JPH06154717A

JPH06154717A - 洗浄装置

Info

Publication number: JPH06154717A
Application number: JP31869692A
Authority: JP
Inventors: Toshiki Nagano; 俊樹永野; Koji Yamauchi; 耕二山内; 三郎 ▲高▼橋; Saburo Takahashi; Atsushi Miyaki; 淳宮木
Original assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Current assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date: 1992-11-27
Filing date: 1992-11-27
Publication date: 1994-06-03

Abstract

(57)【要約】【目的】電子部品実装基板におけるフラックス洗浄や
一般電子部品、機械部品などの油分洗浄を行なう洗浄装
置において、給排水量をごく少なくすること、第一洗浄
部の汚れを第２洗浄部および第３洗浄部に持ち込まれな
いこと、被洗浄部を上下左右から洗浄できるようにする
ものである。【構成】第１洗浄部１１の第１コンベア１５と第２洗
浄部１６および第３洗浄部２０に掛け渡された第２コン
ベア２７をそれぞれ独立に設け、各洗浄部１１、１６お
よび２０には垂直洗浄ノズル１４ａ、１４ｂ、１８ａ、
１８ｂ、２２ａおよび２２ｂと水平洗浄ノズル４４ａ、
４４ｂ、４５ａ、４５ｂ、４６ａおよび４６ｂを設け、
これらの洗浄ノズルに洗浄液を供給する水配管系統２８
とから構成するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品実装基板にお
けるフラックス洗浄や一般電子部品、機械部品の油分洗
浄を行なう洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の洗浄装置は、例えば特開
平２−４５９９７号公報に開示され、その構成を図７に
示す。この図７に示す洗浄装置は、水溶性のフラックス
を用いて半田付けした後の電子部品実装基板は、キャリ
アにセットされて、コンベア１に、矢印Ａの向きに投入
され、矢印Ｂの向きに搬出される。そして、洗浄部は第
１洗浄部２、第２洗浄部３、第３洗浄部４に分かれてい
る。この第１洗浄部２は、温めた水を霧状にして、コン
ベア１上の電子部品実装基板に、上下から吹きつけて洗
浄を行なう。第２洗浄部３は、第３洗浄部４で用いられ
た熱水を６５℃程度に再加熱し、霧状にして電子部品実
装基板の上下から吹きつけて洗浄を行なう。第３洗浄部
４は、新しい水を６５℃程度に加熱し、霧状にして電子
部品実装基板の上下から吹きつけて洗浄を行なう。そし
て、ヒーティング部５は、熱線６を電子部品実装基板の
上下から照射し、乾燥する。そして、ドライヤ部７は、
８５℃の温風を電子部品実装基板の上下から吹きつけて
乾燥するものであった。

【０００３】なお、８は上述の各部の送風量、水量、温
度、搬送速度を制御する制御部、９は第１洗浄部２と第
２洗浄部３とが互に影響しないように送風するための第
１緩衝部、１０は第３洗浄部４とヒーティング部５とが
互に影響しないように送風するための第２緩衝部であ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の装置では、（Ａ）第３洗浄部に新しく清浄な水を絶
えず供給しなければならず、１時間当り８０枚程度の電
子部品実装基板の洗浄を行なうとすると、給水量は、約
２００ｌ必要であり、２４時間連続運転すると、１日当
り４，８００ｌの水が必要になる。さらに、電子部品実
装基板上に塩素イオンが残留してはいけない仕様のもの
を洗浄するときには、純水を用いて洗浄しなくてはなら
ないため、１日当り４，８００ｌの純水を製造する装置
が必要になる。また、１日当り４，８００ｌの汚水が排
水されることになるので、４，８００ｌの排水処理設備
も必要となること。

【０００５】（Ｂ）被洗浄物である電子部品実装基板等
の洗浄度合や洗浄後の品質を維持するために、第３洗浄
部での水質の維持が重要である。すなわち、第３洗浄部
が仕上げ洗浄となるため、この部品で汚れのもとである
フラックスや油分が再付着することを防ぐ必要がある
が、コンベアに第１洗浄部で、洗剤や洗剤の中に溶解し
たフラックス、油分などが付着し、第２洗浄部に持ち込
まれ、第２洗浄部の汚れ濃度が上昇し、第２洗浄部の汚
れた熱水が、再び同じように、コンベアに付着して、第
３洗浄部に持ち込まれ、第３洗浄部の汚れ濃度が上昇す
ること。

【０００６】（Ｃ）各洗浄部において温めた水を霧状に
して、コンベア上の電子部品実装基板に上下から吹きつ
けて洗浄を行なうのみであり、電子部品実装基板に搭載
されている横向きコネクタ等の部品内部および電子部品
実装基板と搭載部品間の汚れを十分に除去することがで
きない。また、各緩衝部の送風においても、電子部品実
装基板に搭載されている横向きコネクタ等の部品内部お
よび電子部品実装基板と搭載部品間などに残った洗浄液
を十分に除去することができないこと、などという問題
点があった。

【０００７】本発明は、以上述べた大量の給排水が必要
であること、第３洗浄部の汚れ濃度が上昇すること、電
子部品実装基板に搭載されている横向きコネクタ等の部
品内部および電子部品実装基板と搭載部品間の汚れや洗
浄液を十分に除去することができない、などの問題点を
除去するため、洗浄装置内に洗浄水を清浄化する手段を
設けることにより、給排水量がごく少なく、洗浄性能の
優れた装置を提供することを第１の目的とする。

【０００８】第１洗浄部のコンベアと、第２洗浄部以下
のコンベアとをそれぞれ独立に設けることにより、第１
洗浄部の洗剤やフラックス、油分が、第２洗浄部および
第３洗浄部に持ち込まれないようにすることができる優
れた装置を提供することを第２の目的とする。

【０００９】各洗浄部に、垂直洗浄ノズルのほか、水平
洗浄ノズルを設けることにより、被洗浄部材に対し、主
に垂直方向からでは影になる部分の汚れを除去すること
ができる優れた装置を提供することを第３の目的とす
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明に係る洗浄装置
は、洗浄に使用した水を加圧して逆浸透膜に供給して清
浄水と濃縮水に分離し、この清浄水を洗浄に使用し、濃
縮水を排出または前段の洗浄水として使用するものであ
る。

【００１１】本発明に係る洗浄装置は、第１洗浄部のコ
ンベアを、他の洗浄部のコンベアと分離独立して設置
し、最終段階である第３洗浄部での水質を清浄に保つも
のである。

【００１２】本発明に係る洗浄装置は、各洗浄部に、垂
直洗浄ノズルおよび水平洗浄ノズルを設け、前記垂直洗
浄ノズルは、被洗浄部材に対し、主に表面の汚れや水平
方向からでは影になる部分の汚れを除去し、前記水平洗
浄ノズルは、同一線上に設け、被洗浄部材に対し、主に
垂直方向からでは影になる部分の汚れを除去するもので
ある。

【００１３】

【作用】本発明は、常に清浄な水で洗浄でき、少ない量
の市水の供給で洗浄でき、しかも排水量も少なくするこ
とができる。また、第３洗浄部において、熱水の水質を
清浄に維持することができる。また、被洗浄物をコンベ
ア上で横移動することなく、横向きコネクタの部品内
部、および電子部品実装基板と搭載部品間の汚れや洗浄
液除去の向上をはかることができる。

【００１４】

【実施例】図１は本発明に係る洗浄装置の一実施例を示
す構造説明図である。図において、１１は第１洗浄部で
ある。この第１洗浄部１１は第１洗浄槽１２、第１垂直
洗浄ノズル１３ａおよび１３ｂ、第１液切りエアーノズ
ル１４ａおよび１４ｂ、第１コンベア１５を備えてい
る。１６は第２洗浄部である。この第２洗浄部１６は、
第２洗浄槽１７、第２垂直洗浄ノズル１８ａおよび１８
ｂ、第２液切りエアーノズル１９ａおよび１９ｂを備え
ている。２０は、この第３洗浄部である。この第３洗浄
部２０は、第３洗浄槽２１、第３垂直洗浄ノズル２２ａ
および２２ｂ、第３液切りエアーノズル２３ａおよび２
３ｂを備えている。２４は乾燥部である。この乾燥部２
４は温風吹き出し口２５ａおよび２５ｂを備えている。
２６は制御部である。この制御部２６は、各部の送風
量、水量、洗浄液温度、乾燥温度、コンベアの搬送速度
を任意に設定し、制御する。２７は上記の第２洗浄部１
６、第３洗浄部２０および乾燥部２４にわたって掛けら
れた第２コンベア、２８は上記第１洗浄部１１〜第３洗
浄部２０の裏側に配置され、その詳細な構成を図２に示
す水配管系統である。

【００１５】なお、図２に示す水配管系統において、２
９は市水給水口、３０ａ〜３０ｅは第１洗浄部１１のバ
ルブ、３１ａ〜３１ｅは第２洗浄部１６のバルブ、３２
ａ〜３２ｉは第３洗浄部２０のバルブ、３３ａ〜３３ｄ
はポンプ、３４ａ〜３４ｅはフィルタ、３５は逆浸透膜
である。この逆浸透膜３５による清浄水の分離原理を図
３（Ａ）および図３（Ｂ）に示す。３６ａ〜３６ｃは洗
浄水給水口、３７は清浄水給水口、３８は濃縮水排水
口、３９ａおよび３９ｂはオーバフロー排水口、４０は
排水口である。

【００１６】また、図３（Ａ）および図３（Ｂ）に示す
逆浸透膜による清浄水の分離原理を説明すると、水を透
過するが食塩を通過しない半透膜４１を介して、純水４
２と食塩水４３を入れると、純水４２は半透膜４１を透
過して食塩水側に移動し、食塩水４３の水位が上昇する
（図３（Ａ）参照）。この食塩水４３の水位の上昇分を
浸透圧と言うが、この浸透圧より大きな圧力を食塩水側
にかけると、食塩水中の水は純水側に移る（図３（Ｂ）
参照）。この原理により、清浄水と濃縮水に分離する方
法を逆浸透法と言う。このための半透膜４１を「逆浸透
膜」と言う。また、この逆浸透膜には、塩類のイオン、
有機物および微粒子を除去する機能を持っているので、
分離された清浄水は導電度が低い「純水」となる。

【００１７】次に、上記構成による洗浄装置の洗浄動作
について説明する。まず、制御部２６の図示せぬメイン
スイッチを投入すると、第１コンベア１５および第２コ
ンベア２７が動作する。このため、このコンベア１５上
の電子部品実装基板、電子部品、機械部品などの被洗浄
部材は第１洗浄部１１に入る。この第１洗浄部１１で
は、第１垂直洗浄ノズル１３ａおよび１３ｂからシャワ
ー状に噴出された水もしくは洗剤、溶剤等で洗浄された
のち、第１液切りエアーノズル１４ａおよび１４ｂから
噴き出された空気により被洗浄部材上に残った液体は吹
き飛ばされる。そして、被洗浄部材は第２コンベア２７
により第２洗浄部１６に入る。この第２洗浄部１６で
は、第３洗浄部２０で洗浄に使用した水を逆浸透膜３５
（図２参照）で清浄水と濃縮水に分離する。この分離さ
れた濃縮水は、下記に説明する水配管系を通して第２洗
浄槽１７に供給される。この第２洗浄部１６は、この第
２洗浄槽１７の洗浄水を下記に説明する水配管系を通し
て第２垂直洗浄ノズル１８ａおよび１８ｂからシャワー
状に噴出して、被洗浄部材を洗浄する。そして、第２液
切りエアーノズル１９ａおよび１９ｂから噴出された空
気により、被洗浄部材上の水が吹き飛ばされる。そし
て、この被洗浄部材は、第２コンベア２７により、第３
洗浄部２０に入る。この第３洗浄部２０では、逆浸透膜
３５（図２参照）で分離された清浄水が、下記に説明す
る水配管系を通して第３洗浄槽２１に供給される。この
第３洗浄部２０は、この第３洗浄槽２１の洗浄水を、下
記に説明する水配管系を通して第３垂直洗浄ノズル２２
ａおよび２２ｂからシャワー状に噴出して、被洗浄部材
を洗浄する。そして、第３液切りエアーノズル２３ａお
よび２３ｂから噴出された空気により、被洗浄部材上の
水が吹き飛ばされる。そして、この被洗浄部材は、第２
コンベアにより、乾燥部２４に入る。この乾燥部２４で
は、温風吹き出し口２５ａおよび２５ｂから温風が吹き
出され、被洗浄部材は乾燥される。

【００１８】次に図２に示す水配管系統において、市水
給水口２９から供給された水は、開放されたバルブ３０
ｅにより、洗浄水給水口３６ａから第１洗浄槽１２に貯
えられる。そして、フィルタ３４ａおよびバルブ３０ｃ
を通った洗浄水は、ポンプ３３ａによって汲み上げら
れ、それぞれバルブ３０ａおよび３０ｂを通ったのち、
第１垂直洗浄ノズル１３ａおよび１３ｂから噴出され、
前記したように被洗浄部材を洗浄したのち、再び第１洗
浄槽１２に戻る。同様に、市水給水口２９から供給され
た水は、開放されたバルブ３１ｅにより、洗浄水給水口
３６ｂから第２洗浄槽１７に貯えられる。そして、フィ
ルタ３４ｂおよびバルブ３１ｃを通った洗浄水は、ポン
プ３３ｂによって汲み上げられ、それぞれ、バルブ３１
ａおよび３１ｂを通ったのち、第２洗浄ノズル１８ａお
よび１８ｂから噴出され、前記したように、被洗浄部材
を洗浄したのち、再び第２洗浄槽１７に戻る。同様に、
市水給水口２９から供給された水は、開放されたバルブ
３２ｉにより洗浄水給水口３６ｃから第３洗浄槽２１に
貯えられる。そして、フィルタ３４ｃおよびバルブ３２
ｃを通った洗浄水は、ポンプ３３ｃによって汲み上げら
れ、それぞれバルブ３２ａおよび３２ｂを通ったのち、
第３垂直洗浄ノズル２２ａおよび２２ｂから噴出され、
前記したように被洗浄部材を洗浄したのち、再び第３洗
浄槽２１に戻る。このとき、戻ってきた水は、再びフィ
ルタ３４ｃとバルブ３２ｃを通り、ポンプ３３ｃにより
汲み上げられ、バルブ３２ｅとフィルタ３４ｅを通り、
さらに、ポンプ３３ｄにより加圧され、バルブ３２ｆを
通って逆浸透膜３５に送られる。この逆浸透膜３５は、
上記したように動作して浄化される。そして、浄化され
た清浄水は、清浄水給水口３７から第３洗浄槽２１に戻
り、浄化されなかった水の大半は、バルブ３２ｈ−ポン
プ３３ｄ−バルブ３２ｆを通り、再び逆浸透膜３５に送
られる。このとき、浄化されなかった水の一部は、濃縮
水として、バルブ３２ｑを通って濃縮水排出口３８より
第２洗浄槽１７に入る。ここで、この逆浸透膜３５は、
例えば１時間当り２００ｌの処理能力があると、１時間
当り清浄水（純水）を１９４ｌ、濃縮水を６ｌに分離す
るので、第２洗浄槽１７は、１時間当り６ｌずつ増加す
ることになるので、オーバフロー分は、オーバフロー排
水口３９ａからフィルタ３４ｄを通り排出口４０から排
出される。

【００１９】一方、第３洗浄槽２１は、１時間当り６ｌ
だけ不足することになるので、市水給水口２９より１時
間当り６ｌを給水する必要があり、１日では３６ｌ程度
給水すればよいことになる。

【００２０】また、上記したように、被洗浄物を洗浄す
る過程において、被洗浄物に付着したフラックスや油な
どの汚染物は、第１洗浄部１１の第１垂直洗浄ノズル１
３ａおよび１３ｂからシャワーされた洗剤によって、被
洗浄物から剥離され、洗剤の中に溶解する。このシャワ
ーされた洗剤は、第１洗浄槽１２に戻る。この第１洗浄
槽１２の洗剤は、再び第１垂直洗浄ノズル１３ａおよび
１３ｂを通してシャワーされるため、洗剤の動きは、こ
の繰り返しとなり、第１洗浄槽１１の洗剤はフラックス
や油など濃度が高くなってくる。これらの洗剤は、被洗
浄物に付着して、第２洗浄部１６に持ち込まれるが、第
１コンベア１５は第１洗浄部１１に独立に設けられてい
るので、この第１コンベア１５に付着するフラックスや
油など濃度が高くなった洗剤は、第２洗浄部１６や第３
洗浄部２０に持ち込まれることはない。また、これらの
洗剤は、被洗浄物に付着して第２洗浄部１６に持ち込ま
れ、第２垂直洗浄ノズル１８ａおよび１８ｂから吐出さ
れる熱水によって、熱水と置換され、第２洗浄槽１７に
回収されるが、第１コンベア１５に付着して持ち込まれ
る洗浄や汚れの方が多いので、第１洗浄部１１には第１
コンベア１５を独立に設け、第２洗浄部１６および第３
洗浄部２０には、第２コンベア２７を独立に設けること
により、第２洗浄部１６および第３洗浄部２０の熱水の
水質を維持することができる。

【００２１】図４は本発明に係る洗浄装置の他の実施例
を示す構造説明図である。図において、４４ａおよび４
４ｂは、第１洗浄部１１に設けた第１水平洗浄ノズル、
４５ａおよび４５ｂは第２洗浄部１６に設けた第２水平
洗浄ノズル、４６ａおよび４６ｂは第３洗浄部２０に設
けた第３水平洗浄ノズルである。

【００２２】上記第１水平洗浄ノズル４４ａおよび４４
ｂ、第２水平洗浄ノズル４５ａおよび４５ｂ、第３水平
洗浄ノズル４６ａおよび４６ｂは、第１コンベア１５お
よび第２コンベア２７上にある被洗浄部材に対し、主に
垂直方向からでは影になる部分の汚れを除去する。

【００２３】なお、第１垂直洗浄ノズル１３ａおよび１
３ｂ、第２垂直洗浄ノズル１８ａおよび１８ｂ、第３垂
直洗浄ノズル２２ａおよび２２ｂは、第１コンベア１５
および第２コンベア２７上にある被洗浄部材に対し、主
に表面上の汚れや水平方向からでは影になる部分の汚れ
を除去するものである。また、図６に示すように、各水
平洗浄ノズル４４ａ、４４ｂ、４５ａ、４５ｂ、４６
ａ、４６ｂは、各垂直洗浄ノズル１３ａ、１３ｂ、１８
ａ、１８ｂ、２２ａ、２２ｂと同一線上に設置されてお
り、各垂直洗浄ノズル１３ａ、１３ｂ、１８ａ、１８
ｂ、２２ａ、２２ｂの水圧により、被洗浄部材は、第１
コンベア１５あるいは第２コンベア２７に押しつけら
れ、左右に移動しないようになっている。

【００２４】また、第１コンベア１５および第２コンベ
ア２７により搬送される被洗浄部材が、第１洗浄部１
１、第２洗浄部１６、および第３洗浄部２０でそれぞれ
洗浄されたのち、乾燥部２４によって乾燥される動作に
ついては、図１および図２で説明したと同様に動作する
ことはもちろんである。

【００２５】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る洗浄装置によれば、（Ｄ）逆浸透膜による洗浄の最終
段階に、清浄な純水を供給することができるので、常に
清浄な水で洗浄を行なうことができる。また、少ない量
の市水の供給で洗浄することができ、しかも排水量も少
なくすることができる、（Ｅ）コンベアを第１洗浄部だ
け分離独立させることにより、洗浄の最終段階である第
３洗浄部において、熱水の水質を清浄に維持することが
できる、（Ｆ）被洗浄部材に対し、垂直方向に設置され
た洗浄ノズルと同一直線上に左右から洗浄液や空気を噴
出させることができる水平洗浄ノズルを設置したので、
被洗浄部材が移動することなく、搭載された横向きコネ
クタの部品内部、および電子部品実装基板と搭載部品間
の汚れや洗浄液除去の向上をはかることができる、など
の効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る洗浄装置の一実施例を示す構造説
明図である。

【図２】図１の水配管系統の詳細を示す図である。

【図３】図２に示す逆浸透膜による清浄水の分離原理を
説明する図である。

【図４】本発明に係る洗浄装置の他の実施例を示す構造
説明図である。

【図５】図４の水配管系統の詳細を示す図である。

【図６】図４の垂直洗浄ノズルと水平洗浄ノズルの配置
関係を示す図である。

【図７】従来の洗浄装置を示す構造説明図である。

【符号の説明】

１１第１洗浄部１３ａ，１３ｂ第１垂直洗浄ノズル１５第１コンベア１６第２洗浄部１８ａ，１８ｂ第２垂直洗浄ノズル２０第３洗浄部２２ａ，２２ｂ第３垂直洗浄ノズル２４乾燥部２６制御部２７第２コンベア２８水配管系統３５逆浸透膜４１半透膜４２純水４３食塩水４４ａ，４４ｂ第１水平洗浄ノズル４５ａ，４５ｂ第２水平洗浄ノズル４６ａ，４６ｂ第３水平洗浄ノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者宮木淳東京都港区虎ノ門１丁目７番12号沖電気工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子部品実装基板におけるフラックス洗
浄や一般電子部品、機械部品などの油分洗浄を行なう洗
浄装置において、洗浄に使用した水を加圧して逆浸透膜に供給して清浄水
と濃縮水に分離し、この清浄水を洗浄に使用し、この濃
縮水を排出または前段の洗浄水として使用することを特
徴とする洗浄装置。
【請求項２】電子部品実装基板におけるフラックス洗
浄や一般電子部品、機械部品などの油分洗浄を行なう洗
浄装置において、第１洗浄部のコンベアを、他の洗浄部のコンベアと分離
独立して設置し、最終段階である第３洗浄部での水質を
清浄に保つことを特徴とする洗浄装置。
【請求項３】電子部品実装基板におけるフラックス洗
浄や一般電子部品、機械部品などの油分洗浄を行なう洗
浄装置において、各洗浄部に、垂直洗浄ノズルおよび水平洗浄ノズルを設
け、前記垂直洗浄ノズルは被洗浄部材に対し、主に表面
上の汚れや水平方向からでは影になる部分の汚れを除去
し、前記水平洗浄ノズルは同一直線上に設け、被洗浄部
材に対し、主に垂直方向からでは影になる部分の汚れを
除去することを特徴とする洗浄装置。