (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | ウエーハ面取部研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4316952A JP2827769B2 (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | ウエーハ面取部研磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06163342A true JPH06163342A (ja) | 1994-06-10 |
| JP2827769B2 JP2827769B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=18082769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4316952A Expired - Lifetime JP2827769B2 (ja) | 1992-11-26 | 1992-11-26 | ウエーハ面取部研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2827769B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107891334A (zh) * | 2017-12-13 | 2018-04-10 | 江西佳鼎光电科技有限公司 | 一种循环研磨装置 |
| CN110253370A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-09-20 | 李文裔 | 一种电压力锅内缸上口翻边圆周抛光装置 |
| CN112247735A (zh) * | 2020-10-22 | 2021-01-22 | 中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所 | 一种基于并联平转结构的行星研磨工具 |
| CN114505741A (zh) * | 2022-02-17 | 2022-05-17 | 湖南有色金属职业技术学院 | 一种用于机械设备零部件打磨装置 |
-
1992
- 1992-11-26 JP JP4316952A patent/JP2827769B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107891334A (zh) * | 2017-12-13 | 2018-04-10 | 江西佳鼎光电科技有限公司 | 一种循环研磨装置 |
| CN110253370A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-09-20 | 李文裔 | 一种电压力锅内缸上口翻边圆周抛光装置 |
| CN112247735A (zh) * | 2020-10-22 | 2021-01-22 | 中国科学院国家天文台南京天文光学技术研究所 | 一种基于并联平转结构的行星研磨工具 |
| CN114505741A (zh) * | 2022-02-17 | 2022-05-17 | 湖南有色金属职业技术学院 | 一种用于机械设备零部件打磨装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2827769B2 (ja) | 1998-11-25 |
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