JPH06159685A - 電子レンジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被調理物の形状にかかわらず加熱効率が悪化
することがないと共に加熱ムラを生じることなく加熱調
理を行う。 【構成】 高さセンサ７は加熱室に収納された被調理物
の高さを検知する。表面積センサ６は加熱室に収納され
た被調理物の表面積を検知する。そして、マイクロコン
ピュータ１５は、高さセンサ７及び表面積センサ６によ
る被調理物の三次元的な形状に基づいて各マグネトロン
の出力比率を決定する。この場合、各マグネトロンによ
る高周波出力の放射パターンは、マグネトロン毎に異な
るように設定されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、加熱室に収納された被
調理物を加熱するために複数のマグネトロンを設けてな
る電子レンジに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、電子レンジでは、１個のマグ
ネトロンを備え、そのマグネトロンからの高周波出力を
導波管を通じて供給口から加熱室に放射することによ
り、加熱室に収納された被調理物を加熱するようにして
いる。

【０００３】ところで、マグネトロンからの高周波出力
は、加熱室内に均一に放射されるのではなく、導波管の
形状，或いは供給口の位置に応じて加熱室の特定領域に
集中するようになっており、その放射パターンとしては
各種形状の被調理物にできるだけ対応するように設定さ
れている。

【０００４】さて、被調理物の種類は下記のように多種
である。

【０００５】（１）ピザ，シューマイのように背が低い
もの。

【０００６】（２）ローストチキンのように背が高いも
の。

【０００７】（３）グラタン，ロールキャベツのように
背が中間のもの。

【０００８】また、背の高さが同一であっても、表面積
が広いものと狭いものとがある。

【０００９】従って、高周波出力の放射パターンの設定
によっては、特定の被調理物に対する加熱調理が十分で
あっても、他の被調理物に対する加熱調理が不十分とな
るので、実際には上記（３）で示した中肉中背の被調理
物に対して加熱調理を最適に行えるように高周波出力の
放射パターンを設定している。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例のものでは、中肉中背の被調理物の加熱調理を最適
に行うように設定されているので、他の形状の被調理物
では高周波出力の放射パターンから外れてしまう部分が
存して、加熱効率が悪化すると共に加熱ムラを生じると
いう欠点がある。

【００１１】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的は、被調理物の形状にかかわらず加熱効率
が悪化することがないと共に加熱ムラを生じることなく
加熱調理を行うことができる電子レンジを提供すること
にある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の電子レンジは、
加熱室に収納された被調理物の形状を三次元的に検知す
るための複数の形状認識手段を設け、前記加熱室内に放
射された高周波出力の放射パターンが互いに異なるよう
に設定された複数のマグネトロンを設け、前記複数の形
状認識手段による検知結果に基づいて前記被調理物の形
状を判断し、その被調理物が存する位置に対応した高周
波出力放射パターンを有するマグネトロンの出力比率が
大きくなるように調整する制御手段を設けたものであ
る。

【００１３】

【作用】複数の形状認識手段は、加熱室に収納された被
調理物の形状を三次元的に検知する。すると、制御手段
は、形状認識手段による検知結果に基づいて被調理物の
形状を判断し、その被調理物が存する位置に対応した高
周波出力放射パターンを有するマグネトロンの出力比率
が大きくなるように調整する。これにより、被調理物全
体に高周波出力が放射されるので、被調理物を加熱効率
よく且つ均一に加熱調理することができる。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の第１実施例を図１乃至図６を
参照して説明する。図２はマグネトロンの装着状態を示
す加熱室の斜視図、図３は加熱室の平面の模式図であ
る。これらの図２及び図３において、加熱室１内の側面
上部には第１，第２のマグネトロン２，３が配設されて
いると共に、各マグネトロン２，３からの高周波出力を
伝達するための導波管２ａ，３ａの供給口２ｂ，３ｂが
加熱室１の上面の所定位置に設けられている。尚、各マ
グネトロン２，３には冷却ファン２ｃ，３ｃ及びダクト
２ｄ，３ｄが一体に設けられている。

【００１５】ここで、第１のマグネトロン２は高周波出
力の放射パターンが偏平形状の被調理物に適した平面分
布となるように設定され、第２のマグネトロン３は高周
波出力の放射パターンが背の高い被調理物に適した垂直
分布となるように設定されている。

【００１６】図４は加熱室１の断面の模式図である。こ
の図４において、加熱室１の底面にはターンテーブル４
が配設されており、これはモータ５により回転されるよ
うになっている。

【００１７】一方、加熱室１の上面部には形状認識手段
たる表面積センサ６が配設されている。また、加熱室１
の側面には形状認識手段たる高さセンサ７が配設されて
いる。この高さセンサ７は、複数の投光素子７ａ及び受
光素子７ｂをターンテーブル４を挟んで夫々対向配置し
て成る。

【００１８】図５は要部の電気回路図を示している。こ
の図５において、各マグネトロン２，３は電源供給回路
８，９と接続されていると共に、各電源供給回路８，９
はフィルタ回路１０を通じて全波整流回路１１と接続さ
れている。この場合、両方の電源供給回路８，９の構成
は同一であるので、一方の電源供給回路８の構成のみを
説明し、他方の電源供給回路９の説明は省略する。即
ち、電源供給回路８において、スイッチング回路１２の
主体を成すトランジスタ１２ａのエミッタは高圧トラン
ス１３の一次巻線１３ａに接続され、その高圧トランス
１３の二次巻線１３ｂは倍電圧整流回路１４を介して第
１のマグネトロン２の陽極２ａ，陰極２ｂと接続されて
いる。尚、マグネトロン２の陰極は２ｂは高圧トランス
１３のフィラメント巻線１３ｃと接続されている。

【００１９】さて、スイッチング回路１２のトランジス
タ１２ａのベースは制御手段たるマイクロコンピュータ
１５の出力端子と接続されている。

【００２０】一方、表面積センサ６において、ＣＣＤ６
ａはターンテーブル４に載置された被調理物を撮像する
ようになっており、その撮像信号を信号処理回路６ｂに
出力する。そして、信号処理回路６ｂは、入力した撮像
信号に信号処理を施すことにより画像信号を生成してマ
イクロコンピュータ１５に出力する。また、高さセンサ
７において、投光回路７ｃはマイクロコンピュータ１５
からの指令に応じて投光素子７ａに投光電流を供給し、
受光回路７ｄは受光素子７ｂの受光信号に基づいて検出
信号をマイクロコンピュータ１５に出力する。

【００２１】マイクロコンピュータ１５は、高さセンサ
７からの検出信号及び表面積センサ６からの画像信号に
基づいて図１に示すように被調理物の形状を三次元的に
判断し、その形状に応じて出力端子から出力するパルス
信号のデューティ比を制御する。

【００２２】次に上記構成の作用について説明する。タ
ーンテーブル４に被調理物が収納された状態で加熱調理
が実行されると、マイクロコンピュータ１５は、高さセ
ンサ７からの検出信号に基づいて被調理物の高さを測定
することによりこの被調理物の背が「高」，「中」，
「低」の何れに属するのかを区分する。続いてマイクロ
コンピュータ１５は、表面積センサ６から画像信号を入
力して被調理物の表面積を測定し、その測定結果に基づ
いて被調理物の表面積が「大」，「中」，「小」の何れ
に相当するのかを判断する。

【００２３】そして、マイクロコンピュータ１５は、被
調理物の表面積及び高さに応じて各マグネトロン２，３
の駆動比率が図６に示す出力割合となるように各出力端
子からのパルス信号のデューティ比を制御する。つま
り、例えば被調理物の背が高く且つ表面積が小さいとき
は、第１，第２のマグネトロン２，３の出力の比率割合
が０：１００となるように各電源供給回路８，９を制御
する。これにより、第１のマグネトロン２のみが定格出
力で駆動されるので、第１のマグネトロン２からの高周
波出力が導波管２ａ，供給口２ｂを通じて加熱室１内に
放射される。このとき、第１のマグネトロン２からの高
周波出力は垂直分布に設定されているので、第１のマグ
ネトロン２からの高周波出力は被調理物全体に集中し、
以て被調理物を効率よく且つ加熱ムラを生じることなく
加熱調理することができる。

【００２４】また、被調理物の背が低く且つ表面積が大
きいときは、第１，第２のマグネトロン２，３の出力比
率が０：１００となるように各電源供給回路８，９を制
御する。これにより、第２のマグネトロン３のみが定格
出力で駆動されるので、第２のマグネトロン３からの高
周波出力が導波管３ａ，供給口３ｂを通じて加熱室１内
に放射される。このとき、第２のマグネトロン３からの
高周波出力は水平分布となるように設定されているの
で、第２のマグネトロン３からの高周波出力は被調理物
全体に集中し、以て被調理物を効率よく且つ加熱ムラを
生じることなく加熱調理することができる。

【００２５】また、被調理物の背が中で且つ表面積が中
のときは、マイクロコンピュータは、第１，第２のマグ
ネトロン２，３の出力比率が５０：５０となるように各
電源供給回路８，９を制御する。これにより、第１，第
２のマグネトロン２，３からの高周波出力が被調理物全
体に集中するので、被調理物を効率よく且つ加熱ムラを
生じることなく加熱調理することができる。

【００２６】上記構成のものによれば、加熱室１内に配
設された被調理物の形状を三次元的に検出する表面セン
サ６及び高さセンサ７を設け、それらの表面センサ６及
び高さセンサ７による検知結果に基づいてマイクロコン
ピュータ１５により第１，第２のマグネトロン２，３に
対する出力比率を調整するようにしたので、被調理物に
高周波出力を効率よく集中させることができる。従っ
て、１個のマグネトロンにより高周波出力の放射パター
ンが設定された従来例のものに比べて、被調理物の形状
にかかわらず加熱効率を高めることができると共に加熱
ムラを防止することができる。

【００２７】図７は本発明の第２実施例を示しており、
第１実施例と同一部分には同一符号を付して説明を省略
する。つまり、第１のマグネトロン１６は加熱室１の側
面上部に配設されており、導波管１６ａを通じて加熱室
１の上面に設けられた供給口１６ｂから加熱室１内に高
周波出力を放射する。第２のマグネトロン１７は加熱室
１の側面下部に配設されており、高周波出力を導波管１
７ａを通じて加熱室１７の底面に設けられた供給口１７
ｂから放射する。この場合、第１のマグネトロン１６か
らの高周波出力の放射パターンは平面分布となると共
に、第２のマグネトロン１７からの高周波出力の放射パ
ターンは垂直分布となるように設定されている。

【００２８】そして、マイクロコンピュータ１５は、表
面積センサ６及び高さセンサ７により検知した被調理物
の形状に基づいて図６に示すように第１，第２のマグネ
トロン１６，１７の出力比率を調整する。従って、第１
実施例と同様に、被調理物の形状にかかわらず加熱効率
を高めることができると共に加熱ムラを防止することが
できる。

【００２９】尚、上記各実施例では、被調理物の形状に
応じてマグネトロン２，３或いは１６，１７の出力比率
を図６に示すように比較的おおまかに調整するようにし
たが、これに代えて、例えばファジィ制御により各マグ
ネトロンの出力比率を細かく調整するようにしてもよ
い。

【００３０】また、マグネトロンの数及び配置位置は被
調理物の形状に応じて適宜設定すればよい。

【００３１】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の電子レンジによれば、複数の形状認識手段により加熱
室内に収納された被調理物の形状を三次元的に検知し、
その被調理物が存する位置に対応した高周波出力放射パ
ターンを有するマグネトロンの出力比率が大きくなるよ
うに調整するようにしたので、被調理物全体に高周波出
力を均一に与えることができる。従って、被調理物の形
状にかかわらず加熱効率が悪化することがないと共に加
熱ムラを生じることなく加熱調理を行うことができると
いう優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例における制御内容を概略的
に示す図

【図２】マグネトロンの装着状態で示す加熱室の斜視図

【図３】マグネトロンの配置位置を示す加熱室の平面図

【図４】加熱室を概略的に示す断面図

【図５】要部の電気回路図

【図６】被調理物の形状に対応した各マグネトロンの出
力比率を示す図

【図７】本発明の第２実施例を示す図４相当図

【符号の説明】

１は加熱室、２，３はマグネトロン、６は表面積センサ
（形状認識手段）、７は高さセンサ（形状認識手段）、
１５はマイクロコンピュータ（制御手段）、１６，１７
はマグネトロンである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 加熱室に収納された被調理物の形状を三
   次元的に検知するための複数の形状認識手段と、 前記加熱室内に放射された高周波出力の放射パターンが
   互いに異なるように設定された複数のマグネトロンと、 前記複数の形状認識手段による検知結果に基づいて前記
   被調理物の形状を判断し、その被調理物が存する位置に
   対応した高周波出力放射パターンを有するマグネトロン
   の出力比率が大きくなるように調整する制御手段とを備
   えたことを特徴とする電子レンジ。