JPH06160881A - Liquid crystal display panel - Google Patents

Liquid crystal display panel

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JPH06160881A
JPH06160881A JP32992792A JP32992792A JPH06160881A JP H06160881 A JPH06160881 A JP H06160881A JP 32992792 A JP32992792 A JP 32992792A JP 32992792 A JP32992792 A JP 32992792A JP H06160881 A JPH06160881 A JP H06160881A
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Abstract

PURPOSE:To provide the liquid crystal display panel which is stable in the electrical and mechanical connection to the IC-driven liquid crystal display panel and decreases picture element defects. CONSTITUTION:This liquid crystal display panel is constituted, for example, by face down bonding a driving IC 106 having, projecting electrodes 107 to the wiring electrodes on the substrate of the liquid crystal display panel by using conductive adhesives 108 via the projecting electrodes. The above mentioned liquid crystal display panel is made into a two-layered structure formed by further providing a second transparent electrode layer 112 consisting of an ITO film by a vacuum vapor deposition method on a first transparent electrode layer 111 consisting of an ITO film provided with pixel electrodes 104, 105, and wiring electrodes 103 by a sputtering method.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネルを構成
する基板上に設けた透明電極の構造に関し、さらに具体
的には透明電極と他部材との接続性向上に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a transparent electrode provided on a substrate which constitutes a liquid crystal display panel, and more specifically to improvement of connectivity between the transparent electrode and other members.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルは基本的には透明電極が
形成された2枚の透明な基板をシール材により封止し、
これに液晶材料を注入して構成され、透明電極はシール
材の内側において画素電極を形成するとともに、シール
材の外に引き出されて配線電極を形成する。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display panel, basically, two transparent substrates having transparent electrodes are sealed with a sealing material,
The transparent electrode is formed by injecting a liquid crystal material into this, and the transparent electrode forms a pixel electrode inside the sealing material and is drawn out of the sealing material to form a wiring electrode.

【0003】この透明電極の配線電極は、直接にFPC
(フレキシブル プリント サーキット)、あるいは異
方性導電ゴムなどを介して外部回路に接続される他、液
晶表示パネルを駆動するための半導体集積回路装置(以
下駆動ICと記載する)が接続される場合もある。
The wiring electrode of this transparent electrode is directly connected to the FPC.
(Flexible printed circuit) or connected to an external circuit via an anisotropic conductive rubber or the like, and also when a semiconductor integrated circuit device (hereinafter referred to as a drive IC) for driving a liquid crystal display panel is connected. is there.

【0004】以下の説明は、駆動ICを液晶表示パネル
を構成する基板にフェイスダウンボンディングしてなる
液晶表示パネルについて行うが、本発明は前述のように
透明電極と駆動IC、FPC等の他部材との接続性向上
に関するものであり、説明の態様に限定するものではな
い。
The following description will be made on a liquid crystal display panel in which a driving IC is face-down bonded to a substrate constituting a liquid crystal display panel. However, the present invention, as described above, includes the transparent electrode and other members such as the driving IC and FPC. The present invention relates to the improvement of the connectivity with and is not limited to the mode of the description.

【0005】図3は駆動ICを液晶表示パネルを構成す
る基板にフェイスダウンボンディングしてなる液晶表示
パネルを示す概略平面図である。図3に示すように、第
1の基板101と第2の基板102とをシール材110
にて封止し、その封止領域内に液晶を充填する。第1の
基板101上に引き出した配線電極103に駆動IC1
06を接続する。配線電極103にはさらにFPC11
3を接続し、外部から信号などを供給する。
FIG. 3 is a schematic plan view showing a liquid crystal display panel in which a drive IC is face-down bonded to a substrate constituting the liquid crystal display panel. As shown in FIG. 3, the first substrate 101 and the second substrate 102 are sealed with a sealing material 110.
And the liquid crystal is filled in the sealed region. The drive IC 1 is attached to the wiring electrode 103 drawn on the first substrate 101.
06 is connected. Further, the FPC 11 is provided on the wiring electrode 103.
3 is connected and a signal or the like is supplied from the outside.

【0006】図4は従来の構造例を示す概略断面図であ
り、図3のA−A線における断面を示す。図4では、た
とえば配向膜などの構造上の細部は省略してある。以下
図4を用いて従来の液晶表示パネルを説明する。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing an example of a conventional structure and shows a section taken along the line AA of FIG. In FIG. 4, structural details such as the alignment film are omitted. A conventional liquid crystal display panel will be described below with reference to FIG.

【0007】図4に示した従来の液晶表示パネルにおい
ては、第1の基板101の上に画素電極104と、駆動
IC106の電極に対応する配線電極103とをつぎに
述べる工程で形成する。
In the conventional liquid crystal display panel shown in FIG. 4, the pixel electrode 104 and the wiring electrode 103 corresponding to the electrode of the driving IC 106 are formed on the first substrate 101 by the steps described below.

【0008】まず第1の基板101の上全面にスパッタ
リング法、真空蒸着法、またはパイロゾル法等を用いて
透明電極膜である酸化インジューム錫(以下ITOと記
載する)膜を形成する。
First, an indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO) film which is a transparent electrode film is formed on the entire surface of the first substrate 101 by a sputtering method, a vacuum evaporation method, a pyrosol method or the like.

【0009】その後フォトレジストをITO膜の形成さ
れた面全面に塗布し、所望のパターン形状を持つフォト
マスクを介し露光、現像、エッチングを行う、いわゆる
フォトエッチング法技術で画素電極104および配線電
極103を形成する。
After that, a photoresist is applied to the entire surface on which the ITO film is formed, and exposure, development and etching are performed through a photomask having a desired pattern shape. The so-called photo-etching technique is used to form the pixel electrode 104 and the wiring electrode 103. To form.

【0010】第2の基板102にも、同様な工程により
画素電極105と配線電極(図示せず)とを形成し、第
1の基板101と第2の基板102とを所定距離を隔て
て、シール材110で封止する。
Pixel electrodes 105 and wiring electrodes (not shown) are formed on the second substrate 102 by the same process, and the first substrate 101 and the second substrate 102 are separated by a predetermined distance. It is sealed with the sealing material 110.

【0011】さらに第1の基板101と第2の基板10
2との重なった領域で、かつシール材110の内側の部
分には液晶(図示せず)を封入する。
Further, the first substrate 101 and the second substrate 10
Liquid crystal (not shown) is sealed in a region overlapping with 2 and inside the sealing material 110.

【0012】そして第1の基板101の上に形成する配
線電極103と、駆動IC106の電極部にあらかじめ
形成した突起電極107とを、導電接着剤108にて、
フェイスダウンボンディングを行い、電気的接続と機械
的接続を行う。
Then, the wiring electrode 103 formed on the first substrate 101 and the projection electrode 107 formed in advance on the electrode portion of the driving IC 106 are connected with a conductive adhesive 108.
Face down bonding is performed to make electrical and mechanical connections.

【0013】さらに駆動IC106を含む第1の基板1
01の表面を樹脂109にて樹脂封止し、半田メッキ1
14を施したFPC113を配線電極103に熱圧着法
で接続する。
The first substrate 1 further including a driving IC 106
The surface of 01 is resin-sealed with resin 109, and solder plating 1
The FPC 113 provided with 14 is connected to the wiring electrode 103 by a thermocompression bonding method.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】上記構造は簡便で、高
密度で多端子の接続が可能であり、小型かつ廉価な液晶
表示パネルを提供するうえで有効である。
The above-mentioned structure is simple, is capable of high-density multi-terminal connection, and is effective in providing a small-sized and inexpensive liquid crystal display panel.

【0015】ところでITOを形成する方法として現状
の真空蒸着法を採用した場合には、次に記すような欠点
がある。すなわち真空蒸着法で形成されたITO膜は比
較的粗で、ピンホールを発生し易い。
By the way, when the present vacuum vapor deposition method is adopted as a method for forming ITO, there are the following drawbacks. That is, the ITO film formed by the vacuum evaporation method is relatively rough, and pinholes are easily generated.

【0016】画素電極104、105上にピンホールが
発生した場合には画素欠陥を招き、また配線電極103
上にピンホール発生した場合には配線電極103の断線
を招いて、ともに歩留まりを著しく低下させる。
When pinholes are formed on the pixel electrodes 104 and 105, a pixel defect is caused, and the wiring electrode 103 is formed.
When a pinhole is generated above, the wiring electrode 103 is broken, and the yield is significantly reduced.

【0017】配線電極103、画素電極104、105
上のピンホールの発生を防ぐためにITOの膜厚を厚く
することも検討されているが、ITO膜の光透過率の低
下、あるいはITO膜の段差部分が大きくなるために、
液晶の配向が不均一となり、表示品位を下げてしまうな
どの新たな問題が発生し、現実的な解決策とはなってい
ない。
Wiring electrode 103, pixel electrodes 104, 105
It is also considered to increase the film thickness of ITO in order to prevent the occurrence of the above pinholes, but since the light transmittance of the ITO film is lowered or the stepped portion of the ITO film becomes large,
The liquid crystal orientation becomes non-uniform, and new problems such as deterioration of display quality occur, which is not a practical solution.

【0018】一方スパッタリング法、あるいはパイロゾ
ル法で形成されたITO膜は比較的密で、ピンホールは
ごく少ない。
On the other hand, the ITO film formed by the sputtering method or the pyrosol method is relatively dense and has few pinholes.

【0019】したがって配線電極103、画素電極10
4、105をスパッタリング法、あるいはパイロゾル法
で形成されたITO膜とすれば、画素欠陥、断線などに
よる歩留まりの低下をおさえることができる。
Therefore, the wiring electrode 103 and the pixel electrode 10
If the ITO films 4 and 105 are formed by a sputtering method or a pyrosol method, a decrease in yield due to pixel defects, disconnection, etc. can be suppressed.

【0020】しかし実際にスパッタリング法あるいはパ
イロゾル法で形成されたITO膜を透明電極層として使
用すると、導電接着剤108を介しての配線電極103
と突起電極107との接続部、あるいは半田メッキ11
4を介しての配線電極103とFPC113との接続部
において、電気的、機械的接続が不安定なものが発生す
る。
However, when the ITO film actually formed by the sputtering method or the pyrosol method is used as the transparent electrode layer, the wiring electrode 103 via the conductive adhesive 108 is formed.
Connection between the bump and the protruding electrode 107, or solder plating 11
In the connection portion between the wiring electrode 103 and the FPC 113 via the wiring 4, some electrical and mechanical connections are unstable.

【0021】このような場合、従来から配線電極103
に金メッキを施す方法が用いられていた。実際この従来
方法によれば接続の不安定さはなくなる。しかしこの従
来技術では工程が大幅にのび、コストも大幅に上昇す
る。
In such a case, the wiring electrode 103 has been conventionally used.
The method of applying the gold plating to was used. In fact, this conventional method eliminates the instability of the connection. However, in this conventional technique, the process is significantly extended and the cost is also significantly increased.

【0022】本発明はかかる点を解決するためなされた
ものであり、その目的とするところは、ピンホールの少
ない透明電極を得ると同時に配線電極と他の部材との接
続性向上を図り、電気的および機械的接続が安定でかつ
表示品位の高い液晶表示パネルを提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to obtain a transparent electrode with few pinholes and at the same time improve the connectivity between the wiring electrode and other members, An object of the present invention is to provide a liquid crystal display panel having stable physical and mechanical connection and high display quality.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明が用いる基本的手段は、液晶表示パネルの透明
電極の少なくとも一部を、第1の透明電極層と、その第
1の透明電極層上方に形成した第2の透明電極層とを有
する多層構造とすることである。
To achieve the above object, the basic means used by the present invention is to provide at least a part of a transparent electrode of a liquid crystal display panel with a first transparent electrode layer and a first transparent electrode layer thereof. A multilayer structure having a second transparent electrode layer formed above the electrode layer.

【作用】[Action]

【0024】前述のような接続不安定な現象は、真空蒸
着法で形成されたITO膜で配線電極を形成した場合に
は見られないものであり、真空蒸着法で形成されたIT
O膜で配線電極を形成した場合には導電接着剤を介して
の、配線電極と突起電極との接続部、あるいは半田メッ
キを介しての配線電極とFPCとの接続部は電気的機械
的に安定している。
The above-mentioned phenomenon of unstable connection is not seen when the wiring electrode is formed of the ITO film formed by the vacuum evaporation method, and the IT formed by the vacuum evaporation method is not observed.
When the wiring electrode is formed of an O film, the connecting portion between the wiring electrode and the protruding electrode via the conductive adhesive or the connecting portion between the wiring electrode and the FPC via the solder plating is electrically and mechanically. stable.

【0025】スパッタリング法、あるいはパイロゾル法
で形成されたITO膜により配線電極を形成した場合に
おける、電気的、機械的接続の不安定性の原因を調査し
たところ、次のような状況が判明した。
When the cause of the instability of electrical and mechanical connection in the case of forming the wiring electrode by the ITO film formed by the sputtering method or the pyrosol method was investigated, the following situation was found.

【0026】すなわちこれらスパッタリング法やパイロ
ゾル法で形成されたITO膜は比較的密であり、その表
面は非常に平滑性が良い。この結果、導電接着剤、半田
などとの接着性が劣り、接続性が低下する。他方、真空
蒸着法によるITO膜は比較的粗であり、その表面は平
滑性が悪い。その結果として導電接着剤、半田などとの
接着性が良く、接続性が向上する。
That is, the ITO film formed by the sputtering method or the pyrosol method is relatively dense, and the surface thereof has very good smoothness. As a result, the adhesiveness with a conductive adhesive, solder, etc. is inferior, and the connectivity is reduced. On the other hand, the ITO film formed by the vacuum evaporation method is relatively rough, and its surface has poor smoothness. As a result, the adhesiveness with a conductive adhesive or solder is good, and the connectivity is improved.

【0027】そこで配線電極をピンホールの少ないIT
O膜からなる第1の透明電極層と、表面が粗く他の部材
との接続性の良いITO膜からなる第2の透明電極層と
からなる多層構造とすれば上記課題が解決できる。
Therefore, the wiring electrode is an IT with few pinholes.
The above problem can be solved by using a multi-layer structure including a first transparent electrode layer made of an O film and a second transparent electrode layer made of an ITO film having a rough surface and having good connectivity with other members.

【0028】[0028]

【実施例】以下本発明の実施例を図面によって説明する
が、実施態様は従来例に合わせて駆動ICを液晶表示パ
ネルを構成する基板にフェイスダウンボンディングして
なる液晶表示パネルについて行う。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The embodiment is carried out on a liquid crystal display panel in which a drive IC is face-down bonded to a substrate constituting the liquid crystal display panel in accordance with a conventional example.

【0029】図1は本発明の第1の実施例を示す液晶表
示パネルの概略断面図であり、対応する平面図は図3を
兼用する。図1は図3のA−A線における断面を示す。
以下図1を用いて本発明の液晶表示パネルを説明する
が、図は構造のみを示すものであって、寸法などについ
て示すものではない。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a liquid crystal display panel showing a first embodiment of the present invention, and the corresponding plan view also serves as FIG. FIG. 1 shows a cross section taken along the line AA in FIG.
The liquid crystal display panel of the present invention will be described below with reference to FIG. 1. However, the drawing shows only the structure, and does not show the dimensions or the like.

【0030】図1に示すように、第1の基板101上全
面にまずスパッタリング法を用いたITO膜による第1
の透明電極層111を設ける。つぎに配線電極103を
形成する部分以外をマスクして、配線電極103を形成
する部分にのみ真空蒸着法を用いたITO膜による第2
の透明電極層112を選択的に設ける。
As shown in FIG. 1, a first ITO film is formed on the entire surface of the first substrate 101 by a sputtering method.
The transparent electrode layer 111 is provided. Next, a portion other than the portion where the wiring electrode 103 is formed is masked, and only the portion where the wiring electrode 103 is formed is formed into a second ITO film using a vacuum deposition method.
The transparent electrode layer 112 is selectively provided.

【0031】その後フォトレジストをITO膜上全面に
塗布し、所定のパターン形状を持つフォトマスクを介
し、露光、現像、エッチングを行ういわゆるフォトエッ
チング法で画素電極104と配線電極103を形成す
る。
After that, a photoresist is applied on the entire surface of the ITO film, and a pixel electrode 104 and a wiring electrode 103 are formed by a so-called photoetching method in which exposure, development and etching are performed through a photomask having a predetermined pattern shape.

【0032】その結果、画素電極104はスパッタリン
グ法を用いて設けたITO膜からなる第1の透明電極層
111のみの1層構造となる。これに対して配線電極1
03はスパッタリング法を用いて設けたITO膜からな
る第1の透明電極層111と、真空蒸着法を用いて設け
たITO膜からなる第2の透明電極層112との2層構
造を持つことになる。
As a result, the pixel electrode 104 has a one-layer structure including only the first transparent electrode layer 111 made of an ITO film provided by the sputtering method. On the other hand, the wiring electrode 1
03 has a two-layer structure of a first transparent electrode layer 111 made of an ITO film provided by a sputtering method and a second transparent electrode layer 112 made of an ITO film provided by a vacuum deposition method. Become.

【0033】第2の基板102にも本発明の手段を施す
場合には第1の基板101と同様の工程で、画素電極1
05、配線電極(図示せず)を形成する。
When the means of the present invention is applied to the second substrate 102 as well, the pixel electrode 1 is formed by the same process as the first substrate 101.
05, a wiring electrode (not shown) is formed.

【0034】その後、第1の基板101と第2の基板1
02とを所定距離を隔てて画素電極104と画素電極1
05の形成された面を対向させ、周辺をシール材110
で封止する。
After that, the first substrate 101 and the second substrate 1
02 is separated from the pixel electrode 104 by a predetermined distance.
The surfaces on which 05 are formed face each other, and the periphery is surrounded by the sealing material 110.
Seal with.

【0035】さらに第1の基板101と第2の基板10
2とが重なった領域で、さらにシール材110の内側の
部分には液晶(図示せず)を封入する。
Further, the first substrate 101 and the second substrate 10
Liquid crystal (not shown) is sealed in the region where the two overlap with the inside of the sealing material 110.

【0036】そしてこの第1の基板101上に形成した
配線電極103と、駆動IC106の電極部にあらかじ
め形成した突起電極107とを導電接着剤108にてフ
ェイスダウンボンディングして、電気的機械的接続を取
る。
Then, the wiring electrode 103 formed on the first substrate 101 and the protruding electrode 107 formed in advance on the electrode portion of the driving IC 106 are face-down bonded with a conductive adhesive 108 to electrically and mechanically connect. I take the.

【0037】さらに駆動IC106を含む第1の基板1
01の表面を樹脂109にて樹脂封止し、またさらに半
田メッキを施したFPC113を配線電極103に熱圧
着法で接続する。
First substrate 1 further including drive IC 106
The surface of 01 is resin-sealed with resin 109, and the FPC 113 which is further plated with solder is connected to the wiring electrode 103 by a thermocompression bonding method.

【0038】図2は本発明の第2の実施例である液晶表
示パネルを示す概略断面図であり、図3のA−A線にお
ける断面を示す。以下図2を用いて本発明の第2の実施
例を説明する。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display panel which is a second embodiment of the present invention, and shows a section taken along the line AA of FIG. A second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0039】図2に示すように、第1の基板101上の
全面にまずスパッタリング法を用いたITO膜によるの
第1の透明電極層111を設ける。つぎに第1の透明電
極層111の上全面に真空蒸着法を用いたITOによる
第2の透明電極層112を設け2層構造とする。
As shown in FIG. 2, a first transparent electrode layer 111 made of an ITO film is first formed on the entire surface of the first substrate 101 by a sputtering method. Next, a second transparent electrode layer 112 made of ITO using a vacuum deposition method is provided on the entire surface of the first transparent electrode layer 111 to form a two-layer structure.

【0040】その後フォトレジストをITO膜上全面に
塗布し、所定のパターン形状を持つフォトマスクを介し
露光、現像、エッチングを行ういわゆるフォトエッチン
グ法で画素電極104、配線電極103を形成する。
After that, a photoresist is applied on the entire surface of the ITO film, and the pixel electrode 104 and the wiring electrode 103 are formed by a so-called photoetching method in which exposure, development and etching are performed through a photomask having a predetermined pattern shape.

【0041】その結果、画素電極104と配線電極10
3は、ともにスパッタリング法を用いて設けたITO膜
からなる第1の透明電極層111と、真空蒸着法を用い
て設けたITO膜からなる第2の透明電極層112との
2層構造を持つことになる。
As a result, the pixel electrode 104 and the wiring electrode 10
Reference numeral 3 has a two-layer structure of a first transparent electrode layer 111 made of an ITO film, which is provided by a sputtering method, and a second transparent electrode layer 112 made of an ITO film, which is provided by a vacuum deposition method. It will be.

【0042】第2の基板102にも本発明の手段を施す
場合には第1の基板101と同様の工程で、画素電極1
05、配線電極(図示せず)を形成する。
When the means of the present invention is applied to the second substrate 102 as well, the pixel electrode 1 is formed in the same process as the first substrate 101.
05, a wiring electrode (not shown) is formed.

【0043】その後、第1の基板101と第2の基板1
02とを所定距離を隔てて画素電極104と画素電極1
05の形成された面を対向させ、周辺をシール材110
で封止する。
After that, the first substrate 101 and the second substrate 1
02 is separated from the pixel electrode 104 by a predetermined distance.
The surfaces on which 05 are formed face each other, and the periphery is surrounded by the sealing material 110.
Seal with.

【0044】さらに第1の基板101と第2の基板10
2とが重なった領域で、さらにシール材110の内側の
部分には液晶(図示せず)を封入する。
Further, the first substrate 101 and the second substrate 10
Liquid crystal (not shown) is sealed in the region where the two overlap with the inside of the sealing material 110.

【0045】そしてこの第1の基板101上に形成した
配線電極103と駆動IC106の電極部にあらかじめ
形成した突起電極107とを導電接着剤108にてフェ
イスダウンボンディングして、電気的機械的接続を取
る。
Then, the wiring electrode 103 formed on the first substrate 101 and the protruding electrode 107 formed in advance on the electrode portion of the driving IC 106 are face-down bonded with a conductive adhesive 108 to establish an electromechanical connection. take.

【0046】さらに駆動IC106を含む第1の基板1
01の表面を樹脂109にて樹脂封止し、またさらに半
田メッキを施したFPC113を配線電極103に熱圧
着法で接続する。
First substrate 1 further including drive IC 106
The surface of 01 is resin-sealed with resin 109, and the FPC 113 which is further plated with solder is connected to the wiring electrode 103 by a thermocompression bonding method.

【0047】この第2の実施例は第2の透明電極層11
2を第1の透明電極層111の上全面に設けている。こ
のため、第1の実施例のように第2の透明電極層112
を選択的に設けるために必要なマスキング手段が不要で
あり、工程が簡略化されるという有利さがある。
In the second embodiment, the second transparent electrode layer 11 is used.
2 is provided on the entire upper surface of the first transparent electrode layer 111. Therefore, as in the first embodiment, the second transparent electrode layer 112 is formed.
The masking means necessary for selectively providing the is not necessary, and there is an advantage that the process is simplified.

【0048】上記2種の実施例では、導電接着剤108
として、導電粒であるAg/Pdの微粉末をエポキシ樹
脂に混入したAg/Pdペーストを使用した。
In the above two examples, the conductive adhesive 108
As the Ag / Pd paste, a fine powder of Ag / Pd, which is a conductive particle, was mixed in an epoxy resin.

【0049】このAg/Pdペーストからなる導電接着
剤108を基板上にスキージーを用いて広げ、その後駆
動IC106の突起電極107をAg/Pdペーストに
接触させて、突起電極107に導電接着剤108を転写
する。
The conductive adhesive 108 made of this Ag / Pd paste is spread on a substrate with a squeegee, and then the protruding electrode 107 of the driving IC 106 is brought into contact with the Ag / Pd paste to attach the conductive adhesive 108 to the protruding electrode 107. Transcribe.

【0050】このスタンプ方式は駆動IC106上に形
成した突起電極107に、均一な量の導電接着剤108
を転写することができる。
In this stamp method, a uniform amount of conductive adhesive 108 is applied to the protruding electrode 107 formed on the driving IC 106.
Can be transferred.

【0051】導電接着剤108を転写した突起電極10
7を持つ駆動IC106を、第1の基板101上に形成
した配線電極103の所定の位置にフェイスダウンボン
ディングし、駆動IC106の突起電極107の反対側
から軽く押しつける。
Projection electrode 10 to which conductive adhesive 108 is transferred
The drive IC 106 having No. 7 is face-down bonded to a predetermined position of the wiring electrode 103 formed on the first substrate 101, and lightly pressed from the opposite side of the projecting electrode 107 of the drive IC 106.

【0052】そして導電接着剤108を熱硬化した後、
駆動IC106を含む基板表面を樹脂109にて樹脂封
止する。
After heat-curing the conductive adhesive 108,
The surface of the substrate including the drive IC 106 is resin-sealed with resin 109.

【0053】本実施例で示した構造の液晶表示パネルを
製造したところ、駆動IC106、あるいはFPC11
3との電気的機械的接続が安定し、かつピンホールによ
る画素欠陥、配線電極の断線のない液晶表示パネルが安
定してできた。
When the liquid crystal display panel having the structure shown in this embodiment is manufactured, the driving IC 106 or the FPC 11 is manufactured.
The liquid crystal display panel was stable in electrical and mechanical connection with No. 3, and was free from pixel defects due to pinholes and disconnection of wiring electrodes.

【0054】このことは本発明の、配線電極103の表
面には真空蒸着法により形成された比較的表面の粗いI
TO膜を使用し、それ以外の部分はピンホールが少ない
スパッタリング法で形成したITO膜を使用するという
構成の妥当性を示している。
This means that the surface of the wiring electrode 103 of the present invention has a relatively rough surface I formed by the vacuum deposition method.
The validity of the configuration is shown in which the TO film is used and the other parts are the ITO film formed by the sputtering method with few pinholes.

【0055】上記実施例においては第1の透明電極層1
11および第2の透明電極層112をともにITO膜と
する場合を示したが、酸化錫などのITO膜とは異なる
組成を有する透明導電層で形成しても良い。
In the above embodiment, the first transparent electrode layer 1
Although the case where both 11 and the second transparent electrode layer 112 are ITO films is shown, they may be formed of a transparent conductive layer having a composition different from that of the ITO film such as tin oxide.

【0056】しかし第1の透明導電層111、第2の透
明電極層112は、同一または類似の組成とする方が工
程上からも望ましく、さらにITO膜は透明電極として
ごく一般的に使用されている材料であるから、新たな設
備も不要であり、第1の透明電極層111および第2の
透明電極層112をともにITO膜とすることが望まし
い。
However, it is preferable that the first transparent conductive layer 111 and the second transparent electrode layer 112 have the same or similar composition from the viewpoint of the process, and the ITO film is generally used as a transparent electrode. Since it is a material that does not require new equipment, it is desirable that both the first transparent electrode layer 111 and the second transparent electrode layer 112 are ITO films.

【0057】また上記実施例では第1の透明電極層11
1をスッパタ法で形成し、第2の透明電極層112を真
空蒸着法で形成した例を示した。
In the above embodiment, the first transparent electrode layer 11
In the example, 1 is formed by the sputter method and the second transparent electrode layer 112 is formed by the vacuum evaporation method.

【0058】しかし本発明の主旨はピンホールの少ない
第1の透明電極層111と、表面粗さが適度に大きい第
2の透明電極層112とを組み合わせることにより、透
明電極に求められる相異なる特性を得ることであるか
ら、この目的が達成されるのであれば、それぞれの透明
電極層の形成法は何であっても良い。
However, the gist of the present invention is to combine the first transparent electrode layer 111 with few pinholes and the second transparent electrode layer 112 with a moderately large surface roughness to obtain different characteristics required for the transparent electrode. Therefore, any method may be used to form each transparent electrode layer as long as this purpose is achieved.

【0059】たとえば第1の透明電極層111を、密な
層を得る形成条件でスパッタリング法で形成し、第2の
透明電極層112を、粗な層を得る形成条件でスパッタ
リング法で形成しても良い。
For example, the first transparent electrode layer 111 is formed by the sputtering method under the forming condition for obtaining a dense layer, and the second transparent electrode layer 112 is formed by the sputtering method under the forming condition for obtaining the rough layer. Is also good.

【0060】この場合には第1の透明電極層111と第
2の透明電極層112とを、途中で形成条件を変える事
により連続して作成することも可能になる。形成条件と
しては基板温度、酸素分圧、膜形成速度などを制御す
る。
In this case, the first transparent electrode layer 111 and the second transparent electrode layer 112 can be continuously formed by changing the forming conditions on the way. As the formation conditions, the substrate temperature, oxygen partial pressure, film formation rate, etc. are controlled.

【0061】しかしながら第2の透明電極層112とし
て、表面の粗い透明電極層を容易に得るためには真空蒸
着法を用いるのが最も簡便である。
However, in order to easily obtain a transparent electrode layer having a rough surface as the second transparent electrode layer 112, it is easiest to use the vacuum vapor deposition method.

【0062】また少なくとも第1の透明電極層111を
ITO膜で形成する場合には、スパッタリング法による
ものであることが望ましい。
When at least the first transparent electrode layer 111 is formed of an ITO film, it is desirable that the sputtering method be used.

【0063】たとえばパイロゾル法で形成されたITO
膜はピンホールは少ないが、比抵抗が比較的高く、配線
電極103、画素電極104、105の電気抵抗値を充
分小さくすることができない。これらの電気抵抗の上昇
は、周知のようにいわゆるクロストークの原因となり、
液晶表示パネルの表示品質を低下させる場合がある。
ITO formed by, for example, a pyrosol method
Although the film has few pinholes, it has a relatively high specific resistance, and the electric resistance values of the wiring electrode 103 and the pixel electrodes 104 and 105 cannot be made sufficiently small. As is well known, these increases in electrical resistance cause so-called crosstalk,
The display quality of the liquid crystal display panel may be degraded.

【0064】もちろん透明電極層の膜厚を厚くすれば電
気抵抗値は下がるが、光透過率の低下、ITO膜段差部
分での液晶の配向不均一による表示品位の低下を招くこ
とになる。
Of course, if the film thickness of the transparent electrode layer is increased, the electric resistance value is lowered, but the light transmittance is lowered, and the display quality is lowered due to the non-uniform alignment of the liquid crystal in the step portion of the ITO film.

【0065】この点スパッタリング法で形成されたIT
O膜は比抵抗値を下げることができるため、同じ膜厚の
場合パイロゾル法、真空蒸着法に比べ配線電極103、
画素電極104、105の電気抵抗を下げることがで
き、都合がよい。
IT formed by this point sputtering method
Since the specific resistance value of the O film can be reduced, when the same film thickness is obtained, the wiring electrode 103,
This is convenient because the electric resistance of the pixel electrodes 104 and 105 can be reduced.

【0066】ところで上記実施例の説明の中でも明らか
なように、本発明の実施は第1の基板101のみに限定
しても良く、この例としてはいわゆるアクティブパネル
のように第2の基板上の配線電極と他の部材との接続条
件が、第1の基板101のそれとは異なる場合が挙げら
れる。
By the way, as is clear from the description of the above embodiment, the practice of the present invention may be limited to only the first substrate 101. In this example, a so-called active panel is provided on the second substrate. There may be a case where the connection condition between the wiring electrode and the other member is different from that of the first substrate 101.

【0067】さらに本発明は配線電極103と他の部材
との接続において、導電接着剤を用いる方法、および半
田を介在させて熱圧着する方法を用いた場合に有効であ
ることは上述したが、たとえば異方性導電ゴムを圧接す
る方法などの他の接続方法においても有効である。
Further, it has been described above that the present invention is effective when the method of using the conductive adhesive and the method of thermocompression bonding with the solder interposed are used for connecting the wiring electrode 103 and other members. For example, it is also effective in other connection methods such as a method of press-contacting anisotropic conductive rubber.

【0068】また本発明は電気的、機械的接続の安定性
を主眼になされたものではあるが、第2の実施例におい
ては第2の透明電極層112を第1の透明電極層111
の上全面に設けるため、シール材110あるいは配向膜
(図示せず)と第2の透明電極層112との密着性も向
上することになる。したがってこのような効果を得るた
め、単に機械的接続性を高める目的のみで用いても良い
ことは当然である。
Further, although the present invention is intended mainly for the stability of electrical and mechanical connection, in the second embodiment, the second transparent electrode layer 112 is replaced by the first transparent electrode layer 111.
Since it is provided on the entire upper surface, the adhesion between the sealing material 110 or the alignment film (not shown) and the second transparent electrode layer 112 is also improved. Therefore, in order to obtain such an effect, it may be used only for the purpose of improving mechanical connectivity.

【0069】なお、第1の透明電極層111と第2の透
明電極層112との間に、これら2つの層の密着性を高
めるなどの目的で他の層を設けたり、あるいは第1の透
明電極層111と第2の透明電極層112の形成を連続
的に行う場合などにおいて、形成条件を徐々に変化さ
せ、2つの層の境界が判然としない場合であっても、部
分的に見た場合本発明の趣旨に合致する、特性の異なる
部分が存在する場合は本発明に含まれるものとする。
It should be noted that another layer may be provided between the first transparent electrode layer 111 and the second transparent electrode layer 112 for the purpose of enhancing the adhesiveness of these two layers, or the first transparent electrode layer may be formed. When the formation of the electrode layer 111 and the second transparent electrode layer 112 is continuously performed, the formation conditions are gradually changed, and even when the boundary between the two layers is not clear, it is partially seen. In this case, the case where there is a part having a different characteristic which is consistent with the gist of the present invention is included in the present invention.

【0070】ここで本発明の内容を整理すると、第1の
手段は「透明電極の少なくとも一部を、比較的密な第1
の透明電極層と、第1の透明電極層上方に形成した、比
較的粗い表面を有する第2の透明電極層を有する多層構
造とする」ことであり、これにより、ピンホールが少な
く、かつ他の部材との接続性が良い透明配線電極を得る
ことができる。
When the contents of the present invention are summarized here, the first means is that "at least a part of the transparent electrode is a relatively dense first electrode".
Of the transparent electrode layer and the second transparent electrode layer having a relatively rough surface formed above the first transparent electrode layer. " It is possible to obtain a transparent wiring electrode having good connectivity with the member.

【0071】さらに第2の手段は「配線電極、画素電極
の両方を、第1の透明電極層と、第1の透明電極層上方
に形成した第2の透明電極層を有する多層構造とする」
ことであり、これにより第1の手段の実施工程を簡略化
することができる。
Further, the second means is "a wiring electrode and a pixel electrode both have a multi-layer structure having a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer formed above the first transparent electrode layer".
This makes it possible to simplify the implementation process of the first means.

【0072】第3の手段は、第1または第2の手段とと
もに「第1の透明電極層と前記第2の透明電極層を、と
もに酸化インジューム錫で形成した透明電極層とする」
ことであり、これにより従来の工程、設備を有効に利用
することができる。
The third means is to make the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer both transparent electrode layers formed of indium tin oxide together with the first or second means.
This makes it possible to effectively use conventional processes and equipment.

【0073】第4の手段は、第1、第2または第3の手
段とともに「第1の透明電極層を、スパッタリング法で
形成した透明電極層とする」ことであり、ピンホールが
少なくかつ電気抵抗が低い第1の透明電極層を容易に得
ることができる。
The fourth means is to "use the first transparent electrode layer as a transparent electrode layer formed by a sputtering method" together with the first, second or third means, which has a small number of pinholes and is electrically conductive. The first transparent electrode layer having low resistance can be easily obtained.

【0074】第5の手段は、第1、第2、第3または第
4の手段とともに「第2の透明電極層を、真空蒸着法で
形成した透明電極層とする」ことであり、これにより容
易に表面が粗な第2の透明電極層を得ることができる。
The fifth means is to "make the second transparent electrode layer a transparent electrode layer formed by a vacuum vapor deposition method" together with the first, second, third or fourth means. The second transparent electrode layer having a rough surface can be easily obtained.

【0075】第6の手段は、第1、第2、第3、第4ま
たは第5の手段とともに「配線電極上に、駆動ICが、
突起電極を介して導電接着剤にてフェイスダウンボンデ
ィングする」ことであり、これにより、第1ないし第5
の手段の実施効果を高めることができる。
The sixth means is that, together with the first, second, third, fourth or fifth means, "the drive IC is on the wiring electrode,
Face down bonding with a conductive adhesive through the protruding electrodes. "
The effect of implementing the means can be enhanced.

【0076】[0076]

【発明の効果】以上の説明で明かなように、本発明によ
れば液晶表示パネルにおいて、少なくとも配線電極を、
比較的密な第1の透明電極層と、その上方に形成した比
較的粗で表面が粗い第2の透明電極層を有する多層構造
とすることで、電気的機械的接続の安定した、画素欠陥
の少ない液晶表示パネルを高い歩留まりで安価に作るこ
とができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, in the liquid crystal display panel, at least the wiring electrode,
By forming a multilayer structure having a relatively dense first transparent electrode layer and a relatively rough and rough surface second transparent electrode layer formed thereabove, pixel defects with stable electromechanical connection can be achieved. It is possible to manufacture a liquid crystal display panel with a low yield at a high yield and at a low cost.

【0077】とくに第2の実施例の場合は配線電極と、
画素電極とをまったく同一の構造とするから、単に表面
が粗い透明電極層を1層余分に設けるだけの工程しか増
えない。このような簡便な解決法は従来の金メッキ層、
言い替えれば不透明な層を設ける手段では不可能だった
点であり、本発明が透明電極層の追加という新たな手段
を用いることにより初めて成し得たことである。
Particularly in the case of the second embodiment, a wiring electrode and
Since the pixel electrode and the pixel electrode have exactly the same structure, only the step of simply providing one extra transparent electrode layer having a rough surface is added. Such a simple solution is the conventional gold plating layer,
In other words, it was impossible with the means of providing an opaque layer, and the present invention could be achieved only by using a new means of adding a transparent electrode layer.

【0078】近年、より高精細な液晶表示パネルが要求
されるにつれ、画素電極、配線電極の電極幅寸法が細く
なり、電気抵抗が増加するとともに、配線電極と他の部
材との接続面積も少なくなり、接続条件が悪くなる傾向
にあるが、本発明はこのような状況にあっても要求に答
得るものである。
In recent years, with the demand for higher-definition liquid crystal display panels, the electrode widths of the pixel electrodes and wiring electrodes have become thinner, the electrical resistance has increased, and the connection area between the wiring electrodes and other members has decreased. However, although the connection conditions tend to deteriorate, the present invention can meet the demand even in such a situation.

【0079】第1、第2の実施例のように駆動ICを基
板上に設ける手法は高密度実装を可能にし、高精細液晶
表示パネルに最適であるが、配線電極と駆動ICとの端
子の接続はごく小さな面積内で行われるため、接続部分
の安定性はきわめて重要であり、本発明の実施効果がと
くに大きい。
The method of providing the driving IC on the substrate as in the first and second embodiments enables high-density mounting and is most suitable for a high-definition liquid crystal display panel. Since the connection is made in a very small area, the stability of the connection part is very important, and the effect of implementing the present invention is particularly great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例における液晶表示パネル
を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display panel in a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例における液晶表示パネル
を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a liquid crystal display panel in a second embodiment of the present invention.

【図3】駆動ICを液晶パネルの基板上にフェイスダウ
ンボンディングした液晶表示パネルを示す平面図であ
る。
FIG. 3 is a plan view showing a liquid crystal display panel in which a drive IC is face-down bonded on a substrate of the liquid crystal panel.

【図4】従来の液晶表示パネルを示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a conventional liquid crystal display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 第1の基板 102 第2の基板 103 配線電極 104 画素電極 105 画素電極 106 駆動IC 111 第1の透明電極層 112 第2の透明電極層 113 FPC 101 First Substrate 102 Second Substrate 103 Wiring Electrode 104 Pixel Electrode 105 Pixel Electrode 106 Driving IC 111 First Transparent Electrode Layer 112 Second Transparent Electrode Layer 113 FPC

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明電極の少なくとも一部は、第1の透
明電極層と、第1の透明電極層上方に形成した第2の透
明電極層とを有する多層構造とすることを特徴とする液
晶表示パネル。
1. A liquid crystal characterized in that at least a part of the transparent electrode has a multi-layer structure having a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer formed above the first transparent electrode layer. Display panel.
【請求項2】 透明電極の配線電極、画素電極の両方
は、第1の透明電極層と、第1の透明電極層上方に形成
した第2の透明電極層とを有する多層構造としたことを
特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。
2. Both the wiring electrode and the pixel electrode of the transparent electrode have a multi-layer structure having a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer formed above the first transparent electrode layer. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the liquid crystal display panel is a liquid crystal display panel.
【請求項3】 第1の透明電極層と第2の透明電極層と
は、ともに酸化インジューム錫で形成したことを特徴と
する請求項1、または請求項2に記載の液晶表示パネ
ル。
3. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein both the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer are made of indium tin oxide.
【請求項4】 第1の透明電極層は、スパッタリング法
で形成した透明電極層としたことを特徴とする請求項
1、請求項2、または請求項3に記載の液晶表示パネ
ル。
4. The liquid crystal display panel according to claim 1, 2, or 3, wherein the first transparent electrode layer is a transparent electrode layer formed by a sputtering method.
【請求項5】 第2の透明電極層は、真空蒸着法で形成
した透明電極層としたことを特徴とする請求項1、請求
項2、または請求項3に記載の液晶表示パネル。
5. The liquid crystal display panel according to claim 1, 2, or 3, wherein the second transparent electrode layer is a transparent electrode layer formed by a vacuum vapor deposition method.
【請求項6】 配線電極と他の部材とを導電接着剤で接
続することを特徴とする請求項1、請求項2、請求項
3、請求項4、または請求項5に記載の液晶表示パネ
ル。
6. The liquid crystal display panel according to claim 1, claim 2, claim 3, claim 4, or claim 5, wherein the wiring electrode and the other member are connected by a conductive adhesive. .
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