JPH06152003A - エキシマレーザ発振装置 - Google Patents
エキシマレーザ発振装置Info
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- JPH06152003A JPH06152003A JP30004792A JP30004792A JPH06152003A JP H06152003 A JPH06152003 A JP H06152003A JP 30004792 A JP30004792 A JP 30004792A JP 30004792 A JP30004792 A JP 30004792A JP H06152003 A JPH06152003 A JP H06152003A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】高繰り返し運転が可能なエキシマレーザ発振装
置を提供する。 【構成】放電管１と、この放電管１内に供給されるレー
ザガスｓと、このレーザガスｓを放電管１内に循環させ
る循環手段２と、上記放電管１内における上記レーザガ
スｓの流路中に設置される、このレーザガスｓを予備電
離させる予備電離電極３ａ、３ｂと、上記放電管１内に
おける上記レーザガスの流路中に設置される、上記予備
電離されたレーザガスｓを励起させる一対の主放電電極
４ａ、４ｂとを有し、この主放電電極４ａ、４ｂ間でパ
ルス放電を行ないレーザガスｓを励起させ、パルス発振
させるエキシマレーザ発振装置において、上記循環され
たレーザガスｓの一部が渦巻くように、上記放電管１内
の対向する流路壁面に溝５を設けている。
置を提供する。 【構成】放電管１と、この放電管１内に供給されるレー
ザガスｓと、このレーザガスｓを放電管１内に循環させ
る循環手段２と、上記放電管１内における上記レーザガ
スｓの流路中に設置される、このレーザガスｓを予備電
離させる予備電離電極３ａ、３ｂと、上記放電管１内に
おける上記レーザガスの流路中に設置される、上記予備
電離されたレーザガスｓを励起させる一対の主放電電極
４ａ、４ｂとを有し、この主放電電極４ａ、４ｂ間でパ
ルス放電を行ないレーザガスｓを励起させ、パルス発振
させるエキシマレーザ発振装置において、上記循環され
たレーザガスｓの一部が渦巻くように、上記放電管１内
の対向する流路壁面に溝５を設けている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエキシマレーザ発振装置
に係り、特に高繰り返し運転を容易に行なうエキシマレ
ーザ発振装置に関する。
に係り、特に高繰り返し運転を容易に行なうエキシマレ
ーザ発振装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】エキシマレーザ発振装置は高出力高効率
レーザとして、平均出力１kW級の高繰り返しパルス発振
が期待でき、半導体製造など電子産業、化学産業の広範
な分野に応用されている。。
レーザとして、平均出力１kW級の高繰り返しパルス発振
が期待でき、半導体製造など電子産業、化学産業の広範
な分野に応用されている。。
【０００３】従来のエキシマレーザ発振装置の放電管１
の断面図を図４に示す。エキシマレーザの動作媒質であ
るレーザガスｓは、放電によって生じる金属蒸気と、放
電によって加熱され、一部イオン化したレーザガスｓと
を放電部から除去するためにレーザガスｓの流路が形成
され、この流路内を循環手段である送風機２によって流
されている。
の断面図を図４に示す。エキシマレーザの動作媒質であ
るレーザガスｓは、放電によって生じる金属蒸気と、放
電によって加熱され、一部イオン化したレーザガスｓと
を放電部から除去するためにレーザガスｓの流路が形成
され、この流路内を循環手段である送風機２によって流
されている。
【０００４】一方、予備電離電極３ａ、３ｂで瞬間的に
強いアーク放電を行ない、紫外光を発生させる。この発
生された紫外光は主放電電極４ａ、４ｂ間のレーザガス
ｓを予備電離させる。ここで、上記主放電電極４ａ、４
ｂ間にパルス電圧を印加してグロー放電を行ない、この
放電により、レーザガスｓ中の分子が励起され誘導放出
を行ない、レーザ光が発生する。このレーザ光は紙面に
垂直な方向に取り出される。このパルス電圧による放電
（パルス放電）を繰り返すことによって繰り返しパルス
発振を行なう。
強いアーク放電を行ない、紫外光を発生させる。この発
生された紫外光は主放電電極４ａ、４ｂ間のレーザガス
ｓを予備電離させる。ここで、上記主放電電極４ａ、４
ｂ間にパルス電圧を印加してグロー放電を行ない、この
放電により、レーザガスｓ中の分子が励起され誘導放出
を行ない、レーザ光が発生する。このレーザ光は紙面に
垂直な方向に取り出される。このパルス電圧による放電
（パルス放電）を繰り返すことによって繰り返しパルス
発振を行なう。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
エキシマレーザ発振装置における、放電管１内部の各断
面におけるレーザガスの流速分布を図５に示す。断面
Ａ、断面Ｂ、断面Ｃでは流路面積が縮小していくため
に、流速分布は均一で放電管の壁面６ａ付近の流速の遅
いガスなどによるガス層（以下境界層と呼ぶ）は薄い。
エキシマレーザ発振装置における、放電管１内部の各断
面におけるレーザガスの流速分布を図５に示す。断面
Ａ、断面Ｂ、断面Ｃでは流路面積が縮小していくため
に、流速分布は均一で放電管の壁面６ａ付近の流速の遅
いガスなどによるガス層（以下境界層と呼ぶ）は薄い。
【０００６】しかし流路面積が拡大していく、断面Ｄ、
断面Ｅでは壁面６ｂ付近で境界層７が発達してくる。こ
の境界層７には、放電直後において主放電電極４ａ、４
ｂから蒸発した金属蒸気が含まれているため、上記境界
層７は電気抵抗が低い。また放電直後は、放電部付近に
あったレーザガスもイオン化されており、電気抵抗は低
い。これらの電気抵抗の低いガス層８の放電直後のガス
分布を図６に示す。この電気抵抗の低いガス層８が主放
電電極間をつないでしまうため、この状態で放電を行な
うと上記電気抵抗の低いガス層８部分を電流が流れてし
まい、レーザ光を得ることができない。
断面Ｅでは壁面６ｂ付近で境界層７が発達してくる。こ
の境界層７には、放電直後において主放電電極４ａ、４
ｂから蒸発した金属蒸気が含まれているため、上記境界
層７は電気抵抗が低い。また放電直後は、放電部付近に
あったレーザガスもイオン化されており、電気抵抗は低
い。これらの電気抵抗の低いガス層８の放電直後のガス
分布を図６に示す。この電気抵抗の低いガス層８が主放
電電極間をつないでしまうため、この状態で放電を行な
うと上記電気抵抗の低いガス層８部分を電流が流れてし
まい、レーザ光を得ることができない。
【０００７】放電の後時間がたつと、上記電気抵抗の低
いガス層８の中の上記金属蒸気は境界層からの乱流混合
によって主流部分に拡散し、また上記イオン化されたレ
ーザガスも循環していくことによって、電気抵抗が回復
していく。
いガス層８の中の上記金属蒸気は境界層からの乱流混合
によって主流部分に拡散し、また上記イオン化されたレ
ーザガスも循環していくことによって、電気抵抗が回復
していく。
【０００８】したがって放電を行なった後、上記電気抵
抗の低いガス層８部の電気抵抗が十分に高くなるまでは
次の放電を行なうことができない。この電気抵抗の回復
は放電管１におけるレーザガスｓの流速に比例するの
で、放電管１内のレーザガスｓの流速が主放電のパルス
繰り返し周期に対して十分速ければ（経験的に１０倍以
上）、このような問題は発生しない。
抗の低いガス層８部の電気抵抗が十分に高くなるまでは
次の放電を行なうことができない。この電気抵抗の回復
は放電管１におけるレーザガスｓの流速に比例するの
で、放電管１内のレーザガスｓの流速が主放電のパルス
繰り返し周期に対して十分速ければ（経験的に１０倍以
上）、このような問題は発生しない。
【０００９】しかしながら、放電管１のレーザガスｓの
流速の３乗に比例したエネルギーがレーザガスの循環に
必要であるため現実には放電管流速は制限され、上記主
放電のパルス繰り返し周期も制限されている。
流速の３乗に比例したエネルギーがレーザガスの循環に
必要であるため現実には放電管流速は制限され、上記主
放電のパルス繰り返し周期も制限されている。
【００１０】上述の理由により、従来のエキシマレーザ
発振装置には高繰り返し運転に限界があり、半導体製造
などの分野に応用された際に、生産スピードが制限され
ていた。
発振装置には高繰り返し運転に限界があり、半導体製造
などの分野に応用された際に、生産スピードが制限され
ていた。
【００１１】本発明は上述した事情を考慮してなされた
もので、放電管内の流路壁面に溝を設けることによっ
て、高繰り返し運転を可能にしたエキシマレーザ発振装
置を提供することを目的とする。
もので、放電管内の流路壁面に溝を設けることによっ
て、高繰り返し運転を可能にしたエキシマレーザ発振装
置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明に係るエキシマレーザ発振装置は、請求項１に記
載したように、放電管と、この放電管内に供給されるレ
ーザガスと、このレーザガスを放電管内に循環させる循
環手段と、上記放電管内における上記レーザガスの流路
中に設置される、このレーザガスを予備電離させる予備
電離電極と、上記レーザガスの流路中に設置される、上
記予備電離されたレーザガスを励起させる一対の主放電
電極とを有し、この主放電電極間でパルス放電を行ない
レーザガスを励起させ、パルス発振させるエキシマレー
ザ発振装置において、上記レーザガスの一部が渦巻くよ
うに、上記放電管内の対向する流路壁面に溝を設けたも
のである。
本発明に係るエキシマレーザ発振装置は、請求項１に記
載したように、放電管と、この放電管内に供給されるレ
ーザガスと、このレーザガスを放電管内に循環させる循
環手段と、上記放電管内における上記レーザガスの流路
中に設置される、このレーザガスを予備電離させる予備
電離電極と、上記レーザガスの流路中に設置される、上
記予備電離されたレーザガスを励起させる一対の主放電
電極とを有し、この主放電電極間でパルス放電を行ない
レーザガスを励起させ、パルス発振させるエキシマレー
ザ発振装置において、上記レーザガスの一部が渦巻くよ
うに、上記放電管内の対向する流路壁面に溝を設けたも
のである。
【００１３】上記溝の位置は、循環されるガス流の、主
放電電極を境にした際の下流側の対向する壁面に、少な
くとも設けられていると効果的である。
放電電極を境にした際の下流側の対向する壁面に、少な
くとも設けられていると効果的である。
【００１４】
【作用】本発明によれば、循環されたレーザガスの一部
が渦巻くように、放電管内の対向する流路壁面に溝を設
けたことによって、放電後の電気抵抗の低くなっている
金属蒸気やイオン化されたガスを主放電電極間から切り
放すことができ、放電後わずかな時間で主放電電極間の
電気抵抗が回復し、レーザ発振可能な放電を行なうこと
ができる。
が渦巻くように、放電管内の対向する流路壁面に溝を設
けたことによって、放電後の電気抵抗の低くなっている
金属蒸気やイオン化されたガスを主放電電極間から切り
放すことができ、放電後わずかな時間で主放電電極間の
電気抵抗が回復し、レーザ発振可能な放電を行なうこと
ができる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明に係る実施例について、添付図
面を参照して説明する。なお、図４に示す従来例と同一
の部分については同一の符号を付して、詳細な説明は省
略する。
面を参照して説明する。なお、図４に示す従来例と同一
の部分については同一の符号を付して、詳細な説明は省
略する。
【００１６】図１に本発明に係るエキシマレーザ発振装
置の第１実施例における、放電管１の断面図を示す。放
電管１内に、循環手段である送風機２によってレーザ媒
質であるレーザガスｓを流す流路を形成し、この流路内
にレーザガスを流入させ、予備電離電極３ａ、３ｂでア
ーク放電を行なうようになっている。このアーク放電に
より紫外光を発生させ、発生した紫外光により主放電電
極４ａ、４ｂ間のレーザガスｓを予備電離させる。その
際、主放電電極４ａ、４ｂ間でグロー放電を行なうと、
レーザ媒質であるレーザガスｓ中の分子が励起され誘導
放出を行ない、レーザ光が発生する。
置の第１実施例における、放電管１の断面図を示す。放
電管１内に、循環手段である送風機２によってレーザ媒
質であるレーザガスｓを流す流路を形成し、この流路内
にレーザガスを流入させ、予備電離電極３ａ、３ｂでア
ーク放電を行なうようになっている。このアーク放電に
より紫外光を発生させ、発生した紫外光により主放電電
極４ａ、４ｂ間のレーザガスｓを予備電離させる。その
際、主放電電極４ａ、４ｂ間でグロー放電を行なうと、
レーザ媒質であるレーザガスｓ中の分子が励起され誘導
放出を行ない、レーザ光が発生する。
【００１７】一方、上記放電管１内の、循環されるレー
ザガスｓの、主放電電極４ａ、４ｂを境にした際の下流
側の対向する流路壁面に、溝５を設けている。
ザガスｓの、主放電電極４ａ、４ｂを境にした際の下流
側の対向する流路壁面に、溝５を設けている。
【００１８】この溝５は、放電直後のイオン化されたガ
スや、金属蒸気をすみやかに排出する働きを有する。
スや、金属蒸気をすみやかに排出する働きを有する。
【００１９】次に、作用を述べる。
【００２０】上記溝５が設けられていることによって、
レーザガスｓの流れのうち溝５付近の流れは、図１に示
すように渦巻いている。その渦流の存在により、流速分
布は溝５の底の部分では逆流をおこしているが、従来流
路壁面のあった部分ではほぼ主流と同じ向きで、同じ流
速になっている。ここで、上述したように、予備電離電
極３ａ、３ｂでのアーク放電、主放電電極４ａ、４ｂ間
でのグロー放電によりレーザ光を発生させる。
レーザガスｓの流れのうち溝５付近の流れは、図１に示
すように渦巻いている。その渦流の存在により、流速分
布は溝５の底の部分では逆流をおこしているが、従来流
路壁面のあった部分ではほぼ主流と同じ向きで、同じ流
速になっている。ここで、上述したように、予備電離電
極３ａ、３ｂでのアーク放電、主放電電極４ａ、４ｂ間
でのグロー放電によりレーザ光を発生させる。
【００２１】このとき、放電直後に存在する蒸発した金
属蒸気とイオン化されたガスからなる電気抵抗の低いガ
ス層８は、レーザガスｓの流れに上述したような渦が発
生しているため、主放電電極間をつながずに図２に示し
たような形で排出される。
属蒸気とイオン化されたガスからなる電気抵抗の低いガ
ス層８は、レーザガスｓの流れに上述したような渦が発
生しているため、主放電電極間をつながずに図２に示し
たような形で排出される。
【００２２】したがって、上記溝５を設けることによっ
て放電後わずかな時間で主放電電極間の電気抵抗が回復
し、レーザ発振可能な放電を行なうことができるため、
高繰り返し運転が可能となる。
て放電後わずかな時間で主放電電極間の電気抵抗が回復
し、レーザ発振可能な放電を行なうことができるため、
高繰り返し運転が可能となる。
【００２３】図３に本発明に係るエキシマレーザ発振装
置の第２実施例における、放電管１の断面図を示す。第
２実施例は溝５ａ、５ｂを主放電電極４ａ、４ｂを境に
して両側の流路壁面に設けた。なお、その他の構成は実
施例１と同様なので同一の符号を付し、説明は省略す
る。
置の第２実施例における、放電管１の断面図を示す。第
２実施例は溝５ａ、５ｂを主放電電極４ａ、４ｂを境に
して両側の流路壁面に設けた。なお、その他の構成は実
施例１と同様なので同一の符号を付し、説明は省略す
る。
【００２４】溝５ｂは実施例１で述べたように、放電直
後の主放電電極４ａ、４ｂ間を結合する、蒸発した金属
蒸気とイオン化されたガスを排出する作用を持つ渦が発
生する。同様に溝５ａにも渦が発生する。これらの渦の
中には、運動エネルギーが蓄えられる。
後の主放電電極４ａ、４ｂ間を結合する、蒸発した金属
蒸気とイオン化されたガスを排出する作用を持つ渦が発
生する。同様に溝５ａにも渦が発生する。これらの渦の
中には、運動エネルギーが蓄えられる。
【００２５】一方、放電が行なわれた瞬間には、レーザ
ガスｓが膨脹するために、瞬間的に高温のレーザガスｓ
の一部は停止する。この停止したレーザガスｓはガスの
粘性の影響を強く受け、中央部から流路壁面付近へ流れ
出す。このとき渦に運動エネルギーが蓄えられているこ
とから、この停止したレーザガスｓを停止後短時間で流
すことができる。その作用は特に流路壁面付近で強く働
き、上述したような流路壁面付近での境界層の発達を防
ぐことができる。
ガスｓが膨脹するために、瞬間的に高温のレーザガスｓ
の一部は停止する。この停止したレーザガスｓはガスの
粘性の影響を強く受け、中央部から流路壁面付近へ流れ
出す。このとき渦に運動エネルギーが蓄えられているこ
とから、この停止したレーザガスｓを停止後短時間で流
すことができる。その作用は特に流路壁面付近で強く働
き、上述したような流路壁面付近での境界層の発達を防
ぐことができる。
【００２６】したがって、放電後わずかな時間で放電電
極間の電気抵抗が回復し、レーザ発振可能な放電を行な
うことができるため、高繰り返し運転が可能となる。
極間の電気抵抗が回復し、レーザ発振可能な放電を行な
うことができるため、高繰り返し運転が可能となる。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように本発明に係るエキシマ
レーザ装置によれば、このエキシマレーザ装置の媒質で
あるレーザガス流の一部が渦巻くように、放電管の対抗
する壁面に溝を設けることによって、主放電電極間を電
気抵抗の低いガスが結合するのを防ぐことができ、放電
後わずかな時間で上記主放電電極間の電気抵抗が回復
し、レーザ発振可能な放電を行なうことができるため、
従来のエキシマレーザ装置の高繰り返し運転と比べて、
繰り返し周期を短くすることができ、半導体の製造など
の分野に応用された際に、従来に比べて生産スピードを
上げることができる。
レーザ装置によれば、このエキシマレーザ装置の媒質で
あるレーザガス流の一部が渦巻くように、放電管の対抗
する壁面に溝を設けることによって、主放電電極間を電
気抵抗の低いガスが結合するのを防ぐことができ、放電
後わずかな時間で上記主放電電極間の電気抵抗が回復
し、レーザ発振可能な放電を行なうことができるため、
従来のエキシマレーザ装置の高繰り返し運転と比べて、
繰り返し周期を短くすることができ、半導体の製造など
の分野に応用された際に、従来に比べて生産スピードを
上げることができる。
【図１】本発明に係るエキシマレーザ発振装置の第１実
施例における放電管内部を示す断面図。
施例における放電管内部を示す断面図。
【図２】本発明に係るエキシマレーザ発振装置の第１実
施例における放電管内部を示す断面図。
施例における放電管内部を示す断面図。
【図３】本発明に係るエキシマレーザ発振装置の第２実
施例における放電管内部を示す断面図。
施例における放電管内部を示す断面図。
【図４】本発明に係るエキシマレーザ発振装置の従来例
における放電管内部を示す断面図。
における放電管内部を示す断面図。
【図５】本発明に係るエキシマレーザ発振装置の従来例
における放電管内部を示す断面図。
における放電管内部を示す断面図。
【図６】本発明に係るエキシマレーザ発振装置の従来例
における放電管内部を示す断面図。
における放電管内部を示す断面図。
１ 放電管 ２ 送風機（循環手段） ３ａ 予備電離電極 ３ｂ 予備電離電極 ４ａ 主放電電極 ４ｂ 主放電電極 ５，５ａ，５ｂ 溝 ６ａ，６ｂ 放電管内部流路壁面 ７ 境界層 ８ 電気抵抗の低いガス層 ｓ レーザガス
Claims (2)
- 【請求項１】 放電管と、この放電管内に供給されるレ
ーザガスと、このレーザガスを放電管内に循環させる循
環手段と、上記放電管内における上記レーザガスの流路
中に設置される、このレーザガスを予備電離させる予備
電離電極と、上記放電管内における上記レーザガスの流
路中に設置される、上記予備電離されたレーザガスを励
起させる一対の主放電電極とを有し、この主放電電極間
でパルス放電を行ないレーザガスを励起させ、パルス発
振させるエキシマレーザ発振装置において、上記レーザ
ガスの一部が渦巻くように、上記放電管内の対向する流
路壁面に溝を設けたことを特徴とするエキシマレーザ発
振装置。 - 【請求項２】 上記溝が、循環されるレーザガスの、主
放電電極を境にした際の下流側の対向する流路壁面に、
少なくとも設けられていることを特徴とする請求項１に
記載のエキシマレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04300047A JP3090796B2 (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | エキシマレーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04300047A JP3090796B2 (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | エキシマレーザ発振装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06152003A true JPH06152003A (ja) | 1994-05-31 |
| JP3090796B2 JP3090796B2 (ja) | 2000-09-25 |
Family
ID=17880065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04300047A Expired - Fee Related JP3090796B2 (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | エキシマレーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3090796B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0883945A (ja) * | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Toshiba Corp | エキシマレーザ発振装置 |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP04300047A patent/JP3090796B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0883945A (ja) * | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Toshiba Corp | エキシマレーザ発振装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3090796B2 (ja) | 2000-09-25 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
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